CN102456365A - 光学记录介质及其制造方法以及记录设备 - Google Patents

Abstract

本发明披露了光学记录介质及其制造方法以及记录设备。一种光学记录介质，包括：记录层，其中，通过照射第一光，在深度方向上选择性地执行标记的记录，且标记以多层形式形成；以及反射膜，反射波长与第一光波长不同的第二光，并设置在记录层的下层侧上。

Description

光学记录介质及其制造方法以及记录设备

技术领域

本公开涉及一种具有记录层的光学记录介质以及制造该光学记录介质的方法，其中，在所述光学记录层中深度方向上选择性地执行标记记录并且所述标记以多层形式形成。本公开还涉及一种记录设备，该记录设备在光学记录介质的记录层上执行标记记录。

背景技术

作为通过光学照射对其执行信号记录和再生的光学记录介质，诸如CD(压缩光盘)、DVD(数字多功能光盘)和BD(蓝光盘：注册商标)的所谓的光盘被广泛应用。

对于期望成为当前广泛应用的光学记录介质(诸如CD、DVD和BD)的下一代的光学记录介质，本申请的申请人已经提出了一种所谓的块记录(bulk recording)型(可简单称为块型)光学记录介质，如在日本未审查专利申请公开第2008-135144号和第2008-176902号中所描述的。

这里，例如，如图19所示，块记录是一种顺序改变在至少具有覆盖层101和块层(记录层)102的光学记录介质(块型记录介质100)中的聚焦位置的同时执行激光照射而在块层102中执行多层记录从而实现记录容量提高的技术。

对于这样的块记录，上面提到的日本未审查专利申请公开第2008-135144号公开了一种称为微全息(micro-hologram)方法的记录技术。在该微全息方法中，将所谓的全息记录材料用作块层102的记录材料。作为全息记录材料，例如，受光聚合的聚合物(photopolymerized polymer)等是众所周知的。

微全息方法大致分为正型微全息方法和负型微全息方法。正型微全息方法是通过在同一位置会聚两个相对光束(束A和束B)而形成细干涉条纹(全息图)并使该条纹用作记录标记的技术。负型微全息方法基于与正型微全息方法相反的思想，并且为利用激光照射擦除预形成的干涉条纹并使擦除的部分用作记录标记的技术。在该负型微全息方法中，需要提供预先在块层中形成干涉条纹的处理作为初始化处理。

例如，作为与微全息方法不同的块记录技术，如在日本未审查专利申请公开第2008-176902号中所公开的，申请人还提出了形成孔隙(孔洞)作为记录标记的记录技术。孔隙记录方法是通过将例如由受光聚合的聚合物、树脂等制成的块层102经受具有相对高功率的激光照射而在块层102中记录孔洞的技术。如日本未审查专利申请公开第2008-176902号中所描述的，以这种方式形成孔洞的部分为折射率不同于块层102中的其他部分折射率的部分，且它们之间边界处光的反射率增加。因此，孔洞部分用作记录标记，这通过形成孔洞标记实现了信息记录。

在这样的孔隙记录方法中，没有形成全息图，因此可以仅通过从一侧执行光学照射来完成记录。换句话说，与正型微全息方法不同，可以不通过在同一位置会聚两个光束来形成记录标记。而且，与负型微全息方法相比，存在的优势在于，可以去除初始化处理。应该注意的是，日本未审查专利申请公开第2008-176902号描述了这样的实例，其中，在进行孔隙记录时，执行记录前的预固化的光照射，但即使省略预固化的光照射，也可以进行孔隙记录。

顺便地，尽管已经提出上述各种记录技术用于块记录型(也可简单称为块型)的光学记录介质，但例如就形成多于一个的反射膜的意义而言，这样的块型光学记录介质的记录层(块层)不具有明显的多层结构。换句话说，在块层102中，没有设置如普通多层光盘中的每个记录层的反射膜以及引导凹槽(guiding groove)。因此，当保持如图19所示的块型记录介质100的结构时，在其中没有形成标记的记录时可以不执行聚焦伺服和跟踪伺服。

因此，实际上，块型记录介质100设置有反射表面(基准面)，该反射表面具有位置引导元件并作为基准，如图20所示。具体地，通过在覆盖层101的下表面侧形成凹坑或凹槽来形成螺旋的或同心的位置引导元件(即，在该情况下的引导凹槽)，在其上形成选择性反射膜103。随后，在形成有选择性反射膜103的覆盖层101的下侧上，例如，经由图中用作中间层104的粘合材料(诸如UV固化树脂)层叠块层102。这里，通过利用上述凹坑或凹槽形成位置引导元件(引导凹槽)，记录诸如半径位置信息和旋转角信息的绝对位置信息(地址信息)。下面，将形成引导凹槽并记录绝对位置信息的表面(在这种情况下为形成有选择性反射膜103的表面)称为“基准面Ref”。

此外，基于上述介质结构，除了标记记录(或再生)激光束(以下也可称为记录/再生激光束，或简称为记录/再生光)之外，利用用作位置控制的激光束的伺服激光束(也可简称为伺服光)照射块型记录介质100，如图21所示。如图所示，这些记录/再生激光束和伺服激光束通过共用物镜施加至块型记录介质100。

此时，作为上述伺服激光束，使用与记录/再生激光束不同的波长范围内的激光束。这是为了利用各波长之差，独立地检测来自基准面Ref的伺服激光束的反射光和来自记录标记的记录/再生激光束的反射光。为了支持该目的，作为形成在基准面Ref上的反射膜，使用具有反射伺服激光束而同时允许记录/再生激光束穿过其中的波长选择性的选择性反射膜103。

基于上述前提，将参考图21描述块型记录介质100中标记记录时的操作。首先，在对没有形成引导凹槽和反射膜的块层102执行多层记录时，预先确定块层102的深度方向的哪个位置将是用于记录标记的层位置。图21示出这样的情况，作为要在块层102中记录标记的层位置(标记形成层位置，也可称作信息记录层位置)，总共设置了五个信息记录层位置L，即，第一信息记录层位置L1至第五信息记录层位置L5。如图21所示，第一信息记录层位置L1设置为与形成有引导凹槽的选择性反射膜103(基准面Ref)在聚焦方向上(在深度方向上)相距第一偏移-L1的位置。此外，第二、第三、第四和第五信息记录层位置L2、L3、L4和L5分别设置为与基准面Ref相距第二偏移-L2、第三偏移-L3、第四偏移-L4和第五偏移-L5的位置。这里应该注意的是，为了便于示出，有五个信息记录位置L，但实际上，几十(例如20)个信息记录层位置L以约10μm的间隔设置。

在没有形成标记的记录过程中，很难基于记录/再生激光束的反射光执行对于块层102中每层位置的聚焦伺服和跟踪伺服。因此，通过使伺服激光束的斑点位置跟随基准面Ref中的引导凹槽，基于伺服激光束的反射光执行记录时物镜的聚焦伺服控制和跟踪伺服控制。

然而，要求记录/再生激光束到达形成在基准面Ref的下层侧上的块层102以用于标记记录。为此，这种情况下的光学系统除了设置有物镜的聚焦机构之外，还设置有记录/再生光聚焦机构以独立地调节记录/再生激光束的聚焦位置。具体地，作为这样的聚焦机构，设置了改变入射至物镜上的记录/再生激光束准直的扩束器(expander)。换句话说，该聚焦机构由此改变入射至物镜上的记录/再生激光束的准直，从而独立于伺服激光束调节记录/再生激光束的聚焦位置。

这样的聚焦机构使得能够进行调节以使得记录/再生激光束的聚焦位置与块层102中要求的信息记录层位置L一致，而同时基于来自上述基准面Ref的伺服激光束的反射光来执行物镜的聚焦伺服控制。应该注意的是，证实通过基于来自基准面Ref的伺服激光束的反射光执行物镜的跟踪伺服控制，在跟踪方向上的记录/再生激光束的位置被控制在预定位置(正好在基准面Ref中形成的引导凹槽的下方的位置)。

进一步，当为其中已经执行了标记记录的块型记录介质100执行再生时，可不必基于伺服激光束的反射光控制物镜的位置，这与执行记录时不同。换句话说，再生时，通过将形成在用于再生的信息记录层位置L(也可以称作再生时的信息记录层L)中的记录串(mark train)作为目标，可以基于记录/再生激光束的反射光执行物镜的聚焦伺服和跟踪伺服。

这里，如图20和21所示，现有块型记录介质100是其中覆盖层101、基准面Ref(选择性反射膜103)和块层102从光入射平面侧依次设置的介质。换句话说，为执行位置控制获得伺服激光束反射光的基准面Ref(反射表面)形成在块层102的上层侧上。

此时，就在块层102中记录和再生方面考虑标记的特性，期望记录/再生激光束无损耗地进入块层102。例如，当具体采用上述孔隙记录方法时，期望相对大激光功率来在块层102中记录标记，且记录在块层102中的标记反射率小，因此选择性反射膜103的用于记录/再生激光束的透射因子很重要，且近似全透射是理想的。因此，当前将具有优良波长选择性的介电多层膜用作选择性反射膜103。

