TW201245439A - Ink composition, organic electroluminescence element using same and method for manufacturing same - Google Patents

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Takayuki Morita
Takuma OOUCHI
Tomohiro Kai
Yoshihiro Suzuki
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Description

201245439 六、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明係利用有機薄膜 現象者,係關於含有有機EL 之有機EL元件及其製造方法 【先前技術】 有機EL元件,包含導電 有機發光層的厚度方向的兩 透光性的基板上依序疊層並 極而製造。並且,藉由對於 電子及電洞並使其再結合, 發光。在此,為了使源自有 有時會於陽極以及有機發光 在陰極與有機發光層之間設 一般而言,有機發光層 ’係由分子量高、容易溶解 藉此,可利用在大氣壓下的 版印刷法或凸版反轉平版印 2)、噴墨法(例如參照專利文 照專利文獻5)等印刷法形成 本降低或生產性提高。 [先前技術文獻] [專利文獻] 之電致發光(以下省略為EL) 材料之印墨組成物及使用其 性的有機發光層以及配置於 側的陽極及陰極,可藉由在 形成陽極、有機發光層、陰 有機發光層施加電壓,注入 於此結合時會使有機發光層 機發光層的發光效率增大, 層之間設置電洞輸送層,或 置電子輸送層。 、電洞輸送層及電子輸送層 於溶劑的高分子材料形成。 旋塗法等的濕式塗布法或凸 刷法(例如參照專利文獻1、 獻2〜4)、喷嘴印刷法(例如參 各層’可達成製造設備的成 [專利文獻1]日本特開2003-17248號公報 [專利文獻2]日本特開2004-296226號公報 201245439 [專利文獻3]日本專利第3541 625號公報 [專利文獻4]日本特開2009— 267299號公報 [專利文獻5]日本特開2〇〇 1 -1 89 1 92號公報 【發明内容】 [發明欲解決之課題] 有機發光層使用的低分子發光材料,有超越高分子 發光材料的發光效率、壽命,且被要求能替代高分子發 光材料《但是’利用上述濕式塗布法製造有機El元件之 方法’為了分開塗布發光層的RGB,必需以隔壁區分晝 素’於晝素内的低分子發光材料的成膜性會有問題。此 係由於低分子發光材料形成的膜在隔壁内會有成為凸狀 的傾向,所以在晝素的端部與中央會發生發光不均,而 有造成發光效率及壽命降低的問題。 本發明的目的在於提供能夠解決如上問題,且於隔 壁内良好地將低分子發光材料塗布成膜的印墨組成物以 及使用其之有機EL元件及其製造方法。 [解決課題之手段] 本發明之申請專利範圍第丨項之印墨組成物,係用於 形成有機EL元件用的有機層的印墨組成物,其特徵為:' 為前述有機層之一層的有機發光層係混合丨種以上不具 重複結構的低分子發光材料以及1種以上呈 八
高分子材料而形成,且該 非導電性高分子材料相對; 量比為0.01以上0.05以下。 組成物,其特徵 本發明之申請專利範圍第2項之印墨 201245439 為:前述非導電性高分子材料之重量平均分子量為丨萬以 上1 〇 〇萬以下。 本發明之申請專利範圍第3項之印墨組成物,其特徵 為:前述非導電性高分子材料之玻璃轉移點為10(rc以上 本發明之申請專利範圍第4項之印墨組成物,其特徵 為:前述非導電性高分子材料為聚苯乙烯或聚曱基丙 酸甲酯或聚碳酸酯。 極本發明之申請專利範圍第5項之有機EL元件,係在陽 ^與陰極^間具有多數有機層而成的有機£[元件,其特 不為.為前述有機層之一層的有機發光層係混合丨種以上 結具重複結構的低分子發光材料以及丨種以上具有重複 性:的^分子材料而形成’且前述高分子材料為非導電 的曰=非導電性南分子材料相對於該低分子發光持料 处s重量比為0.001以上〇 〇5以下。 ^ 明之申請專利範圍第6項之有機EL元件,其特 =非導電性高分子材料的重量平均分子量為 萬以下。 為:月之申請專利範圍第7項之有機EL元件,其特徵 。^述非^電性咼分子材料之玻璃轉移點為丨00〇c以上 為:範圍第8項之有㈣元件’其特徵 ”…碳子材料係聚苯乙烯或聚曱基, 發月之申請專利範圍第9項之有機EL元件之製造 201245439 專利r:特徵為包含以下步驟:塗布步驟,係將如L 專利I巳圍第1至4 r。月 法塗布在由隔心八 組成物使用噴嘴印刷 ,系 ^/刀晝素的元件基板上;溶劑去除步驟 组点2去除如中S奢專利範圍第1至4項中任一項之印’墨 、,且成物所含之g 墨 層。 墨用洛·劑,以形成有機EL元件用之有機 發明之申請專利範圍第10項之有機EL元件之f m 為.遠洛劑去除步驟具有於氮氣環境中於 上的加熱溫度進行加熱的乾燥步驟。 [發明之效果] :照本發明之印墨組成物以及使用其之有機虹元件 乾焊可利用高分子材料的結合(bind)效果,於 機發光層。 I 了开4為平坦膜的穩定的有 、又’、藉由使用非導電性高分子材料當作添加劑,可
