TW201233499A - Rotary dresser - Google Patents

Description

201233499 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明是關於在滾輪的外圍排列著鑽石磨粒的滾子式 砂輪修整器。 【先前技術】 在可旋轉的滾輪外圍面埋入多數的鑽石磨粒的滾子式 砂輪修整器，例如有專利文獻1所記載已爲人所熟知。該 種的滾子式砂輪修整器中，通常是將鑽石磨粒沿著螺旋方 向以一定的間隔配置在滾輪的外圍，設其每單位面積的鑽 石磨粒的分佈密度成一定。 〔先前技術文獻〕 〔專利文獻〕 〔專利文獻1〕日本特開2009-285776號公報 【發明內容】 爲此，如第7圖表示，在軸向的雨端部具有圓筒部1、 2，並在該等圓筒部1、2之間具備有凹狀圓弧部3的滾輪4 的滾子式修整器中，圓弧部3的鑽石磨粒5的分佈密度構成 爲一定，所以排列在圓弧部3的圓周上的鑽石磨粒5的個數 ，根據個軸向位置的圓弧部3的圓周長度有所不同。亦即 ，如同圖的圖表所示，圓弧部3的小徑部中，相對於圓周 上之鑽石磨粒5的個數（圓周上的鑽石量）減少，朝著圓 -5- 201233499 弧部3軸向的兩端部，使得圓周上的鑽石磨粒5的個數增多 〇 其結果，在圓周上的鑽石磨粒的個數增多的部份，會 使得修整器每1旋轉的鑽石磨粒的作用數增加，該部份的 修整阻力增大，容易在硏磨砂輪產生硏磨燒著。另一方面 ，在圓周上的鑽石磨粒的個數少的部份，則會使得修整器 每1旋轉的鑽石磨粒的作用數減少，與鑽石磨粒個數多的 部份比較，鑽石磨粒的磨損量會增多而有發生偏磨損的問 題。 本發明是爲解決上述習知的問題所硏創而成，提供一 種藉著在圓周上使鑽石磨粒的個數一致，可降低修整阻力 ，並抑制偏磨損，可長期間維持著修整器的形狀精度的滾 子式砂輪修整器爲目的。 〔解決課題的手段〕 爲解決上述的課題，申請專利範圍第1項相關發明的 特徵爲，具備：具有軸向位置的直徑不同之圓弧部或傾斜 部所構成外圍面的滾輪，及埋入該滾輪外圍面的多數的鑽 石磨粒，上述滾輪外圍面之任意軸向位置的鑽石磨粒的個 數皆爲一定。 申請專利範圍第2項相關發明的特徵爲在申請專利範 圍第1項中，上述滾輪的外圍面，係由：在軸向兩端部的 圓筒部，及配置在該等圓筒部之間的圓弧凹部所構成。 申請專利範圍第3項相關發明的特徵爲在申請專利範 -6- '、 201233499 圍第2項中，設上述圓筒部與上述圓弧凹部的邊界部之鑽 石磨粒的個數較上述圓弧凹部的鑽石磨粒的個數多。 〔發明效果〕 根據以上構成之申請專利範圍第1項有關的發明，由 於具備有軸向位置的直徑不同之圓弧部或傾斜部所構成外 圍面的滾輪，及埋入滾輪外圍面的多數的鑽石磨粒，在滾 輪外圍面的任意軸向位置的鑽石磨粒的個數皆爲一定，所 以在任意的軸向位置，修整器每1旋轉的鑽石磨粒的作用 數相等，其結果，可降低修整器阻力，並抑制鑽石磨粒的 偏磨損，可長期間維持著形狀精度。 根據申請專利範圍第2項有關的發明，由於滾輪的外 圍面是由軸向兩端部的圓筒部，及配置在該等圓筒部之間 的圓弧凹部所構成，所以在圓筒部可以均一的密度配置鑽 石磨粒，可於圓弧凹部獲得配置在圓周上的一定個數之鑽 石磨粒的滾子式砂輪修整器。 