TW201106027A - Method for manufacturing optical elements - Google Patents

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201106027 六、發明說明： 【發明所屬技彳軒領城】 發明領域 本發明係關於諸如彩色濾光片、有機EL_示元件、有 機T F T陣列等’具有利用隔間壁進行隔間之複數像素的光學 元件之製造方法。

C 前支名好;J 發明背景 近年，作為諸如彩色濾光片、有機 EL(Electro-Luminescence)顯示元件、有機TFT(Thin Film

Transistor:薄膜電晶體）陣列等的製造方法，為達製造程序 的低成本化而利用起喷墨法。 例如’就彩色濾光片的製造，已知有：在使用樹脂組 成物形成隔間壁圖案（亦具黑矩陣的功用）之後，再對隔間壁 間的開口部’使用喷墨法施行R(紅）、G(綠）及B(藍）等油墨 的塗佈，而形成像素的方法。 再者，就有機EL元件的製造，已知有：在使用樹脂組 成物形成隔間壁圖案之後，再對隔間壁間的開口部，使用 喷墨法，施行電洞輸送材料、發光材料等的溶液之塗佈， 而形成具有電洞輸送層、發光層等的像素的方法；而就有 機TFT陣列的製造’已知有：同樣的使用樹脂組成物形成隔 間壁圖案之後，再對隔間壁間的開口部，使用喷墨法施行 有機半導體溶液的塗佈，而形成有機TFT元件的方法。 對於上述隔間壁係要求耐熱性、不會溶解於油墨等之 201106027 中的耐溶劑性等特性，但當依上述噴墨法製造光學元件 時，為防止彩色濾光片或有機EL元件所鄰接的像素間發生 油墨混色情況，隔間壁的上部表面必需更具有可將屬於嘴 墨塗出液的水與有機溶劑等予以彈撥的性質（疏墨性）。 再者，當利用喷墨法進行光學元件的製造時，必需形 成油墨層的膜厚均勻性優異之像素。若油墨層的均勻性 差，即，若隔間壁附近的油墨層膜厚變薄，便會產生隔間 壁周邊能看到空白之所明白點現象’或發生像素周邊較黯 淡而中央部則較明亮的不良情況。因而，隔間壁間的開口 部必需對油墨具有濕潤的性質（親油墨性）。 為能獲得此種對隔間壁所要求的特性，在專利文獻1有 揭示：利用光學微影法製造一種具有由樹脂組成物所構成 之隔間壁圖案之基板的方法。更具體而言，有例示：後块 烤（經顯影處理而形成的隔間壁的加熱處理）溫度為200°C的 例子（實施例的例2〜例7)。又’專利文獻1中有揭示：藉由將 實施例的例2〜7、與比較例的例11進行比對，在形成隔間壁 之後，且在依照喷墨法施行油墨注入之前，若實施利用諸 如超高壓水銀燈等的光施行曝光之步驟（以下稱「後曝光步 驟」），便具有提升油墨層均勻性的效果。 另一方面，專利文獻2有例示：施行顯影處理形成具隔 間壁圖案之基板後’在未施行後曝光的情況下，於氧濃度 10%的氮環境下，依溫度230°C施行20分鐘加熱處理的具隔 間壁圖案之基板之製造方法（實施例2)。又，有例示：利用 顯影處理形成具隔間壁圖案之基板後，在未施行後曝光的 4 201106027 情況下，於形成減壓真空的狀態下，依溫度160°C施行20分 鐘加熱處理的具隔間壁圖案之基板之製造方法（實施例3)。 然而，專利文獻1所示之後曝光步驟的導入，雖然在油 墨層均勻性的提升這點具有效果，但因曝光步驟的增加會 關聯於生產性降低，因而期盼在未施行後曝光步驟的情狀 下能使油墨層均勻性提升。 