201220307 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種在深度方向上選擇性地進行標記的記 錄，且具有以多層狀形成上述標記之記錄層之光記錄媒體 及其製造方法。且’係關於一種對於光記錄媒體所具有之 記錄層進行標記記錄之記錄裝置。 【先前技術】 作為利用光的照射而進行信號的記錄/再生之光記錄媒 體’例如 CD(Compact Disc，壓縮光碟）、DVD(Digital Versatile Disc，數位多功能光碟）、BD(Blu -ray Disc :註 冊商標）等之所謂的光碟正在普及。 關於用以擔負該等CD、DVD、BD等現在正在普及之光 記錄媒體的下一代之光記錄媒體，本申請人先前提案有一 種如專利文獻1或專利文獻2中所記載般之所謂的塊體記錄 型（亦僅稱為「塊體型」）之光記錄媒體。 此處，所謂「塊體記錄」係一種藉由對於例如圖19所示 般至少具有覆蓋層101與塊體層（記錄層）1〇2之光記錄媒體 (塊體型記錄媒體1 〇〇) ’逐次改變焦點位置而進行雷射光照 射於塊體層1〇2内進行多層記錄，而謀求大容量化記錄 之技術。 關於此種塊體記錄，於上述專利文獻1中揭示有稱為所 3胃的「微全息圖方式」之記錄技術。在微全息圖方式中， 作為塊體層102的記錄材料，係使用所謂的全息圖記錄材 料。作為全息圖記錄材料，例如光聚合型光聚合物等已廣 157454.doc 201220307 為人知。 微全息圖方式大致區分* 马正么微全息圖方式與負型微全 息圖方式。 正型微全息圖方式係_ ji*.-,, 種將對向之2個光束（光束A、光 束聚光於同位置而形成微細的干涉條紋（全息圖），並將 其作為記錄標記之手法。 又’㈣微全息圖方式係—種以與正型微全息圖方式相 反的表現，將預先形点的；t , 小成的干涉條紋利用雷射光照射而消 除，並將該消除部分作為記錄標記之手法。在該負型微全 息圖方式中，作為初始化處理，需要預先於塊體層形成干 涉條紋之處理。 又，作為與微全⑽W之塊體記錄料法，本申 清人亦提案有—種例如於專敎獻2巾揭示般之將空隙 (void .孔洞、空孔）作為記錄標記而形成之記錄手法。 空隙記錄方式係一種對於由例如光聚合型光聚合物或樹 脂等所構成之塊體層102，以較高功率進行雷射光照射， 並於上述塊體層1G2内記錄孔洞之手法。如專利文獻2中所 記載般’如此形成之孔洞部分會成為與塊體層102内之並 他部分折射率不同之部分，可於料邊界部分提高光㈣ :率。因而’上述孔洞部分會作為記錄標記而發揮功能， 藉此會實現利用孔洞標記的形成之資訊記錄。 此種空隙記錄方式由於並非形成全息圖者，因此在記錄 時只要能進行來自單側的光照射即可完成。亦即，可無需 如上述正型微全息圖方式之情形般將2個光束聚光於同位 157454.doc 201220307 置而形成記錄標記。 又，在與負型微全息圖方式 處理之優點。 之比較中’有可無需初始化 另’於專利文獻2中，顯 錄前之預固光的照射之例， 亦可進行空隙的記錄。 示有在進行空隙記錄時進行記 但此種預固光的照射即使省略 然而’雖係提案有如上述般之各種記錄手法之塊體記錄 型（亦僅稱為「塊體型」）光記錄媒體，但此種塊體型光記 錄媒體的記錄層(塊體層)並非具有例如形成複數個反射膜 :意思之明示的多層構造。亦即，在塊體層1〇2中，並未 又置有通；ϋ的多層光碟所具備般之各記錄層的反射膜及引 導槽。 因而，在原狀保持先前4圖19所示之塊體型記錄媒體 100的構造中，在標記未形成之記錄時，會無法進行聚焦 伺服或循轨伺服。 因此貫際上對於塊體型記錄媒體1 〇〇，將設置如其後 之圖20所示般之具有位置引導件之成為基準之反射面（基 準面）。 具體而5，於覆蓋層101的下面側以螺旋狀或是同心圓 狀形成例如利用凹洞或溝槽的形成之位置引導件（亦即在 該情形下係成為引導槽），且於此處成膜選擇反射膜103。 而後，對於如此成膜有選擇反射膜1〇3之覆蓋層1〇1的下層 側，經由作為圖中的中間層104之例如uv硬化樹脂等之接 著材料而積層塊體層丨〇2。 157454.doc 201220307 此處，藉由利用如上述般之凹洞或溝槽等之位置引導件 (引導槽）的形成，而進行例如半徑位置資訊或旋轉角度資 訊等之絕對位置資訊（位址資訊）的記錄。以下，將形成此 種引導槽而進行絕對位置資訊的記錄之面（在該情形下為 上述選擇反射膜103的形成面）稱為Γ基準面Ref」。 又，在設為如上述般之媒體構造之後，對於塊體型記錄 媒體100，如其後之圖2 i所示般以與用以標記記錄（或再生） 之雷射光（以下，亦稱為「記錄再生用雷射光」、或是僅 稱為「記錄再生光」）另外地，照射以作為位置控制用的 雷射光之伺服用雷射光（亦僅稱為「伺服光」）。 如圖不般，該等記錄再生用雷射光與伺服用雷射光係經 由共通的物鏡而照射於塊體型記錄媒體〗。 此時’作為上述伺服用雷射光，使用波長帶與記錄再生 用雷射光不同的雷射光。這是由於可將伺服用雷射光之來 自基準面Ref的反射光與記錄再生用雷射光之來自記錄標 記的反射光利用該等波長的不同而進行分離檢測。 而後’對應於此，作為形成於基準面Ref之反射膜，係 使用具有伺服用雷射光予以反射，記錄再生用雷射光予以 透射之波長選擇性之選擇反射膜1〇3。 根據以上之前提，茲參照圖21，就對於塊體型記錄媒體 1 0 0之：t示s己§己錄時的動作進行説明。 首先’在對於未形成引導槽或反射膜之塊體層1〇2進行 多層記錄之時’會在塊體層1〇2内的深度方向上預先規定 將予以記錄標記之層位置設為何種位置。在圖中，作為於 157454.doc 201220307 塊體層102内形成標記之層位置（標記形成層位置：亦稱為 「資訊記錄層位置」）’例示有設定第1資訊記錄層位置 L1 ~第5資訊記錄層位置L5合計5個資訊記錄層位豎L之情 形。如圖示般，第1資訊記錄層位置L1係設定作為自形成 有引導槽之選擇反射膜103 (基準面Ref)在聚焦方向（深度方 向）上僅離開第1偏移of-Ll量之位置。又，第2資訊記錄層 位置L2、第3資訊記錄層位置L3、第4資訊記錄層位置 L4、第5資訊記錄層位置L5係分別設定作為自基準面Ref僅 離開第2偏移of-L2量、第3偏移〇f_L3量 '第4偏移〇f L4 量、第5偏移of-L5量之位置。 另，此處根據圖示之情況，資訊記錄層位置L雖設為5 個，但實際上，會隔以例如丨〇 μιη&右的間隔而設定數十 (例如20)個左右的資訊記錄層位置l。 在尚未形成標記之記錄時，無法基於記錄再生用雷射光 的反射光而進行以塊體層102内的各層位置為對象之聚焦 伺服 '循軌伺服。因而，記錄時之物鏡的聚焦伺服控制、 循軌伺服控制係基於伺服用雷射光的反射光，以使該伺服 用雷射光的光點位置於基準面Ref上追隨引導槽之方式而 予以進行。 惟，上述記錄再生用雷射光需要為實現標記記錄，而到 達至相較於基準面Ref形成於下層側之塊體層丨〇2 ^因此， 於該情形之光學系統中會以與物鏡的聚焦機構另外獨立 地，而設置用以獨立調整記錄再生用雷射光的對焦位置之 記錄再生光用聚焦機構。 157454.doc 201220307 具體而言，作為此種聚焦機構，會設置使入射至物鏡之 記錄再生用雷射光的準直發生變化之擴展器。亦即，藉由 匕使入射至物鏡之記錄再生用雷射光的準直發生變化， 可將β錄再生用雷射光的對焦位置與祠服用雷射光獨立地 進行調整。 藉由此種聚焦機構’可在如上述般基於伺服用雷射光之 自基準面Ref的反射光而進行物鏡的聚焦伺服控制之 下，就記錄再生用雷射光的對焦位置，以使與塊體層102 内的所需資訊記錄層位置L一致之方式進行調整。 為進行確認而說明’關於記錄再生用雷射光的循轨方向 之位置’係藉由基於伺服用雷射光之來自基準面Ref的反 射光進行物鏡的循軌伺服控制，而控制於特定的位置（成 為形成於基準面Ref之引導槽的正下方之位置）。 又針對已進行標記記錄之塊體型記錄媒體丨〇〇進行再 生之時，無需如記錄時般將物鏡的位置基於伺服用雷射光 的反射光而進行控制。亦即，在再生時’只要以形成於作 為再生對象之資訊記錄層位置乙(在再生時亦稱為「資訊記 錄層L」）之;^ δ己行為對象，基於記錄再生用雷射光的反射 光而進行物鏡的聚焦及循軌伺服控制即可。 此處，如圖20或圖21所示般，先前之塊體型記錄媒體 100成為自光的入射面側起依次形成有覆蓋層1〇1、基準面 Ref(選擇反射膜103) '塊體層1〇2者。㈣，用以獲得為進 行位置控制之伺服用雷射光的反射光之基準面Ref(反射面） 係形成於塊體層102的上層側者。 157454.doc
