JP2007197827A - 回転ターゲット式電子線補助照射レーザアブレーション成膜装置及び回転ターゲット式電子線照射成膜装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】
ターゲット11を保持するターゲットホルダ10と、ターゲットホルダ10を回転可能な回転機構80と、成膜用基板21を保持する基板ホルダ20と、電子線を発生する電子線発生装置30と、電子線収束装置40と、レーザ光照射装置50とを備えた回転ターゲット式成膜装置である。電子線収束装置40は、回転機構80により回転するターゲット11に対して、電子レンズを形成することにより電子線発生装置30から発生された電子線を収束させ、もってターゲット11の少なくとも一部を液体化する。レーザ光照射装置50は、液体化されたターゲット11の少なくとも一部にレーザ光を照射してアブレーションを行う。
【選択図】 図1
Description
Claims (13)
- 固体材料からなるターゲットを保持するターゲットホルダと、
該ターゲットホルダを回転可能な回転機構と、
該ターゲットホルダに対して所定の位置に設けられ、成膜用基板を保持する基板ホルダと、
電子線を発生する電子線発生装置と、
該回転機構により回転する該ターゲットに対して、電子レンズを形成することにより該電子線発生装置から発生された電子線を収束させ、もって該ターゲットの少なくとも一部を液体化する電子線収束装置と、
液体化された該ターゲットの少なくとも一部にレーザ光を照射するレーザ光照射装置と、を備えることを特徴とする回転ターゲット式電子線補助照射レーザアブレーション成膜装置。 - 真空室を有する装置本体を更に備え、
該電子線発生装置は、電子線放出源と、該電子線放出源に電圧を印加して電子線を放出させる駆動電源とを備え、
該ターゲットホルダ、該基板ホルダ、及び該電子線放出源は、該真空室内に設けられており、
該ターゲットホルダは、該回転機構を介して該装置本体に接続されており、
該ターゲットホルダ、該回転機構、及び該装置本体は導電性を有することを特徴とする請求項1記載の回転ターゲット式電子線補助照射レーザアブレーション成膜装置。 - 該回転機構は、該真空室の外部に設けられ回転力を発生するモータと、
該装置本体に支持されると共に該モータに接続され、もって該モータの回転力を該真空室内に導入する回転導入端子と、
該装置本体に支持されると共に該真空室内に設けられた回転軸受と、
一端と他端とを有し、該一端は該回転導入端子に接続され該他端は該ターゲットホルダに接続されると共に、該一端と該他端との間において該回転軸受に回転可能に支持され、もって該モータの回転力を該ターゲットホルダに伝達する回転伝達棒と、を備え、
該回転軸受は、導電性の内輪及び外輪と、該内輪と該外輪との間に設けられる導電性の回転玉とを備え、
該回転玉の表面には、導電性の固体潤滑剤がコーティングされていることを特徴とする請求項2記載の回転ターゲット式電子線補助照射レーザアブレーション成膜装置。 - 該ターゲットホルダを冷却するための冷却手段を更に備えることを特徴とする請求項1乃至3の何れか一記載の回転ターゲット式電子線補助照射レーザアブレーション成膜装置。
- 該冷却手段は水冷容器を備え、該水冷容器と該ターゲットホルダとの距離が0.1μm以上かつ2mm以下であることを特徴とする請求項4記載の回転ターゲット式電子線補助照射レーザアブレーション成膜装置。
- 装置本体と、
ターゲットを保持するターゲットホルダと、
該ターゲットホルダに対して所定の位置に設けられ、成膜用基板を保持する基板ホルダと、
該ターゲットに対して電子線を照射する電子線照射装置と、
該装置本体に支持される回転軸受と、
該ターゲットホルダに接続される一端と回転手段に接続される他端とを有し、該回転軸受に回転可能に支持される回転軸と、
導電性を有し、該回転軸に接触して設けられるとともにアースに接続されるアース接続部とを備えることを特徴とする回転ターゲット式電子線照射成膜装置。 - 該アース接続部と該回転軸との接触部の電気抵抗が該回転軸受の電気抵抗よりも小さいことを特徴とする請求項6記載の回転ターゲット式電子線照射成膜装置。
- 該アース接続部は弾性を有する材料からなり、もって該回転軸に対して弾性的に接触することを特徴とする請求項6又は7記載の回転ターゲット式電子線照射成膜装置。
- 該アース接続部は、金属製薄板、金属製コイルばね、及び針金状金属の何れかにより構成されることを特徴とする請求項8記載の回転ターゲット式電子線照射成膜装置。
- 該アース接続部は、基部と該基部から櫛歯状に延びる櫛歯部とを有する金属製薄板により構成され、該櫛歯部が該回転軸に接触することを特徴とする請求項8記載の回転ターゲット式電子線照射成膜装置。
- 該回転軸は、該アース接続部と接触する接触部を備え、
該アース接続部と該接触部とは同じ材質により形成されていることを特徴とする請求項6乃至10の何れか一記載の回転ターゲット式電子線照射成膜装置。 - 該回転軸は、該ターゲットホルダに接続されるターゲットホルダ接続部と、該アース接続部と接触する接触部と、該回転軸受に支持される軸受支持部とを備え、
該接触部は、該ターゲットホルダ接続部と該軸受支持部との間に位置することを特徴とする請求項6乃至11の何れか一記載の回転ターゲット式電子線照射成膜装置。 - 該回転軸は、絶縁性材料からなる絶縁部を更に備え、
該絶縁部は、該接触部と該回転軸受との間に位置することを特徴とする請求項12記載の回転ターゲット式電子線照射成膜装置。
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