JP5309579B2 - 樹脂成形金型及びその製造方法 - Google Patents

樹脂成形金型及びその製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP5309579B2
JP5309579B2 JP2008023159A JP2008023159A JP5309579B2 JP 5309579 B2 JP5309579 B2 JP 5309579B2 JP 2008023159 A JP2008023159 A JP 2008023159A JP 2008023159 A JP2008023159 A JP 2008023159A JP 5309579 B2 JP5309579 B2 JP 5309579B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mold
silane coupling
silicon dioxide
coupling agent
resin molding
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2008023159A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2009184117A (ja
Inventor
基弘 山田
秀樹 河合
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Konica Minolta Inc filed Critical Konica Minolta Inc
Priority to JP2008023159A priority Critical patent/JP5309579B2/ja
Publication of JP2009184117A publication Critical patent/JP2009184117A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5309579B2 publication Critical patent/JP5309579B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Description

この発明は、微細形状を有する成形物を成形するのに好適な樹脂成形用金型及びその製造方法に関し、特に、ナノインプリントの金型及び射出成形用金型に関する。
例えば、ナノインプリントでは、金型の表面に形成された凹凸を、樹脂素材に押しつけ、樹脂素材に凹凸を転写することにより、微細形状を有する成形物が成形される。金型と成形物とを離型する。金型と成形物との密着力が大きいと、成形物が金型に強固に付着する不具合が発生し、成形物を金型から剥がす際に、成形物の一部がちぎれたりして損傷し、成形物の歩留まりが低下する場合が生じる。また、金型の凹凸が破損する場合があり、金型の耐久性が低下する。
成形物の歩留まりを上げ、及び金型の耐久性を高めるために、金型の表面に離型剤が塗布される(例えば、特許文献1)。離型剤には、例えば、フルオロアルキル基を有するシランカップリング剤が用いられる。シランカップリング剤は、金型の表面の表面自由エネルギーを小さくし、金型と成形物との密着力を低下させることができる。
金型材料に二酸化ケイ素やケイ素が使われている。二酸化ケイ素やケイ素の最表面の一部のダングリングボンドは、水酸基によって終端されていることが知られている。また、二酸化ケイ素にシランカップリング剤を導入すると、二酸化ケイ素の最表面に存在する水酸基とシランカップリング剤の官能基とが反応して、二酸化ケイ素とシランカップリング剤とが共有結合することが知られている。これらのことから、金型材料に二酸化ケイ素やケイ素を使い、金型の表面にシランカップリング剤を塗布した場合に、金型とシランカップリング剤との共有結合により、金型とシランカップリング剤が強固に結合し、金型からシランカップリング剤が剥離し難くなる。それにより、金型にシランカップリング剤を塗布する回数を減らすことが可能となる。また、シランカップリング剤は、5nm程度の単分子膜として、金型の表面に塗布することができるので、ナノメートルオーダーの構造寸法をもつ金型にも適用可能となる。
金型の耐久性を高めるために、金型材料に、二酸化ケイ素よりも硬いNi、Ta、Wなどの金属を使うことが考えられる。また、金型材料にNiを使用し、金型の表面に離型剤を刷毛やスプレーなどで塗布する方法が知られている(例えば、特許文献2及び特許文献3)。
特開2002−283354号公報 特開平5−318679号公報 特開平11−300763号公報