S 201220307 此時’若考量於塊體層102之標記的記錄或再生的特 性’則期望記錄再生用雷射光能無損耗地入射至塊體層 102 ° 例如’特別是在採用前述空隙記錄方式之情形下，由於 為實現朝塊體層102之標記記錄需要較大的雷射功率，且 ;鬼體層102所§己錄之標記的反射率較小，因此選擇反射 膜3之記錄再生用雷射光的透射率尤為重要，理想的是大 致接近於全透射。 因此，先則作為選擇反射膜1 〇3，會使用波長選擇性優 異之介電質多層膜。 [專利文獻1]曰本特開2008-135 144號公報 [專利文獻2]曰本特開2008-176902號公報 【發明内容】 [發明所欲解決之問題] 如上述般，在先前之塊體型記錄媒體1〇〇中，為實現可 使記錄再生用雷射光大致丨00%透射而到達塊體層丨〇2，作 為選擇反射膜103,會使用波長選擇性優異的介電質多層 膜。 然而，現狀存在有介電質多層獏非常昂貴，而招致製品 成本相應增加之問題。 又’在使用介ff多層膜之㈣·p，適#地進行用以獲 得所期望的特性之各介電質膜的膜厚控制會變得困難，成 品率的下降或由其所引起的高成本化亦成為問題。 本發明係鐾於以上問題點而完成者，其課題為在抑制塊 I57454.doc 201220307 體型光記錄媒體之製品成本的增加之下’可使記錄再生用 雷射光大致無損耗地到達塊體層。 [解決問題之技術手段] 為解決上述問題，在本發明中作為光記錄媒體係設為如 下構成。 亦即，本發明之光記錄媒體具備：記錄層，其藉由第^ 光的照射而在深度方向上選擇性地進行標記的記錄且上 述払§己形成為多層狀；及反射膜，其用以反射與上述第^ 光波長不同的第2光，且設置於上述記錄層的下層側。 又在本發明中，作為光記錄媒體的製造方法如下所 示。 亦即，本發明之光記錄媒體的製造方法係藉由第丨光的 照射而在深度方向上選擇性地進行標記的記錄，並對形成 為多層狀之上述標記之記錄層的下層側，形成用以反射與 上述第1光波長不同的第2光之反射膜。 又，在本發明中，作為記錄裝置係設為如下構成。 亦即，本發明之記錄裝置係對光記錄媒體進行記錄者， 上述光記錄媒體具備：記錄層，其藉由第丨光的照射而在 深度方向上選擇性地進行標記的記錄，且上述標記形成為 夕層狀’及反射膜’其用以反射與上述第五光波長不同的 第2光，錢置於上述記錄層的下層俱丨；且該記錄裝置具 備物鏡，其入射上述^光與上述第2光，並將該等第U 與第2光兩者對上述光記錄媒體照射。 且’具備物鏡聚焦機構’其將上述物鏡在聚焦方向上驅 157454.doc 201220307 動。 且，具備對焦位置獨立調整機構，其藉由使入射至上述 物鏡之上述第1光的準直變化，而使上述第丨光的對焦位置 與上述第2光獨立地變化。 且，具備聚焦伺服控制部，其藉由基於接受上述第2光 之來自上述反射膜的反射光而獲得之聚焦錯誤信號而驅動 上述物鏡聚焦機構，而以使上述第2光在形成於上述記錄 層的下層側之上述反射膜上對焦之方式進行針對上述物鏡 之聚焦伺服控制。 且，具備控制部，其以使上述第丨光的對焦位置調整為 形成於上述反射膜的上層側之上述記錄層内的記錄對象層 位置之方式控制上述對焦位置獨立調整機構，且以執行利 用上述第1光之標記記錄之方式進行控制。 如上述般，若對於記錄層（塊體層）的下層側設置予以反 射第2光（伺服光）之反射膜，則可使第丨光（記錄再生光）大 致無損耗地照射於記錄層。 且同時’如上述般若設為將反射膜設置於記錄層的下層 側之構造，則作為該反射膜，由於可無需將第丨光的透射 率維持在100〇/〇附近，因此可無需先前使用之介電質多層 膜，且可使用利用例如金屬材料（亦包含合金材料）的單層 構造之低成本的反射膜。 另，為進行確認而說明，第i光係在上述標記的再生時 對於上述記錄層内之作為對象之層位置對焦者，亦即係對 上述反射膜照射聚焦之後的第1光者。因而，第1光之來自 157454.doc •11· 201220307 上述反射膜的反射光對於該第丨光之來自上述標記的反射 光（再生光）給與之影響相應變小。 [發明之效果] 根據本發明，可於具有藉由第1光的照射而在深度方向 上選擇性地進行標記的記錄，並以多層狀形成上述標記之 記錄層之光記錄媒體中，作為用以反射與上述第丨光波長 不同的第2光之反射膜可無須使用利用介電質多層膜之波 長選擇反射膜之下，即可使上述p光對於上述記錄層大 致無損耗地照射》 其結果是，根據本發明，可謀求如上述般使 記錄層大致無損耗照射、與謀求光記錄媒體之製品成本的 減少之並存。 又，根據本發明之製造方法’可製造發揮如此優異之效 果之本發明的光記錄媒體。 又’根據本發明之記錄裝置 ^】對應於本發明的光記錄 媒體適當地進行標記記錄。 【實施方式】 以下’兹就用以實施發明之形態(以下為實施形態 說明。 另’由以下順序進行說明。 <1.實施形態之光記錄媒體> [1 -1 ·光記錄媒體之構造] Π-2·關於具體的反射膜材料] Π - 3.光記錄媒體之製造方法j 157454.doc 12 201220307 <2·記錄裝置之構成> [2-1.光學系統之構成] [2-2.記錄裝置之整體的内部構成] <3.關於自最下資訊記錄層位置至基準面為止的距離與反 • 射率比之考察> ' <4.變形例> <1·實施形態之記錄媒體> Π -1.光記錄媒體之構造] 圖1係顯示作為本發明光記錄媒體之一實施形態之塊體 型記錄媒體1的剖面構造圖。 此處，所謂「塊體型記錄媒體」係進行所謂的塊體記錄 之光記錄媒體。所謂「塊體記錄」係指一種未採用如通常 之多層光碟般之形成有複數個記錄膜之多層構造，而對於 容量狀的記錄層逐次改變焦點位置，進行雷射光照射，而 進行多層記錄之技術。 在圖1令，塊體型記錄媒體i係作為光碟狀的光記錄媒 體，進行對於予以旋轉驅動之塊體型記錄媒體丨之雷射光 照射，並進行對於塊體層3之標記記錄（資訊記錄）。又，作 為。己錄資Λ的再生，亦可對於予以旋轉驅動之塊體型記錄 媒體1照射以雷射光而進行。 另，所謂「光記錄媒體」係利用*的照射而進行資訊的 記錄/再生之記錄媒體之總稱。 圖示般纟塊體型記錄媒體1中自上層側起依次形成 有覆蓋層2、塊體層3、接著層4、反射膜5及基板6。 157454.doc -13- 201220307 域’1本_書中’所謂「上層側」係指將後述之來 錄裝置（z錄再生裝置】0)側的雷射光入射之面作為上 面之時的上層側。 「又，在本說明書中’雖使用了「深度方向」-詞，但該 「深度方向」係指與根據上述「上層側」較義之上下方 向一致之方向（亦即與來自記錄裝置側的雷射光之入射方 向平行的方向：聚焦方向）。 在鬼體1 „己錄媒體!中，覆蓋層2係由例如樹脂構成，並 以作為記錄層之塊體層3的保護層發揮功能。 於覆蓋層2的下層側形成有塊體層3。 作為塊體層3的形成材料（記錄材料），只要因應例如先 前所列舉之正型微全息圖方式或負型微全息圖方式等之微 王心圖方式、或疋空隙記錄方式等採用之塊體記錄的方式 而採用最適宜者即可。 另’在本發明中’對於塊體層之標記記錄的方式並無特 別限定，只要在塊體記錄方式之範鳴内，採用任意方式皆 可。在以下之説明中作為一例，例示有採用空隙記錄方式 之情形。 在採用空隙記錄方式之情形下，作為塊體層3的記錄材 料係使用以樹脂為主要成分者。 於塊體層3的下層側經由由所需的接著材料構成之接著 層（中間層）4，形成有反射膜5。 在該反射膜5上形成有用以引導記錄/再生位置之位置引 導件。在反射膜上形成有位置引導件是意味著在形成有仅 ]57454.doc -14- 201220307 置引導件之界面上形成反射膜。 具體而言，該情形係藉由對於圖中基板6的一面側形成 溝槽或是凹洞行，而賦予如圖般之凹凸的剖面形狀，藉由 對於基板6之賦予該凹凸剖面形狀之面上成膜反射膜5，而 成為於》亥反射膜5上形成有利用上述溝槽或是凹洞行之位 ' 置引導件者。 藉由上述溝槽或是凹洞行，而予以記錄顯示與塊體型記 錄媒體1的記錄面内方向平行之方向的絕對位置之資訊（絕 對位置資訊：半徑位置資訊、及旋轉角度資訊）。該絕對 位置資訊在以溝槽形成上述位置引導件之情形下，係利用 該溝槽的蜿蜒（搖擺）週期之調變予以記錄，在以凹洞行形 成之情形下’係利用凹洞的長度或形成間隔的調變進行記 錄。 又’基板6係由例如聚碳酸酯或丙烯酸等之樹脂構成。 基板ό係藉由使用例如賦予作為上述位置引導件的凹凸剖 面形狀之壓模之射出成形等而予以生成。 此處’於塊體層3内部並未設置有位置引導件或是形成 有该等之反射膜’如後述般，塊體層3之記錄/再生位置會 基於來自形成有位置引導件之反射膜5的反射光而予以控 • 制。 在此意義上’對於形成有位置引導件之反射膜5(反射 面）係δ己為「基準面」。 然而’與先前之塊體型記錄媒體1〇〇之情形相同，在對 於未形成位置引導件或反射膜之塊體層3進行多層記錄之 157454.doc •15· 201220307 時，會在塊體層3内的深度方向上，預先規定將予以記錄 標記之層位置設為何種位置。 如圖2所示般，該情形亦會於塊體層3内作為形成標記之 層位置(標記形成層位置：亦稱為「資訊記錄層位置」卜 與先前之圖21之情形相同，設定例如第j資訊記錄層位置 L!