TW201144028A - Method of manufacturing mold and method of manufacturing product having micro protrusion and recess face structure on surface thereof - Google Patents

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201144028 -- -jt-I 六、發明說明： 本申請案主張於2010年3月25號向日本智慧財產局 提出申請之日本專利申請案第2010-070281號的優先權， 該專利申請案所揭露之内容係完整結合於本說明書中。 【發明所屬之技術領域】 _本發明是有關於一種表面具有微細凹凸結構的模具的 製造方法以及表面具有微細凹凸結構的物品的製造方法。 【先前技術】 近年來，已知在表面具有可見光波長以下之週期的微 ”凹凸、，構的物品表現出抗反射效果、蓮花效應（ι_ e ect)等。特別是被稱為蛾眼結構（M〇th_eye_structure) 之凹凸結構，由於折射率自空氣之折射率連續地增大至物 °〇之材料之折料，從㈣為有效之抗反射機構。 作為於物品之表面形成微細凹凸結構之方法，使用在 模有所述微細凹凸結構之反轉結構的模具，將所述 所述描^細凹凸結構轉印至物品之表面的方法受到關注。 面進行處對形成有微細凹凸結構之侧的表 里（日本專利特開2007-326367號公報）。 面之=主於將模具之微細凹凸結構反覆轉印至物品之表 降低心;V存在隨著轉印次數之增加而造成脫模性逐漸 因此备/且’砂在錄早之階段變得無法脫模， 品。產性良好地製造表面具有微細凹凸結構的物 【發明内容】 201144028 本發明可提供一種可製造即使反覆轉印 可經長時間地維持脫模性之模具的 ^好地製造表面具有微細凹凸結構的物品的方法。 ⑴步㈣造料之龍切衫下述步驟 驟；⑴製作在表面形成有微細凹凸結構的模具本體的步 微」Hi步驟⑴後’對所述模具本體的形成有所述 之官能材朗絲面上存在 驟； 反應之s i基⑻的脫模劑進行處理的步 下放3^步# (11)後’將所賴具本體於加熱加濕 次以所述步驟（11)以及步驟（叫反覆進行2 (==二”本：的是所_ 對二成==構的模具較佳的是 之微細凹凸結構的域具有2個以上細孔 特徵 表面的微細凹凸結構轉印至物品模具之 201144028 即，本發明是關於以下者。 步驟ϋ種模具的製造方法，其具有下述步驟⑴〜 ⑴製作在表面形成有微細凹凸結構賴具本體的步 鄉， ()於步驟⑴彳i，對所述模具本體的形成有所述 微=凸結構之_表面’藉由具有可與所述表面上存在 之官能基（A)反應之官能基⑻的脫制進行處理的步 SB? ! (III) 於步驟（Π)後’將所述模具本體於加熱加渴 下放置的步驟； Μ (IV) 將所述步驟（π)以及步驟（ΠΙ)反覆進 次以上的步驟。 (2) 如（1)所述之模具的製造方法，其中， 所述官能基（Β)是水解性矽烷基。 (3) 如（1)或（2)所述之模具的製造方法，其中， 所述脫模劑之官能基（Β)是水解性矽烷基，且是具 有全氟聚醚結構之脫模劑。 (4) 如（1)〜（3)中任一項所述之模具的製造方法， 其中， 於所述步驟（II)中’所述脫模劑之濃度為〇.06 wt% 以上0.15 wt%以下。 (5) 如（1)〜（4)中任一項所述之模具的製造方法， 其中 6 201144028 ^ 1 述步驟（1)之形成有微細凹凸結構的模具是對鋁 凹凸;I於其表面形成具有2個以上細孔之微細 其中（6)如〇)〜（5)中任一項所述之模具的製造方法， 所述細孔之平均間隔為 400 nm以下。 (7)如（6)所述之模具的製造方法，其中， 斤过、、’田孔之平均間隔為2〇 nm以上4〇〇 nm以下。 (8)如（1)〜（7)中任一項所述之模具的製造方法， 其中， 所述步驟（1)具有下述之步驟（a)〜步驟（f), 所述步驟（11)具有下述之步驟（g)〜步驟（j), 所述步驟（III)具有下述之步驟（k)及/或步驟⑴， 所述步驟（IV)具有下述之步驟（m)及/或步驟（n): .(a)將鋁基材於電解液中、恆定電壓下進行陽極氧化 而於鋁基材之表面形成氧化皮膜的步驟； (b) 除去所述氧化皮膜，於所述鋁基材之表面形成陽 極氧化之細孔產生點的步驟； (c) 於所述步驟（b)後，將所述铭基材於電解液中 再次進行陽極氧化，形成於細孔產纽具有細孔之氧化皮 膜的步驟； (d) 於所述步驟（c)後，使細孔之直徑擴大的步驟,· (e) 於所述步驟⑷後，於電解液中再次進行陽極 氧化的步驟； 201144028 (f) 反覆進行所述步驟（d)與所述步驟（e),獲得 於所述鋁基材之表面形成有具有2個以上細孔的陽極氧化 在呂之模具本體的步驟； (g) 於所述步驟（f)後，對所述模具本體進行水洗 的步驟； (h)於所述步驟（g)後，對所述模具本體吹空氣， 將附著於所述模具本體之表面的雜質除去的步驟； 一 （1)於所述步驟（f)〜步驟（h).後，將表面導入有 祕之模具本體’浸潰㈣氟祕_具有水解性魏基 之氟化合物稀釋而成之稀釋溶液中的步驟； (J)於所述步驟⑴後，使所述模具本體乾燥的步 鄉， 放置的步驟； (1)以氟系溶劑，對步驟 ⑴於步驟⑴後’將所述模具本體於加熱加濕下 對步驟（k)之後的所述模具本體 進行清洗的步驟； 所述步驟（1)作為1個循環， (m)將所述步驟（i) 步驟； ’使所述模具本體乾燥的步 反覆進行2次以上所述循環的步 (η)於所述步驟（姐）後， (8)中任一 r饪一項所述之模具的製造方 凹凸結構轉印至物品本體之表 (9) 一種表面具有微細 其包含： 將藉由如（1)〜（8) 法所得之模具之表面的微細 凹凸結構的物品的製造方法， 8