しかしながら、金型材料にNi、Ta、Wなどの金属を使用すると、金型の表面が水酸基を有しないので、金型とシランカップリング剤が強固に結合せず、金型の表面からシランカップリング剤が度々剥離し、シランカップリング剤の塗布する回数が増えるおそれがある。金型の表面からシランカップリング剤が剥離したままにしておくと、前述したように、金型に成形物が付着する不具合が発生し、生成物の一部がちぎれるなどの損傷が発生し、成形物の歩留まりが低下する。また、金型の凹凸が損傷し、金型の耐久性が低下するという問題点があった。
また、上記特許文献2及び特許文献3に記載されたような、Niの金型の表面に離型剤を塗布する方法では、一般的にミクロンオーダーの塗布膜厚となり、離型剤の膜厚をナノメートルオーダーまで薄くすることは困難を伴う。そのため、例えば、ナノスケールサイズの微細形状を有する成形物を成形する樹脂成形用金型に適用し難いという問題がある。
この発明は、上記の問題を解決するものであり、成形物の歩留まりを上げ、金型の耐久性を高め、離型剤の塗布する回数を抑えることができる樹脂成形用金型及びその製造方法を提供することを目的とする。
上記目的を達成するために、請求項1に記載の発明は、Ni、Ta、W、SiC、SiN、DLC、セラミックス、樹脂のうちの1つの材料により形成された金型の表面に二酸化ケイ素の膜を形成する成膜工程と、前記二酸化ケイ素の膜の表面にシランカップリング剤を塗布する離型剤形成工程と、を含むことを特徴とする樹脂成形用金型の製造方法である
求項に記載の発明は、前記成膜工程が、水溶液中に前記金型を浸漬させ、前記水溶液中において金属フルオロ錯体が加水分解することにより、前記金型の表面に二酸化ケイ素の膜を形成することを特徴とする請求項1に記載の樹脂成形用 請求項3に記載の発明は、金型の製造方法である。
請求項に記載の発明は、前記シランカップリング剤がフッ素を含有することを特徴とする請求項1に記載の樹脂成形用金型の製造方法である。
請求項に記載の発明は、Ni、Ta、W、SiC、SiN、DLC、セラミックス、樹脂のうちの1つの材料により形成された金型と、前記金型の表面に形成した二酸化ケイ素の膜と、前記二酸化ケイ素の膜の表面に塗布したシランカップリング剤の膜と、を有することを特徴とする樹脂成形用金型である。
請求項に記載の発明は、前記金型の表面は凹凸パターンを有することを特徴とする請求項に記載の樹脂成形用金型である。
この発明によると、金型の表面に二酸化ケイ素の膜を形成し、二酸化ケイ素の膜の表面にシランカップリング剤を塗布することで、金型にシランカップリング剤が強固に結合する。それにより、樹脂成形時に、金型からシランカップリング剤が剥離し難くなり、金型と成形物との密着力が大きくならず、金型に成形物が付着するのを抑え、成形物の損傷をなくし、成形物の歩留まりを上げることができる。また、金型の損傷をなくし、金型の耐久性を向上することが可能となる。さらに、シランカップリング剤を塗布する回数を抑えることが可能となる。
この発明の一実施形態に係る樹脂成形用金型の構成について、図1〜図3を参照して説明する。図1は、樹脂成形用金型を破断して示した断面図、図2は、樹脂成形用金型の一部を破断して示した部分断面図、図3は、金型の表面に離型剤を塗布した際に、金型に離型剤が強固に結合することを説明した図である。
この一実施形態に係る樹脂成形用金型は、その表面に刻み込んだ寸法が数十nm〜数百nmの凹凸パターンを、樹脂素材に押し付けて形状を転写するナノインプリントの金型に用いられる。
金型1の表面11には凹凸パターン12が形成されている。表面11に凹凸パターンが形成された金型1と、樹脂素材3を載せたプレート2とを図1に示す。凹凸パターン12の周期が350nmであり、凹凸パターン12の深さが2000nmである金型1を図2に示す。
金型1は、Ni、Ta、Wの金属のいずれか1つの金属材料により形成されている。なお、金型の材料は、金属に限らず、SiC、SiNなどのセラミックス、DLC(Diamond Like Carbon)、及び樹脂のうちの1つの材料であっても良い。
また、金型1は、ガラスのような熱伝導係数の低い材料(断熱材)を用いる。断熱材を用いることで樹脂の上面と下面の温度分布を小さくできる。ただしガラスに限らず反対に熱伝導係数の高い金属等の材料を用いて積極的に温調することで温度分布を小さくしても良い。
図2に示すように、金型1の表面11には二酸化ケイ素の膜13が形成されている。二酸化ケイ素の膜13は、凹凸パターン12に形成されている。二酸化ケイ素の膜13の膜厚は、10nm以下であることが好ましく、5nm程度であることがさらに好ましい。
