CN206916210U - 坩埚、蒸发源及蒸镀设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供一种坩埚、蒸发源及蒸镀设备。该坩埚包括坩埚本体，其中，所述坩埚本体包括：分别设置有加热元件的内加热层和外加热层，其中所述外加热层在所述内加热层的外围，围绕所述内加热层设置，所述外加热层与所述内加热层之间的空间形成为待蒸镀材料的容纳空间。本实用新型所述坩埚通过设置能够分别被控制加热的内加热层和外加热层，使得在蒸镀过程中，可以通过控制两个加热层的开启或关闭，改变对蒸镀材料的加热面积，以达到控制坩埚内材料蒸发速率的目的，解决现有技术坩埚内仅设置一体的加热部分，在坩埚内材料减少时，仅能够通过提高加热功率调整蒸发速率，导致材料性能改变的问题。

Description

坩埚、蒸发源及蒸镀设备

技术领域

本实用新型涉及显示面板制造技术领域，尤其是指一种坩埚、蒸发源及蒸镀设备。

背景技术

随着各显示器制造公司不断的开发研究，有机发光二极管OLED显示器件的制作工艺越来越趋于成熟。OLED器件的制作方式主要有蒸镀、旋涂和喷墨打印等多种方式，其中，真空蒸镀为一种比较成熟的方法，已经运用于量产。

目前，OLED器件采用真空蒸镀方式制作时，多采用点源。在采用点源进行蒸镀的过程中，随着坩埚中蒸镀材料不断的变少，蒸镀材料的加热面积也逐渐减小，为了达到相同的材料蒸发速率，必须使坩埚的加热温度不断提高，然而随着坩埚的加热温度不断提高，会导致坩埚内蒸镀材料的性能发生变化，从而最终影响所制造OLED器件的性能。

实用新型内容

本实用新型技术方案的目的是提供一种坩埚、蒸发源及蒸镀设备，用于解决现有技术为了保证蒸镀过程中达到稳定材料蒸发速度，必须使坩埚的加热温度不断提高，从而导致坩埚内蒸镀材料的性能发生变化的问题。

本实用新型实施例提供一种坩埚，包括坩埚本体，其中，所述坩埚本体包括：

分别设置有加热元件的内加热层和外加热层，其中所述外加热层在所述内加热层的外围，围绕所述内加热层设置，所述外加热层与所述内加热层之间的空间形成为待蒸镀材料的容纳空间。

优选地，所述的坩埚，其中，所述坩埚本体的第一端面上设置有用于待蒸镀材料蒸发时离开所述坩埚本体的开口；其中，所述内加热层从与所述第一端面相对的第二端面朝所述第一端面延伸，且所述内加热层的远离所述第二端面的一端与所述第一端面之间具有预设距离。

优选地，所述的坩埚，其中，所述坩埚本体包括形成内部空间的壳体，其中所述外加热层与所述壳体相连接，所述内加热层设置于所述内部空间的中心位置。

优选地，所述的坩埚，其中，所述外加热层内设置相互分离的第一加热元件和第二加热元件，且沿着从所述第二端面到所述第一端面的方向，所述第一加热元件和所述第二加热元件依次排列。

优选地，所述的坩埚，其中，所述第一加热元件和所述第二加热元件分别为以所述内加热层为中心绕设的加热丝。

优选地，所述的坩埚，其中，所述第一加热元件和所述第二加热元件分别连接一加热源。

优选地，所述的坩埚，其中，所述内加热层内设置相互分离的第三加热元件和第四加热元件，且沿着从所述第二端面到所述第一端面的方向，所述第三加热元件和所述第四加热元件依次排列。

优选地，所述的坩埚，其中，所述第三加热元件和所述第四加热元件分别呈柱体形状。

优选地，所述的坩埚，其中，所述坩埚还包括：

导流罩，包括多个叶片；其中所述导流罩包括第一状态和第二状态；在所述第一状态，多个所述叶片收叠在所述内加热层与所述第一端面之间的空间，所述容纳空间与所述开口之间具有气流通路；在所述第二状态，多个所述叶片在所述坩埚本体的内部呈展开状态，遮挡部分所述气流通路；