201144028 一》〆· W 面 [發明的效果] 表面ft發明之模具的製造方法，可製造即使反覆轉印 ㈣#亦可經㈣_轉脫模性之模具。 g由本發明之表面具有微細凹凸結構的物品的製造方 > ，可生產性良好地製造表面具有微細凹凸結構的物品。 為讓本發明之上述和其他目的、特徵和優點能更明顯 ，下文特舉較佳實施例，並配合所附圖式，作詳細說 明如下。 、。 【實施方式】 於本說明書中，（甲基）丙烯酸酯是表示丙烯酸酯或者 曱基丙烯酸酯。而且，活性能量線是表示可見光線、紫外 線、電子束、電漿、以及熱射線（紅外線等）等。 <模具的製造方法> 本發明之模具的製造方法是具有下述步驟（1)〜步驟 Uv)的方法。 (I)製作在表面形成有微細凹凸結構的模具本體的步 驟。 (Π)於步驟（I)後，對所述模具本體的形成有所述 微細凹凸結構之側的表面，藉由具有可與所述表面上存在 之官能基（A)反應之官能基（B)的脫模劑進行處理的步 (III)於步驟（II)後，將所述模具本體於加熱加濕 下放置的步驟。 201144028 (IV)將所述步驟（II)以及步驟（m)反覆進行2 次以上的步驟。 (步驟（I)) 於步驟（I)中，於基材之表面形成微細凹凸結構而製 作模具本體。基材之材料可列舉金屬（包括於表面形成有 氧化皮膜的金屬）、石英、玻璃、樹脂、以及陶瓷等。基材 之开>狀可列舉親狀、圓筒狀、平板狀、以及薄板狀等。 模具本體之製作方法例如可列舉於鋁基材之表面形成 具有2個以上細孔（凹部）之陽極氧化_方法。自可大 面積化、且製作簡便之方面考慮，所述方法是較佳之製作 方法。 上述方法具體而言較佳的是具有下述步驟 (f)之方法。 (a)將基材於電解液巾、丨i定電壓下進行陽極氧化 而於鋁基材之表面形成氧化皮臈的步驟。 jb)除去氧化皮膜，脑基材之表面形成陽極氧化之 細孔產生點的步驟。 於步驟⑻後，將銘基材於電解液中再次進行 陽極形成於細孔產生點具有細孔之氧化皮膜的步驟。 於步驟（e)後，使細狀雜敎的步驟。 的步^。）於步驟⑷後，於電解液中再次進行陽極氧化 之表^反^進行步驟⑷與步驟⑷，獲得於紹基材 之表㈣成有具有2_上細孔_極氧化紅模具本= 201144028 的步驟。 步驟（a): 如圖1所示，對鋁基材10進行陽極氧化，則形成具有 細孔12之氧化皮膜14。此處，鋁基材之形狀可列舉輥狀、 圓筒狀、平板狀、以及薄板狀等。 由於鋁基材可能附著有加工為預定形狀時所使用之 油，因此較佳的是預先進行脫脂處理。而且，為了使鋁基 材之表面狀態平滑，較佳的是對其進行電解研磨處理（蝕 刻處理）。 鋁之純度較佳的是99%以上，更佳的是99 5%以上， 特佳的疋99.8%以上。若鋁之純度低，則存在如下之現象： 於進行陽極氧化時，由於雜質之偏析而形成可散射可見光 之大小的凹㈣構，或者藉由陽極氧化所得之細孔的規則 性降低。 電解液可列舉硫酸、草酸、以及磷酸等。 g於使用草酸作為電解液之情形時：草酸之濃度較佳的 疋0·7 Μ以下。若草酸之濃度超過〇 7 μ，則存在電流值 是得過咼而導致氧化皮膜之表面變粗之現象❶於化成電壓 (formation voltage)為30 ν〜6〇 ν時，可獲得具有平均 間隔為100 mn之規則性高的細孔的陽極氧化銘。無論化 成電壓較_範®更⑤還是更低’均存在規則性降低之傾 向。電解液之溫度較佳的是6〇。〇以下，更佳的是45°C以 下。若電解液之溫度超過6〇。〇，則存在如下之現象：產生 所明之「風化」之現象，細孔被破壞，或表面熔化而導致 11 1 1201144028 細孔之規則性變亂。 於使用硫酸作為電解液之情形時：硫酸之濃度較值的 是0.7 Μ以下。若硫酸之濃度超過〇·7 M，則存在如下之 現象：電流值變得過高而變得無法維持恆定電壓。於化成 電壓為25 V〜30 V，可獲得具有平均間隔為63 nm之規則 性高的細孔的陽極氧化鋁。無論化成電壓較該範圍更高還 是更低，均存在規則性降低之傾向。電解液之溫度較佳的 是。30°C以下，更佳的是2(rc以下。若電解液之溫度超過 3〇°C，則存在如下之現象：產生所謂之「風化」之現象， 細孔被破壞，或表面熔化而導致細孔之規則性變亂。 步驟（b): 一 肘礼化反狀n "W町丨策玄，將具製為陽 氧化之細孔產生點16，藉此可提高細孔之規則性。 將氧化皮膜除去之方法可列舉：使其溶解於並不溶 2而是選雜地轉氧化歧之雜中㈣其除去的 忐。此種溶液例如可列舉鉻酸/磷酸混合液等。 步驟（C): 陽朽ί Γ1所示’ _去了氧化皮狀ls基材1G再次進 _化，則形成具有圓柱狀細孔12之氧化皮膜14。 %極氧化條件並無特別之限定 之條件或者較步驟⑷更短之時間的陽同 步驟（d): 如圖1所示，進行使細孔12之 記為細孔鋪从w敎處 12 201144028f 皮膜之溶液中，使藉由陽極氧化所得之細孔之直徑擴大的 處理:此種隸例如刊舉5 wt%A右之咖脉溶液等。 細孔徑擴大處理之時間越長，則細孔徑變得越大。 步驟（e): 如圖1所示，再次進行陽極氧化，則進一步形成自圓 柱狀^孔12之底部向下延伸的直徑小的圓柱狀細孔12。 陽極氧化於與步驟（a)同樣之條件下進行即可。陽極 氧化之時間越長則越可以獲得深的細孔。 步驟（f): 如圖1所示，反覆進行步驟（d)之細孔徑擴大處理、 與步驟（e)之陽極氧化，則形成具有細孔12 (所述細孔 12具有直徑自開σ部向深度方向連續性減少的形狀）的氧 化皮膜14，從而獲得於録材1G之表面形成純極氧化 鋁（鋁之夕孔質氧化皮膜（alumite，防钱鋁））的模耳本 。雖然最後可以步驟⑷或步驟（e)之㈣步^結 束’但較佳的是最後以步驟（d)結束。 ^ 7入復-又数較佳的是合計3次以上，更佳的是5次以上。 若反覆次數為2次以下’則細孔之直徑非連續性地減少， 用具有此種細孔之陽極氧倾而形成的蛾眼結構的 反射率減低效果並不充分。 細孔12之形狀可列舉略圓錐形狀、角錐形狀、以 狀等，較佳的是如_雜以及角錐形狀等這樣的盘 方向的細孔截面積自最表面向深度方向連 13 201144028. 細孔η間之平均間隔為可見光之波長 nm以下。細孔12間之平均間隔較佳的是2〇細以上 細孔12間之平均間隔之範圍較佳的是20⑽以上_ nm以下，更佳的是50 nm以上_ nm以下進 的是90nm以上250 nm以下。 細孔η間之平均間隔是藉由電子顯微鏡觀察而 5〇點鄰接之細孔12間之間隔（自細孔12之中心至鄰接之 細孔12之中心的距離），將該些值加以平均所得的值。 細孔12之深度於平均間隔為100 nm之情形時，較佳 的是8〇nm〜5〇〇nm，更佳的是⑶咖〜4〇〇腿特佳的 是 150 nm〜300 nm。 細孔12之深度是藉由電子顯微鏡觀察而以3〇〇〇〇倍之 倍率進行觀察時，測定㈣L 12之最底賴存在於細孔12 間之凸部的最頂部之間的距離所得的值。 細孔12之縱橫比（細孔之深度/細孔間之平均間隔） 較佳的是0.8〜5，更佳的是1.2〜4，特佳的是1.5〜3。 (步驟（II)) 於步驟（II)中’對模具本體之形成有微細凹凸結構 之侧的表面，藉由具有可與官能基（A)反應之官能基（b) 的脫模劑進行處理。 所謂官能基（A)是表示可與後述之脫模劑所具有之 反應性官能基（B)反應而形成化學鍵的基。 