再者，專利文獻2的實施例2所記載之製造方法，係在 氮環境中實施，不僅步驟上較為煩雜，亦無法獲得油墨層 的充分均勻性。專利文獻2的實施例3所記載之製造方法， 係在減壓步驟實施，在步驟上較為煩雜。 先行技術文獻 專利文獻 專利文獻1 :國際公開第2007/61115號公報 專利文獻2:國際公開第2007/148689號公報 I：發明内容3 發明概要 發明欲解決之課題 本發明係為解決上述問題而完成者，其目的在於提供 一種光學元件之製造方法，其係：不會損及隔間壁的耐溶 劑性，以喷墨法施行油墨注入時可防止油墨間的混色；藉 由確保針對像素内之油墨的良好濕潤性而可形成均勻的油 墨層；可使所獲得之光學元件保持充分耐熱性；可用更簡 單化且具經濟效益的步驟實施的方法。 用以欲解決課題之手段 201106027 具有支撐基板、隔間壁及複數像素的光學元件之製造 方法’該隔間壁係由樹脂硬化物構成而被形成在前述支撐 基板的主面上’以將該主面隔間為複數區間，且；該等複 數像素係分別形成於前述支撑·基板上由前述隔間壁所隔間 的區域中； 本發明的光學元件之製造方法’特徵在於依序包括有： 隔間壁形成步驟，其在前述支撐基板的主面上形成隔 間2 ’ S亥隔間壁係由樹脂組成物構成，且上部表面具有疏 墨性； 第1加熱步驟，係對前述隔間壁施行加熱，而促進前述 樹脂組成物的硬化； 油墨層形成步驟，對前述支撐基板上由前述隔間璧所 隔間的區域，利用噴墨法注入油墨而形成油墨層；以及 第2加熱步驟，係對前述隔間壁與前述油墨層施行加熱 而形成像素，且使前述樹脂組成物的硬化結束； 其中，將前述隔間壁形成步驟後的隔間壁高度設為 H0、將前述第1加熱步驟後的隔間壁高度設為H1、將前述 第2加熱步驟後的隔間壁高度設為H2時，HO、H1及H2係具 有以下關係： 依H0/H1 表示的比係 1.05SH0/H1S 1.18 ; 依H1/H2表示的比係 1.02SH1/H2S 1.30。 發明效果 根據本發明的光學元件之製造方法，可做到：不會損 及隔間壁的耐溶劑性，以喷墨法施行油墨注入時可防止油 201106027 製造 色；藉㈣保針對像素内之油墨的良好濕潤性而 :形成均㈣油墨層；可使所獲得之光學科保持充分耐 '，，、性，可用更簡單化且具經濟效益財驟實施光學元件之 圖式簡單說明 第Ua)〜(d)圖係#意性地顯示本發明之光學元件之製 造方法之一例的戴面圖。 第2圖係依本發明之製造方法之一實施形態所獲得的 隔間壁與油墨層的截面圖（a)及俯視圖（b)。 【實施方式】 用以實施發明之形態 以下，針對本發明實施形態進行說明，惟本發明並不 僅侷限於以下的實施形態。 本發明之製造方法設為對象的光學元件，係具有支樓 基板隔間壁及複數像素的光學元件，該隔間壁係由樹脂 硬化物構成而被形成在前述支撐基板的主面上，以將該主 面隔間為複數區間，且，該等複數像素係分卿成於ϋ述 支樓基板上由前述隔間壁所隔間的區域中。 此種光學元件之製造中，本發明的製造方法係依序包 括有以下（1)〜(4)的步驟，且關於經各步驟後的隔間壁高度 關係方面具有以下特徵的製造方法。 (1)在七述支撐基板的主面上，形成由樹脂組成物構成 且上部表面具有疏墨性之隔間壁的步驟（以下亦稱「隔間壁 形成步驟」）。3外，將經⑴隔間壁形成步驟後的隔間壁高 201106027 度設為H〇。 …(2)斯前述Μ壁施行加熱而促進前述樹脂組成物硬化 的第1力°熱步驟。