TW201204845A - Processing apparatus for smoothing film material and evaporation deposition device with same - Google Patents

Description

201204845 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 [0001] 本發明涉及一種膜料加工裝置，尤其涉及一種 0又夏於離 及具有 子輔助蒸鍍系統内用於平整膜料的膜料加工裝置 該膜料加工裝置的蒸鍍設備。 【先前技術】 on) 〇n> IAD) 或離子滅锻法（Ion Beam Sputtering Derm。· 4·· IBSD)進行鍍制。 [0002] 光學薄膜一般採用蒸鍍法（Evaporation DepQSit. 、離子輔助蒸鍍法（Ion Assisted depositi i〇n,

[0003] 離子輔助蒸鍵具有獨立的離子源，安農簡單，料K 對原糸統 的影響低’且離子束的範圍大，分佈均勻，擁有良好的 動能，可以較輕易地將膜層壓緊，得到附著力良好的膜 層等優點，其採用程度較高。離子輔助蒸链中，要长膜 料（即蒸鑛把材）表面平整、内部結構緻密，具有争〜好 的潔淨度，並避免存在顆粒狀或纖維释的雜質，以確保 蒸鍍加工過程蒸鍍速率穩定，在鍍膜件上形成品質較佳 的膜層。因此，通常需要先制取供離子輔助蒸鍍加工使 用的表面平整、内部結構緻密的膜料。目前，制取臈料 一般係先將顆粒狀的膜料原料放入蒸鍍腔中的金屬坩堝 内，並採用人工的方式進行平整，然後在真空環境裏利 用尚能電子束進行加熱，使坩堝内的膜料原料受熱完全 熔化，最後冷卻完全熔化的膜料原料，即獲得膜料。 _惟，利用高能電子束制取膜料存在如下缺點：其一，高 能電子束瞬間產生的能量較高，對於雜溫度接近於蒸 099123585 表單編號A0101 第4頁/共25頁 0992041542-0 201204845 發溫度的膜料原料（如二氧化矽）來說，其熔化成液態 的同時也會同時蒸發形成氣態，由此，在冷卻過程中， 就會因蒸發產生的氣體而在膜料的表面形成孔隙，影響 膜料的緻密性，並最終影響蒸鍍加工過程蒸度速率的穩 定性。其二，利用高能電子束加熱高折射率原料（如二 氧化矽）時，通常會產生刺眼的強光，使操作者在觀察 監視膜料的制取過程中易使眼睛受到傷害。其三，利用 高能電子束定點加熱原料時，易因原料快速受熱造成局 部溫度變化過快，而導致原料喷射的喷料現象，由此， 〇 將影響蒸鍍腔内的清潔度，並導致原料微粒懸浮於蒸鍍 腔内的空氣中。進一步地，當開啟高真空泵對錚鍍腔進 行抽真空時，懸浮於空氣中的原料微利又易對高真空泵 造成損傷。此外，採用人工方式對坩堝内的膜料顆粒進 行平整時，易出現人為污染膜料的現象，且人工平整需 要反復地對蒸鍍腔進行破真空與抽真空的操作，直接造 成加工工時的浪費；再者，頻繁地破真空與抽真空，較 易影響真空泵的壽命及工作效率。 Ο 【發明内容】 [0005] 有鑒於此，有必要提供一種易於實現的、可有效解決先 前技術中存在的問題的膜料加工裝置及具有該膜料加工 裝置的蒸鍍設備。 [0006] 一種膜料加工裝置，其用於平整蒸鍍膜料，所述膜料加 工裝置包括一個坩堝。所述坩堝具有一個收容膜料的容 置孔。所述膜料加工裝置進一步包括一個平整蓋，一個 驅動器，及一個氫氧焰喷嘴。所述平整蓋與所述容置孔 099123585 表單編號A0101 第5頁/共25頁 0992041542-0 201204845 相配合以平整容置孔内的膜料；所述平整蓋具有一個形 狀與所述容置孔的形狀相對應的平整面，一個開設於所 述平整蓋除所述平整面以外的其他表面的第一通孔，及 多個開設於所述平整面的第二通孔，每一所述第二通孔 均從所述平整面朝所述平整蓋内部延伸且與所述第一通 孔相通；所述驅動器具有一個與所述平整蓋相耦合的驅 動轴，所述驅動器驅動所述平整蓋繞所述驅動軸旋轉以 閉合或開啟所述坩堝的容置孔；所述氫氧焰喷嘴朝向所 述容置孔設置，所述平整蓋閉合所述容置孔時，所述平 整面朝向所述容置孔的底部，所述氫氧焰喷嘴位於所述 第一通孔的延伸方向上且與所述第一通孔相對。 [0007] 一種蒸鍍設備，其包括一個膜料加工裝置，所述膜料加 工裝置包括一個坩堝。所述坩堝具有一個收容膜料的容 置孔。所述膜料加工裝置進一步包括一個平整蓋，一個 驅動器，及一個氫氧焰喷嘴。所述平整蓋與所述容置孔 相配合以平整容置孔内的膜料；所述平整蓋具有一個形 狀與所述容置孔的形狀相對應的平整面，一個開設於所 述平整蓋除所述平整面以外的其他表面的第一通孔，及 多個開設於所述平整面的第二通孔，每一所述第二通孔 均從所述平整面朝所述平整蓋内部延伸且與所述第一通 孔相通；所述驅動器具有一個與所述平整蓋相耦合的驅 動軸，所述驅動器驅動所述平整蓋繞所述驅動軸旋轉以 閉合或開啟所述坩堝的容置孔；所述氫氧焰喷嘴朝向所 述容置孔設置，所述平整蓋閉合所述容置孔時，所述平 整面朝向所述容置孔的底部，所述氫氧焰喷嘴位於所述 099123585 表單編號A0101 第6頁/共25頁 0992041542-0 201204845 [0008] Ο ο [0009] [0010] 099123585 第一通孔的延伸方向上且與所述第一通孔相對。 相對於先前技術，本發明的膜料加工裝置具有如下優點 :其一，利用氫氧焰加熱取代高能電子束加熱，對於熔 點溫度接近於蒸發溫度的膜料原料來說，可避免其熔化 成液態的同時蒸發形成氣態，由此’在冷卻過程中，可 避免因蒸發產生的氣體而在膜料的表面形成孔隙，獲得 表面平整、内部結構緻密的膜料，保證後續蒸鍍加工過 程蒸度速率的穩定性。其二，利用氫氧焰加熱高折射率 原料時’不會產生刺眼的強光，可避免操作者在觀察監 視膜料的制取過程中眼睛受到傷害。其三，利用氫氧焰 加熱可使原料均勻受熱，避免局部溫度變化過快而導致 原料喷射的喷料現象，保證蒸鍍腔内的清潔度。其四， 利用驅動器驅動平整蓋，可以在制取臈料的過程中實現 自動平整坩堝内的膜料，避免人為污染膜料的現象，且 無需反復地對蒸鍍腔進行破真空與抽真空約操作，既減 ' ；[ 少了不必要的工時浪費，也可以避免因頻秦地破真空與 !：：： f ::: Μ ^ \ 看..ϊ !!| Η1' 抽真空而影響真空泉的壽命及工作效率。 【實旅方式】 下面將結合附圖及實施例對本技術方案作進一步詳細說 明。 請一併參閱圖1與圖2，本發明第一實施例提供—種膜料 加工裝置100 ’其用於盛放並平整蒸鍍膜料，所述膜料加 工裝置100包括一個坩堝10，一個與坩堝1〇連接的旋轉軸 2〇，一個用於平整坩堝10内膜料的平整蓋3〇，_個用於 驅動平整蓋30的驅動器40，一個連接驅動器4〇與平整蓋 表單編號Α0101 第7頁/共25頁 201204845 30的連接臂50，及一個加熱蒸鑛膜料的氫氧焰噴嘴6〇。 [0011] 所述坩堝10用於盛放膜料原料、膜料（即蒸鍍靶材，圖 未示），其具有一個收容膜料原料或膜料的容置孔U， 顆粒狀的膜料原料置於所述容置孔11内，經過真空加埶 並進行冷卻後即可形成蒸鍍所需的膜料。本實施例中， 所述坩堝1 〇為圓形坩堝，所述容置孔11為圓形孔。當然 ，所述坩堝10及所述容置孔11也可以為其他形狀，如正 方形孔、橢圓形孔等。 [0012] 優選地，所述坩堝10由熱傳導性較好的材料製成，如纽 (Ta)，鉬（Mo)等，由此’可確保所述坩堝1〇能耐住 高溫而不會被蒸發，避免污染蒸鍍腔體及鍍膜膜層。 [0013] 所述旋轉轴20與所述坩堝10相連接，使所述坩瑪1〇可以 繞所述旋轉軸20旋轉’由此，通過旋轉所述坩塥1〇，即 可使容置於所述容置孔11内的膜料原料或膜料均勻地受 熱，有利於膜料的制取或膜摔的蒸發。本實施例中，所 述旋轉軸20設置於所述坩堝1&料底部的中央區域，且所 述旋轉軸20與所述容置孔11 W中心轴同軸。 [0014] 可以理解的係，所述旋轉軸2 0可以與一個驅動機構（圖 未示）相連接，如與一個馬達相連接’由此，所述掛禍 10可以根據實際使用的需要實現自動旋轉。 [0015] 所述平整蓋30與所述坩堝10的容置孔丨丨相配合以平整容 置孔11内的膜料。優選地，平整蓋30也由熱傳導性金屬 材料製成，如同所述坩堝10的製成材料，如鈕（Ta)， 銷（Mo)等’由此’可確保平整蓋3〇能耐住高溫而不會 099123585 表單蝙號A0101 第8頁/共25頁 0992041542-0 201204845 [0016] [0017] [0018]Ο [0019] [0020] Ο 被蒸發’避免污染蒸鍍腔體及鍍膜膜層。 所述平整蓋30具有一個平整面31，一個第一通孔％ (如 圖2所示），及多個第二通孔37。 所述平整面31用於接觸所述容置孔u内的膜料原料並壓 實平整膜料，以獲得表面平整、内部結構緻密的膜料。 所述平整面31的形狀與所述坩堝10的容置孔21的形狀相 對應，以與所述容置孔11相配合。 所述第一通孔35開設於所述平整蓋30除所述平整面31以 外的其他表面且朝所述平整蓋30的内部延伸。 所述多個第二通孔37開設於所述平整面31，每一所述第 一通孔37均從所述平整面31朝所述平墊蓋3〇的内部延伸 且與所述第一通孔35相通。 本實施例中，所述平整蓋3〇為内部中空的圓餅狀結構， 其包括兩個相對的圓形平面及一個埠接於該兩個圓形平 面之間的圓環狀側面33，其中一個圓形平面為所述平整 面3卜即’所卿整面31的外徑等於所述平整蓋3〇的外 徑。所述平整面31的外徑小於所述容置孔丨丨的内徑，由 此，當所述容置孔11内盛放的膜料較少時，所述平整蓋 30可以壓人所述容置孔u 所述平整面31接觸 壓實平整膜料。所述平整蓋3〇的内部具有一個中空部以 ，所述第一通孔35與所述中空部34相通，所述多個第二 通孔37以所述平整面31的巾心呈放射狀對稱分佈於所述 平整面31，且每一所述第二通孔37均與所述中空部34相 通0 099123585 表單編號Α0101 第9頁/共25頁 0992041542-0 201204845 [0021] 可以理解的係，所述平整蓋30的結構並不局限於本實施 例，對應所述坩堝1 0及所述容置孔11的具體形狀，所述 平整蓋30可以設計為不同的形狀結構，如正方形、橢圓 形等；所述平整面31的外徑也可以小於所述平整蓋30的 外徑，如可以使所述平整面31突出於所述平整蓋30形成 一個凸台，通過凸台與所述坩堝10的容置孔11的配合， 使所述平整面31 (即凸臺面）接觸膜料並壓實平整膜料 。而且，所述平整蓋30也可以為實體結構，即所述平整 蓋3 0沒有所述中空部3 4，此時，所述第一通孔3 5可以沿 所述平整蓋30的徑向朝所述平整蓋30的内部延伸與每一 個所述第二通孔37相通。再者，所述多個第二通孔37在 所述平整面31上的分佈形式也可以設計為以所述平整面 31的中心為圓心呈同心圓狀分佈，只要能實現所述第一 通孔35與所述第二通孔37相通即可。 [0022] 所述驅動器40用於驅動所述平整蓋30閉合或開啟所述坩 堝10的容置孔11，所述平整蓋30閉合所述容置孔11時， 所述平整蓋30的平整面31朝向所述容置孔11的底部，由 此，可使所述平整面31接觸所述容置孔11内的膜料原料 並壓實平整膜料。所述驅動器40具有一個驅動軸41，其 與所述平整蓋30相耦合。通過所述驅動軸41，所述驅動 器4 0可以驅動所述平整蓋3 0繞所述驅動軸41旋轉。 [0023] 優選地，所述驅動器40的驅動軸41與所述容置孔11的中 心軸相垂直，所述驅動軸41的中心與所述容置孔11的中 心軸的距離等於所述平整蓋30的中心與所述驅動軸41的 中心的距離，且所述容置孔11的中心軸位於所述平整蓋 099123585 表單編號A0101 第10頁/共25頁 0992041542-0 201204845 [0024] Ο [0025] [0026]Ο [0027] 30的中繞所述驅動軸41旋轉的路徑的切線方向上，由 此，牙以4保所述平整蓋3()沿所述容置孔η的中心轴的 方向閉合所述容置孔11，即當所述容置孔丨丨的中心軸處 於豎直位置時可使所述平整面31垂直地接觸所述容置 孔11内的膜料原料並壓實平整膜料。 所述連接臂50用於耦合所述平整蓋3〇與所述驅動器4〇的 驅動軸41，所述連接臂5〇具有一個連接端51，及一個與 所述連接端51相對的耦合端53。所述連接端51連接於所 述平整蓋30的侧面33 ’所述耦合端53與所述驅動器40的 驅動轴41相耗合。由此，通過所述連接臂5〇，即可實現 所述平整蓋30與所述驅動器4〇的連接。 優選地’所述連接臂5〇沿所述平整篕3〇的徑向設置於所 述平整蓋30的侧面33設置有第一通孔35的部分，即所述 連接臂50位於所述平整蓋30的半徑的延伸線方向上。 «月參閱圖2，於本實施例令，進一步地，所述連接臂5 〇具 有一個第三通孔55 ,及一個靠近設於所述連接端51與所 述耦合端53之間的收容空間57。所述第三通孔55開設於 所述連接端51，其沿所述連接臂50的長度方向延伸且與 所述平整蓋30的第一通孔35相連通。所述收容空間π與 所述第三通孔55相通。 所述氫氧焰喷嘴60朝向所述坩堝1〇的容置孔〗丨設置，以 加熱盛放於所述容置孔丨丨内的膜料原料或臈料*。於本實 施例中，所述氫氧焰喷嘴60設置於所述坩堝1〇的旁邊且 朝向所述容置孔U，*此’所述氫氣料侧噴出的氮 099123585 表單編號Α0101 第11頁/共25頁 0992041542-0 201204845 氧焰可以對盛放於所述容置孔11内的膜料原料或膜料進 行加熱，以進行膜料的制取加工或後續的蒸鍍加工。所 述氫氧焰喷嘴60通過一個燃料管61與氫氧焰能源設備（ 圖未示）相連接，由此，可以保證需要的能源供給。 [0028] 進一步地，所述膜料加工裝置100包括一個固定件70，所 述氫氧焰喷嘴60與所述連接臂50的耦合端53均設置於所 述固定件70。其中，所述氫氧焰喷嘴60與所述燃料管61 固定於所述固定件70，且所述氫氧焰喷嘴60的軸線與所 述驅動軸41的軸線垂直相交；所述連接臂50的耦合端53 通過所述驅動器40的驅動軸41與所述固定件70的柄接件 71相連接。 [0029] 本實施例中，所述膜料加工裝置100進一步包括一個傳送 機構80，所述驅動器40連同所述平整蓋30—起設置於所 述傳送機構80上，其中，所述驅動器40通過安裝架81固 定於所述傳送機構80上。所述傳送機構80可以帶動所述 驅動器40及所述平整蓋30相對於所述坩堝10相對或背離 運動，由此，可以調節所述坩堝10與所述驅動軸41之間 的距離，確保所述驅動軸41的中心與所述容置孔11的中 心軸的距離等於所述平整蓋30繞所述驅動軸41旋轉的半 徑。 [0030] 進一步地，所述旋轉軸20為伸縮軸結構，其可使所述坩 堝1JD相對於蒸鍍腔體（圖未示）的底部升降，由此，便 於調節所述坩堝10與所述平整蓋30的高度差，使所述平 整蓋30與所述坩堝10準確地配合，確保所述驅動器40驅 動所述平整蓋30繞所述驅動軸41旋轉時，可以正確地閉 099123585 表單編號A0101 第12頁/共25頁 0992041542-0 201204845 合或開啟所述坩堝10的容置孔u。 [0031] Ο 请參閱圖2與圖3 ’所述平整蓋3〇在所述驅動器4〇的驅動 下閉合所述坩堝10的容置孔丨丨時’所述平整蓋3〇的平整 面31朝向所述容置孔丨丨的底部，所述氫氧焰噴嘴6〇收容 於所述收容空間57内’而且所述氫氧焰喷嘴6()位於所述 第一通孔35的延伸方向上且與所述第三通孔55相對，控 制所述平整蓋30壓實平整盛放於所述容置孔n⑽膜料 原料時，所述氫氧焰噴嘴喷出的氫氧焰可以通過所述 第二通孔55及所述第一通孔35，傳至所述平整蓋3〇的中 空部34，並經由所逑多個第二通孔37噴向所述坩堝1〇的 容置孔11，在所述平整蓋3()壓實平整膜料原料的同時實 現對盛放於所述容置孔1丨内的臈科原料的加熱。 [0032] Ο 可以理解的係，所述平整蓋30與所述驅動審40的連接傳 動方式並不局限於本實施例的連接臂5〇，所述平整蓋3〇 與所述驅動器40之間也可以設置傳動機構，如齒輪傳動 機構，通過設置於所述平驁蓋30與所述驅動器40之間的 傳動機構，即可將所述驅動器4〇的動力傳遞至所述平整 蓋30 ’驅動實現所述平整蓋3〇閉合或開啟所述坩竭1〇的 容置孔11。所述第一通孔35可以根據所述平整蓋3〇的實 際形狀設計’並不局限於開設於所述平整蓋30的側面， 其也可以開設於與所述平整面31相對的另一面，只要與 所述第二通孔37相通即可。所述氫氧焰喷嘴60也可以根 據實際情況設計安裝位置，例如，所述氫氧焰噴嘴6〇設 置於所述坩堝1〇的斜上方且朝向所述容置孔U，只要所 述氫氧焰噴嘴60喷出的氫氧焰能對所述容置孔1丨内的膜 099123585 表單編號A0101 第13頁/共25頁 0992041542-0 201204845 [0033] [0034] [0035] [0036] 枓原料或_進行加熱’且在所述平整蓋_實平整膜 :::的同時’所述氫氧焰彻喷出的氫氧焰能:過 ^第-通錢與所述第二通孔37實現對盛放於所述容 1内的膜料原料的加熱即可。 將所述骐料加工裳置1〇〇設置於蒸鑛腔内，即可進行相應 的膜料制取或蒸錢加工 使用所迷膜枓加工裝置100時， 调卽好所述坩堝10與所述 愈心 之間的距離及所述掛 糊0特整蓋3G的高度差；將膜料原料放置於所述 =:置，’啟動_動器4。，控制所述平 置孔i 請4置孔以，㈣述平整仙接觸所述容 =膜料原料並愿實平整制原料，如圖3所示， 同時’配合加1需要啟動所述絲料愉進行加熱。 可以理解的係，在對基你_ 對感鍍腔進行括真空前，可先驅動所 述平整細對魏於所、+、 了无驅動所 抆 ，L坤蜗10内的膜料原料進行粗平 玉’而在對瘵鍍腔進行抽真 60進杆知勒吐 具工成’啟動所填氫氧焰喷嘴 地==驅動_整蓋_斷地或不間斷 地對所述坩堝10内的半 故 . iir 狀態或熔化狀態的膜料原料 進盯平整，直至最後冷卻 的膜料。 獲传表面平整、内部結構緻密 請參閱圖4，本發明第二會 ^ ^ , 一貫施例提供一種蒸鍍設備200， 其包括一個腔體21〇，—彳 個傘架220 ’ 一個離子源230， 及-個本發明第—實施例提供的膜料加工裝置刚。 所述腔體210為真空腔體， 其通過相連通的真空泵（圖未 示）來獲得内部的真空環境。 K，j 099123585 表單編號A0101 第14 頁/共25 頁 0992041542-0 201204845 [0037] [0038] Ο [0039] [0040] Ο 099123585 所述傘架220、所述離子源23()及所述膜料加工ι置⑽ 均設置於所述腔體210的内部。 