官能基（A)可列舉羥基、胺基、羧基、巯基、環氧 基、以及酯基等，自與水解性矽烷基（所述水解性矽烷基 201144028 疋後述之脫模劑在多數情況下作為反應性官能基（B)而 具有之基）的反應性良好之方面考慮，特佳的是羥基。於 藉由脫模劑處理之表面為陽極氧化銘之情形時，官能基 (A)為經基。 於模具本體之所述形成有微細凹凸結構之側的表面並 不存在g旎基（A)之情形時，例如亦可藉由下述之方法 (π-υ或者方法（II-2)等導入官能基（A)。 (Π-1)對模具本體之形成有微細凹凸結構之側的表 面進行電漿處理，藉此於所述表面導入官能基（Α)之方 法。 (H-2)藉由具有官能基⑷或其前驅物之化合物（矽 烧偶^劑等）賴具本體之形成有微細凹凸結構之側的表 面進行處理，藉此於所述表面導人官能基⑷之方法。 化風(b)是表示可與官能基⑷反應而形成 化予，之基或者可容易地轉換為所述基之基。 官能基（A)為經基之情形時的官能基（B)可列舉水 白盘石夕烧基、辦基、包含鈦原子或㉝原子之水解性基等， 義^基之反應性良好之方面考慮’較佳的是水解性石夕烧 更佳的是水解财烧基。所謂水解性雜 ^可藉由水解Μ成頻基（Si_

Sl-〇R(R為絲）以及叫X為咖子）等脾. Z劑可列舉具有官能基（B)之魏樹脂 脂、以及具有官能基⑻之純合物等， '疋/、有水解性魏基之氟化合物。作為具有水解性 15 201144028 石夕烧基之氟化合物之市售品，氟烷基矽烷以及具有全氟聚 醚結構者可列舉大金工業公司製造之「OPTOOL (註冊商 標）」系列。 另外’脫模劑特佳的是具有官能基（B)之氟化合物， 且所述氟化合物是所述官能基（B)為水解性矽烷基、且 具有全氟聚醚結構之氟化合物。若所述官能基（B)為水 解性矽烷基，且具有全氟聚醚結構，則與官能基（A)之 反應性良好，且脫模性特別良好。 肌稞劑之處理方法可列舉下述方法（π_3)〜方法 ^11-4) ’自可藉由脫鋪對模具本體之軸有微細凹凸社 ==面)並無不均地進行之處理之方面考慮，特“ ，脫模劑之稀釋溶液中浸潰模具本體之方法。 機細====塗佈於模具本體之形 之方2㈤）較佳的是具有下述步驟（g)〜步驟⑴ (g)於步驟 步驟。 (f)後，視需要對模具本體進行水洗之 附著於模具本體之’視需要對模具本體吹空氣，將 ⑴於步等除去的步驟。 之模具本體，浸潰於以^驟（h)後，將表面導入有羥基 化合物稀釋而成之系溶劑將具有水解性矽烷基之氟 稀釋溶財的步驟。 201144028t ^ t ^ \ V u/xl (j)於步驟（i)後，視需要使模具本體乾燥的步驟e 步驟（g): 於模具本體上附著有形成微細凹凸結構時所使用之藥 劑（細孔徑擴大處理中所使用之磷酸水溶液等）以及雜質 (塵埃等）等，因此藉由水洗而將其除去。 步驟（h) ·· 若於模具本體之表面附著有水滴，則步驟（丨）之利用 脫模劑之處理之效率降低，因此對模具本體吹空氣，將可 見的水滴大致除去。 步驟（i): 稀釋用氟系溶劑可列舉氫氟聚趟、全說己烧、全氟甲 基ί衣己烧、全氟_1，3_二甲基環己烧、以及二氣五氣丙烧等。 具有水解性魏基之I化合物之濃度於_溶液（刚 感）中較佳狀(mwt%〜G.2wt%，更佳岐G 〇6wt% 以上0·15 Wt%以下。若具有水解性石夕燒基之敗化合物的氣 ϋ合!t濃度在所職_，騎保存或使㈣由於脫模 縮合反應而可抑制脫模劑溶液劣化，且獲得充分 浸潰時間較制是1分鐘〜3〇分鐘 浸潰溫度較佳的是〇。0〜。 步驟（j): 由乾燥機等對其進行強制 可使模具本體風乾，亦可夢 性加熱乾燥。 曰 乾燥溫度較佳的是5〇。匚〜15()。€ 17 201144028 λ 1 乾燥時間較佳的是5分鐘〜300分鐘。 (步驟（III)) 步驟（III)例如由下述步驟（k)及/或步驟（丨）構成。 (k) 於步驟（i)後’將模具本體於加熱加濕下放置 的步驟。 (l) 視需要以氟系溶劑對步驟（k)之後的模具本體 進行清洗的步驟。 步驟（k): 藉由將模具本體於加熱加濕下放置，使氟化合物（脫 模劑）之水解性矽烷基水解而生成矽醇基，所述矽醇基與 模具本體之表面之羥基的反應充分進行，從而使氟化合物 之固定性提高。 加熱溫度較佳的是4〇。〇〜1〇〇。〇。 加濕條件較佳的是相對濕度為85%以上。 放置時間較佳是1〇分鐘〜1日。 步驟（1): 入清洗用氟系溶劑可列舉全氟己烷、全氟曱基環己烷、 全氟-1，3_二甲基環己燒、以及二氣五氟丙烧等。 亦可藉由水或者醇類等，對以氟系溶劑進行清洗之模 具本體進一步加以清洗。 (步驟（IV)) 步驟（IV)例如由下述之步驟（m)及/或步驟（n) 而構成。 (m)將步驟⑴〜步驟⑴作為i個循環，反覆進 18 201144028 行2次以上所述楯環的步驟。 步^ 驟㈤後’視需要使模具本體乾燥的步驟。 較佳=步驟⑴之循環的反覆次數為2次以上， ，佳的疋2次〜1G次’更佳的是3次〜5次。若 為2次以上，則可經長時間地維持模具之脫模性。 步驟（r〇 : 性加具本體風乾’亦可藉由乾燥機等對其進行強制 乾燥溫度較佳的是4〇^〜15〇ι。 乾燥時間較佳的是5分鐘〜3〇〇分鐘。 (作用效果） 舰二ΐ 本發明之模具的製造方法中，藉由脫模 队、本體的所述形成有微細凹凸結構之側的表面進行 :理的步驟（II)、將所述模具本體於加熱加濕下放置的步 π (ΠΙ)反覆進行2次以上，因此可製造即使反覆轉印表 面之微細凹战構亦可經長時間地維持脫模性之模具。 本發明之模具的製造方法由於下述之理由，作為表面 具有陽極氧化鋁之模具的製造方法而言特別有效。 陽極氧化鋁之表面難以與水解性矽烷基（矽醇基）反 應’右僅僅以脫模劑進行丨次處理，則容易形成並不存在 脫模劑之_。因此’容易自所述_產生脫模劑之剝離， f具之脫模性容易降低。另-方面，於本發明中，反覆進 仃2次以上利用脫模劑之處理，因此可儘可能地以脫模劑 201144028 充塞間隙’模具之脫模性難以降低。 <表面具有微細凹凸結構的物品的製造方法> 表面具有微細凹凸結構的物品例如可使用圖2所示之 製造裝置’以如下之方式進行製造。 將活性能量線硬化性樹脂組合物自貯槽22供給至在 表面具有微細凹凸結構（圖示略）之輥狀模具20、與沿輥 狀模具20之表面移動之帶狀薄膜42 (物品本體）之間。 於親狀模具20、與藉由氣壓缸24調整夾持壓（nip pressure)之夾觀26之間，夾持薄膜42及活性能量線硬化 性樹脂組合物’使活性能量線硬化性樹脂組合物均勻地遍 布於薄膜42與輥狀模具2〇之間，同時填充於輥狀模具2〇 之微細凹凸結構的凹部内。 