〜第5資訊記錄層位置匕合計5個資訊記錄層位置卜 在該情形下，自基準面Ref的朝各資訊記錄層位置[之偏 移似之資錢設定於後述之記料生裝置心控制器Μ 中0 另，此處亦是根據圊示之情況，雖資訊記錄層位置[係 設為5個，但實際上會隔以例如1G师左右的間隔而設定數 十（例如20)個左右的資訊記錄層位置L。 又，如先前所說明般，對於塊體型光記錄媒體，係盘對 於記錄層用以實現標記的記錄再生之雷射光（記錄再生用 雷射光）-起’照射用以進行基於基準面Ref之位置引導件 之位置控制的與記錄再生用雷射光波長不同的雷射光（飼 服用雷射光）。 在圖2中作為一例’顯示在以塊體層3内之資訊記錄層位 置L3為對象之標記記錄時，對於塊體型記錄媒體1進行照 射之記錄再生用雷射光與伺服用雷射光的情況。 在標記記錄時，係如圖所示般以使伺服用雷射光於反射 膜5(基準面Ref)對焦之方式進行照射，並基於來自反射膜5 的-玄伺服用雷射光之反射光而加以物鏡的聚焦、循執伺 服而後於其狀態下，會以使記錄再生用雷射光的對焦 157454.doc -16 - 201220307 位置與所期望的資訊記錄層位置L 一致之方式進行調整， 而於塊體層3内之所期望的位置（聚焦方向及循轨方向）記錄 標記。 後述亦是如此，係利用記錄再生光用聚焦機構（圖8之固 疋透鏡14、可動透鏡15及透鏡驅動部16之組）而進行記錄 再生用雷射光之對焦位置的調整。 另’在本例中，記錄再生用雷射光的波長係4〇〇 nrn左 右’词服用雷射光的波長係65〇 ηπι左右。 此處，如基於上述説明亦可理解般，在本實施形態中， 為實現記錄時之位置控制，而令用以獲得伺服用雷射光的 反射光之反射膜5相對於塊體層3的下層側形成。 如此藉由將反射膜5設置於塊體層3的下層側，可對於塊 體層5，使記錄再生用雷射光大致無損耗地照射。 且同時，如上述般，若設為將反射膜5設置於塊體層3的 下層側之構造，則作為反射膜5，可無需如採用先前的構 成之情形般確保記錄再生用f射光的透射率接近⑽％。 因而’作為反射膜5,可無需設為先前使用之介電質多層 膜，而能夠使用例如利用金屬材料的單層構造之成本較低 的反射膜。藉此，由材料自身的低成本化或不使用介電質 多層膜所帶來的成品率之提高，可謀求成本的減少。 如此，根據本實施形態，在可使記錄再生用雷射光無損 耗地照射於塊體層3之拄，1 時可謀求塊體型光記錄媒體之製 品成本的減少。 另 為進行確認而說明 記錄再生用雷射光係在記錄於 157454.doc •17· 201220307 塊體層3之標記再生時，热格μ 於塊體層3内之作為對象之資訊記 錄層位置L對焦者，亦即孫料6 ^ w J即係對反射膜5照射以聚焦之後的記 錄再生用雷射光者。因 而 5己錄再生用雷射光之來自反射 膜5的反射光對於該記錄 、冉生用雷射光之來自記錄標記的 反射光（再生光）給與之影響會相應變小。 此處，作為—種關聯於如上述説明般之實施形態之光記 錄媒體’可列舉例如記載於下述參考文獻！及參考文獻2中 之技術。 於3亥等參考文獻！及參考文獻2中記載有供以頁面為單位 之全心圖(王息圖頁面)的記錄用之全息圖記錄媒體。 具體而言，在參考文獻1中，記載有-種具有利用「第 一基板5〜記錄層4—濾波器層6—光吸收層9 —反射膜2—第 一基板1」之構造的全息圖記錄媒體。 在參考文獻2中，記載有一種具有利用「透明基板 70—全息圖s己錄層6〇—間隙層5〇—波長選擇層扣―間隙層 30 —反射層20 —基板10」之構造的全息圖記錄媒體。亦即 皆為採用對於記錄層的下層側設置具有波長選擇性的反射 層（濾波器層6、波長選擇層4〇)之構造者。 惟，在記載於參考文獻丨、參考文獻2之構造中，上述濾 波器層6、上述波長選擇層4〇係為反射來自全息圖的繞射 光而作為再生光返回至裝置側所必需之層，伺服光成為以 透射之方式予以構成者。此時，由於全息圖的繞射效率為 大概1%前後左右，因此上述濾波器層6、上述波長選擇層 40為能夠獲得充分的再生光檢測強度，而令記錄光（資訊 157454.doc
•18· 201220307 光、參考光）以大致全反射之方式予以構成（參照參考文獻1 之[0005]或[0117]、參考文獻2之[0023]等）。 又，s己載於該等參考文獻丨、參考文獻2中之記錄媒體係 未在記錄層進行多層記錄者，此點與塊體型光記錄媒體不 同。 •參考文獻卜··曰本特開2007-102185號公報 •參考文獻2...日本特開2〇〇7-333766號公報 Π-2.關於具體的反射膜材料] 以下，茲就反射膜5的材料之具體例進行説明。 首先，作為前提，記錄於塊體層3之資訊的再生係照射 以5己錄再生用雷射光，並於後述之記錄再生裝置1〇側接受 來自由其結果所獲得之記錄標記（本例之情形係&為空隙） 的反射光而進行。 此時，根據圖1所示之塊體型記錄媒體丨的構造，亦如上 述所示般，只要以塊體層3内的某個資訊記錄層位置l為對 象而進行再生，則無須使記錄再生用雷射光對於反射膜5 以適當聚焦的狀態進行照射，可照射以聚焦之後的光。因 而，該記錄再生用雷射光之來自反射膜5的反射光之對於 針對記錄標記的再生光之影響會相應變小。 淮在謀求再生性能的提尚上，最好是可抑制來自反射 膜的記錄再生用雷射光之反射光強度。例如，針對記錄再 生用雷射光之來自反射膜5的反射光’雖亦可考慮藉由信 號處理而去除其影響等而謀求再生性能的提高，但藉此^ 使裝置側的處理負擔增大，且可能會產生例如招致再生速 157454.doc -19- 201220307 率的下降等之問題。例如在此意義上，會期望能夠抑制來 自反射膜的記錄再生用雷射光之反射光強度。 另方面，若僅考量記錄再生用雷射光之反射光強度的 抑制，則藉由將反射膜5的膜厚薄化，即可使該反射 反射率下降。 然而，在將反射膜5的膜厚薄化之情形下，由於針對伺 服用雷射光的反射光之光強度亦變小，因此會招致用以進 订祠服控制之各種錯誤信號的信號品質下降，其結果是會 有進行穩定的伺服控制變得困難之顧慮。 疋、作為反射膜5的構成材料，會考量此點而進行選 疋具體而σ，係選定具有至少對於伺服用雷射光之反射 率相較於對於記錄再生用雷射光之反射率為大之性質（亦 即針對反射率具有成為「伺服用雷射光 > 記錄再生用雷射 光」之波長選擇性）之材料。 又，如上述般，由於期望記錄再生用雷射光的反射光量 為小，因此針對反射膜5的膜厚，會考量此點而進行設 定。 此時’由於先前使用之介電質多層膜其構造複雜且昂 貴’因此作為具有此種波長選擇性之反射膜材料，會使用 亦可實現單層構造的金屬材料。 此處，作為具有上述波長選擇性之金屬材料的一例，可 舉的是銀（Ag)。 圖3係顯示關於以銀為主要成分而構成之反射膜5之相對 於膜厚（nm)之各波長的反射率變化特性之圖。 157454.doc •20· 201220307 另，在圖3夕用作比較亦合併顯示有將作為光碟的反射 膜最普遍制W⑽作為主要成分而構成反射膜5之情形 的相對於膜厚之各波長的反射率變化特性。 在圖3十，將横軸作為膜厚（0 nm〜6〇㈣、將縱轴作為 反射率（G〜丨），針對利用銀之反射膜5,將相對於波長為 mn的雷射光之反射率由*印予以作圖，將相對於波長 為650 nm的雷射光之反射率由♦印予以作圖而顯示。 又，針對利用铭之反射膜5,將相對於波長為彻⑽的 雷射光之反射率由•印予以作圖’將相對於波長為65〇㈣ 的雷射光之反射率由印予以作圖而顯示。 首先，可知針對利用銘之反射膜5，~便使其膜厚發生 變化，相對於波長=400 nm(記錄再生用雷射光）之反射率 與相對於波長=650 nm(伺服用雷射光）之反射率亦幾乎不 會產生差值。 相對於此，可知在設為利用銀之反射膜5之時，相較於 設為銘之情形會整體性產生相對於記錄再生用雷射光之反 射率與㈣於飼服用f射光之反射率之差值。此種波長選 擇性在銀的光學常數内主要係起因於消光係數k的波長分 散而獲得。 在該情形下，特別是在膜厚為約1〇 nmW上之範圍内， 會成為顯著地顯示相對於記錄再生用雷射光之反射率與相 對於伺服用雷射光之反射率之差值者。 、 此時，可知在至膜厚為3〇 nm左右為止之範圍内，相對 於5己錄再生用雷射光之反射率與相對於伺服用雷射光之反 157454.doc •21 · 201220307 射率之差值呈放大趨勢，在膜厚為3〇 nm左右以上，相對 於記錄再生用雷射光之反射率與相對於伺服用雷射光之反 射率之差值呈緩慢縮小趨勢。 如基於該圖3所理解般，藉由設為以銀為主要成分之反 射膜5，可實現具有上述之波長選擇性之反射膜。亦即， 至少可實現具有相對於伺服用雷射光之反射率大於相對於 記錄再生用雷射光之反射率之性質之反射膜。 此處，反射膜5之相對於伺服用雷射光之反射率只要是 相對於記錄再生用雷射光之反射率的2倍以上，即可視為 獲得充分的波長選擇性。