联动结构，与所述导流罩相连接；通过所述联动结构，所述导流罩在所述第一状态与所述第二状态之间切换。

优选地，所述的坩埚，其中，在所述第二状态，多个所述叶片在所述坩埚本体的内部展开至位于同一平面，且相邻的所述叶片之间具有间隔空间。

优选地，所述的坩埚，其中，所述联动结构包括：

叶片底座，设置于所述内加热层与所述第一端面之间；

轴体，固定于所述叶片底座上，且朝所述第一端面的方向延伸；

轴套，套设于所述轴体上，且能够相对于所述轴体朝靠近或远离所述第一端面的方向移动；所述轴套与每一所述叶片相连接，通过所述轴套带动所述叶片朝靠近或远离所述第一端面的方向移动，所述导流罩在所述第一状态与所述第二状态之间切换；

驱动元件，与所述轴套连接，通过所述驱动元件，所述轴套能够相对于所述轴体朝靠近或远离所述第一端面的方向移动。

优选地，所述的坩埚，其中，所述驱动元件包括气压驱动件或者液压驱动件。

优选地，所述的坩埚，其中，与所述叶片底座相连接设置有挡把，所述挡把与所述叶片底座之间形成插设空间；

其中，所述导流罩在所述第一状态与所述第二状态之间切换时，每一所述叶片分别穿设于所述插设空间中。

本实用新型实施例还提供一种蒸发源，其中，包括如上任一项所述的坩埚。

本实用新型实施例还提供一种蒸镀设备，其中，包括如上所述的蒸发源。

本实用新型的一个或多个实施例至少具有以下有益效果：

通过设置能够分别被控制加热的内加热层和外加热层，使得在蒸镀过程中，可以通过控制两个加热层的开启或关闭，改变对蒸镀材料的加热面积，以达到控制坩埚内材料蒸发速率的目的，解决现有技术坩埚内仅设置一体的加热部分，在坩埚内材料减少时，仅能够通过提高加热功率调整蒸发速率，导致材料性能改变的问题。

附图说明

图1为本实用新型第一实施例所述坩埚的剖面结构示意图；

图2为本实用新型第二实施例所述坩埚的其中一种使用状态的剖面结构示意图；

图3为本实用新型第二实施例所述坩埚的另一种使用状态的剖面结构示意图；

图4为本实用新型第二实施例中，坩埚所设置导流罩和联动结构其中一种状态的立体透视图；

图5为本实用新型第二实施例中，坩埚所设置导流罩和联动结构另一种状态的立体透视图；

图6为图4所示状态的俯视结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

参阅图1，本实用新型第一实施例所述坩埚的剖面结构示意图。本实用新型具体实施例中，所述坩埚包括坩埚本体10，其中，所述坩埚本体10包括：

分别设置有加热元件的内加热层11和外加热层12，其中外加热层12在内加热层11的外围，围绕内加热层11设置，外加热层12与内加热层11之间的空间形成为待蒸镀材料的容纳空间100。

本实用新型具体实施例所述坩埚，通过设置两个加热层(内加热层和外加热层)，使得两个加热层可以分别被控制，这样在蒸镀过程中，可以通过控制两个加热层的开启或关闭，改变对蒸镀材料的加热面积，从而达到控制坩埚内材料蒸发速率的目的，解决现有技术仅设置一体的加热部分，在坩埚内材料减少时，仅能够通过提高加热功率调整蒸发速率，导致材料性能改变的问题。

结合图1所示，本实用新型具体实施例中，坩埚本体10包括形成内部空间的壳体130，内加热层11设置于内部空间的中心位置，外加热层12与壳体130相连接，形成围绕内加热层11设置的结构。其中壳体130的内部空间中，外加热层12与内加热层11之间的空间则形成为用于容置待蒸镀材料的容纳空间100。