发明内容

在如上所述的现有块型记录介质100中，将具有优良波长选择性的介电多层膜用作选择性反射膜103，以使得记录/再生激光束通过并近似100％地到达块层102。然而，在当前情况下，介电多层膜非常昂贵，导致了产品成本的增加，这是所不期望的。而且，在使用介电多层膜的情况下，很难适当控制每个介电膜的膜厚从而获得理想的特性，导致产率降低从而导致成本增加，这也是所不期望的。

期望使得记录/再生激光束几乎无损耗地到达块层，而同时抑制块型光学记录介质的产品成本的增加。

根据本发明的实施方式，提供了如下的光学记录介质。该光学记录介质包括：记录层，其中，通过照射第一光在深度方向上选择性地执行标记记录，标记以多层形式形成；以及反射膜，反射波长与第一光波长不同的第二光，并设置在记录层下层侧上。

此外，根据本发明的另一个实施方式，提供了制造光学记录介质的下述方法。该方法包括：在记录层的下层侧上形成反射膜，在所述记录层中，通过照射第一光，在深度方向上选择性地执行标记的记录，且标记以多层形式形成。反射膜反射波长与第一光波长不同的第二光。

此外，根据本发明的另一个实施方式，提供了下述的记录设备。该记录设备在光学记录介质中执行记录。光学记录介质包括：记录层，其中，通过照射第一光在深度方向上选择性地执行标记的记录，且标记以多层形式形成；以及反射膜，反射波长与第一光波长不同的第二光，并设置在记录层的下层侧上。所述记录设备包括，物镜，第一光和第二光入射在该物镜上并且该物镜以第一光和第二光照射光学记录介质。所述记录设备进一步包括在聚焦方向上驱动物镜的物镜聚焦机构。记录设备进一步包括聚焦位置独立调节机构，改变入射到物镜上的第一光的准直状态，从而独立于第二光的聚焦位置改变第一光的聚焦位置。记录设备进一步包括聚焦伺服控制部，基于通过接收来自反射膜的第二光的反射光而获得的聚焦误差信号来驱动物镜聚焦机构，从而对物镜执行聚焦伺服控制以将第二光聚焦在记录层的下层侧上形成的反射膜上。记录设备进一步包括控制部，控制聚焦位置独立调节机构以将第一光的聚焦位置调节至位于反射膜的上层侧上的记录层中的记录目标位置，并执行控制以通过第一光执行标记记录。

如上所述，通过在记录层(块层)的下层侧上设置反射第二光(伺服光)的反射膜，可以几乎无损耗地用第一光(记录/再生光)照射记录层。同时，通过采用上述反射膜设置在记录层下层侧上的结构，反射膜可不必保持第一光的透射因子近似100％。因此，可以不用过去使用的介电多层膜，而是例如采用为由金属材料(包括合金材料)制成的单层结构的低成本的反射膜。应该注意的是，证实了第一光在标记再生时聚焦在记录层中的目标层位置，即，在第一光达到聚焦之后以第一光照射反射膜。因此，可降低来自反射膜的第一光的反射光对来自标记的第一光的反射光(再生光)的影响。

根据本发明的上述实施方式，在包括其中通过照射第一光在深度方向上选择性执行标记录且标记是以多层形式形成的记录层的光学记录介质中，可以几乎无损耗地用第一光照射记录层，而不用由介电多层膜形成的具有波长选择性的反射膜作为反射波长与第一光波长不同的第二光的反射膜。结果，根据本发明的上述实施方式，可实现几乎无损耗地用第一光照射记录层和光学记录介质产品成本降低之间的兼容。

此外，根据本发明的上述实施方式的方法，可以制造产生这样优异效果的本发明上述实施方式的光学记录介质。此外，根据本发明上述实施方式的记录设备，可以通过支持本发明的上述实施方式的光学记录介质来执行标记记录。

应该理解的是，前面的概述和下面的详细描述都是示例性的，且意在提供所要求的技术的进一步说明。

附图说明

附图被包括以提供对本公开的进一步理解，并结合在说明书中并作为说明书的一部分。附图示出了实施方式，并与说明书一起用来说明技术原理。

图1是根据实施方式的光学记录介质的截面结构图。

图2是说明用于实施方式的光学记录介质的位置控制技术的示图。

图3示出相对于由包含银作为主要成分的材料形成的反射膜(和包含铝作为主要成分的反射膜)的膜厚(nm)的每个波长的反射率的变化特性的示图。

图4示出相对于由包含铜作为主要成分的材料形成的反射膜的膜厚(nm)的每个波长的反射率的变化特性。

图5示出相对于由包含金作为主要成分的材料形成的反射膜的膜厚(nm)的每个波长的反射率的变化特性。

图6示出相对于由合金形成的反射膜的膜厚(nm)的每个波长的反射率的变化特性。

图7A至图7D是用于说明制造根据实施方式的光学记录介质的方法的示图。

图8为主要示出设置在根据实施方式的记录设备中的光学系统的配置的示图。

图9是根据实施方式的整个记录设备的内部配置的框图。

图10示出这样一种状态，其中，经由物镜施加记录/再生激光束以聚焦在最下信息记录层位置上，且从块型记录介质获得的记录/再生激光束的反射光作为结果被引导至光接收部。

图11示出对于基准面Ref的反射率和标记的反射率之间的每个反射率比，相对于从最下信息记录层至基准面的距离的“杂散光强度/再生光强度”的变化特性的计算结果。

图12A至图12C为分别示出基准面、物镜出射表面(返回光侧)和光接收表面上强度分布图案的示图，它们是图11中计算的前提。

图13是用来说明来自最下信息记录层位置的反射光的球面和来自基准面的反射光的球面之间差异出现的示图。

图14是根据其中引导凹槽形成在块层侧上的变形例的光学记录介质的截面结构图。

图15A至图15E是用于说明制造变形例的光学记录介质的方法的示图。

图16是根据其中省略了覆盖层的变形例的光学记录介质的截面结构图。

图17是根据其中采用粘合结构的变形例的光学记录介质的截面结构图。

图18是根据其中设置了多于一个半透明记录膜并允许多层记录的变形例的光学记录介质的截面结构图。

图19是用于说明块记录方法的示图。

图20是作为实例示出了实际上设置有基准面的块型记录介质的截面结构的示图。

图21是说明用于块型记录介质的标记记录/再生技术的示图。

具体实施方式

下面参考附图详细说明本公开的实施方式。顺便地，以下面的顺序给出描述。

1.实施方式的光学记录介质

1-1.光学记录介质的结构

1-2.反射膜的具体材料

1-3.光学记录介质的制造方法

2.记录设备的配置

2-1.光学系统的配置

2-2.记录设备的整体内部配置

3.从最下信息记录层位置到基准面的距离以及反射比的讨论

4.变形例

(1.实施方式的光学记录介质)

(1-1.光学记录介质的结构)

图1示出是根据本发明实施方式的用作光学记录介质实例的块型记录介质1的截面结构图。这里，块型记录介质是其中执行所谓块记录的光学记录介质。块记录是指这样一种技术，即，通过将激光束发射到块记录层而同时顺序改变聚焦位置来执行多层记录，而无需像普通多层光盘那样采用其中形成有多于一个记录膜的多层结构。

在图1中，假定块型记录介质1为盘状光学记录介质，其以被驱动旋转的方式由激光束照射，从而在块层3中执行标记记录(信息记录)。此外，在记录信息的再生中，块型记录介质1同样以被驱动旋转的方式由激光束照射。应该注意的是，光学记录介质是其中通过光照射记录和再现信息的记录介质的统称。

如图所示，从上层侧依次在块型记录介质1中形成覆盖层2、块层3、粘合层4、反射膜5和基板6。这里，在本说明书中，“上层侧”是指在激光束从设置下述记录设备(记录/再生设备10)的一侧入射在其上的表面用作顶表面时的上层侧。

此外，在本说明书中，使用术语“深度方向”。该“深度方向”指的是与根据“上层侧”的上述定义的垂直方向一致的方向(也就是，与来自记录设备侧的激光束的入射方向平行的方向，即，聚焦方向)。

在块型记录介质1中，覆盖层2例如由树脂形成，并起到用作记录层的块层3的保护层的作用。

块层3形成在覆盖层2的下层侧上。作为形成块层3的材料，例如，根据要采用的块记录的方法(诸如像正型微全息方法或负型微全息方法的微全息方法和孔隙记录方法)，可采用认为是最佳的材料。应该注意的是，在本公开中，用于块层的标记记录方法并不具体限制，可采用的块记录方法类别中的任何方法。下面，将作为实例描述采用孔隙记录方法的情况。当采用孔隙记录方法时，将包含树脂作为主成分的材料用作块层3的记录材料。