亦即，在將反射膜5之相對於伺 服用雷射光之反射率設為rsv，將相對於記錄再生用雷射 光之反射率設為Rrp之時，只要該等之反射率比（以下記為 反射率比Rrp/Rsv)為0.5以下，即可確保充分的波長選擇 性。 根據圖3’可知在設為利用銀之反射膜5之情形下反射率 比之所以成為Rrp/Rsv $〇·5，是因為反射膜5的膜厚在4 nm 左右〜20 nm左右之範圍内。另’膜厚之下限值由於例如成 膜技術上的限制或祠服的穩定性，基於某種程度確保反射 率Rsv等之限制使其本身存在限度，因此考量此點，要獲 得充分的波長選擇性之膜厚可定義為20 nm左右以下。 此時，反射膜5的膜厚在成為左右伺服用雷射光與記錄 再生用雷射光的反射率比Rrp/Rsv的原因之一的同時，亦 會成為左右反射率的絕對性大小之要因。 此處，來自反射膜5的記錄再生用雷射光之反射光的光 157454.doc •22- 201220307 量若大’則雜散光的光量會相應增大，而使再生信號的品 質惡化。由雜散光所引起的影響在將來自記錄標記的反射 光量設為Rmk、將作為雜散光之反射光的光量設為Rns之 時’可單純地記為「Rsn/Rmk」。而雜散光的光量Rns由 於可視為與反射膜5相對於記錄再生用雷射光之反射率Rrp 成比例者，因此為抑制由雜散光所引起的影響，只要配合 標記的反射率Rmk將該反射率Rrp的值儘量減小即可。 如本例般’在採用空隙記錄方式之情形下，基於與空隙 標記的反射率Rmk之配合，針對可視為由雜散光所引起的 影響大致為零之反射率Rrp，以0 3左右以下為1個指標進 行試算。 根據圖3，可知為滿足此種反射率尺卬^〇3左右的條件， 要將反射膜5的膜厚只要設為上述2〇 nm左右以下即可。 亦即，根據上述之膜厚為20 nm左右以下之條件，作為反 射膜5可獲得充分的波長選擇性，且發揮可使由雜散光所 引起的影響大致為無之效果。 以上述方式’根據以銀為主要成分之反射膜5,可實現 具有上述之波長選擇性之反射膜。 又，藉由適切地設定反射膜5的臈厚，可在確保充分的 波長選擇性之下使由雜散光所引起的影響大致變無， 此時，作為膜厚，亦考量用以確保如前述般之伺服的穩 定性之伺服用雷射光的反射光量不會變得過小而加以設 定。 °又 又，作為其他金屬材料之一例，可列舉銅（Cu)。 157454.doc •23· 201220307 圖4係顯示關於以銅為主要成分而構成之反射膜5之相對 於膜厚（nm)之各波長的反射率之變化特性。 在圖4中，以横軸為膜厚（〇 nm〜60 nm)，以縱軸為反射 率（0〜1) ’將關於利用銅之反射膜5之對於波長為4〇〇 nm的 雷射光之反射率以-印標繪，將對於波長為650 nm的雷射 光之反射率以x印標繪而顯示。 可知在由銅構成反射膜5之情形下，亦會相較於設為先 前之圖3所示之鋁之情形，整體性產生對於記錄再生用雷 射光之反射率Rrp與對於伺服用雷射光之反射率Rsv之差 值。特別是可知該情形亦是在膜厚為約10 nm以上之範圍 内’顯著地顯示有對於記錄再生用雷射光之反射率Rrp與 對於伺服用雷射光之反射率Rsv之差值。 此種銅的波長選擇性係起因於消光係數k的波長分散及 折射率η的波長分散而獲得者。 在銅之情形下應特別描述的是即使膜厚為3〇 ηιη以上’ 反射率Rrp與反射率Rsv之差值亦會原狀維持放大趨勢之 點。在膜厚為60 nm之時，反射率尺卬與反射率Rsv之差值 大U為0.9-0.4」，此時之反射率&Rrp/Rsv大概為〇 45左 右。 根據圖4,纟狀情形下為滿足冑述之反射率比叫1 ^.5之條件，只要反射膜5的膜厚設定在H) nm左右以上即 〇 惟’如前述般若膜厚過大則反射率Rrp就會過大，藉此 會導致由雜散光所引起的影響亦變大。因…知若亦滿 157454.doc •24· 201220307 足前述之反射率RrpS0.3左右之條件，則該情形之反射膜5 的膜厚應設定在10 nm左右以上且30 nm左右以下。 如此藉由設為以鋼為主要成分之反射膜5，亦可實現具 有上述之波長選擇性之反射膜。 又’該情形亦是藉由適切地設定反射膜5的膜厚，可在 確保充分的波長選擇性之下使由雜散光所引起的影響大致 變無。 又’在該情形下膜厚亦設定為不會使伺服用雷射光的反 射光量過小之程度。 又，作為其他金屬材料之一例，亦可列舉金（Au) ^ 圖5係顯示關於以金為主要成分而構成之反射膜5之相對 於膜厚（nm)之各波長的反射率之變化特性，與先前之圖 3圖4相同’以横軸為膜厚（〇 nm〜60 nm)，以縱軸為反射 率（〇〜1)，且將關於利用金之反射膜5之對於波長為4〇〇 nm 的雷射光之反射率由I印予以作圖，將對於波長為65〇 nm 的雷射光之反射率由▲印予以作圖而顯示。 在由金構成反射膜5之情形下，相較於設為圖3所示之鋁 之情形會整體性產生對於記錄再生用雷射光之反射率Rrp 與對於飼服用雷射光之反射率Rsv之差值。 金之情形亦是在膜厚為大概丨〇 nm以上之範圍内顯著地 顯不反射率Rrp與反射率Rsv之差值，又，該情形亦與銅相 同，即使膜厚為30 nm以上，反射率Rrp與反射率尺⑺之差 值亦會呈放大趨勢。 為進行確認而敘述，作為此種金之波長選擇性，亦是起 157454.doc -25· 201220307 因於消光係數k與折射率n的波長依存性而獲得者。 根據圖5’在金之情形下，為滿足前述之反射率比 叫―以.5之條件，只要反射膜 5的膜厚設定在18 nm左 右以上即可。 此處’在金之情形下應㈣描述的是即使膜厚為大，記 錄再生用雷射光的反射率Rrp亦不會超過之點。基於此 點在°又為金之情形下，針對前述之反射率RrpS〇.3左右 之條件’則無需格外考量，結果是在金之情形下，在滿足 兩個條件之時應設定之膜厚為18 nm左右以上。 如此藉由設為以金為主要成分之反射膜5，亦可實現具 有之波長選擇性之反射膜，且，藉由將反射膜5的膜 厚6又疋為特定值以上可在確保充分的波長選擇性之下，使 由雜散光所引起的影響大致變無。又，如此藉由將膜厚設 疋在特定值以上，可確保伺服用雷射光的反射光量，且可 確保伺服的穩定性。 又，作為用以實現前述之波長選擇性之反射膜5的材 料，可列舉合金。 圖6係用以說明關於利用合金之反射膜5之相對於膜厚 (nm)之各波長的反射率變化特性之圖。 在圖6中，由#印及x印所作圖的是合金，具體而言係顯 示由銀與銅之合金所構成之反射膜5的相對於膜厚之反射 率變化特性。•印所作圖的係顯示將銀：銅的原子組成比 设為大概58:42之情形之反射率變化特性，由x印所作圖的 係顯示將相同原子組成比設為大概18:82之情形之反射率 157454.doc -26- 201220307 變化特性。 又，在該圖中作為比較，利用印之作圖顯示以銀為主 要成分之反射膜5之相對於膜厚之反射率變化特性，且利 用▲印之作圖顯示以銅為主要成分之反射膜5之相對於膜 厚之反射率變化特性。 亦如圖示所示般，與實線之組合係對於伺服用雷射光 γ波長為650 nm)之反射率變化特性，與虛線之組合係對於 己錄再生用雷射光（波長為4〇〇 nm)之反射率變化特性。 在圖6中，可知銀：銅=58:42之合金的反射率變化特性 (•印）為對記錄再生用雷射光、對词服用雷射光之任一 者’皆會成為以銀為主要成分之情形之特性（印）與以銅 為主要成分之情形之特性(▲印)之大致中間的特性。 ，°確認的是’銀··銅=18:82之合金的反射率變化特 :(x印)為對記錄再生用雷射光、對伺服用雷射光之任一 ，相較於上述之銀··銅=58:42之合金的特性，皆會成為 近於以銅為主要成分之情形的特性之特性。 基於該等之點，可知設為銀MU 變化特性可鞞γ sV 丨月心之反射率 主要成分之情形的特性之特性。 之金屬為 如此在設為銀與銅之合金之情形 雷射光、對伺服用雷射““ 4對6己錄再生用 m h 田射先之兩者之反射率變化特性，可# 得以銀為主要成分之情形的特性與以鋼為主要成八 的特性之Φ P弓AA 妥'成刀之情形 之 金眉Α φ並 性(更接近於銀與銅中以含量較多者 金屬為主要成分之情形的特性之特性）。Α夕者 157454.doc -27- 201220307 如基於該等說明可理解般，在設為銀與銅之合金之情形 下，亦可貫現前述之波長選擇性，且利用其膜厚的調整可 充分地減小記錄再生用雷射光的反射光量，而使由雜散光 所引起的影響大致變無。 具體而言，在銀：銅=58:42之合金之情形下，用以滿足 前述的反射率比Rrp/RsvS〇.5且反射率Rrp$〇3之條件之膜 厚為0.6 nm左右以上且22 nm左右以下。又，在銀：銅= 18.82之合金之情形下，用以滿足相同條件之膜厚為6订爪 左右以上且24 nm左右以下。 另，在該等情形下’膜厚亦設定為不會使飼服用雷射光 的反射光量過小之程度。 此處，亦如前述般，以銅為主要成分之情形係藉由將膜 厚設為10 nm左右以上而滿足反射率比Rrp/Rsv 5之條 件。