不4成載子平衡朋潰而將低分子發光材料良好 成膜。 T 【實施方式】 [實施發明之形態] 以下參照圖式說明本發明之實施形態。 第1圖示意顯示與本實施形態相關之有機EL元件之 構成。本實施形態之有機E L元件i ’為具有所謂主動矩陣 結構的有機EL元件,具有:形成有薄獏電晶體(TFT)之透 光性基板2、於透光性基板2的其中—㈣彡成有多數個的 畫素電極3、將各畫素電極3區隔為線狀的隔壁4、疊層於 201245439 旦f電極3上的有機發光介質層5、與在有機發光介質層< 上豐層的畫素電極3相對向配置的對向電極6,以下針曰 畫素電極3為陽極、對向電極6為陰極的情形敘述。 又,與本實施形態相關之有機EL元件i,也可為所神 的被動矩陣結構,也可為晝素電極為陰極、對: 陽極。 兩 透光性基板2係支持畫素電極3與有機發光介質層$ 、對向電極6的基板,由金屬、玻璃或塑膠等薄膜或片: 構f。塑膠製的薄膜,可以使用聚對苯二甲酸乙二醇醋 或聚丙烯、環烯烴聚合物、聚醯胺、聚醚颯、聚甲基丙 烯酸甲酯、聚碳酸酯。 又,在透光性基板2的未形成畫素電極3的另一面, 也可疊層陶瓷蒸鍍薄膜或聚偏二氯乙烯、聚氯乙烯、乙 烯乙酸乙_旨共聚物驗化物等其他氣體阻隔性薄膜。 曰本實施形態的透光性基板2,也可使用形成有薄膜電 曰日體(TFT)的主動驅動方式用基板。當本實施形態之印刷 體製成主動驅動型有機EL元件時,在TFT上形成平坦化 層同時於平坦化層上設置有機ELs件之下部電極,並 且以設置於平坦化層的接觸孔將TFT與下部電極予以電 性連接較佳。 % 藉由如此的構成,可於TFT與有機EL元件之間獲得 優異的電絕緣性。TFT、或在其上方構成的有機肛元件 ,係由支持體所支持。支持體宜為機械強度或尺寸安定 性優異者,具體而言可使用先前所述當作基板的材料。 •又置於支持體上的薄膜電晶體,可使用周知的薄膜電晶 201245439 〇 7 σ主要可舉例.形成有源極/汲極區及通道 區=層、由閘絕緣層及閘電極而構成的薄膜電晶艘 /、电曰曰體的構造’不特別限定’可舉例如,堆疊蜇 等:型頂柵型、底栅型、共面型(c°pianar type) ,二。的結構。又,為底部發光型之有㈣元件的情形 ’二用透光性基板’但是為頂部發光型之有機EL元件 之情形’不受限於透光性基板。 ^ /、人在基板上進行包含畫素電極3的材料之層的成 膜,並視需要進行圖案化。包含晝素電極3的材料之層由 隔壁4所區隔,且成為對應於各畫素的畫素電極3。全音 電極3的材料,可將IT〇(銦錫複合氧化物)或銦鋅複:氧 化物、鋅鋁複合氧化物等金屬複合氧化物,或金、鉑等 金屬材料,或該等金屬氧化物或金屬材料的微粒分散於 環氧樹脂或丙烯酸樹脂等而成的微粒分散膜以單層使用 ’或疊層使用均可。 以晝素電極當作陽極時,宜選擇ΙΤ〇等功函數高的材 料。從下方取出光,即所謂的底部發光結構時,需選擇 有透光性的材料。視需要,為了減低畫素電極的配線電 阻’也可併設銅或鋁等金屬材料當作輔助電極。書素電 極3的膜厚,取決於有機el顯示器的元件結構有其不同的 最適值,但不論單層、疊層,為100埃以上1〇〇〇〇埃以 ,更佳為100埃以上3000埃以下。 就晝素電極3之形成方法而言,視材料可以使用電p 加熱蒸鍍法、電子束蒸鍍法、反應性蒸鍍法、離子錢费 £ 201245439 (ion plating)法、濺鍍法等乾式成膜法、或凹版印刷法、 網版印刷法等濕式成膜法等。 隔壁4’為了防止形成於各晝素電極3上的有機發光 介質層5彼此混合’係以覆蓋各晝素電極3的端部的方式 形成’隔壁4的圖案以區隔畫素電極3的格子狀或線狀為 理想。尤其’當利用噴嘴印刷法形成有機發光層時,隔 壁形成為平行於相同發光色的發光層的線狀,以區隔彼 此不同的顏色為理想’於此情形,係以僅覆蓋晝素電極3 的端部的2邊的方式形成。 形成隔壁4時的形成方法’與以往同樣,例如在基體 上同樣形成無機膜’以抗蝕劑遮蓋後,進行乾式钱刻的 方法’或疋在基體上疊層感光性樹脂,並以光微影法形 成既定圖案的方法。又,也可將該等組合而在無機膜上 疊層感光性樹脂,或在感光性樹脂上疊層無機膜並圖案 化’藉此使隔壁成為多層結構亦可。再者,也可視需要 添加撥水劑,或照射電漿或Uv形成後對於印墨賦予撥液 性。 就隔壁4的材料可以適用的感光性樹脂而言’例如可 列舉聚醯亞胺或丙烯酸樹脂、酚醛樹脂等,但只要是能 以光微影法形成的樹脂即可使用。無機材料例如、 SiN、SiON等。 隔壁4的較佳高度為〇 1μιη以上1〇μχη以下更佳為 〇.5μΠ1以上2μΐΏ以下。其原因在於:隔壁4的高度若超過 1〇μΐΏ,會妨礙對向電極的形成及密封,若矮於〇.1μπι, 會無法完全覆蓋晝素電極3的端部,或是在形成有機發光 -10- 201245439 介質層時與相鄰的晝素發生短路、或混色。 其次,形成本實施形態之當作有機功能性薄膜的有 機發光介質層5。