另外，將經⑺第1加熱步驟後的隔間壁高 度設為。 + ()對刖述支撐基板上由前述隔間壁所隔間的區域，利 用噴墨去〉主入油墨而形成油墨層的步驟（以下亦稱「喷墨（口) 步驟」）。 (4)對前述隔間壁與前述油墨層施行加熱，使前述油墨 更而开v成像素，且結束刖述樹脂組成物硬化的第2加熱步 驟另外，將經(4)第2加熱步驟後的隔間壁高度設為H2。 [經各步驟後的隔間壁高度關係] Ηθ/Hi(即，經前述隔間壁形成步驟後的隔間壁高度對 t刖述弟1加熱步驟後的隔間壁高度之tb)，係1.05SH0/H1 ^1.18 ；

Hl/H2(即’經前述第1加熱步驟後的隔間壁高度對經前

述第2加熱步驟後的隔間壁高度之比），係1 $ H1/H2 S 1.30。 在此’本說明書中’所謂「樹脂硬化物」係指由硬化 已結束之狀態的樹脂所構成之定形物（成形物）；所謂「樹脂 組成物」係指由硬化性樹脂組成物的硬化完全未施行之狀 態、或硬化尚未未結束之狀態的樹脂所構成之定形或無定 形者。又，本說明書中’在無特別聲明的前提下，「。/。」係 表示「質量％」。 (1)隔間壁形成步驟 201106027 本發明之製造方法中，在支撐基板主面上，形成由樹 月曰組成物構成，且上部表面具有疏墨性之隔間壁（以下，視 需要稱「疏墨性隔間壁」）的方法，只要係屬可在支撐基板 主面上獲得上述構造的隔間壁（即，疏墨性隔間壁）的方法， 便無特別的限制，具體而言，可舉下述(A)〜(D)的方法： (A) 在支撐基板主面上形成含疏墨劑之感光性樹脂組 成物的層，再利用光學微影法形成疏墨性隔間壁的方法。 (B) 在支撐基板主面上依序形成感光性樹脂組成物的 層、及含疏墨劑的層，再利用光學微影法形成疏墨性隔間 壁的方法。 (C) 利用光學微景>法或印刷法在支撐基板主面上，形成 由感光性樹脂組成物或熱硬化性樹脂組成物所構成之隔間 壁後，再藉由對隔間壁的上部表面賦予疏墨性而形成疏墨 性隔間壁的方法。 (D) 在支撐基板主面上依序形成：可溶於有機溶劑但不 溶於驗顯影液中的非感光性樹脂組成物（例如熱硬化性樹 脂組成物）的層、及含有疏墨劑的感光性層，再利用光學微 影法，接著利用有機溶劑施行餘刻處理，而獲得疏墨性隔 間壁的方法。 在此，在疏墨性隔間壁形成時所使用的樹脂組成物， 即本發明之製造方法中所使用的樹脂組成物，係在光學元 件的隔間壁形成時通常所使用的樹脂組成物，例如，依照 上述(A)〜(D)方法所使用的諸如印刷法或光學微影法等，在 支撐基板上形成為隔間壁’接著利用熱來促進、結束硬化 201106027 的樹脂組成物均無特別的限制都可使用。具體而言，可舉 例如.感光性樹脂組成物、熱硬化性樹脂組成物等，相關 該等樹脂組成物的詳細内容，在以下（Α)〜(D)的方法中進行 說明。 以下’對於(Α)〜(D)的方法進行詳細說明。 (Α)在支撐基板主面上形成含有疏墨劑的感光性樹脂 組成物之層，再利用光學微影法形成疏墨性隔間壁的方法。 (支撐基板） 本發明之製造方法所使用的支撐基板，其材質並無特 別的限定，係通常光學元件用支撐基板所使用的材質，可 舉例如：各種玻璃板；聚酯（聚對苯二甲酸乙二酯等）、聚稀 烴（聚乙烯、聚丙烯等）、聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸曱酯、聚 颯、聚醯亞胺、聚（甲基）丙烯酸樹脂等熱可塑性塑膠片；由 環氧樹脂、不飽和聚酯等熱硬化性塑膠的硬化物所構成之 薄片等等。