然而，相較於以銀為主要成分之情形，會無法將反射 率比Rrp/Rsv減小。 另-方面’以銀為主要成分之情形雖係如前述般藉 膜厚設為20 nm左右以下而滿^反射率比之條件， 但此時將膜厚薄化會導致相應地保存可靠性之層面變得不 利。 銀與銅之合金在保存可靠性上優里 -、匕為人所知，相應具 有可將膜厚薄化之優點。 右考® 4點，δ又為銀與銅之合金，拉&丨g , 特別疋在銀的含量為 以上之合金之情形T，可在維持銀具有的特性（亦即可 將反射率比Rrp/Rsv設為更小之特 )之下，實現保存可靠 157454.doc •28- 201220307 性優異之反射膜5,且於將膜厚形成為薄之情形更為有 利。 [1-3.光記錄媒體之製造方法] 圖7係用以說明塊體型記錄媒體1之製造方法之圖。 作為塊體型記錄媒體丨的製造步驟，係大致區分為基板 生成步驟（圖7(a))、反射膜成膜步驟（圖7(b))、記錄層接著 步驟（圖7(c))及覆蓋層積層步驟（圖7(d))。 首先，在_ 7⑷之基板生成步驟中，生成形成有弓丨導槽 之基板6。亦即，係生成於其一面賦予有用以使於反射膜5 形成位置引導件之凹凸刮面形狀之基板6者。 如先前所涉及般，基板6的生成係以樹脂為形成材料， 利用使用壓模之射出成形而生成。 在圖7(b)之反射膜成膜步驟中，對於在上述基板生成步 驟所生成之基板6的形成有上述引導槽之側之面成膜反射 膜5 °亦即在本例之情形下’係將以前述之銀、銅或金之 任一者為主要成分之金屬材料、或是合金材料作為反射膜 5而進行成膜。 此時，係利用例如濺射或蒸鍍等而進行成膜。 在圖7(c)之記錄層接著步驟中，係使用接著材料而在反 射膜5上接著作為塊體層3之記錄材料。在該情形下，作為 塊體層3之記錄材料，係使用例如預先加工成薄膜狀者(薄 膜狀記錄材料）。如先前所敘述般，在本例之情形下，記 錄材料為以樹脂為主要成分者。 將上述之薄膜狀記錄材料衝孔成圓盤狀，將其使用所需 157454.doc •29- 201220307 之接著材料接著於反射膜5上。作為接著材料，係使用例 如 PSA(Pressure Sensitive Adhesive :壓敏型接著劑）。在 使用PSA之情形下，係於反射膜5上載置PSA，再者於該 PS A上以載置塊體層3之狀態進行加壓處理，而進行接著 反射膜5與塊體層3。 藉此’形成如圖示般之具有塊體層3、接著層4、反射膜 5及基板6之積層構造之構造體。 另，在塊體層3之接著中亦可使用UV硬化樹脂。該情形 係在利用例如旋塗法等於反射膜5上塗布UV硬化樹脂之 後’藉由施加利用紫外線照射之硬化處理，而接著反射膜 5與塊體層3。 在圖7(d)之覆蓋層積層步驟中’係於塊體層3上進行積 層覆蓋層2。 在本例之情形下’作為覆蓋層2的材料係使用uv硬化樹 脂（例如UV樹脂）。因此，在該情形之覆蓋層積層步驟中， 係在利用例如旋塗法等於塊體層3上塗布UV硬化樹脂之 後，藉由施加利用紫外線照射之硬化處理，而進行積層覆 蓋層2 » 利用以上之步驟，可完成圖丨所示之塊體型記錄媒體i。 <2·記錄裝置之構成〉 [2-1.光學系統之構成j 圖8主要係用以說明作為對於塊體型記錄媒體丨進行記錄/ 再生之實施形態之記錄裝置具備之光學系统的構成之圖。 實施形態之記錄裝置與針對塊體型記錄媒體丨之記錄功 157454.doc •30- 201220307 能一起還具有再生功能。基於此點， S己錄裝置，係稱為「記錄再生裝置i 〇 以下關於實施形態 之 1〇具備之1學拾取ϋΟΡ 圖8主要係顯示該記錄再生裝置 的内部構’成者。 /在圖8中，填裝於記錄再生裝置㈣之塊體型記錄媒體1 係於該記錄再生裝置1G之特定位置以其中心孔被夾持之方 式配置，並利.用圖示省略之主軸馬達以可旋轉驅動 予以保持。 … 光學拾取器OP係為對於利用上述主軸馬達而予以旋轉 驅動之塊體型記錄媒體丨照射以記錄再生用雷射光、飼服 用雷射光而設置。 於光學拾取器OP内設置有作為用以進行利用標記之資 訊記錄、及利用標記而予以記錄之資訊的再生之記錄再生 用雷射光的光源之記錄再生用雷射u;及作為用以進行利 用形成於基準面Ref之位置引導件之位置控制之光之伺服 用雷射光的光源之伺服用雷射24。 此處，如前述般，記錄再生用雷射光與伺服用雷射光各 自之波長不同。亦即，在該情形下，記錄再生用雷射光之 波長為大概400 nm左右（所謂的藍紫色雷射光），伺服用雷 射光之波長為大概650 nm左右（紅色雷射光）。 又’於光學拾取器OP内’設置有成為記錄再生用雷射 光與伺服用雷射光的朝塊體型記錄媒體1之輸出端之物鏡 20 ° 再者’設置有用以接受上述記錄再生用雷射光之來自塊 157454.doc 31 201220307 體3L。己錄媒體1的反射光之記錄再生光用受光部。；及用 '接又伺服用雷射光之來自塊體型記錄媒體1的反射光之 伺服光用受光部29。 基於以上，在《學拾取器〇ρ内，t形成肖&將自上述 §己錄再生用雷射11出射之記錄再生用雷射光傳導至上述物 鏡20且將入射至上述物鏡2〇之來自上述塊體型記錄媒體 的记錄再生用雷射光之反射光傳導至上述記錄再生光用 受光部23之光學系統。 具體而言，自上述記錄再生用雷射u出射之記錄再生用 雷射光係在經由準直透鏡12成為平行光之後入射至偏光 分光鏡U。偏光分光鏡13在構成上可使如此自記錄再生用 雷射11側入射之記錄再生用雷射光透射。 透射上述偏光分光鏡13之記錄再生用雷射光係入射至包 含固定透鏡丨4、可動透鏡15及透鏡驅動部16之擴展器。該 擴展器係與前述之記錄再生光用聚焦機構相當者，且在構 成上係接近於作為光源之記錄再生用雷射u之側配置有固 定透鏡14，在自記錄再生用雷射丨丨遠離之側配置有可動透 鏡15 ’並藉由透鏡驅動部16而使上述可動透鏡㈣平行於 記錄再生用雷射光的光軸之方向進行驅動。利用該記錄再
生光用聚焦機構，可對於記錄再生用雷射光進行獨立的 焦控制。 A 如後述般，該記錄再生光用聚焦機構之透鏡驅動部Μ係 藉由圖9所示之控制器39,因應對應於作為對 不心頁戒記 157454.doc -32· 201220307 錄層位置L而設定之偏移〇f_L之值予以驅動。 經由形成上述記錄再生光用聚焦機構之固定透鏡14及可 動透鏡15之記錄再生用雷射光係如圖般在由反射鏡17反射 之後’經由1/4波長板18而入射至雙色稜鏡19。 雙色稜鏡19在構成上可使其選擇反射面反射與記錄再生 用雷射光同波長帶的光’且使除此以外之波長之光透射。 因而’以上述方式入射之記錄再生用雷射光由雙色稜鏡19 予以反射。 由上述雙色稜鏡19反射之記錄再生用雷射光係以圖示之 方式經由物鏡20而對塊體型記錄媒體！照射。 對於物鏡20設置有可將該物鏡20在聚焦方向（對塊體型 3己錄媒體1接近/離開之方向）及循軌方向（正交於上述聚焦 方向之方向：塊體型記錄媒體丨之半徑方向）上變位地加以 保持之雙轴致動器21。 在雙軸致動器21中具備有聚焦線圈及循轨線圈，且藉由 對該等賦予驅動信號（後述之驅動信號FD、TD)，而使物鏡 20分別在聚焦方向、循軌方向上變位。 此處，在再生時係以上述方式因應對塊體型記錄媒體！ 照射記錄再生用雷射光，而自塊體型記錄媒體丨（記錄於塊 體層3内的再生對象之資訊記錄層[之標記行）獲得上述記 錄再生用雷射光之反射光。如此獲得之記錄再生用雷射光 的反射光經由物鏡20而被導向雙色稜鏡19，並由該雙色稜 鏡19予以反射。 由雙色棱鏡19反射之記錄再生用雷射光的反射光經由 I57454.doc -33· 201220307 1/4波長板18 —反射鏡17—記錄再生光用聚焦機構（可動透 鏡15—固定透鏡14)之後，入射至偏光分光鏡13。 此處，如此入射至偏光分光鏡13之記錄再生用雷射光的 反射光（回程光）係藉由利用1/4波長板18之作用以及在塊體 型s己錄媒體1中的反射時之作用，而與自記錄再生用雷射 光11側入射至偏光分光鏡13之記錄再生用雷射光（去程光） 在其偏光方向上差異90度。該結果，以上述方式入射之記 錄再生用雷射光的反射光由偏光分光鏡13予以反射。 如此由偏光分光鏡1 3予以反射之記錄再生用雷射光的反 射光經由聚光透鏡22而在記錄再生光用受光部23的受光面 上聚光。 又’於光學拾取器〇p内’在針對上述説明之記錄再生 用雷射光的光學系統之構成之上，並形成有用以將自伺服 用雷射24出射之伺服用雷射光傳導至物鏡2〇、且將入射至 上述物鏡20之來自塊體型記錄媒體1的伺服用雷射光之反 射光傳導至伺服光用受光部29之光學系統。 如圖示般，自上述伺服用雷射24出射之伺服用雷射光係 在經由準直透鏡25而成為平行光之後，入射至偏光分光鏡 26 »偏光分光鏡26構成為可使如此自伺服用雷射24側入射 之伺服用雷射光（去程光）透射。 透射上述偏光分光鏡26之伺服用雷射光係經由1/4波長 板27而入射至雙色稜鏡19。 