本實施形態中的有機發光介質層5,可 形成包含有機發光材料的單層膜或多層膜,係成為至少 在晝素電極3的頂面形成的電洞輸送層7、及在電洞輸送 層7的頂面形成的有機發光層8疊層成的構成。 以多層膜形成時的構成例,例如電洞輸送層、電子 輸送性發光層或包含雷:问一送k 2& ^ 、 冤洞輸迗性發光層、電子輸送層的2 層構成,或包含電洞私 电輸达層、有機發光層、電子 的3層構成,再者,視需| p 兄而要區刀電洞或電子注入功能以及 電洞或電子輸送功能,―、3 „ 刀此,或疋插入阻擋電洞或電子輸送之 層等,藉此形成更多層的結構更佳。又,本發明中之有 機發光層係指包含有機發光材料之層。 a同輸送層7,具有在從為陽極的畫素電極3注入的 電洞在為陰極的對向 a %往〇的方向刖進而流通電洞的同 時,亦防止電子朝念主# k 朝畫素电極3的方向前進的功能。 使用在電洞輸送層7的電洞輸送材料,例如可由銅酖 花青、四(第三丁基)铜 y主 )銅献化月4金屬酞花青類及盔屬 酞花青類、喹吖酮化人榀1 1 ^ ··,、立屬 合物、雙(4_二-對甲苯基胺基苯 基)¼己烧、N,N’- -贫货入了·^, —本基-Ν,Ν,-雙(3_甲基苯基卜以,聯 Μ、二胺、心_二(1蔡基)_Ν,Ν’_二苯基心,聯苯 -4,4’·二胺等芳香族胺系低分子電洞注入輸送材料,或聚 苯胺、聚噻吩、聚乙怯 穴乙%基咔唑、聚(3,4_伸乙基二氧化 吩)與聚苯乙烯確酸之、θ人&斤一 那《畋之混合物等咼分子電洞輸送材料、 噻吩寡聚物材料、Γιι ^ 0 ^ CU2〇、Cr2〇3、Mn2〇3、Fe〇x(x 〜〇 1} -11- 201245439 、NiO、CoO、Pr20,、A 〇 r» A/f a ^ . 2 3 AS2〇、Mo02、Bi2〇3、ZnO、TiO: ' Sn〇2 ' Th〇2 ' VoO-: ' Mu n 下 ^ 2 5 仙2〇5、Ta2〇5、m〇03、W〇3、 Μ η O 2等無機材料、j: # P5: 士 u办、^ ±人 刊竹兵他既有的電洞輸送材料中選擇。 又,使電洞輸送材料溶解或分散的溶劑,可舉例如 曱苯—曱苯笨甲酸、二甲氧基苯、四氯蔡(tdralin) 、環己醇、丙酮、甲乙_、曱基異丁基酮、環己醐、甲 醇乙醇、異丙g|、乙酸乙醋、乙酸丁醋、水中之任一 者或該等的混合液。 W述電洞輸送材料的溶解液或分散液中,視需要也 可添加界面活性劑或抗氧化齊卜黏度調整劑、紫外線吸 收劑等,#度調整劑例如可使用聚苯乙烯、$乙烯基咔 唑等。 電洞輸送層7之形成方法,因應於電洞輸送層7使用 的材料,可使用旋塗或桿塗、線塗、狹缝塗布法、噴塗 簾塗、μ塗、凸版印刷、凸版反轉平版印刷、嗔墨法 、喷嘴印刷法等濕式法、冑阻加熱蒸鍍法、冑子束蒸鍍 法、反應性蒸鍍法、離子鍍覆法 '濺鍍法等蒸鍍法。 又,也可在電洞輸送層7上形成插入(丨以以比八“層。 插入層使用的材料,可列舉聚乙烯基咔唑或其衍生物、 於側鏈或主鏈具有芳香族胺之聚伸芳基(p〇lyarylene)衍 生物、芳基胺衍生物、三笨基二胺衍生物等含芳香族胺 之聚合物等。該等材料可以溶解或分散於溶劑,並使用 旋塗法等各種塗布方法或使用凸版印刷方法形成。 有機發光層8係藉由施加電壓而發紅光、綠光或藍光 的有機發光層8的功能性材料,藉由將不具重覆結構的低 -12- 201245439 分子發光材料及具有重覆結構的高分子材料溶解或分散 於溶劑而成的有機發光印墨塗布於電洞輸送層7上而形 成。前述低分子發光材料的分子量為1 〇〇以上丨〇〇〇以下較 佳。 有機發光層8係藉由將溶解或分散有低分子發光材 料的有機發光印墨(印墨)使用喷嘴印刷法附著在電洞輸 送層7上,之後使其乾燥而形成。印墨的溶劑宜使用二曱 苯,但也可使用形成電洞輸送層7時使用的上述溶劑。又 ’發光層的膜厚為0_01μιη以上Ο.ίμηι以下的範圍即可,為 0.0 3μηι以上Ο.ίμηι以下更佳。落於前述膜厚的範圍外時, 發光效率有降低的傾向。 使用在有機發光層8的不具重複結構的低分子發光 材料’就使用在有機發光層之有機發光材料而言,可使 用.9,10-一 ^基蒽衍生物、芘、證(cor〇nene)、茈 、紅螢烯(rubrene)、1,1,4,4-四苯基丁二烯、參羥基啥 啉酸(quinolinolato))鋁錯合物、參(4 -曱基-8-羥基啥琳酸 )紹錯合物、雙(8-羥基喹啉酸)辞錯合物、參(4_甲基_5_ 二氟曱基-8 -經基啥淋酸)紹錯合物、參(4_曱基_5_氰基_8_ 羥基喹啉酸)鋁錯合物、雙(2-甲基-5-三氟曱基_8_羥基喹 琳酸)[4-(4 -氰基苯基)紛酸]銘錯合物、雙(2_曱基_5_氰基 -8-羥基喹啉酸)[4-(4-氰基苯基)酚酸]鋁錯合物、參(8_羥 基喹啉酸)釩錯合物 '雙[8-(對曱苯磺醯基(tosyl))胺基喹 啉]鋅錯合物及鎘錯合物、1,2,3,4-四苯基環戊二烯、五 苯基環戊二烯、聚-2,5-二庚氧基-對伸苯基伸乙烯、香豆 素糸螢光體.、范系螢光體、11比喃糸螢光體、葱酮(anthr〇ne) 201245439 系螢光體、聚卟啉系螢光體、喹吖酮系螢光體、n,^, 二烷基取代喹吖鲖系螢光體、萘二甲醯亞胺 (naphthalimide)系螢光體、N,N、二芳基取代吡咯并沘咯 系螢光體等、Ir錯合物等磷光性發光體等。 ° 在此,發紅光的有機發光層8使用的低分子發光材 ,例如將參(8-經基啥啉)紹(AW)以及為„比嗔系化合物之 摻雜材的DCM(4-二氰基亞甲基_6·(對二甲基胺基苯乙烯 基)-2-曱基-4Η-吼喃)、與DCJTB(4_二氰基亞曱基_6弋對 =甲基胺基苯乙烯基)_2_(第三丁基)_化_〇比喃)各以摻雜 濃度2%添加者。然後,將該低分子發光材料溶於溶 形成印墨。 Μ並 又,印墨中的低分子發光材料的濃度為〇丨重量%以 上5‘0重量%以下的範圍即可,為〇 5重量%以上丨$重量% 以下更佳。如此,藉由使濃度為〇.丨重量%以上5 〇重量^ 以下,能使噴嘴印刷塗布時的膜厚不會過厚,可以維0 噴嘴印刷塗布時的圖案精度。又,上述比率之低分子於 光材料的重量,係代表合併上述主體材與摻雜材的重量 又,發綠光的有機發光層8使用的低分子發光材料 可舉將為主體材的Alq3、2,2,,2,,_(1,3,5_笨三基)灸(1」 基-•苯并味吐)(TPBl)、為摻雜材的參(2 (對甲苯基 啶)銥III(Ir(mPpy)3)各添加成為摻雜濃度4%者。然後,將 該低分子發光材料溶於溶劑並形成印墨。 0.1重量°/0以 上1.5重量% •g 又’印墨中的低分子發光材料的濃度為 上5_〇重量%以下的範圍即可,為〇 5重量%以 -14- 201245439 以下更佳。又,上述比率之低分子發光材料的重量, 表合併上述主體材及摻雜材的重量。 又,發藍光的有機發光層8使用的低分子發光材料, 可列舉將Alq3、與為摻雜材的DpBVi(4,4,雙(2,2,_二笨芙 乙烯基)-聯苯)、與Ζη(Β〇χ)2(2 (〇_羥基苯基)苯并噻唑鋅 錯合物,添加成使摻雜濃度成為2%者。然後,將該低八 子發光材料溶於溶劑,並形成印墨…印墨中的低: 子發光材料的漠度,為〇.1ί4%以上5 Q重量%以下的二 圍P可,為0.5重量%以上丨5重量%以下更佳。 又,混合於有機發光印墨的非導電性高分子材料, 可使用聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯、聚氣乙烯、聚甲基 =烯=甲酯、ABS樹脂、聚醯胺、聚縮醛、聚碳酸酯、 聚:苯醚、聚對笨二曱酸乙二醇酯、聚對苯二曱酸丁二 醇®曰、聚砜、聚醚碾、聚伸苯硫醚、聚芳酯、聚醯亞胺 、聚酿胺醯亞胺、聚峻醯亞胺、聚四氟乙 :聚物’及前述高分子材料的共聚物,較佳為聚= 或聚甲基丙烯酸曱酯或聚碳酸酯。 非導電性高分子材㈣Ό與混合的低 =應者,只要是質量平均分子量為i萬以上1〇〇萬以下 把圍者即可使用。使用導電性高分子材料時,由於載 先注入導電性高分子’故載子不會貢獻於低分子 x材枓,而會移到發光層内,導致發光效率下降。 2又,在此,非導電性係指載子移動度小於】〇χΐ〇_7 Γθχ/二’非導電性高分子材料宜使用載子移動度小於 . Cm2/VS之高分子,但是即使使用比低分子發光材 -15- 201245439 移動度更低的載子移動度的高分子,仍能獲得 所以只要是載子移動度低於低分子發光材料 即可,也可使用i〇-7cm2/Vs以上的高分子。 纟'合解中導電‘後高分子材料相對於低分 子發光材料的混合比例’以重量比計,為〇.〇〇1以上〇.〇5 以下更佳。又,上述比例的低分子發光材料的重量,係 代表:併上述主體材與摻雜材的重量。重量比為前述範 圍内蚪,由於非導電性高分子材料的結合效果,於乾燥 步驟不弓丨起材料凝集,可形成為平坦膜且穩定的有機發 光層。若重量比大於0.05,由於非導電性材料造成導電 !·生下降,會使得用以獲得希望亮度的電壓被高電壓化, 或發光效率下降。又,若重量比小於MW,無法獲得添 加非導笔性咼分子材料的效果,發光材料會凝集,或有 機發光層不平坦’故造成發光效率下降。 非導電性高分子材料,宜為質量平均分子量丨萬以上 100萬以下的範圍者,但也可混合不同分子量的非導電性 高分子材料。混合不同分子量的非導電性高分子材料時 ’也可混合分子量不在上述範圍者,但宜至少含有1種以 上具有上述分子量範圍的非導電性高分子較理想。非導 電性高分子材料的分子量低於1萬時,有時無法形成均勻 的發光層。 另一方面,分子量大於100萬時,印墨的黏度會變得 過高,有時無法以喷嘴印刷法塗布,或膜厚變得過厚, 有時有機發光介質層的導電率下降,而發光亮度下降。 再者’宜使用非導電性高分子材料之玻璃轉移點 -16 - 201245439 (Tg)為100°c以上者較佳,一般而言由於分子量大的高分 子具有高Tg,從此觀點’使用的非導電性高分子材料的 貝1平均分子量為1萬以上1〇〇萬以下較佳。使用Tg低於 1 00°c者時’在塗布有機發光印墨後的乾燥步驟,會由於 加熱造成非導電性高分子材料流動化,且低分子發光材 料的分散性下降’低分子發光材料凝集’且有產生發光 不良之亮點之虞。 具有高Tg的非導電性高分子材料,可列舉聚苯乙烯 或聚甲基丙歸酸甲酯或聚碳酸酯等,該等以為l〇〇(>c以上 的咼分子與Tg低於1 00°c的非導電性高分子材料的共聚 物或混合物均可,只要共聚物或混合物之Tg為loot以上 即可。 