この実施形態では、液相から二酸化ケイ素の膜13を析出させる液相析出法によって、二酸化ケイ素の膜13を金型の表面11に形成する。具体的には、水溶液中に金型を浸漬させて、金型の表面11の凹凸パターン12に二酸化ケイ素の膜13を形成する。
液相析出法は、水溶液中において金属フルオロ錯体の平衡反応を利用して金属酸化膜を金型に直接形成する方法である。この反応は、以下の化学反応で表すことができる。
(化1)
MF (x−2n)−+nHO→MO+xF+2nH
(化2)
BO+4H+4F→HBF+3H
化学反応式(1)が主反応であり、Mは金属を表している。
金属フルオロ錯体が加水分解することにより金属酸化物を生成する。このとき、化学反応式(2)に示すように、系内にホウ酸を添加することによりフッ化物イオンを消費させる。フッ化物イオンが消費されると、化学反応式(1)の平衡反応を右側へシフトさせ、金属酸化物の析出反応を促進させる。
この実施形態では、金属酸化物は、二酸化ケイ素である。化学反応式(1)、(2)の反応をする水溶液中に、金型1を浸漬することよって、金型1の表面11の凹凸パターン12に、均一な二酸化ケイ素の膜13を形成する。この液相析出法は、蒸着法、スパッタ法及びゾルゲル法その他の成膜方法に比較して、微細かつ複雑な形状に対して均一な厚さで成膜することができるという利点がある。
以上に説明したように、液相析出法によって、金型1の表面11の凹凸パターン12に二酸化ケイ素の膜13を形成し、その二酸化ケイ素の膜13にシランカップリング剤を塗布する。
このように、製造された金型とシランカップリング剤との結合について、図3を参照にして説明する。
図3(a)に示す金型1の表面11に、液相析出法によって、二酸化ケイ素の膜13を形成する。図3(b)に示すように、金型1の表面11に形成した二酸化ケイ素の膜13は水酸基を有している。二酸化ケイ素の膜13に塗布されるシランカップリング剤を図3(c)に示す。
離型剤として使用されるシランカップリング剤はフルオロアルキル基を有するものが一般的に使用される。フッ素の持つ小さな表面自由エネルギーが金型と樹脂の密着力を低減する機能を発現するためである。フルオロアルキル基を有するシランカップリング剤としては例えば下記のようなものが一般的である。
CF(CHSiCl
CF(CHSiCl
CF(CF(CHSiCl
CF(CF(CHSiCl
CF(CFCHCHSi(OCH
CF(CF(CHSi(CH)Cl
CF(CHSi(OCH
CF(CHSi(CH)(OHCH
CF(CF(CHSi(OCH
CF(CF(CHSi(OCH
これらの物質はフッ素系の有機溶剤、例えば住友スリーエム株式会社製のノベックHFE7100などで希釈して使用される。
上記溶液に金型を浸漬させゆっくり引き上げたり(ディップコート)、液滴を高速回転させて塗り広げる(スピンコート)することによって表面にシランカップリング剤の薄膜を形成する。その後一定の湿度下で加温することによって加水分解させる。
このとき、シランカップリング剤のクロロ基(−Cl)やメトキシ基(−OCH)はシラノール(Si−OH)となる。このシラノールが即座に金型表面のヒドロキシ基(−OH)と脱水縮合反応することで、金型とシランカップリング剤が共有結合で結合する。金型とシランカップリング剤が結合した共有結合を図3(d)に示す。
(実施例)
次に、上述した実施形態の具体的な実施例について、図4を参照にして説明する。図4は、実施例に基づいて製造された樹脂成形用金型により成形物を成形した後に、その金型により成形した成形物を光学顕微鏡で観察したときの写真を示す図である。実施例では、樹脂成形用金型により所定数の成形物を成形した後に、その金型により成形した成形物を観察した。
実施例では、樹脂成形用金型を次のように製造した。まずシリコン基板上にフォトマスクを形成しドライエッチング加工することによってシリコン基板表面上に350nm周期、深さ2000nmのライン&スペース構造をφ4mmの領域に作製した。このシリコン基板を金型として、たとえば特開2006−15523号公報記載の熱インプリントをして、PMMA(ポリメタクリル酸メチル)表面に金型の凹凸構造を転写した。樹脂はPMMAに限らず熱可塑性樹脂であればよくたとえばポリカーボネートなどでもよい。表面に凹凸構造をもつPMMAに電鋳によりニッケルを析出させ、樹脂を有機溶剤によって溶解除去することによってニッケル金型を得た。このニッケル金型に本手法によりSiO膜を5nm形成し、シランカップリング剤を塗布した。シランカップリング剤には、フッ素系のシランカップリング剤であるダイキン工業株式会社製のオプツールDSXを使用し、0.1wt%溶液にディップコートすることによって薄膜を形成し、その後湿度80%、温度90℃雰囲気に1.5時間置くことで加水分解、脱水縮合反応させることで3μm程度の厚みの離型剤層を金型表面に形成した。