如先前敘述般，雙色棱鏡19由於在構成上可反射與記錄 再生用雷射光同波長帶的光，且使除此以外之利用波長之 157454.doc • 34· 201220307 光透射’因此上述伺服用雷射光係透過雙色稜鏡19，而經 由物鏡20而照射於塊體型記錄媒體1。 又’因應如此對塊體型記錄媒體1照射以伺服用雷射光 而獲得之該伺服用雷射光的反射光（來自基準面Ref之反射 光）係在經由物鏡20之後，透過雙色稜鏡1 9，而經由1/4波 長板27而入射至偏光分光鏡26。 與先前之記錄再生用雷射光之情形相同，如此自塊體型 記錄媒體1側入射之伺服用雷射光的反射光（回程光）係利用 1/4波長板27的作用與在塊體型記錄媒體1中的反射時之作 用’而成為與去程光在其偏光方向上差異90度者，因而， 作為回程光之伺服用雷射光的反射光係由偏光分光鏡26予 以反射。 由偏光分光鏡26反射之伺服用雷射光的反射光係經由聚 光透鏡28而在伺服光用受光部29的受光面上進行聚光。 另’雖予以省略利用圖示之説明，但實際上於記錄再生 裝置10中設置有將上述説明之光學拾取器〇p整體在循軌方 向上滑動驅動之滑動驅動部，且藉由利用該滑動驅動部之 光學拾取器OP的驅動，可使雷射光的照射位置在寬廣範圍 内進行變位。 此處，如前述般’本實施形態之塊體型記錄媒體1由於 對於塊體層3的下層側設置有基準面Ref，因此在記錄時， 一面使伺服用雷射光對如此設置於塊體層3的下層侧之基 準面Ref對焦之方式進行物鏡20的聚焦伺服控制，且利用 記錄再生光用聚焦機構，以使記錄再生用雷射光相較於基 157454.doc -35- 201220307 準面Ref在上層側之塊體層3内對焦之方式，調整入射至物 鏡20之記錄再生用雷射光的準直。 惟，此時，根據光學系統的構成，即使藉由記錄再生光 用聚焦機構而使記錄再生用雷射光的準直發生變化，亦會 有無法使記錄再生用雷射光的對焦位置相較於基準面 而位於上層側之情形。 具體而言，關於先前之塊體型記錄媒體1〇〇，由於基準 面Ref係設置於塊體層3(102)的上層側，因此在對應其之記 錄再生裝置巾’在如上驗之記錄時之m服控制狀態 下，亦即在以使物鏡20位於令伺服用雷射光的對焦位置與 基準面Ref—致之位置之狀態下，雖會使記錄再生光用聚 焦機構的可動透鏡15處於正常位置（例如可動範圍内的中 間位置）之時的記錄再生用雷射光之對焦位置相較於基準 面Ref而位於下層側之方式設計有光學系統，但在原狀沿 用此種光學系統的構成之情形下，關於基準面Ref處於塊 體層3的下層侧之塊體型記錄媒體丨，會有無法於塊體層3 内的資訊記錄層位置L使記錄再生用雷射光對焦之顧慮（因 利用記錄再生光用聚焦機構之對焦位置的調整範圍有 限）。 因此，於本實施形態之記錄再生裝置1〇中，在記錄再生 光用聚焦機構的可動透鏡15處於正常位置，且物鏡2〇處於 使伺服用雷射光的對焦位置與基準面Ref一致之位置之狀 態下’係使經由該物鏡20而照射之記錄再生用雷射光的對 焦位置相較於基準面Ref而位於上層側（例如位於塊體層3 157454.doc -36 - 201220307 的深度方向之大致中心）之方式設計光學系統。 藉此，不用大幅移動記錄再生光用聚焦機構之可動透鏡 15的位置（亦即無須使記錄再生用雷射光的準直發生較大 變化)即可使記錄再生用雷射光相較於基準面W而在上層 側的塊體層3内對焦、。 此處’若利用記錄再生光用聚焦機構之準直狀態的變化 較少，則光學倍率的變化量亦可變小，且可謀求抑制起因 於物鏡20的位置之變化(聚焦方向及循軌方向)而產生之伺 服用雷射光的焦點位置與記錄再生用雷射光的焦點位置之 間的偏移。亦即其結果是可媒求記錄再生用雷射光的位置 控制精度之提高。 [2-2，記錄裝置之整體的内部構成] 圖9係顯示記錄再生裝置1〇的整體的内部構成。 另’在圖9中，關於光學拾取器〇p的内部構成，係在先 前之圖8所示之構成中僅操取記錄再生用雷射“、透鏡驅 動部16及雙軸致動器21而顯示。 首先，在記錄再生裝置10中，作為用以進行以塊體層3 為對象之記錄/再生、或記錄標記的再生時之物鏡汕的聚 焦/循執控制（亦即基於記錄再生用雷射光的反射光之位置 控制）之信號處理系統的構成，設置有圖中的記錄處理部 32、記錄再生光用矩陣電路33及再生處理部34 ^ 於圮錄處理部32輸入用以對於塊體型記錄媒體！進行記 錄之資料（記錄資料）>記錄處理部32對於所輸入之記錄資 料施以錯誤校正碼的添加或特定的記錄調變編碼等，而獲 I57454.doc •37- 201220307 得實際記錄於塊體型記錄媒體1中之例如「〇 「， 」1」的2值 資料行之記錄調變資料行。 記錄處理部32係生成因應上述所生成之記錄調變資料行 之記錄脈衝信號RCP。其後基於該記錄脈衝信號Rcj>而進 行光學拾取器OP内的記錄再生用雷射11之發光驅動。 記錄再生光用矩陣電路33係對應於來自作為圖8所示之 記錄再生光用受光部23之複數個受光元件的受光信號dt_ rp(輸出電流）而具備電流電壓轉換電路、矩陣演算/放大電 路等’並藉由矩陣演算處理生成必需之信號。 具體而言，係生成與再生上述之記錄調變資料行之再生 信號相當之高頻信號（以後，稱為「再生信號RF」）、用以 實現聚焦伺服控制之聚焦錯誤信號FE-rp、及用以實現循 軌伺服控制之循軌錯誤信號TE-rp。 於記錄再生光用矩陣電路33生成之上述再生信號11;?係供 給於再生處理部34。 又上述聚焦錯誤抬號FE-rp、上述循軌錯誤信號TE_rp 係對於記錄再生光用飼服電路3 5進行供給。 再生處理部34係針對上述再生信號RF，進行記錄調變碼 的解碼或錯誤校正處理等用以恢復上述之記錄資料之再生 處理，而獲得再生上述記錄資料之再生資料。 又，記錄再生光用伺服電路35係藉由基於自矩陣電路33 供給之聚焦錯誤信號FE_rp、循軌錯誤信號丁£_卬而分別生 成聚焦伺服信號FS-rp、循軌伺服信號TS_rp，並基於該等 聚焦伺服信號FS-rp、循執伺服信號TS-rp之聚焦驅動信號 I57454.doc •38· 201220307 FD-rp、及循轨驅動彳§號TD_rp ,予以驅動雙轴致動器21的 聚焦線圈、循軌線圈，而進行針對記錄再生用雷射光之聚 焦伺服控制、循執伺服控制。 如基於先前之説明所理解般，基於此種記錄再生用雷射 光的反射光之雙軸致動器2丨（物鏡2 〇)的伺服控制係在再生 時進行者。 又，記錄再生光用伺服電路35係對應於再生時因應自控 制器39發出之指示，藉由將循轨伺服迴路關閉而給與上述 循軌線圈跳躍脈衝，而實現軌道跳躍動作，或亦會進行循 軌伺服的引入控制等。又，亦會進行再生時之聚焦伺服的 引入控制等。 又，在記錄再生裝置1〇中，作為針對伺服用雷射光的反 射光之k號處理系統，係設置有伺服光用矩陣電路3 6、位 置資訊檢測部3 7、及词服光用祠服電路3 8。 伺服光用矩陣電路36係對應於來自圖8所示之伺服光用 受光部29之複數個受光元件的受光信號DT_sv(輸出電流） 而具備電流電壓轉換電路、矩陣演算/放大電路等，並藉 由矩陣演算處理生成必需之信號。 具體而s，词服光用矩陣電路3 6係生成用以實現聚焦伺 服控制之聚焦錯誤信號FE-sv、及用以實現循軌伺服控制 之循軌錯决信號TE-sv。 又’生成用以進行於基準面Ref所記錄之絕對位置資訊 的k測之位置資訊檢測用信號Dps。例如在利用凹洞行記 錄絕對位置資訊之情形下，作為位置資訊檢測用信號Dps 157454.doc •39- 201220307 係生成和信號。或是在利用抖動溝槽記錄絕對位置資訊之 情形下’作為位置資訊檢測用信號Dps係生成推挽信號。 位置資訊檢測用信號Dps係供給於位置資訊檢測部37。 位置資訊檢測部3 7係基於上述位置資訊檢測用信號DpS而 檢測記錄於基準面Ref之絕對位置資訊。所檢測之絕對位 置資訊係對於控制器39進行供給。 對祠服光用伺服電路38供給在伺服光用矩陣電路36中所 生成之聚焦錯誤信號FE-sv、循軌錯誤信號TE-sv。 词服光用伺服電路38係基於該等聚焦錯誤信號FE_sv、 循軌錯誤信號TE-sv而分別生成聚焦伺服信號fs-sv、循軌 伺服信號TS-sv。 而後，在記錄時’因應來自控制器39之指示，藉由基於 聚焦祠服彳s號FS-sv、循轨祠服信號TS-sv而生成之聚焦驅 動信號FD-SV、及循軌驅動信號td-sv，予以驅動雙軸致動 器21的聚焦線圈、循執線圈，而實現針對伺服用雷射光之 聚焦伺服控制、循執伺服控制。 又，伺服光用伺服電路38係對應於記錄時因應自控制器 39發出之指示’藉由將循軌伺服迴路關閉而給與雙軸致動 器21的循軌線圈跳躍脈衝而實現軌道跳躍動作，或者亦會 進行對於基準面Ref之聚焦伺服的引入控制等。 控制器39係由具備例如CPU(Central Processing Unit，中 央處理益）或R〇M(Read Only Memory，唯讀記惊體）、 RAM(Random Access Memory ’隨機存取記憶體）等之記情 體（圯憶裝置）之微電腦構成，並藉由執行根據記憶於例如 157454.doc _ 40 · 201220307 而進行記錄再生裝置1 0 上述ROM等之程式之控制、處理， 的整體控制。 例如控制器·前述般基於預先對應於各資訊記錄層 位置L而設定之偏移of_L之值，進行記錄再生用雷射光的 對焦位置之控制（設定）。具體而言，係藉由基於對應於作 為記錄對象之資訊記錄層位Η而設定之偏移⑹之值， 予以驅動光學拾取ϋ〇Ρ内的透鏡驅動部16,而進行深度方 向之記錄位置的選擇。 又，控制器39亦會進行用以實現如先前説明般之記錄/ 再生時的物鏡20之健控制切換之控制。具體而言，控制 器39係在記錄時，對於伺服光用伺服電路38進行指示聚焦 驅動信號FD-sv、#轨驅動信號TD_sv的輸出，且對於記錄 =生光耗服電路35以將聚焦驅動信號FD_fp、循執驅動 仏號TD-rp的輸出停止之方式進行指示。 又，在記錄時，控制器39係進行對於記錄處理部之指 不，而執行基於記錄資料之標記記錄。 另一方面，係在再生時對於記錄再生光用伺服電路35進 行私不聚焦驅動信號FD_rp、循軌驅動信號td_卬的輸出， 並對於飼服光用伺服電路38，以將聚焦驅動信號FD_sv、 循軌驅動信號TD-SV的輸出停止之方式進行指示。 又，控制器39亦會進行對於伺服光用伺服電路38之搜索 動作控制。亦即’以使伺服用雷射光的光點位置移動至基 準面Ref上之特疋的目標位址之方式進行對於伺服電路3 8 之指示。 157454.doc •41 · 201220307 根據利用以上説明之構成之記錄再生裝置1〇，對應於在 塊體層3的下層侧形成有反射膜5(基準面㈣之塊體型記錄 媒體卜彳於塊體層3内的特定位置（聚焦方向及循軌方向） 進行標記記錄。 <3.對於自最下資訊記錄層位置至基準面為止之距離與反 射率比之考察> 圖1〇係顯示經由物鏡2G以使記錄再生用雷射光於設定於 塊體型記錄媒體i内的最下層側之資訊記錄層位置L(以 下，稱為「最下資訊記錄層位£Lmb」）對焦之方式予以照 射’伴隨其使自塊體型記錄媒體丨獲得之記錄再生用雷射 光的反射光傳導至受井 守守王又尤。卩（5己錄再生光用受光部23)之情 另’在圖1G中，係放大顯示經由物鏡2()而使記錄再生用 雷射光照射於最下資訊層位置Lmb之部分。 又’在圓10中，係針對記錄再生用雷射光的光學系统， =自物鏡20至偏光分光鏡13為止之間㈣部分（例如雙 色稜鏡19或記錄再生光用聚焦機構等）及記錄再生用雷射 、準直透鏡12而顯示。 進行記錄於所需的資訊記錄層位置l之資
對隹=錄再生用雷射光於該資訊記錄層位置L :二：式予以照射之時，與來自標記之反射光—起，可 獲付來自基準面Ref之反射光。 :參照圖面所知般，此時之來自基準面蝴反射光係 ;心己錄層位置L聚焦之後，成為針對以擴散光的狀態 157454.doc -42- 201220307 照射之光之反射光。 此種記錄再生用雷射光之來自基準面Ref的反射光會與 來自標記的反射光（亦即再生光）一起被記錄再生光用受光 邛23接受。亦即，來自上述基準面的反射光會作為對 於上述再生光之雜訊光而發揮作用。 以下，亦將此種來自基準面Ref的記錄再生用雷射光之 反射光稱為「雜散光」。 此時，來自基準面Ref的雜散光之光強度在自作為再生 對象之資訊記錄層位置L至基準面Ref為止之距離成為最小 之時為最大。亦即，雜訊的重疊量係在針對最下資訊記錄 層位置Lmb之再生時成為最大者。 如基於上述說明所理解般，在針對由雜散光所引起的雜 訊之影響進行考量之日夺’自t下資訊記錄層位置[_至基 準面Ref為止之距離（以下，標記為「距離d」）成為重要的 要素。 又，雜散光的光強度當然亦會由於基準面Ref的對於記 錄再生用t射光之反射率（與前述反射料_義：以下^ 標記為「反射率Rrr」）之不同而發生變化。因而，為抑制 雜散光的光強度而抑制由雜訊的重疊所引起的影響，而期 望該反射率Rrr為小。 3 ' 另-方面’雜訊之影響由於係與再生光的強度相對者， 因此在針對雜訊之影響進行考量之時，當然亦會針對標記 的反射率（以下，亦標記為「反射率尺爪^ )進行考量。 以上述方式’在針對由雜散光所引起的雜訊之影響進行 157454.doc .43· 201220307 考量之時，距離d、基準面Ref的反射率Rrr及標記反射率 Rmr三者成為重要的要素。 此處’在針對由雜散光所引起的雜訊之影響而評估之 時’係將「雜散光強度/再生光強度」作為SNR相關的評估 指標。 在塊體型記錄媒體1中，由於形成於基準面Ref之圖案係 以較低之頻率進行變化，因此雜散光會對於來自塊體層3 的再生信號作為DC偏移而進行重疊。因而，如上述般可 將「雜散光強度/再生光強度」視為SNR相關的評估指標。 然後’對於作為系統可容許之雜訊/再生光的強度比， 為「雜散光強度/再生光強度$α」。 在如此情形下，對於基準面Ref之反射率Rrr、標記反射 率Rmr、距離d，只要是以滿足該「雜散光強度/再生光強 度$α」的條件之方式進行設定即可。 圖11係顯示將相對於自最下資訊記錄層位置至基準面為 止之距離d之「雜散光強度/再生光強度」的變化特性，按 照基準面Ref的反射率Rrr與標記反射率Rmr之各反射率比 進行計算之結果。 八體而α，在圖11中，係顯示以縱軸為「雜散光強度/ 再生光強度」、以横軸為叩,㈣，對每個基準面W 的反射率Rl·!·與標記反射率w之反射率比（Ref反射率，標記 反射率25’ 50，100, 150)，計算對於距離d之「雜散光強度/ 再生光強度」的變化特性之結果。 針對Ref反射率/標記反射率=25之計算結果為χ印，^ 157454.doc 201220307 反射率/標記反射率=50的計算結果為▲印，Ref反射情 記反射率=H)0的計算結果為ϋ印，Ref反射率/標記反射^ = 150的計算結果為♦印。 另，在獲得該圖U所示之計算結果之時，作為基準面 ^的圖案（位置引導件的圖案）’係'設定圖12⑷所示般之 組群與平面的重複圖案（強度分佈圖案）。 又’在計算時，係以於來自最下資訊記錄層位置^的 反射光之ί求面與來自&準面Ref的反射光之球面產生如圖 13所示之聚焦時參照球面SR1、散焦時參照球面sr2般之 差值為前提。 再者’基於該前提’係以針對來自塊體型記錄媒體【的 記錄再生用雷射光之反射光（亦包含來自基準面Ref的反射 光）之來自物鏡20的射出面上之強度分佈圖案成為圖l2(b) 斤示者再者上述§己錄再生用雷射光的反射光之記錄再生 光用受光部23的受光面上之強度分佈圖案成為圖12(c)所示 者為前提而進行計算。 乍為>•己錄再生用雷射光的波長χ=4〇〇 nm，物鏡20的 開口數NA=〇.85而進行計算。 基於該圖11的計算結果，可導出在設計上較佳之距離(1 與Ref反射率/標記反射率之關係。 例如，在前述之「雜散光強度/再生光強度」的容許值 為01-1之情形下，可知只要Ref反射率/標記反射率=5〇，則 距離d大概為1 〇 μηι以上即可。或在相同α= 1之條件下，在 將Ref反射率/標記反射率設為1〇〇或15〇等之情形下，可知 157454.doc •45· 201220307 作為距離d需要進一步設大》 另，為進行確認而敘述，Ref反射率（反射率Rrr)成為由 反射膜5的材料、膜厚等而決定者。又，標記反射率（反射 率Rmr)成為由針對例如塊體層3選定何種材料（記錄材料） 等而決定者。 <4·變形例> 以上’雖就本發明之實施形態進行了説明，但作為本發 明並不限定於先前説明之具體例。 例如在先前之説明中，雖例示了對於基板6的上面形成 引導槽之情形，但如圖14所示之塊體型記錄媒體4〇般，亦 可設為對於塊體層的下面側形成引導槽之構造。另，對於 如此形成引導槽之塊體層，係標記為「塊體層3,」。 該情形之基板6係如上述般對應於引導槽（及反射膜”形 成於塊體層側，使用其上面側亦形成為平面狀者（以下， 標記為「基板6'」）。 圖15係用以說明關於圖14所示之塊體型記錄媒體的製 造方法之圖。 在圖15中，在塊體型記錄媒體4〇的製造之時，首先係準 備作為塊體層3,的材料之薄膜狀記錄材料3，m(圖15(&))^亦 即，準備將薄膜狀的記錄材料衝孔為圓盤狀者。 而後，對於此種薄膜狀記錄媒體3，m ’藉由形成引導槽 而使塊體層3·完成（圖15(b))。 使用所謂的奈米印刷技術而進行對於薄膜狀記錄材料 3 m之引導槽的形成。具體而言，係由例如熱轉印等之手 157454.doc •46· 201220307 法而進行者。 再者，對於如此生成之塊體層3，，進行反射膜5的成膜 (圖15⑷）。料，對於形成有塊體層3，的引導槽之側之 面’使利用銀、銅或是金之金屬材料進行成膜。 