反射膜5经由由所需的粘合材料形成的粘合层(中间层)4形成在块层3的下层侧上。在反射膜5中形成了引导记录/再生位置的位置引导元件。位置引导元件形成在反射膜中的事实意味着反射膜形成在形成位置引导元件的界面上。特别地，在这种情况下，凹槽或凹坑串形成在图中基板6的一个表面侧上，从而提供了图中所示的具有波纹形状的截面，而反射膜5形成在具有波纹形状截面的基板6的表面上。结果，由凹槽或凹坑串形成的位置引导元件形成在反射膜5中。通过凹槽或凹坑串，记录了表示在与块型记录介质1的面内记录方向平行的方向上的绝对位置的信息(绝对位置信息：半径位置信息和旋转角信息)。当位置引导元件通过使用凹槽形成时，通过凹槽的蜿蜒(摆动)周期的变化来记录该绝对位置信息，然而，当位置引导元件通过使用凹坑串形成时，通过凹坑长度变化或凹坑形成间隔来记录绝对位置信息。

此外，例如基板6由树脂(诸如聚碳酸酯或丙烯酸)形成。通过利用设置有用来形成位置引导元件的凹凸截面形状的压模的注入成型来形成基板6。

这里，在块层3内，既没有形成位置引导元件也没有形成设置有位置引导元件的反射膜。如随后所述，基于来自形成有位置引导元件的反射膜5的反射光来控制块层3中的记录/再生位置。在这个意义上，形成有位置引导元件的反射膜5(反射表面)被表示为基准面Ref。

顺便地，如在普通块型记录介质100的情况下，在对既没有形成位置引导元件也没有形成反射膜的块层3执行多层记录时，预先确定块层103的深度方向上哪个位置是记录标记的层位置。如图2所示，像图21中的情况，作为块层3中将要形成标记的层位置(标记形成层位置，其也可称为信息记录层位置)，在这种情况下同样设定了总共五个信息记录层位置L，即，第一信息记录层位置L1至第五信息记录层位置L5。在这种情况下，在随后描述的记录/再现设备10中的控制器39中设定关于基准面Ref至每个信息记录层位置L的偏移-L的信息。应该注意的是，这里为了示例方便，也是示出五个信息记录层位置L，但实际上，例如几十个(如20个)信息记录层位置L以约10μm的间隔设定。

此外，如前面说明，在块型光学记录介质中，以用于记录/再生标记的激光束(记录/再生激光束)和就波长而言与记录/再生激光束不同且用来基于基准面Ref中的位置引导元件执行位置控制的激光束(伺服激光束)照射记录层。作为实例，图2示出将在块层3中的信息记录层位置L3作为目标而记录标记时，照射至块型记录介质1的记录/再生激光束和伺服激光束的状态。在记录标记时，如图所示，伺服激光束被施加为在反射膜5(基准面Ref)上聚焦，并基于来自反射膜5的伺服激光束的反射光执行物镜的聚焦/跟踪伺服。随后，在这种状态下，调节记录/再生激光束的聚焦位置从而与所期望的信息记录层位置L一致，且将标记记录在块层3中期望的位置(聚焦方向和跟踪方向上)。如随后所述，通过记录/再生光聚焦机构(包括图8中的固定透镜14、可移动透镜15和透镜驱动部16)执行记录/再生激光束的聚焦位置的调节。

应该注意的是，该实例中，假定记录/再生激光束的波长约为400nm，且伺服激光束的波长约为650nm。

这里，从上面的描述显而易见的是，在本实施方式中，获得记录时用于位置控制的伺服激光束的反射光的反射膜5形成在块层3的下层侧上。因为反射膜5形成在块层3的下层侧上，记录/再生激光束几乎无损耗地照射块层3。此时，当提供反射膜5形成在块层3的下层侧上的结构时，记录/再生激光束穿过其中的记录/再现激光束的反射膜5的透射因子不必如采用现有结构的情况那样近似为100％。因此，反射膜5不必是过去使用的介电多层膜，例如，可以采用由金属材料形成并具有单层结构的相对低廉的反射膜用作反射膜5。这降低了材料自身的成本，并因为不使用介电多层膜而提高了产率，从而实现了成本的降低。以该方式，根据本实施方式，可以降低块型光学记录介质的制造成本，而同时允许记录/再生激光束近似无损耗地照射至块层3。

应该注意的是，证实了在再生块层3中记录的标记时，记录/再生激光束聚焦在块层3中的目标信息记录层位置L上，即，聚焦后的记录/再生激光束被施加至反射膜5。这降低了来自反射膜5的记录/再生激光束的反射光对来自记录标记的记录/再生激光束的反射光(再生光)的影响。

这里，涉及根据上述实施方式的光学记录介质的技术可包括，例如，在日本未审查专利申请公开第2007-102185号和第2007-333766号中所描述的技术。这些日本未审查专利申请公开第2007-102185号和第2007-333766号每个都描述了可用于以页为单位记录全息图(全息图页)的全息记录介质。具体地，日本未审查专利申请公开第2007-102185号描述了具有基于“第一基板5→记录层4→滤波层6→光吸收层9→反射膜2→第二基板1”的结构的全息记录介质。此外，日本未审查专利申请公开第2007-333766号描述了具有基于“透明基板70→全息记录层60→间隙层50→波长选择层40→间隙层30→反射层20→基板10”的结构的全息记录介质。换句话说，它们都采用了其中具有波长选择性的反射层(滤波层6、和波长选择层40)设置在记录层的下层侧上的结构。然而，在日本未审查专利申请公开第2007-102185号和第2007-333766号描述的结构中，滤波层6和波长选择层40中的每个都是用来反射来自全息图的衍射光并将该衍射光作为再生光返回至设备侧所需的层，并被配置为允许伺服光穿过其中。此时，全息图的衍射效率约为1％，且因此滤波层6和波长选择层40中的每个都被配置为几乎完全反射记录光(信息光或基准光)，以获得足够的再生光检测强度(参考日本未审查专利申请公开第2007-102185号中[0005]和[0117]段，日本未审查专利申请公开第2007-333766号中[0023]段，等)。此外，日本未审查专利申请公开第2007-102185号和第2007-333766号每个中的记录介质均为不在记录层中执行多层记录的介质，并且这方面与块型光学记录介质不同。

(1-2.反射膜的具体材料)

下面将描述反射膜5材料的具体实例。首先，作为前提，通过如下方式执行块层3中记录的信息的再生，即，施加记录/再生激光束并在随后描述的记录/再生设备10侧上接收来自所得的记录标记(在本实例中为孔隙)的反射光。

此时，根据上述图1中所示的块型记录介质1的结构，只要通过将块层3中的某个信息记录层位置L作为目标执行再生，记录/再生激光束并不以刚聚焦的状态施加至反射膜5，聚焦之后的光被发射。这降低了来自反射膜5的记录/再生激光束的反射光对用于所记录的标记的再生光的影响。

然而，为了改善再生特性，期望能够抑制来自反射膜的记录/再生激光束的反射光强度。例如，对于来自反射膜5的记录/再生激光束的反射光，可以想到通过信号处理消除其的影响而改善再生特性。然而，这会增加设备侧上处理的负担，例如，可能导致再生速率降低的缺点。从这个意义上，例如，期望能够抑制来自反射膜的记录/再生激光束的反射光强度。

另一方面，仅在考虑抑制记录/再生激光束的反射光强度时，可以通过减小反射膜5的膜厚来降低反射膜5的反射率。然而，当反射膜5的膜厚减小时，伺服激光束的反射光的光强度也变低，这可能会导致用于执行伺服控制的各种误差信号(error signal)的信号质量降低，结果，很难稳定地执行伺服控制。

因此，考虑到这一点来选择反射膜5的构成材料。具体地，选择具有如下特性的材料，即，至少对伺服激光束的反射率比对记录/再生激光束的反射率高(即，在反射率方面具有“伺服激光束＞记录/再生激光束”的波长选择性)。此外，如上所述，记录/再生激光束的反射光的量越小越好，因此，需要考虑这一点来设定反射膜5的膜厚。此时，因为过去使用的介电多层膜具有复杂的结构且由此很昂贵，所以采用甚至具有单层结构的可用的金属材料作为具有这样的波长选择性的材料。

这里，银(Ag)可以作为具有上述波长选择性的金属材料的实例。图3示出相对于由包含银作为主要成分的材料形成的反射膜5的膜厚(nm)的每个波长的反射率变化特性。应该注意的是，图3还示出当反射膜5由包含铝(Al)作为主要成分的材料形成时，相对于膜厚的每个波长的反射率的变化特性，这样的反射膜通常用作光盘的反射膜。在图3中，假设水平轴为膜厚(0nm至60nm)，且假设垂直轴为反射率(0至1)。对于基于银的反射膜5，波长为400nm的激光束的反射率以星号绘出，而波长为650nm的激光束的反射率以实心菱形绘出。此外，对于基于铝的反射膜5，波长为400的激光束的反射率以实心圆绘出，而波长为650nm的激光束的反射率以实心正方形绘出。