以上のように製造した樹脂成形用金型により、凹凸パターンを樹脂素材に転写し、100個の成形物を成形した。その後、その金型により成形した成形物を図4に示す。
図4に示す成形物において、凹凸パターンを樹脂素材に転写した領域の全部が、白く抜けて見える。これは、凹凸パターンを転写した領域の全部で損失(欠陥)が生じていないことを示す。この結果、実施例においては、シランカップリング剤を塗布する頻度を大幅に少なくすることができた。また、金型の耐久性を高めることができた。
(比較例)
次に、比較例について図5を参照にして説明する。図5は、従来の樹脂成形用金型により、10個の成形物を成形した後に、その金型により成形した成形物を光学顕微鏡で観察したときの写真を示す図である。
比較例では、樹脂成形用金型を次のように製造した。実施例と同様に表面にライン&スペース構造を表面に有するシリコン基板を金型として、PMMA表面に凹凸構造を転写した後、転写された凹凸構造を有するPMMA表面に電鋳によりニッケルを析出させ、ニッケル金型を得た。実施例とは異なり、ニッケル金型の表面にはSiO膜を形成せずにニッケル金型の表面の凹凸パターンにシランカップリン剤を実施例を同様の方法で塗布してて、離型剤層を形成し、樹脂成形用金型とした。
以上のように製造した樹脂成形用金型により、凹凸パターンを樹脂素材に転写し、所定数の成形物を成形した。成形物の個数は実施例より少なく、10個である。その後、その金型により成形した成形物を図5に示す。
図5に示す成形物において、凹凸パターンを樹脂素材に転写した領域に、黒い帯状のものが数多く見える。これは、黒い帯状の領域で構造の欠陥(抜け、倒れ)が生じていることを示す。この結果、比較例においては、シランカップリング剤を塗布する頻度を少なくすることができなかった。また、金型の耐久性を高めることができなかった。
(射出成形用金型の実施例)
前記実施の形態では、金型の表面に形成された凹凸パターンを、樹脂素材に押しつけ、樹脂素材に凹凸を転写するナノインプリントの金型を示したが、射出成形用金型であっても良い。
実施例に係る射出成形用金型を次のように製造した。Ni製の金型の表面に凹凸パターンである回折格子パターンを形成し、回折格子パターンに二酸化ケイ素の膜を形成し、二酸化ケイ素の膜にフロオロアルキル基を有するシランカップリング剤を厚さ3nm塗布する。本実施例での回折パターンは5μmピッチで高さ15μmのブレーズ回折格子形状である。
この射出成形用金型により成形物を成形したところ、シランカップリング剤は、射出成形時の摩擦や温度によって徐々に劣化するため、ある頻度でシランカップリング剤を塗布しなおす工程が必要となる。しかし、回折格子パターンにシランカップリング剤を直接塗布した従来の金型に比較して、大幅に塗布する頻度を少なくすることができた。
シランカップリング剤の塗布する頻度が少なくなったのは、実施例の金型において、回折格子パターンに形成した二酸化ケイ素の膜とシランカップリング剤とが強く結合(共有結合)した結果であると考えられる。これに対し、従来の金型においては、回折格子パターンとシランカップリング剤とが弱く結合(分子間力、水素結合)した結果であると考えられる。
なお、前記実施の形態では、金型材料として、Ni、Ta、Wの金属を示した。これに限らず、SiO、SiC、のセラミックス、DLC(Diamond Like Carbon)、及び樹脂であっても良い。これらの材料により金型を形成した場合にも、その金型の表面に二酸化ケイ素の膜を形成し、形成した二酸化ケイ素の膜にシランカップリング剤を塗布すれば良い。
また、実施の形態においては、シランカップリング剤と共有結合するものとして、二酸化ケイ素の膜13を挙げたが、金型の表面11に形成するものは、二酸化ケイ素の膜に限らない。例えば、TiO(酸化チタン)、V(酸化バナジウム)、MnO(二酸化マンガン)、ZnO(酸化亜鉛)その他の表面に水酸基を有する金属酸化膜であっても良い。
この発明の一実施形態に係る樹脂成形用金型を破断して示した断面図である。 樹脂成形用金型の一部を破断して概念的に示した部分断面図である。 樹脂成形用金型の表面に離型剤を塗布した際に、樹脂成形用金型に離型剤が強固に結合することを説明した図である。 実施例に基づいて製造された樹脂成形用金型により、所定数の成形物を成形した後に、その金型により成形した成形物を光学顕微鏡で観察したときの写真を示す図である。 従来の樹脂成形用金型により、実施例と同数の成形物を成形した後に、その金型により成形した成形物を光学顕微鏡で観察したときの写真を示す図である。
符号の説明
1 金型 11 表面 12 凹凸パターン 13 二酸化ケイ素の膜
2 プレート 3 樹脂素材