含有有機發光材料的印墨使用的溶劑,可使用二曱 苯。二甲苯對於當作低分子發光材料使用的許多芳香族 化合物及有機物金屬錯合物具有良好的溶解性,喷嘴印 刷吐出性亦良好。再者,藉由於有機發光層的低分子發 光材料的印墨組成使用二甲苯,能夠簡化乾燥步驟,所 以能夠抑制殘留溶劑的影響,能抑制發光效率的下降。 —此外,也可添加曱笨、丨,3,5_三甲苯、異丙苯(cumene) :苯甲醚、甲基苯甲醚、對異丙基甲苯(paracymene)、四 j萘、€己基苯、甲基萘、環己鲖、環己苯、二曱氧基 苯、笨甲酸甲醋、苯曱酸乙醋、水、乙醇、丙酮、曱乙 明、甲基異丁酮、甲醇、異丙醇、環己醇、乙酸乙醋、 乙酸丁酯等溶劑當作混合溶劑。又,為了提高塗布性, 視需要適量混合界面活性劑、&氧化劑、黏度調整劑、 -17- 201245439 紫外線吸收劑等添加劑更佳。 為喷f印刷法k ’本貫施形態的有機發光層8的印墨 黏度,於25。(:為iOmPa.s較佳,為impa%以上3土 s以下 更佳。若印墨黏度超過10〇11>",在印墨吐出時無法形成 適當的液柱’喷嘴會堵塞’所以變得難以塗布。 電子輸送層使用的電子輸送材料,可使用2-(4-聯苯 基)-5-(4-第—丁基苯基)·13,4噚二唑、a,%雙。萘基 )1’3’4-弓—坐、$ —心τ生物或雙苯并⑷經基 喹啉酸)鈹錯合物、三唑化合物等…也可藉由於該等 電子輸送材料中少量摻雜鈉或鋇、鋰此類的低功函數的 鹼金屬、鹼土金屬,製作電子注入層。 电子輸达層之形成方法,因應於使用的材料,可以 使用疑塗法或桿塗法、線塗法、狹縫塗布法、喷塗法、 簾塗法、流塗法、几 凸版印刷、凸版反轉平版印刷、喷墨 :、噴嘴印刷法等濕式法、或電阻加熱蒸鍍&、電子束 瘵鍍法、反應性蒸鍍&、離子鍍覆法、濺鍍法等蒸鍍法 ..^人形成對向電極6。當將第2電極作為陰極時, 係使用對於右她1 Α I先;丨質層5的電子注入效率高、功函數 低的物質。呈释而士 /、 ,使用Mg、A1、Yb等金屬單體,或 於接觸發光介w 人 的界面夾持約Inm的Li或氧化|f、LiF等 二物亚®層高穩定性、導電性的A1或Cu後使用亦可 $ 了兼顧電子注入效率及穩定性,也可 函數的Li、Me、r 0
Ca、Sr、La、Ce、Er、Eu、Sc、Y、Yb 荨金屬中1稽win 上及穩定的Ag、Al、CU等金屬元素的合 c* -18 * 201245439 金系。 第2二體,而言,可使用MgAg、A1U、CuLl等合金。當從 二:透光性的材料較佳。於此情形,可於設置薄層 數的Ll、Ca後,疊層IT〇(鋼錫複合氧化物)或銦 ::化物、辞銘複合氧化物等金屬複合氧化物,也 二屬:ί有機發光介質層少量換雜低功函數的Ll、Ca等 孟屬並蘩層玎㊀等金屬氧化物。 形:對向電極6之方法,可因應材料使用電阻加熱蒸 :;二二束蒸鍍法、反應性蒸鑛法、離子鑛覆法、濺 又/ 包極的厚度不特別限制,宜為l〇nm以上l〇〇〇nm 以下為理想。又,合别 田利用第2电極當作透光性電極層時,
Ca或Li等金屬材料的膜厚為〇」⑽以上. 為理想。 ^ 也可於對向電極與密封材之間,例如在對向 电極上形成保護層(pa”— h帅保護層的材料, Π:乳化石夕、氧化铭等金屬氧化物、氟化銘、氟化鎂 ::s氟化物、虱化矽、氮化鋁、氮化碳等金屬氮化物 兩 ' 化矽等金屬氧氮化物、碳化矽等金屬碳化物,視 :要也可使用與丙烯酸樹脂、環氧樹脂、聚矽氧樹脂、 聚酯樹脂等高分子樹脂臈的疊層臈。尤其,從阻隔性與 透明性的觀點’使用氧化石夕(si〇x)、氮化石夕(SiNx)、氧氮 化石夕⑽為)較佳,再者,也可視成膜條件使用膜密度 可變的疊層膜或漸進臈。 保護層的形成方法,因應材料可使用電阻加熱蒸鍍 -19- 201245439 法、電子束蒸鍍法、反應性热錄法、離子鍍覆法、濺鑛 • 法、CVD法,尤其從陴隔性或透光性方面’使用CVD法 較佳。CVD法可使用熱CVD法、電漿CVD法、觸媒cVD 法、VUV-CVD法等。 又,CVD法中的反應氣體’可於單石夕烧或六曱基二 矽氮烷(HMDS)或四乙氧基矽烷等有機聚矽氧化合物中 視需要添加氮氣、氧氣、氨氣、氫氣、N2〇等氣體,也 可例如藉由改變矽烷的流量而改變膜密度,也可利用使 用的反應性氣體使膜中含有氫或碳。保護層的膜厚,取 決於有機EL元件之電極高低差或基板的隔壁高度、要求 的阻隔特性等而異,但一般使用約〇.〇 以上ι〇μηι以下 〇 有機發光材料容易因為大氣中的水分或氧而劣化, 所以設置用以將有機發光介質層與外部阻隔的密封材。 密封材可例如在密鉗材上設置樹脂層而製作。密封彳 要是水分或氧的穿透性低的基材。 又,密封材的一例’可舉例如氧化鋁、氮化妙、氣 化硼等陶瓷、無鹼玻璃、鹼玻璃等玻璃、石英、叙或 銹鋼等金屬箔、耐濕性薄膜等。耐濕性薄獏,例如在塑 膠基材的兩面將si〇xa cvd法形成的薄膜,或塗布穿透 性低的薄膜與有吸水性的薄膜或吸水劑而成的聚合物薄 膜等’耐濕性薄膜的水蒸氣穿透率,宜為丨〇xl〇-6g/m2/ day以下較佳。 樹脂層之材料,例如包含環氧系樹脂、丙晞酸系樹 脂、聚石夕氧樹脂等的光硬化性黏著性樹脂、熱硬化型黏