自設置於錄模具2G下方之活性能量線照射裝置 8通過；#膜42 ίΤή對,¾•性能量線硬化性細旨組合物照射活 =量線，使活性能量線硬化性樹脂組合物硬化，藉 印了輥狀模具2G之表面的微細凹凸結構的硬化樹脂 =初離輥30將於表面形成有硬化樹 们自餘模具20剝離，藉此獲得如圖3所示 = 活性能量線照射裝置28較佳的 〇〇 4〇 素燈等，於此情形時之光照射能量屬丨 mJ/cm2〜10000 mJ/cm2。 佳的疋 1( 薄膜42域紐_。驗之㈣ 知、聚碳酸醋、苯乙烯系樹脂、聚 j舉丙婦酸系樹 曰、，哉維素系樹脂（三 20 201144028 乙酸纖維素等）、聚_、以及脂環族聚烯烴等。 硬化樹脂層44是由後述之活性能量線硬化性樹脂组 合物之硬化，所構成之膜，於表面具有微細凹凸結構。、 *於使用陽極氧化㈣模具之情形時的物品仙之表面 構是藉由轉印陽極氧化鋁之表面的微細凹凸 、° ^ 、，具有由活性能量線硬化性樹脂組合物之硬 化物所構成之2個以上凸部牝。 微細凹凸結構較佳的是排列有2個以上略圓錐形 者角錐半狀等突起（凸部）的所謂之蛾眼結構。已知突起 間之間隔為可見光之波長以下的蛾眼結構，由於折射率自 空氣之折射率連續地増大至材料之折 抗反射方式。 人q匁双又 凸部間之平均間隔較制是可見光之;皮長以下，亦即 400 nm以下。於使用陽極氧化紹的模具而形成凸部之情形 時，凸部間之平均間隔成為1〇〇 nm左S，因此更佳的是 200 nm以下，特佳的是150 nm以下。 自凸部形成之容易性之方面考慮，凸部間之平均 較佳的是2〇nm以上。 ^ 凸部間之平均間隔之範圍較佳的是 20 nm〜400 nm， 更佳的是50 nm〜300 nm，進一步更佳的是9〇 nm〜25〇 nm ° 凸部間之平均間隔是藉由電子顯微鏡觀察而測定50 點鄰接之凸部間之間隔（自凸部之中心至鄰接之凸部之中 心的距離）’將該些值加以平均所得的值。 21 201144028l ▲ 凸部之咼度於平均間隔為100 nm之情形時，較佳的 是80nm〜500nm，更佳的是i20nm〜4〇〇nm，特佳的是 150nm〜300nm。若凸部之高度為8〇nm以上，則反射率 變得充分低，且反射率之波長依存性（wavdength dependence)少。若凸部之高度為5〇〇nm以下，則凸部之 耐擦傷性變良好。 凸部之向度是於藉由電子顯微鏡以3〇〇〇〇倍之倍率進 行觀察時，測定凸部之最頂部與存在於凸部間之凹 底部之間的距離所得的值。 的最 凸部之縱橫比（凸部之高度/凸部間之平均間隔）較 的是0.8〜5，更佳的是h2〜4，特佳的是i 5〜3。若凸j =橫比為0.8以上，則反射率充分變低1凸部之则 比為5以下，則凸部之耐擦傷性變良好。 - 凸部之形錄麵是與冑度料正交 表面向深度方向連續性增加的形狀，亦即凸部 问度方向之剖面形狀為三角形、梯形、以及鐘形等 的是之折射率與薄膜42之折射率之差_ 町疋0.2以下，更佳的是〇1以 若折射率差為0.2以下，則硬化榭= 的，〇.05以下。 面的反射_抑制。视慨層44與_ 42之省 已知於表面具有微細凹凸結構 ^ 疏水性材料而形賴由於蓮花效^表面由 表面由親水性材料而形斥水性，若該 硬化樹脂層44之材料為疏水性之情形時的微細凹凸 22 201144028 結構之表面的水接觸角較 以上，特佳的是12(^ 疋90以上更佳的是110。 得難以附著水污，因此發禮=接觸角為90。以上，則變 難以附著水’因此可期待防止結:,防別生。而且’由於 結構材料為疏水性之情料的微細凹凸 下，更二=上=下較佳的是：…-以 以下。 上180以下，特佳的是120。以上18〇〇 交传難以附著油污，因此發揮出充分之防污性。自抑制 =化樹脂層44由於吸水而造成微細凹凸結 隨=之反射率上升之方面考慮，所述水接觸二 J Us JL 0 硬化樹脂層44之材料為親水性之情科的微細凹凸 、-構之表面的水接㈣之範圍較佳的是3。以上3g。以下， 更佳的是3。以上25。以下，進-步更佳的是3。以上23。 下，特佳的是3。以上21。以下。 (活性能量線硬化性樹脂組合物） 活性能量線硬化性樹脂組合物包含聚合性化合 聚合起始劑。 聚合性化合物可列舉於分子中具有自由基聚合性鍵及 23 201144028 /或陽離子性鍵之單體、絲物、以及反應性聚合物等。 活性旎I線硬化性樹脂組合物亦可包含非反應性聚合 物、以及活性能量線溶膠_凝膠反應性組合物❶ 具有自由基聚合性鍵之單體可列舉單官能單體、以及 多官能單體。 t單官能單體可列舉（曱基)丙烯酸曱醋、（曱基)丙婦酸乙 酉:、（甲基)丙稀酸丙輯、（曱基)丙烯酸正丁醋、（曱基)丙稀 ，異丁酯、(甲基)丙烯酸第二丁酯、(曱基)丙烯酸第三丁 酉曰、（曱基）丙烯酸-2-乙基己酯、（曱基)丙烯酸月桂基酯、（曱 基)丙烯酸烷基酯、（甲基)丙烯酸十三烷基酯、（甲基)丙烯 酸硬脂基酯、（甲基)丙稀酸環己醋、（甲基)丙稀酸节基醋、 (甲基)丙烯酸苯氧基乙酯、（甲基)丙烯酸異冰片酯、（曱基) 丙烯酉欠縮水甘油酯、（曱基)丙烯酸四氫呋喃甲基酯、（甲基) 丙烯酸烯丙基酯、（曱基)丙烯酸-2-羥基乙酯、（甲基）丙烯 酸羥基丙酯、（甲基）丙烯酸-2-甲氧基乙酯、以及（曱基）丙 =酸-2-乙氧基乙酯等（曱基）丙烯酸酯衍生物；（曱基）丙烯 酉文、（曱基）丙烯腈；苯乙烯、以及α_曱基苯乙烯等苯乙烯 衍生物；以及（甲基）丙烯醯胺、Ν-二曱基（曱基)丙烯醯胺、 Ν-二乙基（曱基)丙烯醯胺、以及二甲基胺基丙基（甲基)丙烯 醯胺等（曱基)丙烯醯胺衍生物等。 該些化合物可單獨使用1種，亦可併用2種以上。 多官能單體可列舉乙二醇二（曱基）丙烯酸酯、三丙二 醇二（甲基）丙豨酸酯、異三聚氰酸環氧乙烷改質二（曱基） 丙烯酸酯、三乙二醇二（曱基)丙烯酸酯、二乙二醇二（甲基） 24 201144028 丙婦IS曰新戊—醇二（尹基）丙婦酸醋、i，6-己二醇二（曱 基)丙稀酸醋、1，5_戊二醇二(f基)丙烯酸醋、U_T二醇二 (甲基)丙烯酸酉旨、聚丁二醇二(甲基)丙豨酸醋、2,2_雙㈣甲 基)丙烯酿氧，聚乙氧基苯基)丙烧、2,2_雙(4_(甲基)丙婦醯 氧基乙氧基苯基)丙院、2,2_雙(4_(3_(曱基)丙稀醯氧基_2_ 祕丙氧基)苯基)丙燒、Ul(3_(甲基)丙烯醯氧基J經基 丙氧基）乙炫、1，4_雙(3_(曱基)丙稀醯氧基_2經基丙氧基） 丁烧、二㈣基三環癸烧二（甲基)丙烯酸醋、雙紛A之環 氧乙烧加成物二（甲基)丙烯酸醋、雙⑲A之環氧丙燒加成 物一（曱基）丙烯酸酯、羥基三甲基乙酸新戊二醇二（曱Λ) 丙稀酸醋、二乙婦苯、以及亞甲雙丙稀醯胺等二官能性土單 體，季戊四醇三（甲基)丙烯酸醋、三經甲基丙烧三（甲 ，酸0旨、三經甲基丙烧環氧乙烧改質三（甲基）丙“ -曰:二㈣基丙烧環氧丙烧改f三丙焊酸@旨、三經甲基丙 =環氧乙院改質三丙_醋、以及異三聚氰酸環氧乙燒改 Π縮合反應混合物、二季戊四醇六⑽甲)土丙二 =季戊四醇五(甲基)丙稀酸醋、二蝴基丙烧四丙 以及四經甲基甲烧四（甲基）丙稀酸酉旨等四官能以 上之早體’二官能以上之丙稀酸胺基甲㈣、以及二 以上之聚1旨_酸酯等。