Claims (5)

  1. Ni、Ta、W、SiC、SiN、DLC、セラミックス、樹脂のうちの1つの材料により形成された金型の表面に二酸化ケイ素の膜を形成する成膜工程と、
    前記二酸化ケイ素の膜の表面にシランカップリング剤を塗布する離型剤形成工程と、
    を含むことを特徴とする樹脂成形用金型の製造方法。
  2. 前記成膜工程は、水溶液中に前記金型を浸漬させ、前記水溶液中において金属フルオロ錯体が加水分解することにより、前記金型の表面に二酸化ケイ素の膜を形成することを特徴とする請求項1に記載の樹脂成形用金型の製造方法。
  3. 前記シランカップリング剤は、フッ素を含有することを特徴とする請求項1に記載の樹脂成形用金型の製造方法。
  4. Ni、Ta、W、SiC、SiN、DLC、セラミックス、樹脂のうちの1つの材料により形成された金型と、
    前記金型の表面に形成した二酸化ケイ素の膜と、
    前記二酸化ケイ素の膜の表面に塗布したシランカップリング剤の膜と、
    を有することを特徴とする樹脂成形用金型。
  5. 前記金型の表面は凹凸パターンを有することを特徴とする請求項に記載の樹脂成形用金型。
JP2008023159A 2008-02-01 2008-02-01 樹脂成形金型及びその製造方法 Expired - Fee Related JP5309579B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008023159A JP5309579B2 (ja) 2008-02-01 2008-02-01 樹脂成形金型及びその製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008023159A JP5309579B2 (ja) 2008-02-01 2008-02-01 樹脂成形金型及びその製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2009184117A JP2009184117A (ja) 2009-08-20
JP5309579B2 true JP5309579B2 (ja) 2013-10-09