-20- S 201245439 考性树知、二液硬化型黏著性樹脂,或丙烯酸乙烯乙酯 (EEA)聚合物等丙烯酸系樹脂、乙酸乙烯乙烯酯(eva)等 乙烯基系樹脂、聚醯胺、合成橡膠等熱塑性樹脂,或聚 乙稀或聚丙烯之酸改性物等熱塑性黏著性樹脂。 在密封材之上形成樹脂層之方法,例如溶劑溶液法 、擠壓層合法、熔融熱融法、輪軋法、噴嘴塗布法、網 版印刷法、真空層合法、熱輥層合法等。視需要也可含 有具吸濕性或吸氧性的材料。形成於密封材上之樹脂層 之厚度’可由密封的有機EL元件的大小或形狀任意決定 ,且為5 μιη以上5 0Ο μηι以下為理想。 在此’係在密封材上形成當作樹脂層,但也可直接 形成於有機EL元件側。 一最後,於密封室進行有機EL·元件與密封材的貼合。 當密封材製成密封材與樹脂層,的兩層構造,並且樹脂層 使用熱塑性树脂的情形,宜僅以經加熱的親進行壓接為 佳。當使用熱硬化型黏著樹脂或光硬化性黏著性樹脂時 ,宜於經輥壓接或平板壓接的狀態,進行光硬化或加熱 硬化為佳。 又,S岔封材使用會覆蓋有機EL元件之形狀的凹型 基板時,可藉由僅在有機EL元件的基板與凹型的密封材 接觸的部分形成樹脂層並貼合而密封有機EL元件。於此 清形,在有機EL元件上也可沒有保護層或樹脂層。 ,其次,概略說明如以上構成的有機EL·元件1的製造方 法。首先,在形成有薄膜電晶體的透光性基板2上,形成 畫素電極3以使得與薄膜電晶體連接。其係在透光性基板 -21 - 201245439 曝光、顯影,:鍵法形成IT〇膜’再利用光微影技術進行 覆,同時:不字殘留作為畫素電極3的需要部分以光阻被 的方式开要部分以酸溶液餘刻並去除ιτο膜。以如此 的方^形成隔著既定間隔配置的多數晝素電極3。 性基板2人或全在/^素電極3之間形成隔壁4。其係在透光 曝光厂二 塗布光阻,利用光微影技術進行 藉由進烤亚::畫素電極3之間使光阻殘存。之後, 1 &圬,使光阻硬化。 塗布:ί布:用如第2圖所示的噴嘴印刷裝置3。,以喷嘴 電洞輸送層h該喷嘴印刷裝置3。,:素包電二上二= 發光印墨的印墨槽u、吐出印_ = 3 .收納有有機 來自印墨噴嘴3 i的印‘…:墨的液柱的印墨喷嘴3 1。 著於蚩去攻柱朝晝素電極3的表面吐出。附 、旦素黾極3的印墨,由 的區域内平均化μ由於黏度低’故在由隔壁4區隔 十均化。之後乾燥並固著。 31的多重t印刷裝置3〇也可為具有至少1個以上的喷嘴
Li11由成為多重噴嘴,能提高生產性。 輸送声7的:使用弟2圖所示的嘴嘴印刷裝置30形成電洞 翰达層7的步驟的俯視圖。 ^ 送層印墨係沿著隔壁4吐出圖未圖示隔壁4’但電洞輸 方向)成為沿著隔壁的方向並且長度方向(第3圖的水平 其次,形成電洞輪误爲 法,在電洞輸送層7上开/成曰右後,與前述同樣以喷嘴印刷 成有機發光層8的材料=機發光層8。如前所述’形 高分子材料混合使用。低分子發光材料與朴導電性 -22- 201245439 接著,在有機發光層8上利用電阻加熱蒸鍍法 法;電極6。最後,為了保護該等晝素電= I光"貝層5及對向電極6免於受空氣中的 破壞,填充樹脂層9,以密封基板1〇被覆、密 = 機EL元件!。 w有 如上所述構成的有機EL元件1及有機抓元件1 =乂,可利用喷嘴印刷法,使用低分子發光特料,; X、一效率降低,能使發光層穩定化。 目的明不限於上述實施形態,在不脫離本發明 目的之軛圍可以施加各種改 擋層或電洞注入居、Φ工、,成電洞阻 恭、_、 a 電子,主入層、電子阻擂層。在此, 电洞注入層或電子阻於 下作用:在電洞從:佥二電洞輸送層7同樣,具有以 的對向電極6的方⑽進而?的晝素電極3往為對向電極 朝書辛電極二 通電洞的同時,亦防止電子 、電子注…有以下V 洞阻播層或電子輪送層 ,^^ 功能:在電子從為對向雷朽&斟 向電極6往為晝素電極 丁门電極的對 子的同時,亦防止+ '旦 '电極3的方向前進而流通電 Z二 仍朝對向電極6的方向前進。 t. 對向電極6與有機發光介質層置 亂化鋰等薄膜。為了將對 曰5之間设置 '陶兗獏之蒸鑛遮罩等。再:二圖案化,可使用金屬膜 隔壁4,心為不:置二 =雖於各晝素電極3間形成 [實施例] 置_的構成。 以下舉貫施例及比較例詳 不受限於以下記載。 說明本發明。惟本發明 -23- 201245439 [元件製作] 如第1圖所示’在透光性基板2(白板玻璃:縱i〇〇mmx 橫lOOmmx厚0.7mm)上利用濺鍍法以8〇μιη間隔形成寬 80μιη、厚0.15 μιη的條狀晝素電極3。在此,晝素電極3的 表面粗链度Ra ’在由200μιη2構成的任意面内為2〇nm。又 ,隔壁4,與逸光性基板接觸的下端的寬度為90μηι,上 端的免1度為45μπι’南度為2μπι’剖面大致為梯形。 在此,隔壁4係於利用光微影技術顯影後,進行 2 0 0 °C 6 0分鐘的烘烤而形成》又,電洞輸送層7,係使用 聚伸芳基(polyarylene)衍生物當作電洞輸送材料,將其 >谷於一曱苯使》農度為3.0重量%的印墨以噴嘴印刷法塗布 於隔壁内’並將其於200。