首先，对于基于铝的反射膜5，发现即使膜厚变化，波长为400nm(记录/再生激光束)的反射率和波长为650nm(伺服激光束)的反射率之间几乎没有差别。

相对地，在基于银的反射膜5的情况下，发现与采用铝的情况相比，记录/再生激光束的反射率和伺服激光束的反射率之间整个范围内存在差异。这样的波长选择性主要是由于银的光学常数中消光系数k的波长色散(wavelength dispersion)而获得的。在该情况下，特别在约10nm以上的膜厚的范围内，记录/再生激光束的反射率和伺服激光束反射率之间有显著的差别。此时，发现记录/再生激光束的反射率和伺服激光束反射率之间的差在高达约30nm的膜厚范围内有加宽的趋势，而在约30nm以上的膜厚范围内有逐渐收缩的趋势。

从图3显而易见的是，通过提供由包含银作为主要成分的材料形成的反射膜5，可以实现具有上述波长选择性的反射膜。换句话说，可以实现具有这样特性的反射膜，即，至少对伺服激光束的反射率高于对记录/再生激光束的反射率。

这里，当反射膜5的对伺服激光束的反射率为对记录/再生激光束反射率的两倍或更高时，可以假定获得了足够的波长选择性。换句话说，如果反射膜5的对伺服激光束的反射率为Rsv而对记录/再生激光束的反射率为Rrp，这两个反射率的比(下文中表述为反射率比Rrp/Rsv)为0.5以下时，可假定确保了足够的波长选择性。

根据图3，在基于银的反射膜5情况下，当反射膜5的膜厚在约4nm至约20nm的范围内时实现了反射率比Rrp/Rsv≤0.5。应该注意的是，由于膜形成技术的限制或诸如要求确保反射率Rsv为使得伺服稳定的程度的限制，膜厚的下限自然受到限制，考虑到这一点，约20nm以下的膜厚可定义为实现足够的波长选择性的膜厚。

此时，反射膜5的膜厚变成影响记录/再生激光束和伺服激光束之间反射率比Rrp/Rsv的因素，且同时还成为影响反射率绝对大小的因素。这里，当来自反射膜5的记录/再生激光束的反射光的量大时，这增加了杂散光的量，从而引起了再生信号质量降低。当将来自记录的标记的反射光的量假定为Rmk而将作为杂散光的反射光的量假定为Rns时，杂散光的影响可简单地表达为“Rns/Rmk”。对于记录/再生激光束，可以将杂散光的量Rns看作与反射膜5的反射率Rrp成比例，因此，为了抑制杂散光的影响，可使反射率的值Rrp尽可能小，从而与标记的反射率Rmk平衡。

在如本实例中采用孔隙记录方法的情况下，与孔隙标记的反射率Rmk相关，将被假定为几乎不受杂散光影响的反射率Rrp设定为约0.3以下，其被确定为一个基于测试计算的指标(index)。根据图3，显然为了满足反射率Rrp≤0.3的条件，反射膜5的膜厚可以约为20nm以下，如上所述。换句话说，基于上述膜厚约为20nm以下的条件，获得了对反射膜5足够的波长选择性，并获得几乎无杂散光影响的效果。

因此，根据由包含银作为主要成分的材料形成的反射膜5，可以实现具有上述波长选择性的反射膜。此外，通过适当地设定反射膜5的膜厚，几乎没有杂散光的影响而同时确保了足够的波长选择性。此时，还通过考虑伺服激光束的反射光量不期望太小以确保伺服的稳定性来设定膜厚，如上所述。

此外，铜(Cu)可以作为其他金属材料的实例。图4示出相对于由包含铜作为主要成分的材料形成的反射膜5的膜厚(nm)的每个波长的反射率的变化特性。在图4中，假定水平轴为膜厚(0nm至60nm)，而垂直轴为反射率(0至1)。对于基于铜的反射膜5，波长为400nm的激光束的反射率以减号绘出，而波长为650nm的激光束的反射率以十字绘出。

可以发现，与图3中所示的使用铝的情况相比，在基于铜的反射膜5的情况下，记录/再生激光束的反射率Rrp和伺服激光束的反射率Rsv之间的差别同样在整个范围内出现。具体地，可以发现，在该情况下，在膜厚约10nm以上的范围内，对记录/再生激光束的反射率Rrp和对伺服激光束的反射率Rsv之间也出现显著的差别。由于消光系数k的波长色散和折射率n的波长色散而获得了铜的波长选择性。

在铜的情况下应该特别注意的是，反射率Rrp和反射率Rsv之间的差增大的趋势甚至在30nm以上的膜厚时仍得到保持。当膜厚为60nm时，反射率Rrp和反射率Rsv之差约为“0.9至0.4”，且此时反射率比Rrp/Rsv约为0.45。

根据图4，在铜的情况下，为了满足上述反射率比Rrp/Rsv≤0.5的条件，反射膜5的膜厚可设定为约10nm以上。然而，如上所述，当膜厚过大时，反射率Rrp变得太大，使得杂散光的影响也变大。为此，假定上述反射率Rrp≤约0.3的条件也得到满足，则在该情况下要求将反射膜5的膜厚设定为约10nm以上且约30nm以下。

因此提供由包含铜作为主要成分的材料形成的反射膜5也使得能够实现具有上述波长选择性的反射膜。此外，在该情况下，可通过适当地设定反射膜5的膜厚，也可以几乎不产生杂散光影响而同时确保足够的波长选择性。此外，在这种情况下，将膜厚设定为伺服激光束的反射光量不会变的太小的程度。

此外，金(Au)也可作为其他金属材料的实例。图5示出相对于由包含金作为主要成分的材料形成的反射膜5的膜厚(nm)的每个波长的反射率的变化特性。像图3和图4那样，假定水平轴为膜厚(0nm至60nm)，而假定垂直轴为反射率(0至1)。对于基于金的反射膜5，波长为400nm的激光束的反射率以垂直条绘出，而波长为650nm的激光束的反射率以实心三角形绘出。

可以发现，在基于金的反射膜5的情况下，与图3中所示的使用铝的情况相比，对记录/再生激光束的反射率Rrp和对伺服激光束的反射率Rsv之间的差也出现在整个范围内。在金的情况下，在约10nm以上膜厚范围内，反射率Rrp和反射率Rsv之间也出现显著的差别。此外，像铜的情况那样，在该情况下，甚至在30nm以上的膜厚时，反射率Rrp和反射率Rsv之间的差仍具有加宽的趋势。应该注意的是，证实了也是因为消光系数k和折射率n的波长依赖性而获得了金的这样的波长选择性。

根据图5，在金的情况下，为了满足反射率比Rrp/Rsv≤0.5的上述条件，反射膜5的膜厚可以设定为约18nm以上。这里，在金的情况下应该特别注意的是，甚至在膜厚很大时记录/再生激光束的反射率Rrp也不会超过0.3。在这方面，在金的情况下，不必考虑反射率Rrp≤约0.3的上述条件。结果，在金的情况下，为满足这两个条件，所设定的膜厚约为18nm或更大。

以该方式提供基于金的反射膜5使得能够实现具有上述波长选择性的反射膜，而且，通过将反射膜5的膜厚设定为预定值或更大，杂散光几乎不产生影响，同时确保了足够的波长选择性。此外，通过以该方式将膜厚设定为预定值或更大，可以确保伺服激光束的反射光量，并确保伺服的稳定性。

再进一步，可以采用合金作为反射膜5的材料以实现上述波长选择性。图6示出相对于由合金形成的反射膜5的膜厚(nm)的每个波长的反射率的变化特性。在图6中，实心圆和十字绘图表示合金，具体地，表示相对于由银和铜合金形成的反射膜5的膜厚的反射率变化特性。实心圆绘图表示当银和铜之间原子组分比约为58∶42时的反射率变化特性，十字绘图表示当该原子组分比约为18∶82时的反射率变化特性。此外，在该图中，为进行比较，实心正方形绘图表示相对于包含银作为主要成分的反射膜5的膜厚的反射率变化特性，而实心三角形绘图表示相对于包含铜作为主要成分的反射膜5的膜厚的反射率变化特性。如图所示，与实线组合的是对伺服激光束(波长650nm)的反射率变化特性，而与虚线组合的是对记录/再生激光束(波长400nm)的反射率变化特性。

图6中可以发现，在记录/再生激光束和伺服激光束任一者中，银和铜＝58∶42的合金的反射率变化特性(实心圆)近似为主要成分为银的情况下的特性(实心正方形)和主要成分为铜的情况下的特性(实心三角形)之间的中间特性。此外，可以认识到的是，与银和铜＝58∶42的合金的情况下的特性相比，在记录/再生激光束和伺服激光束任一者中，银和铜＝18∶82的合金的反射率变化特性更接近主要成分为铜的特性。考虑到这些方面，显然，则在银和铜合金情况下，银和铜作为主要成分哪个含量高，所获得的反射率变化特性更接近哪种情况下的特性。

在采用银和铜合金的情况下，作为记录/再生激光束和伺服激光束的反射率变化特性，可以获得在银是主要成分情况下的特性和铜是主要成分情况下的特性之间的中间特性(即，银和铜作为主要成分哪个含量高，特性更接近包含哪种情况下的特性)。从这方面可以理解，在银和铜合金的情况下，也可以实现上述波长选择性，并通过调节膜厚充分减少记录/再生激光束的反射光量，因而几乎没有杂散光影响。具体地，在银和铜＝58∶42的合金的情况下，满足反射率比Rrp/Rsv≤0.5且Rrp≤0.3的上述条件的膜厚约为0.6nm以上且约22nm以下。此外，在银和铜＝18∶82的合金情况下，满足这些条件的膜厚为约6nm以上且约24nm以下。应该注意的是，将膜厚设置为伺服激光束的反射光量为不太小的程度。