具体地，坩埚本体10的壳体130包括相对的第一端面110和第二端面120，第一端面110上设置有用于待蒸镀材料蒸发时离开坩埚本体10的开口13，该开口13与容纳空间100相连通。在壳体130的内部，内加热层11从与第一端面110相对的第二端面120朝第一端面110延伸，且远离第二端面120的一端与第一端面110之间具有预设距离。基于此，内加热层11形成为在壳体130的内部空间的中心位置，从第二端面120到第一端面110延伸的结构，且较佳地，内加热层11垂直于第二端面120设置。

本实用新型具体实施例中，较佳地，为保证待蒸镀材料被有效加热，坩埚本体10内待蒸镀材料的液面低于内加热层11的顶面平面111，也即在顶面平面111的下方位置，内加热层11与外加热层12之间的空间形成为容纳空间100。

另外，在壳体130所形成的内部空间中，如图1所示，内加热层11到第一端面110之间形成有一空间，使得容纳空间100与开口13相连通，其中容纳空间100到所述开口13的连通通路形成为待蒸镀材料从坩埚本体10的内部蒸发通过开口13离开坩埚本体时的气流通路。

本实用新型具体实施例中，外加热层12内设置相互分离的第一加热元件和第二加热元件，且沿着从第二端面120到第一端面110的方向，第一加热元件和第二加热元件依次排列，也即当坩埚本体10竖直设置时，第一加热元件和第二加热元件由上至下依次排列。具体地，第一加热元件和第二加热元件分别为以内加热层11为中心绕设的加热丝，且分别连接一加热源，以通过不同的加热源分别控制第一加热元件和第二加热元件的加热。

结合图1，本实用新型第一实施例中，内加热层11内设置呈柱体的加热元件115，该加热元件115与一加热源相连接；其中该加热元件115可以为一体结构，与一个加热源相连接，或者加热元件115包括多个分离的元件，该多个分离的元件与一个加热源相连接，用于实现加热元件115的整体同时加热。

可以理解的是，坩埚本体10的壳体内可以穿设用于使加热元件115与加热源相连接的连接线路，用于实现加热元件115与加热源的电连接。

采用本实用新型第一实施例所述的坩埚，在真空蒸镀工艺过程中，坩埚本体10的容纳空间100内设置待蒸镀材料进行蒸镀时，具体执行的加热过程如下：

首先，通过加热源对外加热层12内的第一加热元件加热，利用第一加热元件的温度升高，对坩埚本体10的壳体130进行预热；

当坩埚本体10的预热温度达到设定温度时，通过加热源同时对外加热层12的第一加热元件和第二加热元件进行加热，使坩埚本体10的壳体130温度进一步升高，壳体130内部的待蒸镀材料蒸发；

随着坩埚本体10内待蒸镀材料的减少，在真空蒸镀过程中的后期阶段，在通过加热源同时对外加热层12的第一加热元件和第二加热元件进行加热的同时，还通过加热源对加热元件115加热，使内加热层11的温度升高，以扩大对待蒸镀材料的加热面积，此时待蒸镀材料的加热面积包括与外加热层12相接触的部分和与内加热层11相接触的部分。

由于在真空蒸镀过程中的前期阶段，待蒸镀材料与外加热层12接触的面积较大，此时不需要启动内加热层11内的加热元件115的加热，即能够使待蒸镀材料蒸发时达到预设目标速率。在真空蒸镀过程中的后期阶段，相较于真空蒸镀过程的前期阶段，虽然随着待蒸镀材料的减少，待蒸镀材料与外加热层12相接触的面积减小，但由于内加热层11的加热补充，使待蒸镀材料的整体加热面积与前段阶段相当，从而能够使待蒸镀材料的蒸发达到稳定的预设目标速率。

因此采用本实用新型第一实施例所述的坩埚，当真空蒸镀过程中蒸镀材料减少时，无需通过调整加热功率即能够使材料蒸发达到稳定的蒸发速率，不存在现有技术由于加热功率提高导致材料性能改变的问题。