〇乾燥10分鐘而形成。 有機發光層8 ’就發綠光的畫素使用的低分子發光材 料而言,主體材使用2,2,,2,’-(1,3,5-苯三基)參(1-苯基 -1H-苯并咪唑)(TPBi)’摻雜材使用參(2·(對曱苯基)吼啶) 银in(ir(mppy)3P並且與該低分子發光材料混合的前述 非導電性高分子材料,係使用聚苯乙烯。將前述低分子 發光材料與非導電性高分子材料混合物溶於二甲苯成 為2重量%溶解液者以噴嘴印刷法塗布在電洞輸送層7上 。之後’於13〇t ' 30分鐘、鈍性氣體環境下進行乾燥, 獲得厚度70nm的有機發光層8。針對發光層的印墨組成 ’記述於以下實施例。之後,藉由蒸鍍形成UF/Al = 〇 5nm/ 15 0nm作為陰極6。之後,黏著密封基板,獲得有機£]^元 件1。 [評價方法] -24- 201245439 依照本實施例及比較例製作的有機EL元件的形成步 * 驟以及所形成之有機EL元件的評價,以如下方式進行。 (平坦性) 在電洞輸送層7上形成發光層8後,利用膜厚輪廓測 定,計算從發光層8的膜厚最薄點至膜厚增加1 Onm以内 的寬度(W2)相對於隔壁的開口寬(W1)的比例((W2/Wl)x 100[%])。 (發光效率) 測定對於上述元件構成施加7 V電壓時的發光效率。 (哥命) 使上述元件構成於亮度1000cci/m2時的電流固定,並 測定亮度的半衰期。 [實施例1 ] 形成發光層8的低分子發光材料(主體/掺雜物)與非 導電性高分子材料(Mw : 25萬)的重量比如下所示。 TPBi/Ir(mPpy)3/聚苯乙烯(PS) = 0.94/0_06/0.05 使用將前述比例的材料溶於二甲苯並使濃度成為 2.0重量%的印墨’依照上述方法製作有機el元件,並實 施上述評價方法。 [實施例2] 將奶合比改變為TPBi/Ir(mppy)3/聚苯乙埽(ps) = 〇·94/0‘06/0.01,除此以外,與實施例1同樣進行,製作有 機EL元件,並實施上述評價方法。 [實施例3 ] 將合比改變為TPBi/Ir(mppy)3/聚苯乙烯(ps)=; •25- 201245439 0.94/0·06/0·001 ’除此以外,與實施例丨同樣進行, 有機EL元件,並實施上述評價方法。 [實施例4及5] 將聚苯乙烯的Mw如表1所示改變,除此以外病 例1同樣進行,製作有機EL元件,並實施上述評價_ [實施例6] ' ’ 將混合比改變為TPBi/Ir(mppy)3/聚曱基丙烯酸 (PMMA,Mw : 25 萬)=〇.94/〇.〇6/〇.〇10,除此以外,岁 例1同樣進行’製作有機EL元件,並實施上述評價^ [實施例7] 將混合比改變為TPBi/Ir(mppy)3/聚碳酸g旨(pC .25萬)= 0.94/0.06/0.010,除此以外與實施例1同梢 ’製作有機EL元件,並實施上述評價方法。 [比較例1 ] 將混合比改變為TPBi/Ir(mppy)3/聚苯乙婦 0.94/0.06/0.100,除此以外與實施例1同樣進行,靠 機EL元件,並實施上述評價方法。 [比較例2] 將混合比改變為TPBi/Ir(mppy)3/聚苯乙稀 0.94/0.06/0.300,除此以外,與實施例1同樣進行, 有機EL元件,並實施上述評價方法。 [比較例3 ] 將混合比改變為TPBi/Ir(mppy)3/聚苯乙稀 0.94/0.06/0.500,除此以外,與實施例1同樣進行, 有機EL元件,並實施上述評價方法。 製作 實施 法〇 曱酯 實施 法〇 ,M w 進行 (PS) = [作有 (PS) = 製作 (PS) = 製作 -26- 201245439 [比較例4 ] 不形成隔壁,並使用不混合 發光材料的印墨,w θ分子材料僅有低分子 述評價方法。 疋塗法形成有機EL元件,並實施上 [比較例5 ] 不6高刀子材料’僅使用低分子發光材料,除此 以外’與實施例1同樣進行,製作有機el元件,並實施上 述評價方法。 [比較例7及8] 將聚苯乙烯之M w改變為如表1所示,除此以外,與 實施例1同樣進行,製作有機EL元件’並實施上述評價方 法。 [比較例6 ] 混合為導電性高分子之聚乙烯基咔唾(PVK ’ Mw : 25萬)當作高分子材料,除此以外與實施例1同樣進行, 製作有機EL元件,並實施上述評價方法。 實施例1〜7及比較例1〜8的評價結果如下表1所示。 -27- 201245439 半衰期 起始亮度 119 〇〇 〇〇 1 < » λ 1—^ On CO <N 1—^ (N l < σ\ r- OO 1 CO <N 於7V之 發光效率 [cd/A] 20.0 20.0 20.0 20.0 20.0 19.9 19.8 18.0 17.2 15.2 20.0 20.0 20.0 1 12.8 平坦性 [%] § (N 〇〇 in σ\ Ο σ\ Ο oo oo VD (N 0 1 ( in 1 in On 喷嘴印刷 吐出性 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 (旋塗) 〇 〇 X不吐出 〇 向分子材料 分子量Mw 25萬 25萬 25萬 -tPp. 100萬 25萬 25萬 25萬 25萬 25萬 1 1 0.8萬 120萬 25萬 混合重量比 非導電性 高分子 PC 1 1 1 1 I I 0.010 1 1 1 1 唯 1 1 1 非導電性 高分子 PMMA 1 1 1 1 I 0.010 1 1 1 1 1 1 1 1 1 非導電性 高分子 PS 0.050 0.010 0.001 0.050 0.050 I 1 0.100 0.300 0.500 1 1 0.050 0.050 1 導電性 高分子 PVK 1 1 1 1 I I ! 1 1 1 1 1 1 1 0.050 |實施例1 | 實施例2 實施例3 實施例4 實施例5 實施例6 實施例7 比較例1 比較例2 比較例3 比較例4 比較例5 比較例6 比較例7 比較例8 201245439 如表1所示,依實施例丨〜7,藉由對 料1添加非導電性高分子材料〇 〇5以下, 塗同等地,膜平坦性提高,且可抑制發 下降。但是,依比較例丨〜3,若相對於仓 添加多於0·05的非導電性高分子材料, 降及導電性下降,可觀察到發光效率及 較例6、7,若非導電性高分子材料的分^ 1〇〇萬以下的範圍外,會發生平坦性下降 的降低。依比較例8,當混合的高分子為 ,雖然膜平坦性提高,但是發光效率下 導電性高分子,能夠維持載子平衡性且 率與壽命下降。 [產業上之可利用性] 依照本發明’利用噴嘴印刷法將使 料與南分子材料的印墨組成物形成為發 發光效率與壽命不下降的有機EL元件。 【圖式簡單說明】 第1圖顯示與本發明之實施形態相丨 之構成的示意剖面圖。 第2圖顯示與本發明之實施形態相 置的示意概略剖面圖。 第3圖顯示與本發明之實施形態相 置之不思概略俯視圖。 第4圖說明與本發明之實施形態相 之晝素之平坦性的剖面圖。 於低分子發光材 與比較例4的旋 光效率以及壽命 L分子發光材料1 則由於平坦性下 壽命下降。依比 ^量落到1萬以上 或是喷嘴吐出性 導電性高分子時 降。藉由混合非 同時抑制發光效 用低分子發光材 光層,可以提供 關之有機EL元件 關之噴嘴印刷裝 關之噴嘴印刷裝 關之有機EL元件 £ -29- 201245439 【主要元件符號說明】 * 1 有機EL元件 2 透光性基板 3 陽極 4 隔壁 5 有機發光介質層 6 陰極 7 電洞輸送層(功能性層) 8 發光層(功能性層) 9 樹脂層 I 0 密封基板 II 印墨槽 3 0 噴嘴印刷裝置 3 1 印墨噴嘴 W 1隔壁的開口寬 W2從發光層8的膜厚最薄點至膜厚增加1 Onm以内 的寬度 -30-

Claims (1)

  1. 201245439 七、申請專利範圍: 種I5墨、且成物’其係用於形成有機EL元件用之有機 層的印墨組成物, 其特徵為: 為^有機層之一層的有機發光層係混合1種以上 不具重複結構的低分子發光材料及丨種以上具有重複 =構的高分子材料而形成’該高分子材料為非導電性 料》玄非導電性南分子材料相對於該低分子發光材 2料的混合重量比為〇_〇〇1以上0.05以下。 2. =請專利範圍D項之印墨組成物,其中該非導電性 3. = t t材料的重量平均分子量為1萬以上100萬以下。 言八月專利範圍第1項之印墨組成物其中該非導電性 门刀子材料的玻璃轉移點為1 〇 〇。〇以上。 言八月專利範圍第1項之印墨組成物,其中該非導電性 问刀子材料係聚苯乙烯或聚甲基丙烯酸甲酯或聚碳酸 酉9 « 種有機E L元件,係在陽極與陰極之間具有多數有機 ^而成的有機EL元件, 其特徵為: 為該有機層之一層的有機發光層係混合1種以上 不具重複結構的低分子發光材料及1種以上具有重複 、構的鬲分子材料而形成,該高分子材料為非導電性 材粗 + 、 ’垓非導電性咼分子材料相對於該低分子發光材 料的現合重量比為0.001以上0 05以下。 申》月專利範圍第5項之有機e L元件,其中該非導電性 -31- 201245439 局分子材料之重量平均分子量為1萬以上1 00萬以下。 7. 如申請專利範圍第5項之有機el元件,其中該非導電性 高分子材料之玻璃轉移點為l〇(TC以上。 8. 如申清專利範圍第5項之有機EL元件,其中該非導電性 问分子材料為聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯或聚碳酸 m ° 9_ 一種有機EL元件之製造方法,其特徵為包含以下步驟 塗布步驟’係將如申請專利範圍第1至4項中任一 項之印墨組成物使用噴嘴印刷法塗布於由隔壁查 素的元件基板上; 〇旦 溶劑去除步驟,係藉由去除如申請專利範圍第^至 4項中任一項之印墨組成物所含之印墨用溶劑,形成有 機EL元件用之有機層。 1〇·如申請專利範圍第9項之有機EL元件之製造方法,其中 歧冷劑去除步驟’具有於氮氣環境中於1 〇〇它 V, A 的力口 熱溫度加熱的乾燥步驟。 -32-
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