根據申請專利範圍第3項有關的發明，由於設圓筒部 與圓弧凹部的邊界部之鑽石磨粒的個數較圓弧凹部的鑽石 磨粒的個數多，所以可長期間確保形狀變化容易之邊界部 的形狀精度。 【實施方式】 以下根據圖示說明本發明的實施形態。第1圖是表示 滾子式砂輪修整器10，該滾子式砂輪修整器10是以可旋轉 -7- 201233499 的滾輪11，及埋入滾輪Η外圍面的多數的鑽石磨粒12所構 成。鑽石磨粒12基本上是沿著螺旋狀排列於滾輪11的外圍 面。 滾輪11在軸向的兩端部具有圓筒狀的圓筒部lla、lib ，並在該等圓筒部1 la、1 lb之間，具有半圓形的圓弧凹’部 11c，圓弧凹部11c的軸向兩端部是連接於圓筒部Ua、Ub 的緣部。使圓弧凹部11c在軸向兩端部形成最大徑’且在 圓弧凹部11c的軸向中央部形成最小徑》 在滾輪11的圓筒部11a、lib，無論軸向的任意位置皆 以均一的分佈密度配置鑽石磨粒12，以在圓周方向存在有 一定數（N1個）的鑽石磨粒12。另一方面，在滾輪U的圓 筒部lie，無論軸向的任意位置（範圍）配置鑽石磨粒12 ，以在圓周方向存在有一定數（N2個）的鑽石磨粒12。亦 即，圓弧凹部lie的鑽石磨粒12的分佈密度根據圓弧凹部 lie的直徑（圓周長度）有所不同，圓弧凹部lie的直徑越 大則鑽石磨粒12的分佈密度越低。其結果，不論圓弧凹部 lie直徑的變化如何，在圓弧凹部lie的任意的軸向位置（ 範圍），在圓周上皆可配置一定數的鑽石磨粒12。 再者，實施形態中，如第1圖的圖表所示’圓弧凹部 lie之圓周上的鑽石磨粒12的個數比圓筒部11a、lib之圓 周上的鑽石磨粒12的個數（圓周上的鑽石量）還多（Nl> N2.)，藉此，可以圓弧凹部lie將所要修整之硏磨砂輪的 圓弧部更高精度地加以修整，但也可以圓筒部Ha、llb及 圓弧凹部lie之圓周上的鑽石磨粒12爲相同的個數。 201233499 接著，根據第2圖及第3圖說明將鑽石磨粒12以一定個 數規則性排列於滾輪11的圓弧凹部11c之圓周上的手法》 第2圖中，將滾輪11以微小寬度a在軸向分割成複數， 於各寬度a將鑽石磨粒12在圓周方向以一定的間隔（BIS B2 )，且軸向位置不同地呈鋸齒狀排列。此時，滾輪11的 圓周長度是根據軸向位置成連續地變化，因此可以使各寬 度a內的鑽石磨粒12之圓周方向的間隔越接近滾輪11軸向 的中心位置形成越小（B 1 > B 2 )。 亦即，如第3圖表示，設各寬度a的滾輪11的圓周長度 爲A1〜A5時，使各寬度a的鑽石磨粒12之圓周方向的間隔 B1-B5與滾輪11的圓周長度A1-A5成比例地變化，在各寬 度a內構成將一定個數的鑽石磨粒1 2以等角度間隔排列於 圓周上。 具體而言，如實施形態，具有半圓形之圓弧凹部11c 的滾輪11的場合，設應配置在各寬度a內的圓周上之鑽石 磨粒12的個數爲Μ時，使圓周長度A1的軸向位置之鑽石滾 輪12圓周方向的間隔Β1爲「Β1=Α1/Μ」，同樣地，使圓周 長度A5的軸向位置之鑽石滾輪12圓周方向的間隔65爲「 B5=A5/M」。其結果’可構成滾輪11的軸向兩端位置之鑽 石磨粒12的圓周方向的間隔B1爲最大，而滾輪11的軸向中 心位置之鑽石磨粒1 2的圓周方向的間隔B 5爲最小的滾子式 砂輪修整器1 〇。 再者，第3圖的虛線是表示在滾輪11的圓弧凹部〗1(^呈

螺旋狀排列之鑽石磨粒1 2的配置位置。 S ,ζ -9- 201233499 如上述，在滾輪1 1的外圍面依據上述的規則排列鑽石 磨粒12，藉此，如第4圖表示，即使微小寬度a僅朝著軸向 微移成微小寬度a’，仍可以使微小寬度a’內的鑽石磨粒12 的圓周上的個數成一定。 此時，兩端圓筒部11a、lib中，直徑爲一定，所以和 以往同樣，以均一的密度排列鑽石磨粒1 2，藉此在任意的 軸向位置，可以大致一定維持著圓周上之鑽石磨粒12的個 數。 第5圖是表示第2實施形態的滾子式砂輪修整器10，與 第1實施形態不同的點是設滾輪11的圓筒部11a、lib與圓 弧凹部11c的邊界部（圓弧凹部11c的角隅部）lid、lie之 圓周上的鑽石磨粒12的個數較圓弧凹部11c之鑽石磨粒12 的個數多（例如，60個）。 根據上述第2實施形態，由於滾輪11的圓筒部lla、 lib與圓弧凹部11c的邊界部lid、lie之鑽石磨粒12的個數 較多，因此可長期間確保容易形狀變化之邊界部lid、lie 的形狀精度。 根據上述的實施形態，圓弧凹部11c的任意軸向位置 中鑽石磨粒12的個數皆爲一定，藉此在以滾子式硏磨砂輪 修整器10進行硏磨砂輪的修整時，可以使砂輪修整器每1 旋轉的鑽石磨粒12的作用數相等，其結果，可藉此降低修 整阻力，並抑制鑽石磨粒12的偏磨損，可長期間維持著滾 子式砂輪修整器10的形狀精度。 上述的實施形態中，針對軸方向的兩端部具有圓筒部 -10- 201233499 lla、lib，在圓筒部lla、lib之間具有圓弧凹部lie的滾 子式砂輪修整器1 〇已作說明，但本發明不限於以上的形狀 ，也可如第6(A) 、（B)圖表示，運用於在外圍具有傾 斜部111a、111b的滾輪111，或外圍具有圓筒部211a、 2llb與圓弧凸部211c的滾輪211的外圍排列鑽石磨粒的修 整器，可運用於使用具有非一定直徑的圓筒部之滾輪的滾 子式砂輪修整器全面。 以上，針對本發明的實施形態已作說明，但本發明不 限於上述實施的形態，在不脫離申請專利範圍所記載本發 明主旨的範圍內可進行種種的變形。 〔產業上的可利用性〕 本發明有關的滾子式砂輪修整器是適合使用於在具有 軸向位置的直徑不同之外圍面的滾輪外圍排列鑽石磨粒的 修整器。 【圖式簡單說明】 第1圖爲表示本發明第1實施形態的滾子式砂輪修整器 的前視圖。 第2圖是在滾輪的圓弧凹部排列鑽石磨粒用的說明圖 第3圖是在滾輪的圓弧凹部排列鑽石磨粒用的說明圖 第4圖是表示相對於鑽石磨粒的軸向位置之圓周方向 -11 - 201233499 位置的排列狀態的圖。 第5圖爲表示本發明第2實施形態的滾子式砂輪修整器 的前視圖。 第6圖是表示本發明的變形例的圖。 第7圖是表示習知的鑽石磨粒之排列狀態的圖。 【主要元件符號說明】 1〇:滾子式砂輪修整器 11、 111、 211：滾輪 1 la、1 lb :圓筒部 Uc :圓弧凹部 1 Id、1 le :邊界部 1 2 :鑽石磨粒

Claims (1)

1. 201233499 七、申請專利範圍： 1. 一種滾子式砂輪修整器，其特徵爲，具備：具有軸 向位置的直徑不同之圓弧部或傾斜部所構成外圍面的滾輪 ，及埋入該滾輪外圍面的多數的鑽石磨粒，上述滾輪外圍 面之任意軸向位置的鑽石磨粒的個數皆爲一定。 2. 如申請專利範圍第1項記載的滾子式砂輪修整器， 其中，上述滾輪的外圍面，係由：在軸向兩端部的圓筒部 ，及配置在該等圓筒部之間的圓弧凹部所構成。 3 .如申請專利範圍第2項記載的滾子式砂輪修整器， 其中，設上述圓筒部與上述圓弧凹部的邊界部之鑽石磨粒 的個數較上述圓弧凹部的鑽石磨粒的個數多。 Λ -13-