此外，本实用新型还提供第二实施例的坩埚，参阅图2和图3所示，其中第二实施例中，与第一实施例相同，坩埚本体10包括形成内部空间的壳体130，内加热层11设置于内部空间的中心位置，外加热层12与壳体130相连接，形成围绕内加热层11设置的结构。其中壳体130的内部空间中，外加热层12与内加热层11之间的空间则形成为用于容置待蒸镀材料的容纳空间100。

具体地，壳体130的第一端面110上设置有用于待蒸镀材料蒸发时离开坩埚本体10的开口13，该开口13与容纳空间100相连通。在壳体130的内部，内加热层11从与第一端面110相对的第二端面120朝第一端面110延伸，且远离第二端面120的一端与第一端面110之间具有预设距离。基于此，内加热层11形成为在壳体130的内部空间的中心位置，从第二端面120到第一端面110延伸的结构，且较佳地，内加热层11垂直于第二端面120设置。

本实用新型具体实施例中，较佳地，为保证待蒸镀材料被有效加热，坩埚本体10内待蒸镀材料的液面低于内加热层11的顶面平面111，也即在顶面平面111的下方位置，内加热层11与外加热层12之间的空间形成为容纳空间100。

另外，在壳体130所形成的内部空间中，如图2所示，内加热层11到第一端面110之间形成有一空间，使得容纳空间100与开口13相连通，其中容纳空间100到所述开口13的连通通路形成为待蒸镀材料从坩埚本体10的内部蒸发通过开口13离开坩埚本体时的气流通路。

本实用新型第二实施例中，外加热层12内设置相互分离的第一加热元件和第二加热元件，且沿着从第二端面120到第一端面110的方向，第一加热元件和第二加热元件依次排列，也即当坩埚本体10竖直设置时，第一加热元件和第二加热元件由上至下依次排列。具体地，第一加热元件和第二加热元件分别为以内加热层11为中心绕设的加热丝，且分别连接一加热源，以通过不同的加热源分别控制第一加热元件和第二加热元件的加热。

结合图2，本实用新型第二实施例中，内加热层11内设置相互分离的第三加热元件112和第四加热元件113，且沿着从第二端面120到第一端面110的方向，第三加热元件112和第四加热元件113依次排列，也即当坩埚本体10竖直设置时，第四加热元件113和第三加热元件112由上至下依次排列。另外，第三加热元件112和第四加热元件113分别呈柱体形状，且分别连接一加热源，用以通过不同的加热源分别控制第三加热元件112和第四加热元件113的加热。

可以理解的是，坩埚本体10的壳体内可以穿设用于使第三加热元件112和第四加热元件113分别与加热源相连接的连接线路。当然，本领域技术人员也可以采用其他设置方式实现内加热层11的第三加热元件112和第四加热元件113分别与加热源的连接。

进一步地，第二实施例所述坩埚中，参阅图2和图3，并结合图4至图6所示，所述坩埚还包括：

导流罩200，包括多个叶片210；其中导流罩200包括第一状态和第二状态。如图3所示为导流罩200的第一状态示意图；在第一状态，多个叶片210收叠在内加热层11与第一端面110之间的空间，容纳空间100与开口13之间具有气流通路；如图2所示导流罩200的第二状态示意图；在第二状态，多个叶片210在坩埚本体的内部呈展开状态，用以遮挡部分气流通路；

联动结构300，与导流罩200相连接；通过该联动结构300，能够使导流罩200在第一状态与第二状态之间切换。

具体地，参阅图4至图6，并结合图2和图3，本实用新型具体实施例中，联动结构300包括：

叶片底座310，设置于内加热层11与第一端面110之间，且与内加热层11相贴合连接；较佳地，为了不会阻挡待蒸镀材料从容纳空间100到开口13的蒸发气流通路，叶片底座310在内加热层11的上端面的投影与内加热层11相重叠，且不会超出内加热层11的上端面；