該些化合物 二 可併用2種以上。 早獨使用1種’亦 環丁 ΐ有ϊ:Γ合性鍵之單體可列舉具有環氧基、氧雜 %丁基、。惡峻基、以及乙稀基氧基等之單體，特佳的是具 25 201144028 * i 有環氧基之單體。 券t物或反應性聚合物可列舉不飽和二敌酸與多元醇 之縮合物等不飽和聚酯類；聚酯（曱基)丙烯酸酯〔聚醚（甲 基)丙烯酸酯、多元醇（曱基)丙烯酸酯、（曱基)丙烯酸環氧 酯、（曱基)丙烯酸胺基曱酸酯、陽離子聚合型環氧化合物、 以及於侧鏈具有自由基聚合性鍵之上述單體的均聚物或共 聚物等。 非反應性聚合物可列舉丙烯酸系樹脂、笨乙烯系樹 脂、聚胺基甲酸酯、纖維素系樹脂、聚乙烯丁醛、聚酯、 以及熱塑性彈性體等。 活性能量線溶膠-凝膠反應性組合物可列舉烷氧基矽 烷化合物、以及矽酸烷基酯（alkylsilicate)化合物等。 烷氧基矽烷化合物可列舉下述式（1)之化合物。

RnxSi(0R12)y (1) 其中，R11以及R12分別表示碳數為丨〜1〇之烷基，X 以及y表示滿足x + y=4之關係的整數。 烷氧基矽烷化合物可列舉四甲氧基矽烷、四異丙氧基 石夕院、四正丙氧基石夕烧、四正τ氧基魏、四第二丁氧基 石夕院、四第三丁氧基魏、甲基三乙氧基魏、甲基三丙 氧基石夕烧、ψ基三丁氧基魏、二甲基二甲氧基魏、二 甲基二乙氧基魏、三甲基乙氧基魏、三甲基甲氧基石夕 燒、三曱基丙氧基魏、以及三甲基τ氧基魏等。 26 201144028 矽酸烷基酯化合物可列舉下述式（2)之化合物 R210[Si(OR23)(OR24)0]2R22 (2) 其中，R21〜R24分別表示碳數為卜5之絲，Z表示 3〜20之整數。 矽酸烧基醋化合物可列舉石夕酸甲g旨、石夕酸乙酉旨、石夕酸 異丙醋、梦酸正丙醋、碎酸正丁s| 1酸正触、以及乙 醯基矽酸酯等。 於利用光硬化反應之情形時’光聚合起始劑例如可列 舉安息香、安息香曱醚、安息香乙醚、安息香異㈣、安 息香異丁醚、一笨乙二酮（benzil)、二苯甲酮、對曱氧基 一本甲酿1、2,2-二乙氧基苯乙酮、α，α_:曱氧基_α笨灵 酮、苯曱醯曱酸曱酯、苯曱醯曱酸乙酯、4,4，_雙(二^基胺 基)二苯曱酮、以及2-羥基-2-曱基-1·笨基丙烷酮等羰基 化合物；一硫化四曱基秋蘭姆、以及二硫化四曱基秋蘭姆 等硫化合物；2,4,6-三曱基苯曱醯基二苯基膦氧化物、以及 苯甲醯基二乙氧基膦氧化物等。 該些化合物可單獨使用1種，亦可併用2種以上。 於利用電子束硬化反應之情形時，聚合起始劑例如可 列舉二苯曱酮、4,4-雙(二乙基胺基)二笨曱酮、2,4 6_三曱 基二苯曱酮、曱基鄰苯曱醯基苯甲酸酯、4_苯基二苯曱酮、 第二丁基蒽醌、2-乙基蒽醌、2,4-二乙基噻噸酮、異丙基噻 嘴酮、以及2,4-二氯嘆"頓_等嗟D镇酮；二乙氧基苯乙酮、 27 201144028. 2-羥基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酿)、苯偶醯二曱基縮酮（benzil dimethyl ketal)、1-經基環己基-苯基_、2_曱基_2·嗎啉基(4_ 硫甲基苯基)丙烷小酮、以及2-苄基-2-二曱胺基小(4_嗎琳 基苯基)-丁酮等苯乙酮；安息香甲醚、安息香乙醚、安息 香異丙醚、以及安息香異丁醚等安息香醚；2,4,6-三曱基苯 甲醯基二苯基膦氧化物、雙(2,6-二甲氧基苯曱醯基)_2,4,4_ 三曱基戊基膦氧化物、以及雙(2,4,6-三曱基苯曱醯基)_苯基 膦氧化物等醯基膦氧化物；苯甲醯甲酸曱酯；丨，7_雙吖啶 基庚烷；以及9-苯基吖啶等《該些化合物可單獨使用丨種， 亦可併用2種以上。 於利用熱硬化反應之情形時，熱聚合起始劑例如可列 舉過氧化曱基乙基酮、過氧化苯甲醯、過氧化二異丙笨、 第二丁基過氧化氫、氫過氧化異丙苯、第三丁基過氧基辛 酸酯、第三丁基過氧基苯甲酸酯、以及過氧化月桂醯等有 機過氧化物；偶氮雙異丁腈等偶氮系化合物；以及於所述 有機過氧化物中組合N，N-二甲基苯胺、以及N，N_二甲基 對甲苯胺等胺而成之氧化還原聚合起始劑等。 聚合起始劑之量較佳的是相對於聚合性化合物1〇〇重 量份而言為0.1重量份〜1〇重量份。若聚合起始劑之量不 足0.1重量份，則難以進行聚合。若聚合起始劑之量超過 10重量份，則存在硬化膜著色，機械強度降低之現象。 活性能量線硬化性樹脂組合物亦可視需要含有靜電防 止劑、脫模劑、用以提高防污性之氟化合物等添加劑、微 粒子、以及少量之溶劑。 28 201144028 (疏水性材料） 的微細凹凸結構之表面的水接 為了使硬化樹脂層44 角 = 二以上’較佳的是使用含有含氟化合物; 系化合物馳合物作為可 奶从石夕氧 化性樹餘合物。 W疏水性材料之活性能量線硬 含氟化合物： 的化=化合罐㈣冑蝴⑽絲之氣絲 (3)

-(CF2)n-X 八中X表示氟原子或氫原子η示 較佳的是L更麵y特錢是4〜8之整數 合物可列舉含氟單體、含氟魏偶合劑、含氣 界面活性劑、以及含氟聚合物等。 3氟單體可雕域炫絲代之乙烯轉體、以及經 氟烷基取代之開環聚合性單體等。 經氟絲取代之乙料單體刊軸氣絲取代之 (甲基)丙烯酸酯、經氟絲取代之(竭丙稀酿胺、經氣嫁 土取代之乙烯驗、以及經氟燒基取代之苯乙稀等。 -經氟烧絲狀麟聚合性單射解經氟絲取代 ，環氧化合物、經氟絲取代之環氧賊化合物、以及經 氟烷基取代之噁唑啉化合物等。 含氟單體触的是經氣絲取代之（f|)丙稀酸醋， 29 201144028 特佳的是下述式（4)之化合物。 CH2=c(R4l)C(〇)〇-(CH2)m-(CF2)n-X (4) 其中，R41表示氣原子或曱基，X表示氫原子或氟原 子，m表示1·〜·6之整數’較佳的是1〜3 ’更佳的是1或2， η表示1〜20之整數’較佳的是3〜，更佳的是4〜8。 含氟矽烷偶合劑較佳的是經氟烷基取代之矽烷偶合 劑’特佳的是下述式（5)之化合物。 (5) (Rf)aR51bSiYc

Rf表示亦可含有1個以上醚鍵或酯鍵之碳數為1 三氟 醯氣 之經氟取代之烷基。Rf可列舉3,3,3-三氟丙基、十〜20 -1，1，2,2-四氫辛基、3-三氟曱氧基丙基、以及3二 —氣乙 基丙基等。 R51表示碳數為1〜10之烧基。R51可列舉甲美、 以及環己基等。 土、乙基、 Y表示羥基或水解性基。 水解性基可列舉烷氧基、以及函素原子、R52 (其中，R52表示氫原子或碳數為卜⑴之貌義）0)〇 烷氧基可列舉甲氧基、乙氧基、丙氧基、& ° 基、異丁氧基、第三丁氧基、戊氧基、己氧基氣ί、 氧基、庚氧基、辛氧基、2_乙基己氧基、壬氣基氧癸^己 201144028 3,7-二甲基辛氧基、以及月桂基氧基等。 鹵素原子可列舉Cl、Br、以及I等。 r52c(o)o 可列舉 CH3C(0)0、C2H5c(〇)〇 等。 a、b以及c表示a + b + c = 4且滿足以及⑵ 之整數，較佳的是a=l、b = 〇、以及c = 3。 含說梦燒偶合劑可列舉3,3,3_三氟丙基三甲氧基石夕 烧、3,3,3-三敗丙基三乙醯氧基石夕燒、三甲基_3,3,3•三氣丙 基甲氧基魏、以及十三氟_U，2,2_四氫辛基三乙氧基魏 等。 含氟界面活性劑可列舉含有氟燒基之陰離子系界面活 性劑、以及含有氟烷基之陽離子系界面活性劑等。 含有氟烷基之陰離子系界面活性劑可列舉碳數為2〜 10之，院基紐或其金屬鹽、錢辛雜絲胺酸二納、 3如氟烧基(c6〜Cll)氧基H•烧基(C3〜C4)續酸納、3> 氣烧酿基(C6〜C8)_N•乙基胺基H·丙續酸鈉、氟烧基^ 〜C2〇)羧酸或其金屬鹽、全氟烷基羧酸(C7〜c^)或其金屬 鹽、全氟烷基(C4〜CU)磺酸或其金屬鹽、全氟辛磺酸二乙 醇胺、N-丙基-Ν·(2_經基乙基)全氟辛績醯胺、全氟烧基(Q 〜C10)確醯胺丙基三甲基録鹽、全氣烧基乙石黃 醯基甘胺酸鹽、以及單全氟絲(Q〜Ci6)乙基磷酸醋等。 &含有氟烧基之陽離子系界面活性劑可列舉含有就烧基 之脂肪族-級、二級或三級醯紐、全㈣基(Q〜Ci〇)績 酿胺丙基三甲基録鹽等脂肪族四級銨鹽、苯二曱烴銨 (benzalkonium)鹽、节索氣銨（benzeth〇nimn 物疏）、 31 201144028 。比°定鏽鹽、以及X»米唾琳鏽鹽等。 含氟聚合物可列舉含有氟烷基之單體之聚合物、含有 氟烧基之單體與含有聚(氧基亞烷基)基之單體的共聚物、 以及含有氟烷基之單體與含有交聯反應性基之單體的共聚 物等°含氟聚合物亦可為與可共聚之其他單體之共聚物。 含氟聚合物較佳的是含有氟烷基之單體與含有聚（氧 基亞烧基)基之單體的共聚物。 聚(氧基亞烷基)基較佳的是下述式（6)所表示基。 -(〇R61)p- (6) 其中，R61表示碳數為2〜4之亞烷基，p表示2以上 之整數。 R61 可列舉·ς：Η2(：Η2-、-CH2CH2CHr、·〇：Η((：Η3)(：Η2-、 以及-ch(ch3)ch(ch3)-等。 2 象（氧基亞烷基)基可為由同一氧基亞烷基單元(〇R6 所構成’亦可為由2種以上氧基亞烷基單元(〇ϊ^)所構成。 2種以上之氧基亞烷基單元(orM)之排列可為嵌段亦可為 無規。 … 聚矽氧系化合物： 聚石夕氧系化合物可列舉（甲基)丙烯酸改質聚石夕氧石 氧樹脂、以及聚矽氧系矽烷偶合劑等。 巧 (甲基）丙烯酸改質聚矽氧可列舉聚矽氧 烯酸醋等。 八T基）¾ 32 201144028 (親水性材料） 為了使硬化樹脂層44之微細凹凸結構之表面的水接 =角為25°以下，較佳的是使用至少含有親水性單體之组 合物作為可形成親水性材料之活性能量線硬化性樹脂組合 而且，自賦予耐擦傷性或耐水性之觀點考慮，更佳的 是含^可交聯之多官能單體的組合物。另外，親水性單體 與可交聯之多官能單體亦可相同（即，親水性多官能單 體）。另外，活性能量線硬化性樹脂組合物亦可含有其他單 體。 ’、 作為可形成親水性材料之活性能量線硬化性樹脂組合 物’更佳的是使用含有下述聚合性化合物之組合物。 由4官能以上之多官能（曱基)丙烯酸酯i〇wt%〜5〇 wt%、 2官能以上之親水性（曱基）丙烯酸酯3〇 wt%〜8〇 wt%、以及 單B能單體0 wt%〜20 wt%共計1〇〇 Wt%而構成之聚 合性化合物。 4官能以上之多官能（甲基)丙烯酸酯可列舉二-三羥曱 基丙烧四（甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四（曱基)丙稀酸酯、季 戊四醇乙氧基四（甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇羥基五（曱基) 丙烯酸酯、二季戊四醇六（曱基)丙烯酸酯、琥珀酸/三羥曱 基乙烷/丙烯酸之莫耳比為1 : 2 : 4之縮合反應混合物、丙 烯酸胺基甲酸酯類（DAICEL-CYTEC Company，Ltd.製造： EBECRYL220 ' BBECRYL1290 > EBECRYL1290K ' 33 201144028 EBECRYL5129、EBECRYL8210、EBECRYL8301、 KRM8200 )、聚醚丙烯酸酯類（DAICEL-CYTEC Company, Ltd.製造：EBECRYL81 )、改質丙烯酸環氧酯類 (DAICEL-CYTEC Company，Ltd.製造：EBECRYL3416)、 聚酯丙烯酸酯類（DAICEL-CYTEC Company，Ltd.製造： EBECRYL450 、EBECRYL657 、EBECRYL800 、 EBECRYL810 、 EBECRYL811 、 EBECRYL812 、 EBECRYL1830、EBECRYL845、EBECRYL846、 EBECRYL1870)等。該些化合物可單獨使用1種，亦可併 用2種以上。 4官能以上之多官能（曱基)丙烯酸酯更佳的是5官能 以上之多官能（曱基）丙烯酸酯。 4官能以上之多官能（曱基）丙烯酸醋之比例較佳的是 10 wt%〜50 wt%，自耐水性、耐化學品性之方面考慮，更 佳的是20 wt%〜50 wt%，特佳的是30 wt%〜50 wt%。若 4官能以上之多官能（曱基）丙稀酸酯之比例為1〇wt〇/〇以 上，則彈性模數變高而提高耐擦傷性。若4官能以上之多 官能（曱基)丙稀酸酯之比例為50 wt%以下，則難以於表面 產生小的龜裂，難以變得外觀不良。 2 &月匕以上之親水性（曱基)丙稀酸醋可列舉ar〇nix M-240、ARONIX M260 (東亞合成公司製造）、ΝΚ M^OE、以及NKEsterATM-35E (新中村化學公司製造） 專具有長鏈聚乙一醇之多官能丙烯酸酯；以及聚乙二醇二 曱基丙烯酸g旨等。該些化合物可單獨使用1種，亦可併用 34 201144028 2種以上。 於聚乙二醇二甲基丙烯酸醋中，於 之平均重複單元之合計較佳的是子6=存= =疋二30,特佳的是12〜2。。絲乙二醇鏈之= 早4 6以上，職水性縣分，防污性提高。複 醇鏈之平均重複單元為4〇以 A — (甲基)丙_酯之相溶性變良好/活…=上之多官能 組合物難以分離。 好#U線硬化性樹脂 2官能以上之親水性（曱基)丙婦酸 3〇 wt〇/o^S0 wt〇/o , . 4〇 wt〇/_7〇 wt% 之親水性(甲基)丙稀酸醋之比例為3〇wt%以上，則= 充分’防污性提高°若2官能以上之親水性（甲^ 之比例為8。wt%以下，則彈性模數變高且耐擦傷) 單官能單體較佳的是親水性單官能單體。

親水性單官能單體可列舉M-20G、M-90G、M-230G (新中村化學公㈣造）科®旨基具錢乙二_之單官 能（曱基)丙烯酸醋；（曱基)丙烯酸羥基烷基酿等於醋基具有 私基之單官能（甲基)丙稀酸醋；單官能丙烯醯胺類；以及 甲基丙烯醯胺丙基三曱基銨曱基硫酸鹽、以及曱基丙烯醯 氧基乙基三甲基銨曱基硫酸鹽等陽離子性單體類等。 而且，單官能單體亦可使用丙烯醯基嗎琳、以及乙歸 ，吡咯啶酮等黏度調整劑；以及使對物品本體之密接性提 向的丙烯醯基異氰酸酯類等密接性提高劑等。 35 201144028 X ί 單官能單體之比例較佳的是ο wt%〜20 wt%，更佳的 是5 Wt%〜15 wt%。藉由使用單官能單體，可提高物品本 體與硬化樹脂之密接性。若單官能單體之比例為2〇禮〇以 下，則並無4官能以上之多官能（甲基）丙烯酸酯或2官能 以上之親水性（甲基）丙烯酸酯不足之現象，從而可表現出 充分之防污性或耐擦傷性。 單官能單體亦可製成使1種或2種以上（共）聚合而 成之低聚合度聚合物而以〇重量份〜35重量份調配於活性 能量線硬化性樹脂組合物中。低聚合度聚合物可列舉 M-f0G(射村化學公司製造）等於S旨基具有聚乙二醇鏈 之早官能（甲基）丙烯酸酯類與甲基丙烯醯胺丙基三曱基 甲基硫酸鹽之4咖共聚合絲物（MRC咖咏公^ 造、MG聚合物）等。 (用途） 物品40之用途可列舉抗反射物品、防霧性物品、防污 i以及斥水性物品’更具體而言可列舉顯示器用抗 ^射、、,汽車儀錶蓋、汽車鏡、汽轄、有機或紐電致發 光之光出射效率提高部件、以及太陽電池部件等。 (作用效果） α =以上所說明之本發明之表面具有微細凹凸結構的物 1、1這方去中，使用了藉由本發明之模具的製造方法所 :于之模具’因此即使於將模具之微_凸結構反祕印里 2之表面之情形時，脫模性亦難以降低，其結果可生產 性良好地製造表面具有微細凹凸結構的物品。 36 201144028 例之：：40 :丨：凹凸結構的物品並不限定於圖示 細凹凸結構亦可㈣置硬化樹脂層 且20而兮至S 然'而’自可使用減模 :20而效率良好地形祕_凸結構之方 疋於^化樹脂層44之表面形成微細凹凸結構。，Η的 [實例] 以下/㈣辦本伽㈣更具叙 明並不限定於該些實例。 4知 (陽極氧化鋁之細孔） 削去陽極氧触之-部分，祕驗於剖面上i分 鐘，使用場發卿掃描電子顯微鏡（日本電子公 JSM-7400F) ’於加速電壓為3⑼kv之條件下，觀察剖面， 測定細孔之間隔以及細狀深度。分騎5G點進行測 求出其平均值。 (轉印試驗、剝離強度） 於模具之形成有微細凹凸結構之側的表面上，流入1 μί之活性能量線硬化性樹脂組合物a，覆蓋聚對笨二甲酸 乙二醋（PET)薄膜後，藉由uv騎機（高壓水銀燈， 累計光量為1100 mJ/cm2)進行硬化。繼而，將pET膜 同硬化樹脂自模具上剝離（脫模）。 、 並不變更模具，而是重複該操作，於第4〇〇次脫模 進行90度剝離試驗，求出剝離強度。 、、 (活性能量線硬化性樹脂組合物A) TAS :號拍酸/三經曱基乙烧/丙稀酸之莫耳比為1 . 2 . 37 201144028 4的縮合反應混合物，45重量份、 C6DA: 1，6-己二醇二丙烯酸酯（大阪有機化學公司製 造）；45重量份、 X-22-1602:自由基聚合性聚矽氧油（信越化學工業公 司製）；10重量份、

Irgl84 : 1-經基環己基苯基酮（汽巴精化股份有限公司 製造、Irgacure 184) ; 3 重量份。 [實例1] 使用將50 mmx50 mmx厚〇.3 mm之鋁板（純度 99.99%)於過氣酸/乙醇混合溶液（1/4體積比）中進行電 解研磨而成者。 步驟（a): 關於所述鋁板，於〇.3 Μ草酸水溶液中，於直流40 V、 溫度16°C之條件下進行6小時之陽極氧化。 步驟（b): 將形成有氧化皮膜之鋁板於6 wt%磷酸/1.8 wt%鉻酸 混合水溶液巾浸潰3小時’除去氧化皮膜。 步驟（c): ' ^關於所述鋁板，於〇·3 Μ草酸水溶液中，於直流40 V、 溫度16 C之條件下進行3G秒之陽極氧化。 步驟: 將形成有氧化皮膜之銘板 ，於32。(：之5wt%磷酸水溶 ' a潰8分鐘’進行細孔徑擴大處理。 步驟（e): 38 201144028 、、田所述1呂板於〇.3 M草酸水溶液中，於直流40 v、 肌又 之條件下進行30秒之陽極氧化。 步驟（f): …反覆進行所述步驟⑷及步驟（e)合計4次，最後 進行；/驟（d) ’獲得於表面形成有陽極氧化紹的模具本體 a，所述陽極氧倾具有平均間隔：⑽. 之略圓錐形狀的細孔。 步驟（g): 使用嘴水器將模具本體a之表面的磷酸水溶液輕輕沖 洗去’錢將模具本體a浸潰於流水中1()分鐘。 步驟（h): 自氣槍（air gUn)對模具本體&吹空氣，除去附著於 模具本體a之表面的水滴。 步驟（i): 將模具本體a於室溫下，於以稀釋劑hd_zv(harves (：〇.，1^丄製造）將〇?丁001^1^：^(大金化成品販壳公司製 造）稀釋為0.1 wt%而得之溶液中浸潰1〇分鐘。將模具本 體a以3mm/sec緩緩地自稀釋溶液中拉上來。 步驟（j): 將模具本體a風乾15分鐘。 步驟（k): 關於脫模劑處理之模具本體a，使用恆溫恆濕器（楠 本化成公司製造）’於溫度60。(：、相對濕度85%下放置1 小時，進行加熱加濕處理。 39 201144028. 步驟（m): 進一步反覆進行4次步驟（i)〜步驟（k)。 步驟（η): 將模具本體a風乾一晚，獲得模具。 使用所述模具進行轉印試驗。