戶斤^架22〇用於承載待㈣元件，並使待鍍膜元件的待 姑番1Λη 本實％例中，所述膜料加 中的氫氧焰喷嘴6° (圖未標示)在制取膜料時 使㈣原料受熱融化’在賴加卫時使膜料蒸發形成膜 料粒子。料料㈣〇料料_切，㈣於形成 备鍍所需的等離子體，㈣子體在真空環境中與膜料粒 子相碰撞，使關粒子獲飾外㈣，频好撞向待 娘表面後將附著於待鑛表面，形成所需_層。 本實施例中，所述傘架220設置於所述腔體21Q的上部， 所述離子源230朝向所述傘架22〇，所述膜料加工裝置 100中坩堝10的容置朝向所述傘架22〇。 相對於先前技術，本發明的膜料加工襄置具有如下優點 :其一，利用氫氧焰加熱取代高能電子束加熱，對於炼 點溫度接近於蒸發溫度的膜料原料來說，可避免其溶化 成液態的同時蒸發形成氣態，由此，在冷卻過料，可 避免因蒸發產生的氣體而在膜料的表面形成孔隙，獲得 表面平整、内部結構緻密的膜料，保證後續蒸鍵加工過 程蒸度速率的穩枝。其二，利用氫氧焰加熱高折射率 原料時，0產生舰㈣光，可避錢作者在觀察監 視膜料的獅過財眼較到傷H，彻氣氧焰 加熱可使原料均句受熱，避免局部溫Μ 原料喷射的喷料現象，保證蒸伽㈣清潔度。盆四， 利用驅動㈣動平整蓋，可以在躲關的過程中 表單編號Α0101 第15頁/共25頁 0992041542-0 201204845 自動平整坩堝内的膜料，避免人為污染膜料的現象，且 無需反復地對蒸鍍腔進行破真空與抽真空的操作，既減 少了不必要的工時浪費，也可以避免因頻繁地破真空與 抽真空而影響真空泵的壽命及工作效率。 [刪1] 綜上所述，本發明確已符合發明專利之要件，遂依法提 出專利申請。惟，以上所述者僅為本發明之較佳實施方 式，自不能以此限製本案之申請專利範圍。舉凡熟悉本 案技藝之人士援依本發明之精神所作之等效修飾或變化 ，皆應涵蓋於以下申請專利範圍内。 【圖式簡單說明】 [0042] 圖1係本發明第一實施例提供的膜料加工裝置的示意圖。 [0043] 圖2係圖1所示的膜料加工裝置中的平整蓋的立體剖視圖 〇 [0044] 圖3係圖1所示的膜料加工裝置平整膜料時的工作狀態示 意圖。 [0045] 圖4係本發明第二實施例提供的具有圖1所示的膜料加工 裝置的蒸鍍設備的示意圖。 【主要元件符號說明】 [0046] 坩堝：10 [0047] 容置孔：11 [0048] 旋轉軸：20 [0049] 平整蓋：30 [0050] 平整面：31 099123585 表單編號A0101 第16頁/共25頁 0992041542-0 201204845 [0051] 侧面：33 [0052] 中空部：3 4 [0053] 第一通孔：3 5 [0054] 第二通孔：37 [0055] 驅動器：40 [0056] 驅動軸：41 [0057] 連接臂：50 Ο [0058] 連接端：51 [0059] 耦合端：53 [0060] 第三通孔：5 5 [0061] 收容空間：57 [0062] 氫氧焰喷嘴：60 [0063] Ο 燃料管：61 [0064] 固定件：70 [0065] 搞接件.71 [0066] 傳送機構：80 [0067] 安裝架：81 [0068] 膜料加工裝置：100 [0069] 蒸鍍設備：200 099123585 表單編號A0101 第17頁/共25頁 0992041542-0 201204845 [0070] 腔體： [0071] 傘架： [0072] 離子源 210 220 ：230 099123585 表單編號A0101 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Claims (1)