Family

ID=41067893

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008023159A Expired - Fee Related JP5309579B2 (ja) 2008-02-01 2008-02-01 樹脂成形金型及びその製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5309579B2 (ja)

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SG10201404686YA (en) 2009-08-07 2014-10-30 Soken Kagaku Kk Resin mold for imprinting and method for producing same
CN102574309B (zh) * 2009-08-31 2015-03-25 柯尼卡美能达精密光学株式会社 成型模、光学元件及成型模的制造方法
JP5698916B2 (ja) * 2010-03-17 2015-04-08 公益財団法人神奈川科学技術アカデミー 表面凹凸パターンを有する樹脂材の製造方法
JP2011194721A (ja) * 2010-03-19 2011-10-06 Waseda Univ 金型製造装置
JP5665169B2 (ja) * 2010-03-19 2015-02-04 学校法人早稲田大学 金型製造方法およびその方法により形成された金型
CN102791454B (zh) * 2010-03-25 2015-01-07 三菱丽阳株式会社 模具的制造方法及表面具有微细凹凸结构的物品的制造方法
JP2011213005A (ja) * 2010-03-31 2011-10-27 Konica Minolta Opto Inc 成形金型、成形金型の再生方法、及び樹脂製品の製造方法
DK2602089T3 (da) * 2010-08-06 2018-01-29 Soken Kagaku Kk Resinform til nanotryk og fremgangsmåde til fremstilling deraf
WO2012157073A1 (ja) * 2011-05-17 2012-11-22 伊藤光学工業株式会社 表面処理金型及び金型の表面処理方法
JP6403017B2 (ja) * 2015-08-04 2018-10-10 東芝メモリ株式会社 インプリント用テンプレート基板の製造方法、インプリント用テンプレート基板、インプリント用テンプレート、および半導体装置の製造方法
JP6972409B1 (ja) * 2021-03-30 2021-11-24 リンテック株式会社 マイクロニードルの製造方法およびマイクロニードルの製造装置

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4444713B2 (ja) * 2004-03-29 2010-03-31 株式会社アドバネクス 離型性金型とその製造方法、及び成型品の製造方法
JP4820999B2 (ja) * 2006-05-10 2011-11-24 国立大学法人神戸大学 標的分子のセンサー素子およびその製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2009184117A (ja) 2009-08-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5309579B2 (ja) 樹脂成形金型及びその製造方法
JP4930517B2 (ja) インプリント用モールドおよびその製造方法
KR101848863B1 (ko) 수지제 몰드, 그 제조 방법 및 그 사용 방법
JP3751778B2 (ja) ゾルゲル成形物の製造方法
JP6295276B2 (ja) 光学基板、光学基板の製造に用いられるモールド、及び光学基板を含む発光素子
CA2768830C (en) Resin mold for imprinting and method for producing the same
CN104724921A (zh) 模具、用于生产模具的方法以及用于形成模具制品的方法
KR20110063433A (ko) 전사구조체의 제조방법 및 이것에 이용하는 모형
TW585846B (en) Process for producing article having given surface pattern
TW201410460A (zh) 帶有凹凸形狀積層體的製造方法及轉印膜
KR101797233B1 (ko) 임프린트 방법과 이것에 사용하는 전사 기재 및 밀착제
WO2015156214A1 (ja) 防曇部材及びその製造方法
JPWO2013191089A1 (ja) 反射防止フィルムの製造方法
CN108528078B (zh) 纳米结构转印方法及利用堆栈方法制备多层纳米结构的方法
JP5856286B2 (ja) 離型処理方法および反射防止膜の製造方法
JP2011237469A (ja) 光学素子及びその製造方法
JPH04255307A (ja) 成形用部材およびその製造方法
JP5745623B2 (ja) 表面処理金型及び金型の表面処理方法
JP2010188582A (ja) 帯電防止撥水構造及び帯電防止撥水構造体
JP5471125B2 (ja) 無反射防塵構造を有する光学素子成形型、及び、無反射防塵構造を有する光学素子成形型の製造方法
JP2001252927A (ja) 所定表面形状を有する物品の製造方法および成形型
KR101299359B1 (ko) 광추출 효율이 향상된 2차원 광결정 구조체 및 이의 제조방법
CN220188852U (zh) 一种斜齿光栅的工作模具
JP2011213005A (ja) 成形金型、成形金型の再生方法、及び樹脂製品の製造方法
US20220179126A1 (en) Anti-reflective transparent oleophobic surfaces and methods of manufacturing thereof

Legal Events

Date Code Title Description
RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20090527

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20100915

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20120606

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120612

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120801

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712

Effective date: 20130417

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20130604

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20130617

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113

R360 Written notification for declining of transfer of rights

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R360

R360 Written notification for declining of transfer of rights

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R360

R371 Transfer withdrawn

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R371

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees