TW201245877A - Method for producing composition for the production of photoresist - Google Patents

Method for producing composition for the production of photoresist Download PDF

Info

Publication number
TW201245877A
TW201245877A TW101107438A TW101107438A TW201245877A TW 201245877 A TW201245877 A TW 201245877A TW 101107438 A TW101107438 A TW 101107438A TW 101107438 A TW101107438 A TW 101107438A TW 201245877 A TW201245877 A TW 201245877A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
group
solvent
substituent
composition
represented
Prior art date
Application number
TW101107438A
Other languages
English (en)
Inventor
Youji Suzuki
Yasuyuki Akai
Original Assignee
Daicel Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Daicel Corp filed Critical Daicel Corp
Publication of TW201245877A publication Critical patent/TW201245877A/zh

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/0045Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C223/00Compounds containing amino and —CHO groups bound to the same carbon skeleton
    • C07C223/02Compounds containing amino and —CHO groups bound to the same carbon skeleton having amino groups bound to acyclic carbon atoms of the carbon skeleton
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D209/00Heterocyclic compounds containing five-membered rings, condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
    • C07D209/56Ring systems containing three or more rings
    • C07D209/80[b, c]- or [b, d]-condensed
    • C07D209/82Carbazoles; Hydrogenated carbazoles
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Indole Compounds (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Plural Heterocyclic Compounds (AREA)

Description

201245877 六、發明說明: 劑溶解性僵;異 之光阻製造 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於光聚合起始 用組成物之製造方法。 【先前技術】 口口 j ··例不物的彩芦 係於2塊基板之間必需要# & ,由紅(R)或綠(G)或藍(3)啖普 (Y) 4像素領域所構成之彩色嘑氺κ。 ^ κ 之各像素領域之間若為填滿而無間隙,則會在其:界: 生對比降低等。為防範此問題,通常形成有將各色像素 領域以黑色之間隔壁區分的黑矩陣。 y、 一般而言’在黑矩陣或彩色渡光片形成方面,係使 用光阻。於黑矩陣方面係有使用金屬之遮光材料者,與 使用非金屬之遮光材料者。近年來由於環境上之顧慮, 作為非金屬之黑矩陣,樹脂黑矩陣正在加增。樹脂^矩 陣糊係包含遮光材料 '黏合劑樹脂、多官能性單體、光 聚合起始劑、溶劑等。 黑矩陣係經由以下(1)〜(6)之步驟所製造。 ⑴調合黑矩陣糊。(2)塗布於基板後,進行薄層化。⑺ 以i〇〇°c左右使溶劑蒸發,並乾燥β(4)照射i〇〇mj/cm2 左右之強度的UV ’進行光硬化。(5)噴霧碳酸鈉水溶液 ’洗淨不必要之樹脂成分。(6)以2⑽。C左右進行加熱, 進行熱硬化。 在黑矩陣之光硬化方面,因糊組成物中所含之遮光 劑的摻合,達到深部之光變弱。於{,在糊組成物中必
S -5- 201245877 須含有多量之感度高的光聚合起始劑。作為感度高之光 聚合起始劑,可舉出具咔唑骨架之肟酯系光聚合起始劑( 專利文獻1)。然而該等係溶解性貧乏,難以使多量溶解 於溶劑^ 於是’在專利文獻2 ’作為黑矩陣之糊用溶劑,由 於對於光聚合起始劑的溶解性而使用環己酮以及含環己 綱之混合溶劑(專利文獻2)。然而,環己酮係有生態毒性 之掛慮’此外作為V〇C限制對象化合物,操作上有設立 有機溶劑作業負責人之必要等,因有限制,正尋求替代 溶劑。 在彩色濾光片、以及黑矩陣用途上其他一般被使用 之溶劑’係由於塗布性或顏料分散性,而使用丙二醇單 甲喊乙酸酷' 3_甲氧基丁醇乙酸酯、1,6-己二醇二乙酸酿 、1,3 -丁二醇二乙酸酯、二丙二醇單甲醚乙酸酯、二丙 二醇二甲醚、二乙二醇二甲醚、二乙二醇二乙醚、環已 醇乙酸酯、丙二醇二乙酸酯、二丙二醇二乙酸酯、二乙 —醇單乙趟乙酸酯、二乙二醇單丁喊乙酸酯等(專利文 獻3、專利文獻4)。然而,該等係對於感度高的具咔唑 月架之肪δ旨系光聚合起始劑,溶解性不足。 先前技術文獻 專利文獻 專利文獻1曰本特許第4448381號公報 專利文獻2日本特開2009-173560號公報 專利文獻3日本特開2009-271 502鱿公報 專利文獻4曰本特開2010-249869號公報 201245877 【發明内容】 [發明所欲解決之問題] 從而,本發明之目的係在於提供在光阻製造中,高 濃度溶解感度高之肟酯系光聚合起始劑、而無損於電子 材料用途之糊組成物特性的光阻製造用組成物的製造方 法。 [用以解決問題之手段] 本發明人等為上述課題而潛心研究之結果,發現以 特定之溶劑A溶解肟酯系光聚合起始劑,再於其後以一 般使用於電子材料用途之已知塗布性、顏料分散性良好 的溶劑來稀釋,可實現高肟酯系光聚合起始劑溶解性。 本發明係基於該等見識而完成者。 亦即本發明係提供一種光阻製造用組成物之製造方 法,其特徵為混合含有至少1種選自包含以下述式(A 1 ) 、(A2)、(A3)、(A4)、及(A5) Ο Ο
R1^ JL R1^ JL N N (A1) N H (A2) I I I , R2 R3 R2
201245877 (上述式中,R〜R4、Rl’、r2,係相同或不同各為 Ci-2之燒基’ R1與R3或R2與R4係亦可彼此結合各自形 成環,R與R6係彼此結合形成4〜8員之環,環係亦可分 枝而有側鏈,R5’與R6’係彼此結合形成3〜7員環,環係 亦可分枝而有側鏈;R7與R8係彼此結合形成3〜7員環’ 環係亦可分枝而有側鏈) 表示之化合物之群組的化合物之溶劑A與肟酯系光 聚合起始劑而製成溶劑組成物((:)後,將前述溶劑組成物 (C)與和前述溶劑A相溶之溶劑B混合而得到光阻製造用 組成物(D)。 上述溶劑A與溶劑B之重量比係較佳為溶劑a :溶 劑 B=l〇 : 90〜99 : 1。 此外’上述溶劑組成物(C)中,上述溶劑A相對於上 述肪S旨系光聚合起始劑之重量比,係較佳為肟酯系光聚 合起始劑:溶劑A= 1 : 〇. 1〜1 : ! 〇〇。 再者,上述溶劑組成物(C)中,較佳為溶解4重量% 以上之肟酯系光聚合起始劑。 式 述 下 以 為 佳 較 係 劑 始 起 合 聚 光 系 酯 肟 述 上 f oR12 Λ 3 R1 (pl 表示之化合物(pi)。 [上述式中,R"係表示C:2醯基、或苯醯基;R12係 表示c,_6烷基、或亦可具有取代基之笨基;R13係表示以 下述式(P2) -8- 201245877 ο R14 人 (P2)
Rls (上述式中’ R14係表示亦可具有取代基之苯基、亦 可具有取代基之萘基、亦可具有取代基之蒽基、亦可具 有取代基之。塞吩基、或亦可具有取代基之二苯硫醚基; R15係表示早鍵、或以下述式(P3)
(P3) R16 (上述式中,R16係表示Ci_2烷基、或笨基。) 表示之2價之基。再者,Rl5為單鍵時,係亦可 為 C6H5SC6H4·。) 或由T述式(P4) 2ON—R15 (P4) 之基 (上述式中’ R15係表示單鍵、或以上述式(叫表 不 表示之基。] 此外’較佳者’上述肪醋系光聚合起始劑 式⑴表示之化合物⑴、⑺表示之化合 以 2 (3)表示之化合物(3)。 )次乂下述式 201245877
⑴ ⑵ ⑶ [發明效果] 根據本發明之光阻製造用組成物之製 供化合物(1)、化合物(2)或化合物(3)等之 起始劑的溶解性高、無損於電子材料用途 性的光阻製造用組成物。 造方法,可提 肟酯系光聚合 之糊組成物特 -10- 201245877 【實施方式】 [光阻製造用組成物之製造方法] 本發明之光阻製造用組成物之製造方法,其特徵為 混合含有至少1種選自包含以下述式(Al) ' (A2)、(A3) (A4)、及(A5) Ο 1 II R、 1, R R N N (A 1) \ . N I 1 1 R2 R3 1 R 2, Ο 人 Η (A 2)
/0\ r7 (A 5) (上述式中,R1〜R4、R1’、R2’係相同或不同,各為 Cw之烷基、R1與R3或R2與R4係亦可彼此結合各自形 成環;R5與R6係彼此結合形成4〜8員之環,環係亦可分 枝而有側鏈;R5’與R6’係彼此結合形成3〜7員環,環係 亦可分枝而有側鏈;R7與R8係彼此結合形成3〜7員環, 環係亦可分枝而有側鏈) 表示之化合物之群組的化合物之溶劑A與肟酯系光 聚合起始劑而製成溶劑組成物(C)後,將前述溶劑組成物 -11- 201245877 ⑹和與前述溶劑A相溶之溶 … 組成物(D)。 Q而得到光阻製造用 〈光阻製造用組成物(D)> 在本發明係將辟㈣光聚 起始劑之溶解性佳之以下所舉出έ :韌以肟酯系光聚合 組成物(C),再於其後以與溶劑Α =目2劑Α溶解作為溶劑 材料用it之溶劑B稀釋而得到光阻=—般使用於電子 最初將溶劑A與溶劑B混合的情況,造用組成物(D)。在 始劑之溶解性會變低。 則胯酯系光聚合起 <溶劑組成物(C)> 在本發明之光阻製造用組成物 劑A盥肤π $企你人4 〜I造方法’係將溶 剎Α與肟0a系先聚合起始劑混合 。 传到溶劑組成物(C) <溶劑A> 溶劑A係含有至少1種選自包合 /A,、 3 U 上述式(A1)、(A2) 、(A3)、(A4)、及(A5)表示之化合物 〜 < 群組的化合物。 上述式(A1)中’作為亦可為Ri鱼3 .,^ R或R2與R4彼此 L合而各自形成之環’可舉出2•咪 下里0定綱環、2_嘧啶酮 環等。作為以上述式(A 1)表示之化合物 σ物’較佳可使用1,3-一曱基-2-0米。坐咬酮、1,3-二曱基·3 4 s < ’,5,6-四氫-2(1Η)嘧啶 酮、四曱基腺、四乙基脲等。 上述綱中U,中之Cl.2燒基係甲基或乙 基’作為以上述式(A2)表示之化合物,具體而言,可舉 出二甲基甲醯胺、二乙基甲醯胺等。作為以式(\2)表示 之化合物,較佳可使用一曱基甲醯胺等。 201245877 上述式(A3)中,作為R5與R6彼此結 員之環,可舉出例如4〜8員之内S旨環、作 出甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異 基等Cb4烷基。作為以上述式(A3)表示之 而言可舉出γ-丁内酯、α -曱基-γ-丁内酯、 醋、α-乙基-γ -丁内S旨、ot-丙基-γ- 丁内醋、 戊内酯、α -曱基- δ-戊内酯、α -甲基-γ-戊内 戊内酯、α-乙基-γ-丁内酯、ε-己内酯、α-、β -甲基-ε己内自旨、α -乙基-ε-己内自旨、α-等。作為以上述式(A3)表示之化合物,較 内S旨、γ-丁内酷、δ -戊内_、γ -戊内醋等。 上述式(Α4)中,作為R5’與R6’彼此結 員之環,可舉出例如環戊酮環,環己酮環 烷酮環,作為側鏈,可舉出曱基、乙基、 、丁基、異丁基、三級丁基等C,.4烷基。 (Α4)表示之化合物,具體而言可舉出環戊 戊酮、3-甲基環戊酮、2-乙基環戊酮、3-乙 丙基環戊酮、2-異丙基環戊酮、3 -丙基環/ 環戊酮、2- 丁基環戊酮、2-異丁基環戊酮、 戊酮、3-丁基環戊酮、3-異丁基環戊酮、3_ 酮、環己酮、2 -曱基環己酮、3 -甲基環己卽 酮、2-乙基環己酮、3-乙基環己酮、4-乙 丙基環己酮、2-異丙基環己酮、3 -丙基環£ 環己酮、4-丙基環己酮、4-異丙基環己酮、 、2-異丁基環己酮、2-三級丁基環己酮、3 合形成的4〜8 為側鏈,可舉 丁基、三級丁 化合物,具體 β-甲基-γ-丁内 δ -戊内酯、γ -酉旨、ct -乙基-δ -曱基-ε-己内酯 丙基-ε -己内酉旨 佳可使用ε-己 '合形成的3〜7 等3〜7員之環 丙基、異丙基 作為以上述式 酮、2-曱基環 *基環戊酮、2-酮、3 -異丙基 2-三級丁基環 -三級丁基環戊 、4-曱基環戊 基環己酮、2-L酮、3-異丙基 2-丁基環己酮 -丁基環己酮、 -13- 201245877 3-異丁基環己酮、3-三級丁基環己酮、4-丁基環己酮、4-異丁基環己酮、4-三級丁基環己酮等。作為以上述式(A4) 表示之化合物而言較佳可使用環戊酮、環己酮等。 上述式(A5)中,作為R7與R8彼此結合形成的3〜7 員之環,可舉出例如嘮咮環、噚烷環、咮啉環等3〜7員的 含氧環、作為側鏈,可舉出曱基、乙基、丙基、異丙基 、丁基、異丁基、三級丁基等C,_4烷基。作為以上述式 (A5)表示之化合物,具體而言可舉出四氫呋喃、2-甲基 氫0夫。南、3 -甲基氫π夫喃、四氫。底。南、3 -曱基四氫-2 Η - 〇底 喃、咮啉、4-曱基咮啉、4-乙基咪啉等。作為以上述式(Α5) 表示之化合物,較佳可使用四氫呋喃、味啉等。上述例 示之溶劑Α係可單獨使用,亦可併用2種以上。 <肟酯系光聚合起始劑> 以肟酯系光聚合起始劑而言係並無特別限定,但可 舉出例如以下述式(P1)
(P1) 表示之化合物。 上述式中,R11係表示C2醯基、或苯醯基;R12係表 示烷基、或亦可具有取代基之苯基;R13係表示以下 述式(P2) Ο R14
(P2) R15 — -14- 201245877 [上述式中’ R14係表示亦可具有取代基之笨基、亦 可具有取代基之萘基、亦可具有取代基之蒽基、亦可具 有取代基之噻吩基、或亦可具有取代基之二苯硫醚基;
(P3) (上述式中’ R16係表示C!·2烷基、或苯基。) 為皁鍵時’ R14係亦可為 表示之2價基。再者,R C6H5SC6H4-。] 或以下述式(P4) 2〇N—R15 (P4) 或以上述式(P3)表示 (上述式中,R15係表示單鍵 之基。) 表不之基0 你^ 為尺之G醯基,可舉出 例如乙醯基等。上述式(P1)中,作為" 牛出 τA^ 马R例不之苯醯基, r舉出苯甲醯基等。上述式(P1)中 .w» «. IF句例不之c, 况基,可舉出f基、己基等。上述4 ]·6 中之絮苴+ 这式(Pl)中,作為 基等。 了舉出甲基、▼氧基丙氧 二級丁基 上述式(Ρ2)中,作為R】 塞吩基亦可具有之取代基, 基、異丙基、丁基、異丁基、 中之苯基、萘基、蒽基、或 可舉出例如甲基、乙基、丙 三級丁基等Ci -15- 201245877 烷基;曱氧基、乙氧基、丙氧基、異丙氧基、丁氧基、 異丁氧基、二級丁氧基、三級丁氧基、2,2 -二曱基-1,3-二噚咮_4-曱氧基等C,_4烷氧基等。 上述式(P3)中,作為R16而例示之Cb2烷基,可舉 出例如甲基、乙基等。 作為肟酯系光聚合起始劑,特佳可使用以下述式(1) 表示之化合物(1)、以下述式(2)表示之化合物(2)或以下 述式(3)表示之化合物(3),此外,亦可併用彼等之2種以 上。
-16- 201245877
⑶ 溶劑組成物(c)中, 劑A的比(重量比),車交 0.1〜1: 100’更佳為1: 才目對於肟酯系光聚合 佳為光聚合起始劑: 1〜1 : 50 ’進一步較佳 :2 5。此外,溶劑組成物( 取物(c)中,肟酯系光5 佳為溶解4重量°/〇以上(你丨a丄(例如4〜90重量%), 重量% 進一步較佳為 90重量%溶解。另 光聚合起始劑及溶劑A之量,對於2種以上 係分別為該等之合計量。 在本發明之光阻製造用組成物之製造方 述溶劑組成物(C)、與和上述溶劑a相溶之溶 得到光阻製造用組成物(D)。 <溶劑B> 起始劑之溶 溶劑: 為1 : 1.5〜1 合起始劑較 更佳為5〜90 外,肟酯系 併用的情況 法’係將上 劑B混合而 作為溶劑B,只要是與溶劑A相溶者貝^ ’但可舉出例如(單、二、三)烷二醇單烷酸 烷二醇二烷醚、(單、二)烷二醇烷基醚乙酸g 烧二醇二乙酸醋、(環)烷基乙酸酯、6醇、 、C3_6烷二醇單烷醚、C3 6烷二醇烷基醚乙 烧二醇二乙酸醋、甘油三乙酸酯、羥基羧酸 無特別限定 、(單、二) 1、(單、二) C3-6燒二醇 酸酯、c3.6 '羥基羧 201245877 酸二酯、烷氧基羧酸酯、除了上述(A4)之化合物的環狀 酮、除了上述(A3)之化合物的内酯、除了上述(A 5)之化 合物的環狀醚、吡啶類、芳香族乙酸酯、胺類等。 作為(單、二、三)烷二醇單烷醚,可例示乙二醇單 曱醚、乙二醇單乙醚、乙二醇正丙醚、乙二醇正丁醚、 二乙二醇單曱醚、二乙二醇單乙醚、二乙二醇正丙醚、 二乙二醇正丁醚、丙二醇單曱醚、丙二醇單乙醚、丙二 醇正丙醚、丙二醇正丁醚、二丙二醇甲醚、二丙二醇單 乙醚、二丙二醇正丙醚、二丙二醇正丁醚、三丙二醇甲 醚、三丙二醇正丁醚等。 作為(單、二)烷二醇二烷醚,可例示乙二醇二曱醚 、乙二醇二乙醚、二乙二醇二曱驗、二乙二醇二乙醚、 二乙二醇二丙鱗、二乙二醇二丁醚、丙二醇二曱醚、丙 二醇二乙_1 '二丙二醇二甲鍵、二丙二醇二乙謎、丙二 醇曱基乙醚、丙二醇曱基正丙醚、丙二醇曱基正丁醚、 二丙二醇曱基乙醚、二丙二醇曱基正丙醚、二丙二醇甲 基正丁醚等。 作為(單、二)烷二醇烷基醚乙酸酯,可例示乙二醇 單曱醚乙酸酯、乙二醇單乙醚乙酸酯、乙二醇單丙醚乙 酸酯、乙二醇單丁醚乙酸酯、二乙二醇單曱醚乙酸酯、 二乙二醇單乙醚乙酸酯、二乙二醇單丙醚乙酸酯、二乙 二醇單丁醚乙酸酯、丙二醇單甲醚乙酸酯、丙二醇單乙 醚乙酸酯、丙二醇單丙醚乙酸酯、丙二醇單丁醚乙酸酯 、二丙二醇曱醚乙酸酯、二丙二醇乙醚乙酸酯、二丙二 醇丙醚乙酸酯、二丙二醇丁醚乙酸酯等。 -18- 201245877 作為(單、二)烷二醇二乙酸酯,可例示乙 酸酯、二乙二醇二乙酸酯、丙二醇二乙酸酯、 二乙酸酯等。以(環)烷基乙酸酯而言可例示乙 乙酸乙酯、乙酸正丙酯、乙酸異丙酯、乙酸丁 環己醇酯等。 作為C3_6醇,可例示正丙醇、異丙醇、正 級丁醇、三級丁醇、正戊醇、正己醇、2-己醇 C3-6烷二醇,可例示1,3-丁二醇、1,4-丁二醇、 醇等。作為C3_6烷二醇單烷醚,可例示3-曱氧 〇 作為C 3 - 6烧二醇烧基醚乙酸S旨,可例示3 -醇乙酸酯等。作為C3_6烷二醇二乙酸酯,可例 二醇二乙酸酯、1,4-丁二醇二乙酸酯、1,6-己二 酯等。 作為羥基羧酸酯,可例示乳酸曱酯、乳酸 作為羥基羧酸二酯,可例示乙酸乳酸曱酯、乙 酯等。作為烷氧基羧酸酯,可例示甲氧基丙酸 氧基丙酸乙酯等。 作為環狀酮,可例示4-側氧異佛酮等。作 ,可例示α-乙醯基-γ- 丁内酯等。作為環狀醚, 氫糠醇、乙酸四氫糠酯等。 作為°比°定類,可例示°比。定、曱基°比咬等。 族乙酸酯,可例示醋酸苯酯等。作為胺類,可 胺、三乙胺等。上述例示之溶劑Β係可單獨使 併用2種以上。 二醇二乙 二丙二醇 酸甲酷、 酯、乙酸 丁醇、二 等。作為 1,6-己二 基丁醇等 曱氧基丁 示 1,3-丁 醇二乙酸 乙酯等。 酸乳酸乙 曱酯、乙 為内酯類 可例示四 作為芳香 例示二乙 用,亦可 -19- 201245877 光阻製造用組成物(D)中 > 如以前述式(1)、(2)或(3) 曰、光聚合起始劑[例 含有量係可設為例如較佳::::物⑴、(2)或(3)]之 重”小更佳為5〜:二為:解4重”㈣ %,進一步較佳為8 。’進一步較佳為6〜90重量 /子乂 1玄马8重罝%以上 為10重量%以上(10〜90重 I。程度),特佳 ^中,^度)。先阻製造用組成物 听朽a日糸先聚合起始劑4 化時之感光性方面為較佳 “以上在先硬 之量,在併用2種以上之情Γ俜=光聚合起始劑 #i 月况,係為該4之合計量。 例二重了成物(D)中,溶劑A之含有量係可設^ Ί重$/。以下(9〜95重量%程度),較佳為94重量% 以下(9〜94重眚%兹疮、其 置里/〇 量❶錄度),進-步^二佳為93重量%以下(9〜93重 卢),特伟或〇步較佳為91重量%以下(9〜91重量%程 乂之含二%以下(9~89重量%程度)。另外,溶 齊A之$有置,在徘爾1從 . 計量。 種以上的情況,係為該等之合 ..""*; 7: 74"" ^"
之含有量若大於85重旦:心佳為1〜70重量%。溶劑B 解性會有不足…則刚光聚合起始劑之溶 2種以上的卜 卜,溶劑B之含有量,在併用 2種以上的情況,係為該等之合計量。 曰,阻製造I组成物(D)中,溶劑A與溶劑B之 里比)係較佳為溶劑A:溶劑B=1〇: 9〇〜9 系光聚:起始劑之溶解性方面看*,更佳為溶劑從/^ 劑……,進一步較佳為溶劑A::二 -20- 201245877 :50〜99 : 1。另外,溶劑A、B之量,在併用2種以上 的情況,係為該等分別之合計量。光阻製造用組成物(D) 中,藉由以溶劑B稀釋,不僅含有高濃度肟酯系光聚合 起始劑,更可改善光阻製造用組成物之塗布性、顏料分 散性、染料溶解性、環氧樹脂•丙稀酸樹脂溶解性、乾 燥性、安全性等。 光阻製造用組成物(D)中,例如為更提升塗布性,併 用乙二醇單曱醚、乙二醇單乙醚、乙二醇正丙醚、乙二 醇正丁醚、二乙二醇單甲醚、二乙二醇單乙醚、二乙二 醇正丙醚、二乙二醇正丁醚、丙二醇單曱醚、丙二醇單 乙謎、丙二醇正丙鍵、丙二醇正丁謎、二丙二醇曱謎、 二丙二醇單乙醚、二丙二醇正丙醚、二丙二醇正丁醚、 三丙二醇甲醚、或三丙二醇正丁醚等的(單、二、三)烷 二醇單烷醚;乙二醇二甲醚、乙二醇二乙醚、二乙二醇 二曱趟、二乙二醇二乙醚、二乙二醇二丙醚、二乙二醇 二丁醚、丙二醇二曱醚、丙二醇二乙醚、二丙二醇二曱 醚、二丙二醇二乙醚、丙二醇曱基乙醚、丙二醇曱基正 丙醚、丙二醇曱基正丁醚、二丙二醇曱基乙醚、二丙二 醇曱基正丙醚、或二丙二醇曱基正丁醚等的(單、二)烷 二醇二烷醚;乙二醇單曱醚乙酸酯、乙二醇單乙醚乙酸 酯、乙二醇單丙醚乙酸酯、乙二醇單丁醚乙酸酯、二乙 二醇單曱醚乙酸酯、二乙二醇單乙醚乙酸酯、二乙二醇 單丙醚乙酸酯、二乙二醇單丁醚乙酸酯、丙二醇單甲醚 乙酸酯、丙二醇單乙醚乙酸酯、丙二醇單丙醚乙酸酯、 丙二醇單丁醚乙酸酯、二丙二醇曱醚乙酸酯、二丙二醇 -2 1- 201245877 乙醚乙酸酯、二丙二醇丙醚乙酸酯、或二丙二醇丁醚 酸酯等的(單、二)烷二醇烷基醚乙酸酯;乙二醇二乙 酯、二乙二醇二乙酸酯、丙二醇二乙酸酯、或二丙二 二乙酸酯等的(單、二)烷二醇二乙酸酯;或曱氧基丙 甲基、乙氧基丙酸乙基等的烷氧基羧酸酯等,作為溶 B係為有效。 此外,為更提升顔料分散性,併用丙二醇單甲醚 酸酯等單C3_6烷二醇烷基醚乙酸酯;或3 -甲氧基丁醇 酸酯等C3_6烷二醇烷基醚乙酸酯等,作為溶劑B係為 效。 此外,為更提升染料溶解性,併用丙二醇單曱醚 的單(:3_6烷二醇單烷醚;丙二醇單曱醚乙酸酯等的單C 烷二醇烷基醚乙酸酯;3-曱氧基丁醇等的C3_6烷二醇 烷醚;3-曱氧基丁醇乙酸酯等的C3_6烷二醇烷基醚乙 酯;乳酸甲基、或乳酸乙基等的羥基羧酸酯;乳酸甲 乙酸酯、或乳酸乙基乙酸酯等的羥基羧酸二酯;正丙 、異丙醇、正丁醇、二級丁醇、三級丁醇、正戊醇、 己醇、或2-己醇等的C3_6醇;或1,3-丁二醇、1,4-丁 醇、1,6-己二醇等C3_6烷二醇等,作為溶劑B係為有 〇 此外,為更提升環氧樹脂•丙烯酸樹脂溶解性, 用乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、乙二醇正丙醚、乙 醇正丁醚、二乙二醇單甲醚、二乙二醇單乙醚、二乙 醇正丙醚、二乙二醇正丁醚、丙二醇單曱醚、丙二醇 乙鍵、丙二醇正丙謎、丙二醇正丁謎、二丙二醇曱趟 乙 酸 醇 酸 劑 乙 乙 有 等 3-6 單 酸 基 醇 正 效 併 單 -22- 201245877 二丙二醇單乙醚、二丙二醇正丙醚、二丙二醇正丁醚、 三丙二醇甲醚、三丙二醇正丁醚等的(單、二、三)烷二 醇單烷醚;乙二醇二甲醚、乙二醇二乙醚、二乙二醇二 曱醚、二乙二醇二乙醚、二乙二醇二丙醚、二乙二醇二 丁醚、丙二醇二曱醚、丙二醇二乙醚、二丙二醇二甲醚 、二丙二醇二乙醚、丙二醇甲基乙醚、丙二醇甲基正丙 醚、丙二醇曱基正丁醚、二丙二醇甲基乙醚、二丙二醇 甲基正丙醚、二丙二醇曱基正丁醚等的(單、二)烷二醇 二烷醚;乙二醇單甲醚乙酸酯、乙二醇單乙醚乙酸酯、 乙二醇單丙醚乙酸酯、乙二醇單丁醚乙酸酯、二乙二醇 單曱醚乙酸酯、二乙二醇單乙醚乙酸酯、二乙二醇單丙 醚乙酸酯、二乙二醇單丁醚乙酸酯、丙二醇單曱醚乙酸 酯、丙二醇單乙醚乙酸酯、丙二醇單丙醚乙酸酯、丙二 醇單丁醚乙酸酯、二丙二醇甲醚乙酸酯、二丙二醇乙醚 乙酸酯、二丙二醇丙醚乙酸酯、二丙二醇丁醚乙酸酯等 的(單、二)烷二醇烷基醚乙酸酯;乙二醇二乙酸酯、二 乙二醇二乙酸酯、丙二醇二乙酸酯、二丙二醇二乙酸酯 等的(單、二)烷二醇二乙酸酯;除了 4-側氧異佛酮等的 (A4)之化合物的環狀酮;除了 α-乙醯基-γ- 丁内酯等的 (A3)之化合物的内酯類;除了四氫糠醇、乙酸四氫糠酯 等的(Α5)之化合物的環狀醚;吡啶、或曱基吡啶等吡啶 類;醋酸苯酯等芳香族乙酸酯;或二乙胺或三乙胺等胺 類等,作為溶劑Β係為有效。 此外,為更加提升乾燥性,併用丙二醇甲基正丙醚 '丙二醇甲基正丁謎、二丙二醇曱基正丙醚、二丙二醇 -23- 201245877 曱基正丁醚等的(單、二)C3.6烷二醇C12烷基C34烷基 謎;或乙酸曱酯、乙酸乙酯、乙酸正丙酯、乙酸異丙酯 、乙酸丁醋 '乙酸環己醇酯等(環)烷基乙酸酯等,作為 溶劑B係為有效。上述例示之溶劑B係可單獨使用,亦 可併用2種以上。 [實施例] 以下藉由實施例更具體地說明本發明,但本發明並 非受限於該等者。 實施例1 使用化合物(1)(以依據記載於日本特表2〇〇6_5 16246 之方法的方法合成之Daicel公司之實驗室製造品)作為 肟酯系光聚合起始劑,在2(rc環境下,使用丨,3_二甲八 -3,4,5,6·四氫·2(1Η)嘧啶酮作為溶劑A(Sol.A),將肟唣= 光聚合起始劑[化合物(1)]添加於溶劑A後,以手輕榣容 态進仃溶解1分鐘左右,得到溶劑組成物。其後,使用 3-甲氧基丁醇乙酸酯做為溶劑B(s〇hB),以記載於表 之起始劑濃度(4 f量%〜13重量%),且使溶劑“: B之重量比成為記載於表i之重量比,而稀釋此溶鄞“ 成物,以手輕榣容器1分鐘左右之後,確認化合物、 溶解狀態。 )之 另外,溶解狀態係將以目視無法確認不溶 a a「 ~ 形 虽作〇·溶解」’將可確認不溶物之情形當作「χ : 解J。以下亦為相同。 將結果示於表1。 -24- 201245877 實施例2〜12 與實施例1相同地以記載於以下表】之溶劑a,在 2〇°C環境下加入蔣醋系光聚合起始劑[化合物⑴〗而得到 溶劑組成物,以記載於表〗之溶劑B稀釋此溶劑組成物 ,使其成為如記載於表1之起始劑濃度(4重量3重量
%)的溶液’以目視確認化合物(丨)之溶解狀態。使溶劑A 與溶劑B之重量比成為如記载於表丨之重量比。將結果 示於表1。 比較例丨〜1 2 將記載於以下表丨之溶劑A與溶劑B以表1之重量 比尾合’以手輕搖容器1分鐘左右之後’以其混合溶劑 在20°C環境下調製溶液使肟酯系光聚合起始劑[化合物 (1)]成為記載於表1之起始劑濃度(4重量%〜13重量0/〇) 的滋·、为 人 ’以手輕搖容器1分鐘左右之後’以目視確認化 Q物(1)可否溶解。將結果示於表1。 -25- 201245877 L槲 起始劑溶解性 化合物(1)¾度(重量%) CO 〇 X o X X X X X X X X X X X X X X X X X X X X X CM 〇 X 〇 X X X X X X X X X X X X X X X X X X X X X 〇 〇 〇 〇 X X X X X X X X X X X X X X X X X X X X 〇 〇 〇 〇 〇 X X X X X X X X X κ X X X X X X X X X X σ> 〇 o 〇 o X X X X X X X X X X X X X X X X X X X X 00 〇 〇 〇 〇 〇 X 〇 X X X X X X X X X X X X X X X X X 卜 o 〇 o 〇 o o 〇 〇 X X X X 〇 〇 〇 〇 X X X X X X X X <〇 〇 o 〇 〇 〇 〇 〇 o X X X X 〇 〇 〇 〇 X X 〇 X X X X X in 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 X 〇 X 〇 〇 〇 〇 〇 X 〇 X X X X X o o 〇 o 〇 〇 〇 〇 o 〇 〇 〇 〇 〇 o 〇 〇 o 〇 〇 X X X X '-N _ tlinil Pm >·_✓ AJ Sol.B MMPGAC _I s s g s ο ο s s s g o o MBA」 s s s g o ο s s s s o o M m 谀 SoLA DMI 2 s g s w 异 s s s s 异 另 DMTHP」 s s s s 另 η s s s s w CM CO i〇 (〇 卜 00 σ> ο CVJ CM CO in <〇 卜 00 o CM 實施例 比較例 -9c\l_ 201245877 ,3-二甲基-3,4,5,6-四 DMTHP: 1 光純藥工業製) DMI · 1,3-一甲基·2·咪唑啶酮(和光純藥工業製 MBA : 3-甲氧基丁醇乙酸醋(Daice丨公司製) MMPGAC :丙二醇單甲醚乙酸酯(Da〖cel公司製) 使用化合物(2)(BASF製)作為聘醋系光聚合起始劑 ,在抓環境下,使用U·二甲基❹作為溶劑 A(S〇l‘A),㈣醋系%聚合起始化合物⑺]添加至容 劑A後,以手輕搖容ϋ i分鐘左右溶解,得到溶劑电成 物。其後,使用丙二醇單甲醚乙酸醋作為溶劑B(s〇lB) ,以記載於表2之起始劑濃度(5重量%〜3〇重量%),·且 稀釋此溶劑組成物使溶劑A與溶劑b之重量比成A a 載於表2之重量比,以手輕搖容器丨分鐘左右之:如: 目視確認化合物(2)之溶解狀態。將結果示於表2 實施例1 4 與實施例13相同地以記載於以下表2之溶劑A在 2 0 C環境下’將肪酷糸光聚合起始劑[化合物(2)]加入, 得到溶劑組成物,以手輕搖容器1分鐘左右之後,以纪 載於表2之溶劑B稀釋此溶劑組成物,使其成為如記載 於表2之起始劑濃度(5重量%〜30重量%)的溶液,以手 輕搖容器1分鐘左右之後’以目視確認化合物(2)之溶解 狀態。使溶劑A與溶劑B之重量比成為如記載於表2之 重量比。將結果示於表2。 -27- 201245877 比較例1 3〜1 4 將記載於以下表2之溶劑A與溶劑B,以表2之重 置比混合後,以其混合溶劑將肟酯系光聚合起始劑[化合 物(2)]在20°C環境下調製成如記載於表2之起始劑濃度 (5重量%〜30重量%)的溶液,以目視確認化合物(2)可否 溶解。將結果示於表2。 溶劑組 fc (重量比) 二 起始劑w链忡 Sol.A Sol.B 化合物(2)逋 δ (重 實施例 13 UMl 80~ MMnuAL/ 一 20 5 10 15 ""ο- 20 25 一 Ο 30 π~ 14 50 50 〇 〇 〇 Ο X V 比較例 13 14 80 50 20 50 〇 〇 () Q 〇 Λ Ο Ο X DM [1:1,3 -二甲! 5» - 2 _ 口米 1 坐啶 )、不溶 S同(和 vj 解:X) 光純 X 藥工 X 業製 X ) ' 一.…I、—爪取7 mmpgac :丙二醇單甲醚乙酸酯(Daicel公司製) 如由表1、表2可知,和溶劑A(S〇i.a)與溶劑B(s〇1 B) 之混合溶劑(比較例1〜14)所致之化合物或化合物(2) 之溶解性相比,以溶劑A(Sol.A)預先將化合物(1)或化合 物(2)溶解後,以溶劑B(S〇l.B)稀釋者(實施例卜丨々),即 使最終成為相同組成亦無影響,可溶解更多之化合物(^) 或化合物(2) ’可製造含有更高濃度之肟酯系光聚合起始 劑的光阻製造用組成物。 【圖式簡單說明】 無。 【主要元件符號說明】 無0 -28- \

Claims (1)

  1. 201245877 七、申請專利範圍: 1. 一種光阻製造用組成物之製造方法,其特徵為將含有 選自包含以下述式(A1)、(A2)、(A3)、(A4)、及(A5)1, R R 4 N N (Al) R N O 人 H (A 2) IT R R 2,
    R7 R8 (A 5) (上述式中,Rl〜R4、Rl’、R2,係相同或不同,分別 為Ch烷基,Rl與R3或R2與R4係亦可彼此結合各自 形成環,R5與R6係彼此結合形成4〜8員環環係亦可 分枝而有側鏈;R5,與R6’係彼此結合形成3〜7員環, 環係亦可分枝而有側鏈;R7與R8係彼此結合形成3〜7 員%係亦可分枝而有側鏈) 表示的化合物之群組的至少丨種化合物的溶劑A 與:酯系光聚合起始劑混合而製成《容劑組成物⑹後, 將如述/合背|組成物(C)與和前述溶劑A相溶之溶劑B混 合而得到光阻製造用組成物(D)。 -29- 201245877 組成物之製造方 ,係為溶劑A : 2.如申請專利範圍第1項之光阻製造用 法’其中該溶劑Α與溶劑Β之重量比 溶劑 B = l〇 : 90〜99 : 1。 3. 如申請專利範圍第1項或第2項之 •製造用组成物 之製造方法,其中在該溶劑組成物(c) φ )肀,相對於該躬· 知系光聚合起始劑之該溶劑A的重量^ . &入 為,肟酯系光 眾合起始劑:溶劑A= 1 : 〇 · 1〜1 : 1 〇〇。 4. 如申請專利範圍第1至3項中任一項之也 也匕 v <光阻製造用組 成物之製造方法,其中在該溶劑組成物ΓΓ 17 H )中,溶解有 4重量%以上之該肟酯系光聚合起始劑。 5·如申請專利範圍第!至4項中任一項之光阻製造用組 成物之製造方法,其中該肟酯系光聚合起始劑係以下 述式(Ρ1) R11 (PI) Ν R13 R12 表示之化合物(PI) [上述式令’ R11係表示C2醯基、或苯醯基;Ri2 係表示Ci·6烷基、或亦可具有取代基之笨基;R13係表 示以下述式(P2) R14 人 _ 〇,'Rls — (上述式中,R14係表示亦可具有取代基之苯基、 亦可具有取代基之萘基、亦可具有取代基之蒽基、亦 -30- 201245877 可具有取代基之噻吩基、或亦可具有取代基之二笨硫 醚基;R15係表示單鍵、或以下述式(P3)
    (上述式中,R16係表示(^·2烷基、或苯基) 表示之2價之基;再者,R15為單鍵時,R14係亦 可為 C6H5SC6H4-) 或以下述式(P4) 2〇N—R15 (P4) (上述式中,R15係表示單鍵、或以上述式(P3)表示 之基) 表示之基]。 6.如申請專利範圍第5項之光阻製造用組成物之製造方 法,其中該肟酯系光聚合起始劑係為以下述式(1)表示 之化合物(1)、以下述式(2)表示之化合物(2)或以下述式 (3)表示之化合物(3)
    -3 1- 201245877
    -32- 201245877 四、指定代表圖: (一) 本案指定代表圖為:無。 (二) 本代表圖之元件符號簡單說明: 無0 五、本案若有化學式時,請揭示最能顯示發明特徵的化學式: 無。 修正頁 (2012年7月2曰修正) 201245877 〇
    (P2)
    (上述式中,R14係表示亦可具有取代基之苯基、亦 可具有取代基之萘基、亦可具有取代基之蒽基、亦可具 有取代基之噻吩基、或亦可具有取代基之二苯硫醚基; R15係表示單鍵、或以下述式(P3)(P3) R16
    (上述式中,R16係表示Cl-2烷基、或苯基。) 表示之2價之基。再者,Rl5為單鍵時,R14係亦可 為 。) 或由卞述式(P4) ,ΟΝ- (Ρ4)
    (上述式中,Rl5係表不單鍵、或以上述式(Ρ3)表米 之基。) 表示之秦。] 此外,軾佳者’上述肟酯系光聚合起始劑係以下述 式(1)表示之化合物(1)、(2)表示之化合物(2)或以下述式 ^ +舍物(3)。 (3)表示之牝 修正頁 (2012年7月2曰修正) 201245877 [上述式中,R14係表示亦可具有取代基之苯基、亦 可具有取代基之萘基、邡玎具有取代基之蒽基、亦可具 有取代基之噻吩基、或夼可具有取代基之二苯硫醚基; R15係轰示箪鍵、或以下述式(P3)
    R16 (P3) (上述式中’ R16係表示Cl_2烷基、或苯基。) 表示之2價基。再者,R15為單鍵時,R14係亦可為 c6h5sc6h4-。] 或以下述式(P4) 2ON—R1— (P4) (上述式中,R15係表示單鍵、或以上述式(P 3)表示 之基。) 表示之基。 ❹ 上述式(P1)中’作為例示為R11之C2醯基,可舉出 例如乙酿基等。上述式(P1)令,作為Rll例示之苯酿基, 可舉出苯甲醯基等。上述式(Pl)中,作為r12例示之^ ,基可舉出甲基、己基等。上述式(ρι)中,作為r12 其# 的取代基,可舉出甲基、甲氧基丙氧 上述式(Ρ2)中,作為 嘆吩基亦可具有之取代基 Rl4中之苯基、萘基、蒽基、或 可舉出例如甲基、乙基、丙 201245877 修正本 第101107438號「光阻製造用組成物之製造方法」專利案 七、申請專利範園. (2012年7月2曰修正) 〇 1. 一種光阻製造用組成物之製造方法’其特徵為將含有 選自包含以下述式(Al)、(A2)、(A3)、(A4)、及(A5)
    (A1)
    (A 2) R5
    B (A3)
    (A4) 6 /(A5) (上述式中,R1〜R4、R1,、R2’係相同或不同,分別 為Cu烷基,以與尺3或R2與R4係亦可彼此結合各自 形成環;R5與R0係彼此結合形成4〜8員環’環係亦可 分枝而有側鏈;以,與R6,係彼此結合形纟3〜7員環, 環係亦可分枝而有側鏈;R7與R8係彼此結合形成3〜7 員環,環係亦可分枝而有側鏈) 表示的化合物之群組的至少1種化合物的溶劑A 與肟醋系光聚合起始劑混合而製成溶劑組成物(C)後,
    201245877 將前述溶劑組成物(c)與和前述溶劑 m A相溶之 &而得到光阻製造用組成物(D)。 2. 如申請專利範圍第1項之光阻製造用組成物 法,其中該溶劑A與溶劑B之重詈 至里扣,传& 溶劑 B = i〇:9〇~99:1。 、 3. 如申請專利範圍第丨項或第 π <九阻製造 之製造方法’其中在該溶劑組成物(c)中, 醋系光聚合起始劑之該溶劑A的重| α r\ _ A J王垔比為, 聚合起始劑:溶劑A=1 : 0.1〜1 : 1〇〇。 4. 如申請專利範圍第丨至3項中任一項之光阻 成物之製造方法’其中在該溶劑組成物(c)中 4重量°/❶以上之該肟酯系光聚合起始劑。 5. 如申請專利範圍第丨至4項中任一項之光阻 成物之製造方法,其中該肟酯系光聚合 述式(P1) ° R11 ο I (P1) 表示之化合物(P1) [上述式中,R11係表示C2醯基、或苯g 係表示C!-6烷基、或亦可具有取代基之苯基; 示以下述式(P2) R14 人 (P2) 修正本 溶劑B混 之製造方 溶劑A : 用組成物 對於該肟 肟酯系光 製造用組 ,溶解有 製造用組 劑係以下 基;R12 R13係表 修正本 201245877 (上述式中,R14係表示邡圩具有取代基之苯基、 亦可具有取代基之萘基、亦 < 兵有取代基之葱基、亦 可具有取代基之噻吩基、或邡 < 具有取代基之二苯硫 醚基;R15係表示單鍵、或以下述式(P3)
    (上述式中,Rl 6係表示Ci-2炫基、或苯基) Ο 表示之2價之基;再者’ R15為單鍵時’ Rl4係亦 可為 C6H5SC6H4-) 或以下述式(P4) 20N—R1^- (P4) (上述式中,Rl5係表示單鍵、或以上述式(P3)表示 之基) 表示之秦]。 6.如申請專利範圍第5項之光阻製造用組成物之製造方 〇 法,其中該舲酯系光聚合起始劑係為以下述式(1)表示 之化合物(1 )、以下述式U)表示之化合物(2)或以下述式 (3)表示之化含物(3) 修正本 201245877
TW101107438A 2011-03-08 2012-03-06 Method for producing composition for the production of photoresist TW201245877A (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011050789 2011-03-08
JP2011050788 2011-03-08

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TW201245877A true TW201245877A (en) 2012-11-16

Family

ID=46813462

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW101107440A TWI575311B (zh) 2011-03-08 2012-03-06 光阻製造用溶劑或溶劑組成物
TW101107438A TW201245877A (en) 2011-03-08 2012-03-06 Method for producing composition for the production of photoresist

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW101107440A TWI575311B (zh) 2011-03-08 2012-03-06 光阻製造用溶劑或溶劑組成物

Country Status (4)

Country Link
JP (2) JP5946657B2 (zh)
KR (2) KR101972164B1 (zh)
CN (2) CN102681340A (zh)
TW (2) TWI575311B (zh)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6168884B2 (ja) * 2013-07-05 2017-07-26 東京応化工業株式会社 ネガ型感光性樹脂組成物
KR101831358B1 (ko) * 2016-06-02 2018-02-22 (주)켐이 광활성 화합물, 이를 포함하는 광중합 개시제 및 포토레지스트 조성물
KR102121424B1 (ko) 2016-12-02 2020-06-10 삼성에스디아이 주식회사 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 블랙 화소 격벽층 및 디스플레이 장치

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100212633B1 (ko) * 1995-12-27 1999-08-02 성재갑 신규한 피리미딜옥시벤조산 옥심에스테르 유도체 및 그의 제조방법
AT413383B (de) * 1998-01-09 2006-02-15 Sandoz Ag Verfahren zur isolierung eines diastereoisomerengemisches von cefpodoxim proxetil
JP2000171986A (ja) * 1998-12-03 2000-06-23 Clariant (Japan) Kk フォトレジスト剥離液および剥離方法
US6842577B2 (en) * 2002-12-02 2005-01-11 Shipley Company L.L.C. Photoimageable waveguide composition and waveguide formed therefrom
AU2003294034A1 (en) * 2002-12-03 2004-06-23 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Oxime ester photoinitiators with heteroaromatic groups
JP4565824B2 (ja) * 2003-09-24 2010-10-20 株式会社Adeka 二量体オキシムエステル化合物及び該化合物を有効成分とする光重合開始剤
JP2005220097A (ja) * 2004-02-06 2005-08-18 Asahi Denka Kogyo Kk チオフェン構造を有するオキシムエステル化合物及び該化合物を含有する光重合開始剤
JP4448381B2 (ja) 2004-05-26 2010-04-07 東京応化工業株式会社 感光性組成物
JP3992725B2 (ja) * 2004-08-20 2007-10-17 株式会社Adeka オキシムエステル化合物及び該化合物を含有する光重合開始剤
JP3798008B2 (ja) * 2004-12-03 2006-07-19 旭電化工業株式会社 オキシムエステル化合物及び該化合物を含有する光重合開始剤
JP4761989B2 (ja) * 2006-02-02 2011-08-31 旭化成イーマテリアルズ株式会社 ポリアミド酸エステル組成物
JP2007233230A (ja) * 2006-03-03 2007-09-13 Toyo Ink Mfg Co Ltd 感光性黒色組成物およびカラーフィルタ
JP2008032794A (ja) * 2006-07-26 2008-02-14 Sanyo Chem Ind Ltd 感光性樹脂組成物
JP4757732B2 (ja) * 2006-08-02 2011-08-24 富士フイルム株式会社 感光性組成物及びそれを用いた感光性転写材料、表示装置用遮光膜及びその形成方法、遮光膜付基板並びに表示装置
JP2009091555A (ja) * 2007-09-18 2009-04-30 Fujifilm Corp 硬化性組成物、画像形成材料及び平版印刷版原版
JP2009173560A (ja) * 2008-01-22 2009-08-06 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd オキシムエステル系化合物及び感光性組成物
JP5316034B2 (ja) 2008-04-07 2013-10-16 三菱化学株式会社 カラーフィルタ用着色組成物、カラーフィルタ、及び液晶表示装置
JP5606007B2 (ja) 2009-04-10 2014-10-15 東洋インキScホールディングス株式会社 カラーフィルタ用青色着色組成物、カラーフィルタおよびカラー表示装置
JP5644068B2 (ja) * 2009-07-06 2014-12-24 日立化成デュポンマイクロシステムズ株式会社 感光性樹脂組成物、レジストパターンの製造法、及びハードディスクサスペンション
US8329383B2 (en) * 2009-11-05 2012-12-11 Eastman Kodak Company Negative-working lithographic printing plate precursors
JP5789612B2 (ja) * 2010-09-29 2015-10-07 株式会社カネカ 新規な感光性樹脂組成物作製キット及びその利用

Also Published As

Publication number Publication date
CN102681339A (zh) 2012-09-19
KR20120102538A (ko) 2012-09-18
KR101972164B1 (ko) 2019-04-24
TW201245857A (en) 2012-11-16
KR20120102537A (ko) 2012-09-18
JP2012198532A (ja) 2012-10-18
JP5829952B2 (ja) 2015-12-09
JP5946657B2 (ja) 2016-07-06
JP2012198533A (ja) 2012-10-18
CN102681340A (zh) 2012-09-19
CN102681339B (zh) 2019-05-07
TWI575311B (zh) 2017-03-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JOP20200148A1 (ar) تركيبة عقار ذو إطلاق متأخر
TW201042368A (en) Coloring photo-sensitive resin composition and color filter
TW201245877A (en) Method for producing composition for the production of photoresist
JP2012236837A5 (zh)
JP2013148867A5 (zh)
JP2012068613A5 (zh)
CN104086675B (zh) 环糊精衍生物及其制备方法、光阻组合物和显示装置
JP2013119568A (ja) ブロック共重合体、分散剤及び顔料分散組成物
JP2016224447A5 (zh)
CN103376656A (zh) 用于形成绿色像素的放射线敏感性组合物、滤色器和彩色液晶显示元件
CN104285167B (zh) 滤色器用颜料分散体及其制造方法和用途、滤色器用着色组合物及其用途、滤色器
JP2012057155A5 (zh)
JP2012212054A5 (zh)
WO2015032239A1 (zh) 碱可溶性树脂及其制备方法
KR20170093692A (ko) 컬러필터용 녹색 안료 분산물
CN107109076A (zh) 分散剂
CN105974738A (zh) 蓝色感光性树脂组合物、滤色器和包含其的液晶显示装置
CN103263872B (zh) 一种分散剂及彩色颜料液、光刻胶
TW201512312A (zh) 著色硬化性樹脂組合物
CN103073668B (zh) 碱可溶性树脂及制备方法、感光树脂组合物和彩色滤光片
CN102925010A (zh) 一种利用废旧泡沫制作的油漆
CN103540203B (zh) 可降解多功能防护膜
CN103232603B (zh) 碱可溶树脂及其制备方法、光刻胶组合物
CN109837015A (zh) 一种水性涂料及其制备方法
Su et al. Single-nodal linking for Zn2+-Nd3+-containing metallopolymer with efficient near-infrared (NIR) luminescence