在成膜反射膜5之後，藉由例如pSA或利用1；¥硬化樹脂 等的接著材料之接著層4,而進行接著反射膜5與基板6•(圖 15 ⑷）。 然後，對於塊體層3的上面側進行積層覆蓋層2(圖 15(e))。藉此，完成圖14所示之塊體型記錄媒體4〇 < 此處，在先前之説明中，雖例示了於塊體層3(或是塊體 層3|)之上層側形成覆蓋層2之構造，但作為本發明之光記 錄媒體，係例如圖16所示之塊體型記錄媒體牦般，亦可設 為省略覆蓋層2之構造。 在該情形下，塊體層3(或是塊體層3，）内之上層部分（相 較於最上方之資訊記錄層位置L為上層側之部分）會擔負作 為覆蓋層之功能。 或是本發明之光記錄媒體係如圖17所示之塊體型記錄媒 體5 0般，亦可設為貼合二個層單元之構造。 具體而言’作為該塊體型記錄媒體50，係具備將分別具 有「覆蓋層2、塊體層3、圖案轉印中間層51、反射膜5」 之二個層單元以使反射膜5彼此對向之朝向利用接著層4而 進行接著且貼合之構造。 此處’圖案轉印中間層5 1可藉由對於例如在塊體層3上 塗布之UV硬化樹脂以擠壓用以形成前述引導槽之廢模之 157454.doc -47- 201220307 狀態’施加利用紫外線照射之硬化處理而形成。 另，對於如圖14所示般之具有塊體層3,之光記錄媒體， 亦可設為同樣地貼合構造。 亦即，在該情形下，只要是設為將具有「覆蓋層2、塊 體層3’、反射膜5」之層單元以使反射膜5彼此對向之朝向 利用接著層4進行接著之構造即可。 另，在設為貼合構造之情形下，當然亦可省略覆蓋層 1。 又，在先前之説明中，雖例示了本發明之光記錄媒體作 為所謂的塊體型光記錄媒體之情形，但作為本發明之光記 錄媒體，亦可作為例如圖18所示般之具有包含複數個半透 明§己錄膜5 6之記錄層5 8之多層記錄媒體5 5。 在圖18中’關於覆蓋層2、接著層4、反射膜5及基板6, 由於與塊體型記錄媒體丨之情形相同，因此省略重複説 明。 該多層記錄媒體55具備之記錄層58與作為塊體層3之容 量狀的記錄層不同，其具有複數個半透明記錄㈣隔以中 間層57而形成之多層構造。具體而言，係進行半透明記錄 膜564中間層57—>丰读明$辟, 千边明5己錄膜56—中間層57…的重複積 層。 惟，此處應注意的是於上述半透明記錄膜56上未形成伴 隨溝槽或凹洞行等的形成之位置引導件之點”亦即，即使 s亥多層§己錄媒體5 5，亦是僅璧+於从去w 疋值對於作為基準面Ref之1個層位 置形成位置引導件。 157454.doc -48- 201220307 藉由設為此種構造，與作為塊體型光記錄媒體之情形相 同，可省略在各層用以形成位置引導件之步驟，且相應在 抑制記錄媒體的製造成本上係有利者。 此處，圖18所示之多層記錄媒體55由於形成有半透明記 錄膜56，因此在記錄時亦可獲得記錄再生用雷射光的反射 光。因此，該情形之記錄時之記錄再生用雷射光的聚焦词 服控制係藉由基於該記錄再生光用雷射光的反射光驅動物 鏡20而於作為§己錄對象之半透明記錄膜％上對焦之方式 而進行者。 另一方面，關於記錄時之記錄再生用雷射光的循執伺服 控制’在該情形T亦是使耗服用#射光而進p亦即， 即使在該情形下’記錄時之循軌飼服控制亦是藉由基於伺 服用雷射光之自基準面Ref的反射光驅動物鏡2〇，而使該 伺服用雷射光的焦點位置追隨基準面Ref的引導槽之方式 而進行者。 又，在再生時，該情形亦可基於已記錄之標記行而進行 §己錄再生用雷射光的循軌伺服控制。又，如基於上述説明 所理解般，即使在再生時，記錄再生用雷射光的聚焦伺服 控制亦可利用來自作為對象之半透明記錄膜56(資訊記錄 層L)的反射光而進行，亦即在該情形下，再生時之伺服控 制會以與作為塊體型光記錄媒體之情形相同之手法而進 行。 此處，即使圖18所示之多層記錄媒體55，亦是與塊體型 光記錄媒體相同，在深度方向上選擇性地進行標記的記 157454.doc •49· 201220307 錄，且其係具有以多層狀形成上述標記之記錄層之光記錄 媒體，此點不會改變。 又’在先前之説明中，雖例示了記錄再生用雷射光的波 長為400 nm左右’伺服用雷射光的波長為65〇⑽左右之情 形’但關於s亥專波長並不限定於例示之數值。 又，在先前之説明中，雖於記錄再生裝置1〇中，例示了 光學系統係在記錄再生光用聚焦機構的可動透鏡15處於正 吊位置，且物鏡2 0處於使飼服用雷射光的對焦位置與基準 面Ref—致之位置之狀態下，以使經由該物鏡2〇而照射之 記錄再生用雷射光的對焦位置相較於基準面Ref位於上層 側（例如位於§己錄層的深度方向之大致中心）之方式進行設 §十之情形，但作為本發明之記錄裝置，只要是以至少可使 伺服用雷射光（第2光）在形成於記錄層的下層側之反射膜 (反射膜5)上對焦，並於其狀態下，對於形成於上述反射膜 的上層側之上述記錄層使記錄再生用雷射光（第丨光）對焦而 構成即可。 又’在先刖之説明中，雖例示了於基準面（反射膜）形成 之位置引導件設為作為凹洞或是溝槽之引導槽之情形，但 基準面之位置引導件亦可是利用標記的記錄而形成者。 在該情形下，可無需引導槽的形成步驟，取而代之，會 追加對於反射膜5進行標記形成、或對於反射膜5的上面侧 形成可用以進行標記記錄之記錄材料並於該處記錄標記之 步驟。 且’在先前之説明中’雖例示了本發明之記錄裝置應用 157454.doc -50- 201220307 在進行對於光記錄媒體之記錄及再生兩者之記錄再生裝置 中之情形’但本發明亦可較佳地應用在僅可進行對於光記 錄媒體（記錄層）之記錄之記錄專用裝置（記錄裝置）中。 【圖式簡單說明】 圖1係實施形態之光記錄媒體的剖面構造圖。 圖2係用以說明關於實施形態之光記錄媒體之位置控制 手法之圖。 圖3係顯示關於以銀為主要成分之反射膜（及以鋁為主要 成刀之反射膜）之相對於膜厚（nm)之各波長的反射率變化 特性之圖。 圖4係顯示關於以銅為主要成分之反射膜之相對於膜厚 (nm)之各波長的反射率變化特性之圖。 圖5係顯示關於以金為主要成分之反射膜之相對於膜厚 (nm)之各波長的反射率變化特性之圖。 圖6係用以說明關於利用合金之反射膜之相對於膜厚 (nm)之各波長的反射率變化特性之圖。 圖7(a)-(d)係用以說明關於作為實施形態的光記錄媒體 之製造方法之圖。 圖8係主要顯示實施形態之記錄裝置所具備之光學系統 的構成之圖。 圖9係顯示實施形態之記錄裝置整體的内部構成之方塊 圖。 圖10係顯示經由物鏡以使記錄再生用雷射光於最下資訊 °己錄層位置對焦之方式予以照射，並伴隨其使自塊體型記 157454.doc 51 201220307 錄媒體獲得之記錄再生用雷射光的反射光傳導至受光部之 情況之圖》 圖11係顯示將相對於自最下資訊記錄層位置至基準面為 止的距離《「雜散光強度，再生光強度」的變化特性按基 準面Ref的反射率與標記反射率的各反射率比進行計算之 結果之圖。 圖12(a)_(C)係顯示在圖11之計算時作為前提之基準面、 物鏡射出面（回光側）及受光面的各強度分佈圖案之圖。 圖13係肖以說明關於在來自&下資訊記錄層位置的反射 光之球面與來自基準面的反射光之球面上產生差值之圖。 圖14係作為於塊體層側形成引導槽之變形例之光記錄媒 體的剖面構造圖。 圖15(&)-(匀係用以說明關於作為變形例之光記錄媒體的 製造方法之圖。 圖16係作為省略覆蓋層之變形例之光記錄媒體的剖面構 造圖。 圖17係作為採用貼合構造之變形例之光記錄媒體的剖面 構造圖。 圖18係作為具有複數個半透明記錄膜且可進行多層狀記 錄之變形例之光記錄媒體的剖面構造圖。 圖19係用以說明關於塊體記錄方式之圖。 圖20係例示具備基準面之實際的塊體型記錄媒體之剖面 構造之圖。 圖21係用以說明關於對於塊體型記錄媒體之標記的記錄/ 157454.doc -52- 201220307 再生手法之圖。 【主要元件符號說明】 1 、 40 、 45 、 50 塊體型記錄媒體 2 覆蓋層 3 ' 3' 塊體層 3'm 薄膜狀記錄材料 4 接著層（中間層） 5 反射膜 6 ' 6' 基板 10 記錄再生裝置 11 記錄再生用雷射 12、25 準直透鏡 13、26 偏光分光鏡 14 固定透鏡 15 可動透鏡 16 透鏡驅動部 17 反射鏡 18 ' 27 1M波長板 19 雙色稜鏡 20 物鏡 21 雙軸致動器 22、28 聚光透鏡 23 記錄再生光用受光部 24 伺服用雷射 I57454.doc -53- 201220307 29 伺服光用受光部 32 記錄處理部 33 記錄再生光用矩陣電路 34 再生處理部 35 記錄再生光用伺服電路 36 伺服光用矩陣電路 37 位置資訊檢測部 38 伺服光用伺服電路 39 控制器 55 多層記錄媒體 56 半透明記錄膜 57 中間層 58 記錄層 L 標記形成層位置（資訊記錄層位置） Ref 基準面 157454.doc • 54·