1. 201204845 七、申請專利範圍： 1 . 一種膜料加工裝置，其用於平整蒸鍍膜料，所述膜料加工 裝置包括： 一個坩堝，其具有一個收容膜料的容置孔； 其中： 所述膜料加工裝置進一步包括一個平整蓋，一個驅動器， 及一個氫氧焰喷嘴；所述平整蓋與所述坩堝的容置孔相配 合以平整容置孔内的膜料；所述平整蓋具有一個形狀與所 述容置孔的形狀相對應的平整面，一個開設於所述平整蓋 〇 除所述平整面以外的其他表面的第一通孔，及多個開設於 所述平整面的第二通孔，每一所述第二通孔均從所述平整 面朝所述平整蓋内部延伸且與所述第一通孔相通；所述驅 動器具有一個與所述平整蓋相耦合的驅動軸，所述驅動器 驅動所述平整蓋繞所述驅動軸旋轉以閉合或開啟所述坩堝 的容置孔；所述氫氧焰喷嘴朝向所述容置孔設置，所述平 整蓋閉合所述容置孔時，所述平整面朝向所述容置孔的底 〇 部，所述氫氧焰喷嘴位於所述第一通孔的延伸方向上且與 所述第一通孔相對。 2 .如申請專利範圍第1項所述之膜料加工裝置，其中，所述 坩堝的容置孔為圓形孔，所述平整蓋為内部中空的圓餅狀 結構，所述平整面為圓形平面，所述平整面的外徑小於所 述容置孔的内徑，所述第一通孔開設於所述平整蓋的側面 且朝所述平整蓋的内部延伸，所述氫氧焰喷嘴設置於所述 坩堝的旁邊且朝向所述容置孔。 3.如申請專利範圍第2項所述之膜料加工裝置，其中，所述 099123585 表單編號A0101 第19頁/共25頁 0992041542-0 201204845 平整處的内部具有—個中空部，所述第—通孔與所述中空 部相通’所述多個第二通孔以所述平整面的中心呈放射狀 對無分佈於所述平整φ，且每—所述第二通孔均與所述中 空部相通。 如申请專利第2韻述之膜料加王裝置，其中，所述 膜料加工裝置進-步包括—個連接臂，所述連接臂沿所述 平整蓋的徑向設置於所述平整蓋的側面設置有所述第一通 孔的部分；所述連接臂具有-個連接端，及—個與所述連 接端相對的耦合端，所述連接端連接於所述平整蓋的側面 ，所述耦合端與所述驅動器的驅動軸相耦合。 如申請專利範圍第4項所述之膜料加工裝置，其令，所述 連接臂進一#具有一個通孔，及一偭設於所述連接端與所 述輕合端之間·®~與所述通孔相通的收容空間；所述通孔沿 所述連接臂的長度方向延伸且與所述第一通孔相連通。 如申請專利範圍第5項所述之膜料加工裝置，其中，所述 膜料加工裝置進一步包括一:脑姻定伴，所述氫氧焰喷嘴固 定於所述固定件’所述連接臂的麵合端通過所述驅動器的 驅動軸與所述图定件相連接，所述氫氧焰喷嘴的軸線與所 述驅動軸的軸線垂直相交，所述平整蓋閉合所述容置孔時 ，所述氫氧焰喷嘴位於所述收容空間内且處於所述通孔的 延伸方向上。 如申請專利範園第2項所述之膜料加工裝置’其中，所述 驅動器的驅動軸與所述容置孔的中心軸相垂直，所述驅動 軸的中心與所述容置孔的中心軸的距離等於所述平整蓋的 中心與所述麟動轴的中心的距離’且所述容置孔的中心軸 位於所述平繁篆的中心繞所述驅動軸旋轉的路徑的切線方 099123585 表單編號A0101 帛20頁/共25頁 0992041542-0 201204845 向上。 8 .如申請專利範圍第1項所述之膜料加工裝置，其中，所述 坩堝與所述平整蓋均由熱傳導性金屬材料製成。 9 .如申請專利範圍第1項所述之膜料加工裝置，其中，所述 膜料加工裝置進一步包括一個傳送機構，所述驅動器連同 所述平整蓋一起設置於所述傳送機構上，所述傳送機構帶 動所述驅動器及所述平整蓋相對於所述坩堝相對或背離運 動。 10 . —種蒸鍍設備，其中，所述蒸鍍膜設備包括腔體及設置在 〇 所述腔體内的如申請專利範圍第1〜9任一項所述之膜料加 工裝置。 〇 099123585 表單編號A0101 第21頁/共25頁 0992041542-0