这里，如上所述，在铜为主要成分的情况下，通过将膜厚设定为约10nm以上来满足反射率比Rrp/Rsv≤0.5的条件。然而，与银为主要成分的情况相比，很难使得反射率比Rrp/Rsv小。另一方面，在银为主要成分的情况下，如上所述，通过将膜厚设定为约20nm以下来满足反射率比Rrp/Rsv的条件，但此时，减少膜厚引起了存储可靠性方面的缺点。

已知银和铜合金具有优良的存储可靠性，并且在可因此减小膜厚的方面是具有优势的。当考虑这一点时，在银和铜合金的情况下，具体地，在银含量为50％以上的情况下，可以实现具有优良存储可靠性而同时保持银的特性(即，能够使反射率比Rrp/Rsv更小的特性)的反射膜5，并在形成膜厚更小的膜情况下带来优势。

(1-3.光学记录介质的生产方法)

图7A至图7D是用于说明块型记录介质1的制造方法的示图。制造块型记录介质1的处理可大致分为基板生成处理(图7A)、反射膜形成处理(图7B)、记录层粘合处理(图7C)以及覆盖层层压处理(图7D)。

首先，在图7A的基板生成处理中，生成其中形成有引导凹槽的基板6。换句话说，存在具有一个设置有凹凸截面形状的表面的生成的基板6，以使得位置引导元件形成在反射膜5中。如前所述，基板6是通过将用作形成材料的树脂用压模注入成型而生成的。

在图7B的反射膜形成处理中，在上述基板生成处理中生成的基板6(其上形成有引导凹槽)的表面上形成反射膜5。换句话说，在本实例的情况下，反射膜5是利用包含银、铜或金中任一种作为主要成分的金属材料或上述合金材料形成的。此时，通过溅射、气相沉积(vapor deposition)等来执行膜形成。

在图7C的记录层粘合处理中，通过使用粘合材料将用作块层3的记录材料粘合至反射膜5上。在该情况下，作为块型层3的记录材料，例如，使用预先处理而具有薄膜形状的材料(膜形记录材料)。如前所述，在本实例的情况下，记录材料包含树脂作为主要成分。上述膜形记录材料被冲压成盘状并利用所要求的粘合材料粘合至反射膜5上。作为粘合材料，例如，使用PSA(压敏粘合剂)。当使用PSA时，将PSA安放在反射膜5上，且在块层3进一步安放在PSA上的状态下执行按压处理，从而反射膜5和块层3彼此粘合。这形成了如图所示的具有层压的块层3、粘合层4、反射膜5和基板6的结构。

应该注意的是，UV固化树脂也可用于块层3的粘合。在该情况下，将UV固化树脂例如通过旋涂等处理涂覆至反射膜5上，然后利用紫外照射施加硬化处理，从而反射膜5和块层3彼此粘合。

在图7D的覆盖层层压处理中，将覆盖层2层压在块层3上。在实例的情况下，将UV固化树脂(例如，UV树脂)用作覆盖层2的材料，因此，这种情况的覆盖层层压处理中，例如通过旋涂等将UV固化树脂涂覆至块层3上，然后利用紫外照射执行硬化处理，从而层压覆盖层2。

通过上述处理完成了图1中所示的块型记录介质1。

(2.记录设备的配置)

(2-1.光学系统的配置)

图8是根据本发明实施方式的主要说明设置在对块型记录介质1执行记录/再生的记录设备中的光学系统的配置的示图。除了用于块型记录介质1的记录功能之外，本实施方式的记录设备还具有再生功能。在这方面，该实施方式的记录设备下面将被称为记录/再生设备10。图8主要示出了设置在记录/再生设备10中的光学拾取装置(optical pickup)OP的内部配置。

在图8中，设定装载至记录/再生设备10的块型记录介质1，使得其中心孔被夹持在记录/再生设备10中的预定位置，并保持在允许被主轴电机(未示出)驱动旋转的状态。光学拾取装置OP被设置为将记录/再生激光束和伺服激光束施加至被上述主轴电机驱动旋转的块型记录介质1。

在光学拾取装置OP中，提供了记录/再生激光器11和伺服激光器24，其中，记录/再生激光器为通过标记执行信息记录且执行由标记记录的信息的再生的记录/再生激光束的光源，伺服激光器为利用基准面Ref上形成的位置引导元件执行位置控制的伺服激光束的光源。这里，如上所述，记录/再生激光束和伺服激光束波长彼此不同。换句话说，在这种情况下，记录/再生激光束的波长约为400nm(所谓的蓝紫激光束)，而伺服激光束的波长约为650nm(红激光束)。

此外，在光学拾取装置OP中，提供了物镜20，其为朝向块型记录介质1的记录/再生激光束和伺服激光束的输出端。此外，提供了接收来自块型记录介质1的记录/再生激光束的反射光的记录/再生光接收部23以及接收来自块型记录介质1的伺服激光束的反射光的伺服光接收部29。

在光学拾取装置OP中，形成了光学系统使得从记录/再生激光器11发出的记录/再生激光束被引导到物镜20，且入射在物镜20上并从块型记录介质1反射的记录/再生激光束的反射光被引导至记录/再生光接收部23。

具体地，经由准直透镜12使从记录/再生激光器11发出的记录/再生激光束变为平行光，然后进入偏振束分光镜13。偏振束分光镜13被配置为允许从记录/再生激光束11侧进入的记录/再生激光束穿过其中。

记录/再生激光束在通过偏振束分光镜13后进入包括固定透镜14、可移动透镜15以及透镜驱动部16的扩束器。该扩束器等同于上述记录/再生光聚焦机构，并被配置为使得固定透镜14设置在更靠近用作光源的记录/再生激光器11的一侧，可移动透镜15设置在远离记录/再生激光器11的一侧，且可移动透镜15在与记录/再生激光束光轴平行的方向上被透镜驱动部16驱动。该记录/再生光聚焦机构使得能够对再生/记录激光束执行独立的聚焦控制。如随后所述，根据对应于目标信息记录层位置L的偏移-L的值，通过图9所示的控制器39来驱动记录/再生光聚焦机构中的透镜驱动部16。

如图所示，通过记录/再生光聚焦机构的固定透镜14和可移动透镜15的记录/再生激光束被反射镜17反射，然后经四分之一波片18进入二向色棱镜19。二向色棱镜19被配置为具有选择性反射表面，其反射处于与记录/再生激光束相同波长范围内的光并允许其他波长的光穿过其中。因此，如上述进入的记录/再生激光束被二向色棱镜19反射。

如图所示，被二向色棱镜19反射的记录/再生激光束经物镜20施加至块型记录介质1。对于物镜20，提供了双轴致动器21，其保持物镜20在聚焦方向(接触/离开块型记录介质1的方向)和跟踪方向(与聚焦方向正交的方向：块型记录介质1的径向)上是可移动的。双轴致动器21包括被分别提供以驱动信号(随后描述的驱动信号FD和TD)从而在聚焦方向和跟踪方向移动物镜20的聚焦线圈和跟踪线圈。

这里，在再生时，响应于如上所述施加至块型记录介质1的记录/再生激光束，从块型记录介质1(记录在块层3中用于作为再生目标的信息记录层L中的标记串)获得记录/再生激光束的反射光。这样获得的记录/再生激光束的反射光经由物镜20被引导至二向色棱镜19，并被二向色棱镜19反射。在通过四分之一波片18→反射镜17→记录/再生光聚焦机构(可移动透镜15→固定透镜14)之后，被二向色棱镜19反射的记录/再生激光束的反射光进入偏振光分束器13。

这里，通过基于四分之一波片18的作用和块型记录介质1反射时的作用，以该方式进入偏振束分光镜13的记录/再生激光束的反射光(返回光)与从记录/再生激光束11侧进入偏振光分束器13的记录/再生激光束(外向光)在偏振方向上相差90度。结果，如上述进入的记录/再生激光束的反射光被偏振光分束器13反射。

这样被偏振光分束器13反射的记录/再生激光束的反射光经由聚光透镜22会聚在记录/再生光接收部23的光接收表面上。

此外，在光学拾取装置OP中，除了记录/再生激光束的光学系统上述配置之外，还形成了将从伺服激光器24发出的伺服激光束引导向物镜20以及将从块型记录介质1进入物镜20的伺服光的反射光引导向伺服光接收部29的光学系统。如图所示，从伺服激光器24发射的伺服激光束经由准直透镜25变成平行光线，并进入偏振光分束器26。偏振光分束器26被配置为允许以这种方式从激光器24侧进入的伺服激光束(外向光)穿过其中。

穿过偏振光分束器26之后的伺服激光束通过四分之一波片27进入二向色棱镜19。如前所述，二向色棱镜19被配置为反射与记录/再生激光束处于相同波长范围的光，并允许其他波长的光穿过。因此，伺服激光束穿过二向色棱镜19并经由物镜20施加至块型记录介质1。