轴体320，固定于叶片底座310上，且朝第一端面110的方向延伸；较佳地，轴体320竖直地设置于叶片底座310上；

轴套330，套设于轴体320上，且能够相对于轴体320朝靠近或远离第一端面110的方向移动；轴套330与每一叶片210相连接，通过轴套330带动叶片210朝靠近或远离第一端面110的方向移动，以使导流罩200在第一状态与第二状态之间切换；

驱动元件(图中未显示)，与轴套330连接，通过驱动元件，轴套330能够相对于轴体320朝靠近或远离第一端面110的方向移动。

具体地，根据图4至图6，本实用新型第二实施例中，每一叶片210分别形成为扇形，宽度较小的一端分别与轴套330相连接，且每一叶片210分别通过转轴与轴套330相连接，以利用转轴的设置，相对于轴套330的角度变化。基于上述设置结构，当轴套330相对于轴体320下移至最低位置时，多个叶片210呈如图4所示的展开状态(第二状态)，且多个叶片210展开至位于同一平面，相邻的叶片之间具有间隔空间；其中较佳地，当多个叶片210呈展开状态时，每一叶片210分别与叶片底座310贴合连接。当轴套330相对于轴体320上移时，轴套330同时带动叶片210相连接的一端上移，如图5所示，每一叶片210收叠在叶片底座310上方的空间，处于第一状态，也即叶片210在叶片底座310的上端面的投影位于该上端面的范围之内，由于叶片底座310在内加热层11的覆盖范围不会超出内加热层11的上端面，因此叶片210处于第一状态时，也不会超出内加热层11的上端面，从而不会阻挡叶片底座310外围的气流通路。

本实用新型第二实施例中，如图4和图5所示，较佳地，叶片底座310形成为圆柱体形状，在叶片底座310的上端面，绕圆周方向间隔分布有多个挡把400。当多个叶片210在叶片底座310的上端面呈展开状态时，挡把400设置于相邻两个叶片210之间的位置，且每相邻两个的叶片210之间均设置有一个所述挡把400。挡把400与叶片底座310之间形成插设空间，其中，导流罩200在第一状态与第二状态之间切换时，每一叶片210分别穿设于所述插设空间中。

具体地，每一挡把400包括与叶片底座310相连接的第一部分410和与第一部分410相连接的第二部分420，其中第二部分420相对于第一部分410向两侧叶片210的方向延伸，第二部分420与叶片底座310的上端面之间具有插设空间。其中每一叶片210分别插设于该插设空间中，当在第一状态和第二状态之间切换时，叶片210能够被束覆于该插设空间中，挡把400具有阻挡叶片210外扩产生偏移的阻挡作用。

当然，多个挡把400的第二部分420相连接构成为一体，也可以形成为用于叶片210插设的插设空间，因此本实用新型具体实施例所设置挡把的结构并不限于图4至图6所示的结构。

另一方面，本实用新型第二实施例中，用于驱动轴套330相对于轴体320移动的驱动元件包括气压驱动件或者液压驱动件。本领域技术人员应该能够了解用于使轴套330相对于轴体320移动的驱动元件分别为气压驱动件或液压驱动件时的具体结构，在此不详细说明。

本实用新型具体实施例的另一方面，驱动元件与坩埚的盖体连接，用于穿过盖体实现对轴套的驱动控制。

本实用新型第二实施例所述坩埚，通过在坩埚本体的内部设置导流罩，根据图2和图3所示，并结合图6，当导流罩200处于第一状态时，多个叶片210收叠在内加热层11的上方，容纳空间100与开口13之间具有气流通路；当导流罩200处于第二状态时，多个叶片210在坩埚本体10的内部一平面内展开，且间隔设置，则遮挡部分的气流通路，能够使容纳空间100至开口13之间的材料蒸发更加均匀。