藉由指數逼近而對根據 90度剝離試驗所求得之第1次至第4〇〇次的剎離強度進行 外推而求出第800次之剝離強度，概算剝離強度達到％ N/m之轉印次數’作為可轉印次數。將結果示於表1。 另外’於後述之比較例1中，於可轉印次數為24〇次 時剝離強度達到35 N/m，於模具侧附著有硬化樹脂，因此 產生未能脫模之區域。 [實例2] 將步驟（m)中之反覆次數設為2次，除此以外與實 例1同樣地進行而獲得模具。 一使用所述模具而與實例丨同樣地進行轉印試驗。將社 果示於表1。 [實例3] 將步驟（m)中之反覆次數設為丨次，除此以外盥實 列1同樣地進行而獲得模具。 里_使用所述模具而與實例1同樣地進行#印試驗。將结 禾不於表1 β 、σ [比較例1] 驟（m)以外，與實例1 _除了未進行步驟（k)以及步 同樣地進行而獲得模具。 201144028 w » 果示於表IS述模八’、實例1同樣地進行轉印試驗。將結 [比較例2] 獲得2未進仃4 U)以外，與實例1同樣地進行而 果示^述模具，與實例1 _進行轉㈣驗。將結 [比較例3] 得模^未進行步驟（k)_，與實例2_地進行而獲 使用所述模具，與實例1囡婵 果示於表1。 Un樣地進仃轉印試驗。將結 [比較例4] 將0PT〇〇LDSX之稀釋溶液之濃度變更為 0.3 wt% » 除此以外與比較例i同樣地進行而獲得模1。 一使用所賴具，與實例丨囉地進行轉印試驗。將結 果不於表1。 [比較例5] 將OPTOOLDSX之稀釋溶液之濃度變更為〇 3 wt〇/〇 ’ 除此以外與比較例2同樣地進行而獲得模具。 使用所述模具，與貫例1同樣地進行轉印試驗。將結 果不於表1。 根據以上之實例以及比較例可知··於適當之脫模劑濃 度下對進行了脫模劑處理之模具本體反覆進行加熱加濕處 201144028 ^藉此可製造即使反覆轉印表面之微細凹凸 長時間維持脫模性的模具》 、特別是於脫模劑之濃度為〇J威附近而反覆進行2 二人以g熱加濕處理’藉此可非f長之時間地維持脫模性。

[產業上之可利用性] ，由本發_製造方法所得之模具可用作藉由壓印法 製ie抗反射膜以及斥水性薄膜時之模具。 雖然本發明已以較佳實施例揭露如上，然其並非用以 5本發明，任何熟習此者，在不麟本發明之精神 和範圍内，當可作些許之更動與潤飾，因此本發明之 範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。 ，、° 【圖式簡單說明】 1是表示表面具有陽極氧化鋁之模具的製造步驟之 圖 剖面圖 圖2是表示表面具有微細凹凸結構的物品的製造 之一例的構成圓。 、直 42 201144028 圖3是表示表面具有微細凹凸結構的物品之一例的剖 面圖。 【主要元件符號說明】 10 :鋁基材 12 :細孔 14 ··氧化皮膜（陽極氧化鋁） 16 :細孔產生點 18 :模具本體 20 :輥狀模具 22 :貯槽 24 :氣壓缸 26 :夾報 28 :活性能量線照射裝置 30 :剝離輥 40 :物品 42:薄膜（物品本體） 44 :硬化樹脂層 46 :凸部 43

Claims (1)

1. 201144028t 七、申請專利範圍： 1. 一種模具的製造方法，其具有下述步驟（1)〜 驟（IV): (I)製作在表面形成有微細凹凸結構的模具本體的 驟； (π)於所述步驟d)後，對所述模具本體的形成有 所述微細凹凸結構之侧的表面，藉由具有可與所述表面上 存在之官能基（A)反應之官能基⑻的脫模劑進行處理 的步驟； (III) 於所述步驟（11)後，將所述模具本體於加埶 加濕下放置的步驟； ”' (IV) 將所述步驟（π)以及所述步驟（冚）反覆進 行2次以上的步驟。 2. 如申請專利範圍第1項所述之模具的製造方法，其 中， 所述官能基（B)是水解性矽烷基。 3. 如申請專利範圍第1項或第2項所述之模具的製造 方法，其中， 所述脫模劑之所述官能基（B)是水解性矽烷基，且 是具有全氟聚醚結構之脫模劑。 4. 如申凊專利範圍第1項至第3項中任一項所述之模 具的製造方法，其中， 、 於所述步驟（Π)中，所述脫模劑之濃度為0.06 wt% 以上0.15 wt%以下。 44 201144028 具的製造方法，其中， 如申凊專利範園第1

   孔之微細凹凸結構的模具。 1項至第4項中任—項所述之模 6.如申請專利範圍第1 具的製造方法，其中， 汀通微、，、田凹凸結構的所述模具 於其表面形成具有2個以上細 項至第5項中任一項所述之模 所述細孔之平均間隔為働nm以下。 中，7.如申4糊範®第6項所述之模具的製造方法，其 所述細孔之平均間隔為2〇 nm以上4〇〇 nm以下。 呈的t t中睛專利範圍第1項至第7項中任—項所述之模 具的製造方法，其中， 所述步驟⑴具有下述之步驟（a)〜步驟⑴， 所述步驟（II)具有下述之步驟（g)〜步驟（j)， 所述步驟（111)具有下述之步驟（k)及/或步驟（1)， 所述步驟（IV)具有下述之步驟（m)及/或步驟（n): (a) 將鋁基材於電解液中、恆定電壓下進行陽極氧化 而於所述鋁基材之表面形成氧化皮膜的步驟； (b) 除去所述氧化皮膜，於所述鋁基材之所述表面形 成陽極氧化之細孔產生點的步驟； (c) 於所述步驟（b)後，將所述鋁基材於所述電解 液中再次進行陽極氧化’形成於所述細孔產生點具有細孔 之氧化皮膜的步驟； 45 201144028 步驟；；所述步驟（e)彳έ，使所述細孔之直徑擴大的 陽極驟⑷後’於所述電解液中再次進行 於所述步驟⑷與所述步驟（e)，獲得 陽極氧化銘之模具本體有具有2個以上所述細孔的 的步於所述步驟⑴後，對所述模具本體進行水洗 jh)於所述步驟（g)後，對所賴具本體吹空氣， 將附著於所述模具本體之所述表面的雜質除去的步驟； (i) 於所述步驟（f)〜所述步驟（h)後，將所述表 面導入有羥基之所述模具本體，浸潰於以氟系溶劑將具有 水解性矽烧基之氟化合物稀釋而成之稀釋溶液中的步驟； (j) 於所述步驟（i)後’使所述模具本體乾燥的步 驟； (k) 於所述步驟（〇後，將所述模具本體於加熱加 濕下放置的步驟； (l) 以氟系溶劑對所述夕驟（k)之後的所述模具本 體進行清洗的步驟； (m) 將所述步驟（0〜所述步驟（1)作為1個循環， 反覆進行2次以上所述循環的步驟； (η)於所述步驟（m)後’使所述模具本體乾燥的步 201144028 9. 一種表面具有微細凹凸結構的物品的製造方法，其 包含： 將藉由如申請專利範圍第1項至第8項中任一項所述 之模具的製造方法所得之模具之表面的微細凹凸結構轉印 至物品本體之表面。