此外，响应于以该方式向块型记录介质1施加伺服激光束而获得的伺服激光束的发射光(来自基准面Ref的反射光)经物镜20穿过二向色棱镜19，并经由四分之一波片27进入偏振光分束器26。以类似于上述记录/再生激光束的情况的方式，通过四分之一波片27的作用和由块型记录介质1反射时的作用，从块型记录介质1侧进入的伺服激光束的反射光(返回光)与外向光在偏振方向上相差90度。因此，作为返回光的伺服激光束的反射光被偏振光分束器26反射。

被偏振光分束器26反射的伺服激光束的反射光经由聚光透镜28会聚在伺服光接收部29的光接收表面上。

应该注意的是，虽然省略了示图，但记录/再生设备10实际上设置有驱动并从而使得上述整个光学拾取装置OP在跟踪方向上滑动的滑动驱动部，且通过滑动驱动部对光学拾取装置OP的驱动使得能够在宽范围内移动激光束的照射位置。

这里，如上所述，在本实施方式的块型记录介质1中，基准面Ref设置在块层3的下层侧上。因此，在记录时，执行物镜的聚焦伺服控制从而将伺服激光束聚焦在设置在块层3的下层侧上的基准面Ref上，同时，通过记录/再生光聚焦机构调节进入物镜20的记录/再生激光束的准直以将记录/再生激光束聚焦在基准面Ref上方的上层侧上的块层3中。

然而，此时，根据光学系统的配置，存在这样的情况，即，即使通过记录/再生光聚焦机构改变记录/再生激光束的准直时，也很难使记录/再生激光束的位置位于基准面Ref上方的上层侧上。具体地，对于普通的块型记录介质100，基准面Ref设置在块层3(102)的上层侧上。因此，在支持这种介质的记录/再生设备中，将设计光学系统使得在如上述记录时的聚焦伺服控制的状态下，也就是，物镜20位于使伺服激光束的聚焦位置与基准面Ref一致的位置的状态下，记录/再生光聚焦机构的可移动透镜15处于中间位置(neutral position)(例如，可移动范围内的中间位置)时记录/再生激光束的聚焦位置位于基准面Ref下面的下层侧上。然而，当使用这样的光学系统配置时，存在这样的可能性，即，对于基准面Ref在块层3的下层侧上的块型记录介质1，记录/再生激光束不能在块层3中的信息记录层位置L上聚焦(因为通过记录/再生光聚焦机构可调节的记录/再生激光束的聚焦位置的范围是有限的)。

因此，在本实施方式的记录/再生设备10中，假定光学系统被设计为使得在记录/再生光聚焦机构的可移动透镜15处于中间位置，且物镜20处于使伺服激光束的聚焦位置与基准面Ref一致的状态下，经由物镜20施加的记录/再生激光束的聚焦位置将位于基准面Ref上方的上层侧上(例如，位于块层3的深度方向上近似中间位置)。这使得能够在基准面Ref上方的上层侧上的块层3中聚焦记录/再生激光束，而不必在记录/再生光聚焦机构中很大程度地移动可移动透镜15的位置(即，无需很大程度地改变记录/再生激光束的准直)。

这里，当由记录/再生光聚焦机构进行的准直状态变化小时，光学放大倍率的变化量也小。因此，抑制了由物镜20的位置变化(在聚焦方向和跟踪方向上)而导致的伺服激光束的聚焦位置和记录/再生激光束的聚焦位置之间的间隙。换句话说，结果，实现了记录/再生激光束的位置控制精度的提高。

(2-2.记录设备的整体内部配置)

图9示出记录/再生设备10的整体内部配置。应该注意的是，在图9中，对于光学拾取装置OP的内部配置，仅提取并示出了图8中所示的配置中的记录/再生激光器11、透镜驱动部16和双轴致动器21。

首先，在图中，记录/再生设备10设置有记录处理部32、记录/再生光矩阵电路33和再生处理部34，作为信号处理系统的一部分以将块层3作为目标执行记录/再生以及执行在所记录的标记再生时的物镜20的聚焦/跟踪控制(即，基于记录/再生激光束反射光的位置控制)。

将要记录在块型记录介质1中的数据(记录数据)输入到记录处理部32中。例如，记录处理部32对输入的记录数据执行误差校正码的应用或预定的记录调制编码，从而获得最终将记录在块型记录介质1中的记录调制数据序列，该序列例如为二进制数据“0”和“1”的序列。记录处理部32根据上述生成的记录调制数据序列生成记录脉冲信号RCP。然后记录处理部32基于记录脉冲信号RCP执行光学拾取装置OP中的记录/再生激光器11的发射驱动。

记录/再生光矩阵电路33包括电流-电压转换电路、矩阵计算/放大电路等，响应于来自一个以上的用作图8所示的记录/再生光接收部23的光接收元件的光接收信号DT-rp(输出电流)，并通过矩阵计算处理生成所需的信号。具体地，记录/再生光矩阵电路33生成等同于再生了上述记录调制数据序列的再生信号的高频信号(以下称为再生信号RF)、用于聚焦伺服控制的聚焦误差信号FE-rp以及用于跟踪伺服控制的跟踪误差信号TE-rp。

将记录/再生光矩阵电路33中生成的再生信号RF提供给再生处理部34。此外，将聚焦误差信号FE-rp和跟踪误差信号TE-rp提供给记录/再生光伺服电路35。

对于再生信号RF，再生处理部34执行再生处理从而恢复上述记录数据，如解码记录调制码和误差校正处理，从而获得再生的数据，记录数据是通过该再生数据再生的。

此外，记录/再生光伺服电路35基于从记录/再生光矩阵电路33提供的聚焦误差信号FE-rp和跟踪误差信号TE-rp，分别生成聚焦伺服信号FS-rp和跟踪伺服信号TS-rp。此外，记录/再生光伺服电路35基于聚焦驱动信号FD-rp和跟踪驱动信号TD-rp(基于聚焦伺服信号FS-rp和跟踪伺服信号TS-rp)驱动双轴致动器21的聚焦线圈和跟踪线圈，从而为记录/再生激光束执行聚焦伺服控制和跟踪伺服控制。如从前面描述中看出，双轴致动器21(物镜20)基于记录/再生激光束反射光的这样的伺服控制在再生时进行。

此外，记录/再生光伺服电路35通过关闭跟踪伺服环并响应于对应再生时从控制器39提供的指令向跟踪线圈给出跳跃脉冲来实现跟踪跳跃操作，并且还在再生时执行跟踪伺服的稳定控制(settling control)等。此外，记录/再生光伺服电路35还在再生时执行聚焦伺服的稳定控制等。

此外，在记录/再生设备10中，设置了伺服光矩阵电路36、位置信息检测部37和伺服光伺服电路38作为伺服激光束反射光的信号处理系统。

伺服光矩阵电路36包括电流-电压转换电路和矩阵计算/放大电路，响应于来自图8中所示的伺服光接收部29中一个以上的光接收元件的光接收信号DT-sv(输出电流)，并通过矩阵计算处理生成所需的信号。具体地，伺服光矩阵电路36生成用于聚焦伺服控制的聚焦误差信号FE-sv和用于跟踪伺服控制的跟踪误差信号TE-sv。此外，伺服光矩阵电路36生成位置信息检测信号Dps以检测记录在基准面Ref中的绝对位置信息。例如，当绝对位置信息通过凹坑串记录时，伺服光矩阵电路36生成和信号(sumsignal)作为位置信息检测信号Dps。可替换地，当绝对位置信息通过摆动槽(wobbling groove)记录时，伺服光矩阵电路36生成推挽信号作为位置信息检测信号Dps。

将位置信息检测信号Dps提供给位置-信息检测部37。位置信息检测部37基于位置信息检测信号Dps检测记录在基准面Ref中的绝对位置信息。将检测的绝对位置信息提供给控制器39。

将伺服-光矩阵电路36中生成的聚焦误差信号FE-sv和跟踪误差信号Te-sv提供给伺服光伺服电路38。伺服光伺服电路38基于这些聚焦误差信号FE-sv和跟踪误差信号TE-sv分别生成聚焦伺服信号Fs-sv和跟踪伺服信号TS-sv。随后，在记录时，响应于来自控制器39的指令，伺服光伺服电路38基于聚焦驱动信号FD-sv和跟踪驱动信号TD-sv(基于聚焦伺服信号FS-sv和跟踪伺服信号TS-sv生成)驱动双轴致动器21的聚焦线圈和跟踪线圈，从而实现用于伺服激光束的聚焦伺服控制和跟踪伺服控制。

此外，伺服光伺服电路38通过关闭跟踪伺服环并响应于对应记录时从控制器39提供的指令向跟踪线圈给出跳跃脉冲来实现跟踪跳跃操作，并且还相对基准面Ref执行聚焦伺服的稳定控制等。