较佳地，当导流罩200为第二状态时，呈展开状态每一叶片210的外边缘与壳体130的内壁贴合连接。

采用本实用新型第二实施例所述的坩埚，在真空蒸镀工艺过程中，坩埚本体10的容纳空间100内设置待蒸镀材料进行蒸镀时，具体执行的加热过程如下：

首先，通过加热源对外加热层12内的第一加热元件加热，利用第一加热元件的温度升高，对坩埚本体10进行预热；

当坩埚本体10的预热温度达到设定温度时，通过加热源同时对外加热层12的第一加热元件和第二加热元件进行加热，使坩埚本体10的壳体温度升高，进一步升高，壳体130内部的待蒸镀材料蒸发；同时，通过加热源对第四加热元件113加热，使第四加热元件113对与内加热层11相连接的导流罩200和联动结构300加热，保证高温材料蒸发时，不会由于导流罩200和联动结构300的设置造成温度降低。此时由于待蒸镀材料与外加热层12相接触部分的温度高于中心与内加热层11相接触部分的温度，因此待蒸镀材料形成为由壳体130内部的边缘部分向开口13方向流动的蒸发方式，待蒸镀材料与外加热层12相接触部分受热均匀，从而待蒸镀材料蒸发均匀，导流罩200呈第一状态；

随着坩埚本体10内待蒸镀材料的减少，在真空蒸镀过程中的后期阶段，在通过加热源同时对外加热层12的第一加热元件和第二加热元件进行加热的同时，还通过加热源对第三加热元件112和第四加热元件113加热，使内加热层11的温度升高，以扩大对待蒸镀材料的加热面积，此时待蒸镀材料的加热面积包括与外加热层12相接触的部分和与内加热层11相接触的部分。

由于在真空蒸镀过程中的前期阶段，待蒸镀材料与外加热层12接触的面积较大，此时不需要启动内加热层11内的第三加热元件112的加热，即能够使待蒸镀材料蒸发时达到预设目标速率。在真空蒸镀过程中的后期阶段，相较于真空蒸镀过程的前期阶段，虽然随着待蒸镀材料的减少，待蒸镀材料与外加热层12相接触的面积减小，但由于内加热层11的加热补充，使待蒸镀材料的整体加热面积与前段阶段相当，从而能够使待蒸镀材料的蒸发达到稳定的预设目标速率。

另外，由于在真空蒸镀过程中的后期阶段，待蒸镀材料包括与外加热层12相接触部分和与内加热层11相接触的部分，该两部分均会形成蒸发气流，但该两部分蒸发气流的蒸发速率很难一致，因此此时导流罩200呈第二状态，用于使透过的蒸发气流更加均匀。

本实用新型具体实施例中，内加热层11与联动结构300的叶片底座310相连接，通过内加热层11对叶片底座310的加热，实现对整个导流罩200和联动结构300的加热。当然，为实现内加热层11对导流罩200和联动结构300的加热，内加热层11不限于仅能够与叶片底座310相连接实现，例如当联动结构300的轴体320穿过叶片底座310向下延伸至内加热层11时，也能够实现对导流罩200和联动结构300的加热。

基于上述的结构，采用本实用新型第二实施例所述的坩埚，当真空蒸镀过程中蒸镀材料减少时，无需通过调整加热功率即能够使材料蒸发达到稳定的蒸发速率，不存在现有技术由于加热功率提高导致材料性能改变的问题；此外通过导流罩的设置，使得坩埚内所喷出的蒸发材料气流更加均匀，以获得均匀沉积的膜层。

本实用新型具体实施例另一方面还提供一种蒸发源，包括如上任一实施例结构的坩埚。进一步地，本实用新型具体实施例还提供一种蒸镀设备，包括如上结构的蒸发源。

基于以上本实用新型具体实施例所述坩埚的详细描述，本领域技术人员应该能够了解采用该坩埚的蒸发源和蒸镀设备的具体结构，在此不再赘述。

以上所述的是本实用新型的优选实施方式，应当指出对于本技术领域的普通人员来说，在不脱离本实用新型所述的原理前提下还可以作出若干改进和润饰，这些改进和润饰也在本实用新型的保护范围内。

Claims (15)

1.一种坩埚，包括坩埚本体，其特征在于，所述坩埚本体包括：

分别设置有加热元件的内加热层和外加热层，其中所述外加热层在所述内加热层的外围，围绕所述内加热层设置，所述外加热层与所述内加热层之间的空间形成为待蒸镀材料的容纳空间。

2.根据权利要求1所述的坩埚，其特征在于，所述坩埚本体的第一端面上设置有用于待蒸镀材料蒸发时离开所述坩埚本体的开口；其中，所述内加热层从与所述第一端面相对的第二端面朝所述第一端面延伸，且所述内加热层的远离所述第二端面的一端与所述第一端面之间具有预设距离。

3.根据权利要求1所述的坩埚，其特征在于，所述坩埚本体包括形成内部空间的壳体，其中所述外加热层与所述壳体相连接，所述内加热层设置于所述内部空间的中心位置。

4.根据权利要求2所述的坩埚，其特征在于，所述外加热层内设置相互分离的第一加热元件和第二加热元件，且沿着从所述第二端面到所述第一端面的方向，所述第一加热元件和所述第二加热元件依次排列。

5.根据权利要求4所述的坩埚，其特征在于，所述第一加热元件和所述第二加热元件分别为以所述内加热层为中心绕设的加热丝。

6.根据权利要求4或5所述的坩埚，其特征在于，所述第一加热元件和所述第二加热元件分别连接一加热源。

7.根据权利要求2所述的坩埚，其特征在于，所述内加热层内设置相互分离的第三加热元件和第四加热元件，且沿着从所述第二端面到所述第一端面的方向，所述第三加热元件和所述第四加热元件依次排列。

8.根据权利要求7所述的坩埚，其特征在于，所述第三加热元件和所述第四加热元件分别呈柱体形状。

9.根据权利要求2所述的坩埚，其特征在于，所述坩埚还包括：

导流罩，包括多个叶片；其中所述导流罩包括第一状态和第二状态；在所述第一状态，多个所述叶片收叠在所述内加热层与所述第一端面之间的空间，所述容纳空间与所述开口之间具有气流通路；在所述第二状态，多个所述叶片在所述坩埚本体的内部呈展开状态，遮挡部分所述气流通路；

联动结构，与所述导流罩相连接；通过所述联动结构，所述导流罩在所述第一状态与所述第二状态之间切换。

10.根据权利要求9所述的坩埚，其特征在于，在所述第二状态，多个所述叶片在所述坩埚本体的内部展开至位于同一平面，且相邻的所述叶片之间具有间隔空间。

11.根据权利要求9所述的坩埚，其特征在于，所述联动结构包括：

叶片底座，设置于所述内加热层与所述第一端面之间；

轴体，固定于所述叶片底座上，且朝所述第一端面的方向延伸；

轴套，套设于所述轴体上，且能够相对于所述轴体朝靠近或远离所述第一端面的方向移动；所述轴套与每一所述叶片相连接，通过所述轴套带动所述叶片朝靠近或远离所述第一端面的方向移动，所述导流罩在所述第一状态与所述第二状态之间切换；

驱动元件，与所述轴套连接，通过所述驱动元件，所述轴套能够相对于所述轴体朝靠近或远离所述第一端面的方向移动。

12.根据权利要求11所述的坩埚，其特征在于，所述驱动元件包括气压驱动件或者液压驱动件。

13.根据权利要求11所述的坩埚，其特征在于，与所述叶片底座相连接设置有挡把，所述挡把与所述叶片底座之间形成插设空间；

其中，所述导流罩在所述第一状态与所述第二状态之间切换时，每一所述叶片分别穿设于所述插设空间中。

14.一种蒸发源，其特征在于，包括权利要求1至13任一项所述的坩埚。

15.一种蒸镀设备，其特征在于，包括权利要求14所述的蒸发源。