例如，控制器39通过使用具有存储器(存储设备)(如CPU(中央处理单元)、ROM(只读存储器)和RAM(随机存取存储器))的微型计算机来配置，并例如根据存储在上述ROM等中的程序通过执行控制和处理来控制整个记录/再生装置10。例如，根据对应于上述每个信息记录层位置L预先设定的偏移-L的值，控制器39执行记录/再生激光束的聚焦位置的控制(设定)。具体地，基于对应于作为记录目标的信息记录层位置L而设定的偏移-L的值，通过驱动光学拾取装置OP中的透镜驱动部16，控制器39在深度方向上选择记录位置。

此外，控制器39还执行控制以实现在前述记录/再生时物镜20的伺服控制切换。具体地，在记录时，控制器39指示伺服光伺服电路38输出聚焦驱动信号FD-sv和跟踪驱动信号TD-sv，并且还指示记录/再生光伺服电路35停止输出聚焦驱动信号FD-rp和跟踪驱动信号TD-rp。此外，在记录时，控制器39向记录处理部提供指令，从而使得基于记录数据执行标记记录。

另一方面，再生时，控制器39指示记录/再生光伺服电路35输出聚焦驱动信号FD-rp和跟踪驱动信号TD-rp，并且还指示伺服-光伺服电路38停止输出聚焦驱动信号FD-sv和跟踪驱动信号TD-sv。

控制器39还为伺服光伺服电路38执行寻找操作控制。换句话说，控制器39指示伺服光伺服电路38将伺服激光束的光斑位置移动到基准面Ref上的预定目标地址。

根据上述配置的记录/再生设备10，可以在块层3的预定位置中记录标记(在聚焦方向和跟踪方向上)，同时支持块型记录介质1，其中反射膜5(基准面Ref)形成在块层3的下层侧上。

(3.从最下信息记录层位置到基准面的距离以及反射比的讨论)

图10示出这样的状态，其中，记录/再生激光束经由物镜20施加以在块型记录介质1的最下层侧中设定的信息记录层位置L(以下称为最下信息记录层位置Lmb)上聚焦，且根据照射而从块型记录介质1获得的记录/再生激光束的反射光被引导至光接收部(记录/再生光接收部23)。应该注意的是，图10以放大方式示出了其中最下信息记录层位置Lmb经由物镜20以记录/再生激光束照射的部分。此外，在图10中，通过省略物镜20和偏振光分束器13之间的各部件(例如，二向色棱镜19、记录/再生光聚焦机构等)、记录/再生激光器11以及准直透镜12示出了记录/再生激光束的光学系统。

在再生时，当记录再生/激光束被照射而聚焦在信息记录层位置L上以再生记录在所要求的信息记录层位置L中的信息时，来自基准面Ref的反射光与来自标记的反射光一起获得。从图中明显看出，在聚焦在信息记录层位置L上之后，此时来自基准面Ref的反射光变成为以漫射光状态施加的光的反射光。

来自基准面Ref的记录/再生激光束的这样的反射光与来自标记的反射光(也就是再生光)一起被记录/再生光接收部23接收。换句话说，来自基准面Ref的反射光将成为再生光的噪声光。下面，来自基准面Ref的记录/再生激光束的这样的反射光也将被称为杂散光。

此时，当从为作为再生目标的信息记录层位置L到基准面Ref的距离最小时，来自基准面Ref的杂散光的强度最大。换句话说，在最下信息记录层位置Lmb的再生时，噪声叠加量最大。从这方面显然还可以看出，当考虑杂散光的噪声影响时，从最下信息记录层位置Lmb到基准面Ref的距离(以下表示为距离d)是重要的因素。

此外，自然，杂散光的强度还根据对于记录/再生激光束的基准面Ref的反射率(与上述反射率Rrp同义：以下还表示为反射率Rrr)而改变。因此，为了抑制杂散光强度并抑制噪声叠加的影响，期望反射率Rrr小。

同时，噪声的影响与再生光强度相关，因此，自然，当考虑噪声的影响时，还需要考虑标记的反射率(以下还表示为反射率Rmr)。

以这种方式，当考虑由杂散光而导致的噪声的影响时，距离d、基准面Ref的反射率Rrr和标记的反射率Rmr都是重要的因素。

这里，在评估由杂散光而导致的噪声的影响时，假定“杂散光强度/再生光强度”为SNR相关性的评估指标。在块型记录介质1中，形成在基准面Ref上的图案以相对低的频率改变，从而杂散光叠加在来自块层3的再生信号上作为DC补偿。因此可以将“杂散光强度/再生光强度”作为SNR相关性的评估指标，如上所述。基于该前提，对于系统中可接受的噪声/再生光强度比，假定“杂散光强度/再生光强度≤α”。在该情况下，可设定基准面Ref的反射率Rrr、标记的反射率Rmr以及距离d从而满足“杂散光强度/再生光强度≤α”的条件。

图11示出相对于从最下信息记录层位置Lmb至基准面Ref的距离d，基准面Ref的反射率Rrr和标记的反射率Rmr之间的每个反射率比，“杂散光强度/再生光强度”的变化特性的计算结果。具体地，图11示出相对于距离d，基准面Ref的反射率Rrr和标记的反射率Rmr之间的每个反射率比(Ref反射率/标记反射率＝25、50、100、150)，“杂散光强度/再生光强度”变化特性的计算结果，假定垂直轴为“杂散光强度/再生光强度”，而水平轴为d(1至10μm)。Ref反射率/标记反射率＝25的计算结果以十字示出，Ref反射率/标记反射率＝50的计算结果以实心三角形示出，Ref反射率/标记反射率＝100的计算结果以实心正方形示出，而Ref反射率/标记反射率＝150的计算结果以实心菱形示出。

应该注意的是，在获得图11所示的计算结果的过程中，作为基准面Ref的图案(位置引导元件的图案)，设定如图12A所示重复凹槽和台阶(land)的图案(强度分布图案)。此外，计算是以下面的假定执行的，即假定来自最下信息记录层位置Lmb的反射光的球表面和来自基准面Ref的反射光的球表面之间出现差别，诸如图13中所示的聚焦时基准球表面SR1和散焦时基准球表面SR2之间的差别。此外，基于该前提，计算是以下面的假定执行的，即假定对于来自块型记录介质1的记录/再生激光束的反射光(包括来自基准面Ref的反射光)，从物镜20向外的表面上的强度分布图案如图12B中所示，而对于记录/再生激光束的反射光，在记录/再生光接收部23的光接收表面上的强度分布图案如图12C所示。应该注意的是，计算是以下面的假定进行的，即假定记录/再生激光束的波长λ为400nm，且物镜20的数值孔径NA为0.85。

基于图11中的计算结果，可以在设计上获得距离d和Ref反射率/标记反射率之间的优选关系。例如，可以发现，在上述“杂散光强度/再生光强度”的可接受值被假定为α＝1的情况下，如果Ref反射率/标记反射率为50，则距离d可以约为10μm以上。可选地，可以发现，在相同条件α＝1下，Ref反射率/标记反射率被假定为100、150等的情况下，距离d需要更大。应该注意的是，证实了Ref反射率(反射率Rrr)由反射膜5的材料、膜厚等确定。此外，标记反射率(反射率Rmr)例如由所选的块层3的材料(记录材料)类型确定。

(4.变形例)

至此，已经描述了本技术的实施方式，但本技术并不限于上述具体例子。例如，上面作为实例已经描述了引导凹槽形成在基板6的顶表面上的情况，但如同图14中所示的块型记录介质40，可以采用引导凹槽形成在块层底面侧上的结构。应该注意的是，将其中形成引导凹槽的块层表示为块层3’。在这种情况下，作为基板6，通过支撑在块层侧上形成上述引导凹槽(和反射膜5)，使用顶表面侧也形成为平坦的基板(以下表示为基板6’)。

图15A至图15E是用于说明制造图14中所示的块型记录介质40的方法的示图。在图15A至图15E中，在制造块型记录介质40时，首先，制备膜状记录材料3’作为块层3’的材料(图15A)。换句话说，制备通过冲压而形成为盘状的膜状记录材料。

其后，在膜状记录介质3’m中形成引导凹槽，从而完成块层3’(图15B)。使用所谓的纳米印刷技术来执行在膜状记录材料3’m中引导凹槽的形成。具体地，通过诸如热转移印刷(heat transfer printing)的技术来执行引导凹槽的形成。

此外，在以该方式形成的块层3’上，形成反射膜5(图15C)。换句话说，在形成引导凹槽的块层3’侧的表面上，形成由基于银、铜或金的金属材料形成的膜。

在反射膜5形成后，反射膜5和基板6’通过由诸如PSA和UV可固化树脂制成的粘合层4彼此粘合(图15D)。进一步，覆盖层2层压在块层3’的顶面侧上(图15E)。这完成了图14所示的块型记录介质40。

这里，在上面提供的描述中，已经将其中覆盖层2形成在块层3(或块层3’)的上层侧上的结构作为实例。然而，作为根据本发明实施方式的光学记录介质，可以采用其中省略覆盖层2的结构，例如，像图16中所示的块型记录介质45那样。在这种情况下，块层3(或块层3’)中的上层部分(最上信息记录层位置L上的上层侧上的部分)用作覆盖层。

可选地，根据本发明实施方式的光学记录介质可具有这样的结构，其中两个层单元彼此粘合，像图17中所示的块型记录介质50那样。具体地，该块型记录介质50具有这样的结构，其中，均具有“覆盖层2、块层3、图案转移中间层51和反射膜5”两个层单元彼此粘合，而同时反射膜被彼此面对地定向。这里，可以通过使施加在块层3上的UV固化树脂在形成上述引导凹槽的压模按压UV固化树脂的状态下经受基于紫外照射的硬化处理，来形成图案转移中间层51。

应该注意的，具有图14所示的块层3’的光学记录介质也可以具有类似粘合结构。换句话说，在那样的情况下，均具有“覆盖层2、块层3’和反射膜5”的层单元通过粘合层4彼此粘合，而反射膜5被彼此面对地定向。

顺便地，不用说，在采用粘合结构的情况下可以省略覆盖层2。

此外，在上面提供的描述中，已经将根据本发明实施方式的光学记录介质为所谓的块型光学记录介质的情况作为实例。然而，作为根据本发明实施方式的光学记录介质，例如可以采用具有记录层58的多层记录介质55，该记录层58设置有多于一个的半透明记录膜56，如图18所示。在图18中，覆盖层2、粘合层4、反射膜5和基板6类似于块型记录介质1，因此省略其描述。与用作块层3的块型记录层不同，多层记录介质55的记录层58具有多层结构，其中，形成了其间插有中间层57的两个或更多半透明记录膜56。具体地，重复层压半透明记录膜56→中间层57→半透明记录膜56→中间层57...。然而，这里应该注意的是，伴随凹槽、凹坑串等形成的位置引导元件没有形成在半透明记录膜56中。换句话说，在该多层记录介质55中，仅为用作基准面Ref的一个层位置形成位置引导元件。这样的结构使得能够省略像块型光学记录介质情况那样的为每层形成位置引导元件的处理，因此在通过该省略降低制造记录介质成本方面具有优势。

这里，在图18所示的多层记录介质55中，形成了半透明记录膜56，因此在记录时也可以获得记录/再生激光束的反射光。因此，在这种情况下，通过基于记录/再生激光束的反射光驱动物镜20来执行记录时的记录/再生激光束的聚焦伺服控制，从而实现了在作为记录目标的半透明记录膜56上的聚焦。另一方面，同样在这种情况下，记录时的记录/再生激光束的跟踪伺服控制是利用伺服激光束执行的。换句话说，同样在这种情况下，基于来自基准面Ref的伺服激光束的反射光通过驱动物镜20执行记录时的跟踪伺服控制，从而使得伺服激光束的聚焦位置跟随基准面Ref的引导凹槽。

此外，在再生时，同样在这种情况下，可以基于已经记录的标记串执行记录/再生激光束的跟踪伺服控制。此外，从上面描述还可以知道，在再生时，也可以利用来自目标半透明记录膜56(信息记录层L)的反射光执行记录/再生激光束的聚焦伺服控制。换句话说，在该情况下，利用类似于块型光学记录介质的技术来执行再生时的伺服控制。

这里，即使在采用图18中多层记录介质55时，像块型光学记录介质那样，多层记录介质55仍是其中标记的记录选择性地在深度方向上执行的介质，，并具有其中标记以多层形式形成的记录层。

此外，在上面提供的描述中，已经将记录/再生激光束的波长约为400nm且伺服激光束的波长约为650nm的情况作为实例。然而，这些光束的波长不限于该实例中的数值。

此外，在上面提供的说明中，以这样的情况作为实例，其中，在记录/再生设备10中，光学系统被设计为使得在记录/再生光聚焦机构的可移动透镜15位于中间位置且物镜20处于允许伺服激光束的聚焦位置与基准面Ref一致的状态下，经由物镜20施加的记录/再生激光束的聚焦位置位于基准面Ref上的上层侧上(例如，近似位于记录层的深度方向上的中部)。然而，根据本发明实施方式的记录设备可以被配置为使得至少伺服激光束(第二光)可聚焦在记录层下层侧上形成的反射膜(反射膜5)上，且在这种状态下，记录/再生激光束(第一光)可以聚焦在形成反射膜上层侧上的记录层上。

而且，在上面提供的描述中，已经将其中形成在基准面(反射膜)中的位置引导元件是由凹坑或凹槽形成的引导凹槽的情况作为实例。然而，基准面中的位置引导元件可通过标记记录形成。在该情况下，可去除形成引导凹槽的处理，取代地，可加入能够在反射膜5的顶面侧上进行标记记录并在其中记录标记的在反射膜中形成标记的处理或形成记录材料的处理。

此外，在上面提供的描述中，已经将根据本发明实施方式的记录设备应用于在对光学记录介质执行记录和再生的光学记录设备的情况作为实例。然而，本技术可适当地应用于仅允许在光学记录介质(记录层)中进行记录的只记录设备(记录设备)中。

本申请包含2010年10月19日向日本专利局提交的日本在先专利申请JP 2010-234656中公开的主题，其全部内容结合于此作为参考。

本领域技术人员应该理解的是，根据设计要求和其他因素，可进行各种修改、组合、子组合和变形，它们均在所附权利要求或其等同替换的范围内。

Claims (15)

1.一种光学记录介质，包括：

记录层，其中，通过照射第一光，在深度方向上选择性地执行标记的记录，且所述标记以多层形式形成；以及

反射膜，反射波长与所述第一光的波长不同的第二光，并设置在所述记录层的下层侧上。

2.根据权利要求1所述的光学记录介质，其中，位置引导元件形成在在所述反射膜中。

3.根据权利要求2所述的光学记录介质，其中，所述反射膜由包含金属作为主要成分的材料制成。

4.根据权利要求3所述的光学记录介质，其中，所述反射膜被配置为对所述第一光的反射率比对所述第二光的反射率小。

5.根据权利要求3所述的光学记录介质，其中，所述反射膜由包含银(Ag)、铜(Cu)或金(Au)中任一种作为主要成分的材料制成。

6.根据权利要求3所述的光学记录介质，其中，所述反射膜由合金制成。

7.根据权利要求6所述的光学记录介质，其中，所述反射膜由银和铜的合金制成。

8.根据权利要求1所述的光学记录介质，其中，覆盖层形成在所述记录层的上层侧上。

9.根据权利要求1所述的光学记录介质，包括两个层单元，每个层单元都具有所述记录层和所述反射膜，

其中，所述层单元彼此粘合，同时两个层单元中各反射膜被彼此面对地定向以具有粘合结构。

10.根据权利要求2所述的光学记录介质，进一步包括其顶面侧上设置有凹凸截面形状的基板，

其中，所述反射膜形成在所述基板的所述顶面侧上，从而所述位置引导元件形成在所述反射膜中。

11.根据权利要求2所述的光学记录介质，其中，在所述记录层的底面侧上设置凹凸截面形状，且通过在所述记录层的底面侧上形成反射膜，在所述反射膜中形成所述位置引导元件。

12.一种光学记录介质的制造方法，所述方法包括在记录层的下层侧上形成反射膜，在所述记录层中，通过照射第一光，在深度方向上选择性地执行标记的记录，且所述标记以多层形式形成，所述反射膜反射波长与所述第一光的波长不同的第二光。

13.根据权利要求12所述的方法，进一步包括：

生成基板，所述基板在其顶面侧上设置有用作引导凹槽的凹凸截面形状；

在所述基板的所述顶面侧上形成所述反射膜；以及

将所述反射膜和所述记录层彼此粘合。

14.根据权利要求12所述的方法，进一步包括：

生成所述记录层，所述记录层在其底面侧上设置有用作引导凹槽的凹凸截面形状；

在所述记录层的所述底面侧上形成所述反射膜；以及

将所述反射膜和基板彼此粘合。

15.一种在光学记录介质中执行记录的记录设备，所述光学记录介质包括记录层和反射膜，在所述记录层中，通过照射第一光，在深度方向上选择性地执行标记的记录，且所述标记以多层形式形成，所述反射膜反射波长与所述第一光的波长不同的第二光，并设置在所述记录层的下层侧上，所述记录设备包括：

物镜，所述第一光和所述第二光入射在所述物镜上，且所述物镜以所述第一光和所述第二光照射所述光学记录介质；

物镜聚焦机构，在聚焦方向上驱动所述物镜；

聚焦位置独立调节机构，改变入射在所述物镜上的所述第一光的准直状态，从而独立于所述第二光的聚焦位置来改变所述第一光的聚焦位置；

聚焦伺服控制部，基于通过接收来自所述反射膜的对所述第二光的反射光而获得的聚焦误差信号来驱动所述物镜聚焦机构，从而对所述物镜执行聚焦伺服控制，以将所述第二光聚焦在所述记录层下层侧上形成的所述反射膜上；以及

控制部，控制所述聚焦位置独立调节机构以将所述第一光的聚焦位置调节至位于形成在所述反射膜的上层侧上的所述记录层中的记录目标层位置，并执行控制以通过所述第一光执行标记记录。

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