又’尚可舉預先在上述基材上形成氮化矽或聚 醯亞胺等絕緣膜的基板。特別係就耐熱性的觀點，較佳為 玻璃板、聚醯亞胺等耐熱性塑膠。 (含有疏墨劑的感光性樹脂組成物） ⑴感光性樹脂組成物 上述感光性樹脂組成物係可為負型感光性樹脂組成 物，亦可為正型感光性樹脂組成物。負型感光性樹脂組成 物的情況，可更進一步依照硬化種類而分類為數種類型， 例如自由基硬化型、酸硬化型等類型。正型感光性樹脂組 成物的情況，可更進一步分類為數個類型，例如含〇-疊氮 201106027 萘醌(o-naphthoquinone diazide)的類型、含經嵌段化之酸性 基的類型等。 以下，針對感光性樹脂組成物，將負型感光性樹脂組 成物、正型感光性樹脂組成物依類型區別，例示較佳態樣 並同時進行說明，惟本發明之製造方法所使用的感光性樹 脂組成物並不僅侷限於該等。 負型感光性樹脂組成物（自由基硬化型）係至少含有光 自由基聚合性黏結樹脂及光聚合起始劑，且視需要含有交 聯劑等其他成分者’可使用習知公知負型感光性樹脂組成 物（自由基硬化型）來作為光學元件的隔間壁形成用之樹脂 組成物。 另外’此種負型感光性樹脂組成物（自由基硬化型）的耳 體例’係可舉例如：曰本專利特開H8—278629、特開 2000-1522、特開 2002-40650、特開 2〇〇2_83688、及 WO2008-133312所揭示的負型感光性樹脂組成物（自由基 硬化型）。 上述光自由基聚合性黏結樹脂較佳係當光學微影的曝 光時，光歸部分會光聚合起始_作㈣進行自由 基聚合俾促進硬化，絲被光騎的料(未料部分)則會 在緊接著㈣之後所施行_科，對所使用_影液(通 常係驗顯影液)具可溶性。 此種光自由基聚合性黏結樹脂的較佳一態樣，係可舉 具有乙稀性雙鍵與酸性基輯脂。料乙烯性雙鍵係可舉 例如：丙雜基、甲基丙_基、一基、乙雜、乙稀 201106027 _基等加成聚合性不飽和基、或者該等加成聚合性不飽和 基的氫原子其中一部分或全部，被烴基所取代的基等；而 酸性基係具體可舉例如：羧基、酚性羥基、磺酸基及磷酸 基等。黏結樹脂中，利用前述乙稀性雙鍵部分，樹脂會進 行光自由基聚合而形成隔間壁。又，利用前述酸性基，含 有其的負型感光性樹脂組成物之塗膜未曝光部，將可利用 鹼顯影液予以除去。 再者，上述光自由基聚合性黏結樹脂的酸值，較佳係 10〜300mgKOH/g、更佳係30〜150mgKOH/g。若屬於該範 圍，則所獲得之感光性樹脂組成物的顯影性呈良好。又， 所謂「酸值」係指為了中和試料lg中的樹脂酸等而所需要 的氫氧化鉀毫克數。上述光自由基聚合性黏結樹脂的數量 平均分子量，較佳係500以上且未滿2〇,〇〇〇、更佳係2,000 以上且未滿15,000。若屬於該範圍，則所獲得之感光性樹 脂組成物的鹼溶解性、顯影性均呈良好。另外，本說明書 中，所謂「數量平均分子量」係指依照凝膠滲透色層分析 法’以聚苯乙稀為標準物質進行測定的值。 上述光自由基聚合性黏結樹脂的較佳態樣，更具體係 可舉：就具有酸性基的乙烯性不飽和單體、或具有能與反 應性基相鍵結之官能基的乙烯性不飽和單體等的共聚物， 對其官能基進行改質而獲得的含有具酸性基之側鏈與具乙 烯性雙鍵之側鏈的聚合物；以及在環氧樹脂中導入乙烯性 雙鍵與酸性基的樹脂等。 負型感光性樹爿曰組成物（自由基硬化型）所含有的光聚 12 201106027 合起始劑，只要係屬具有作為光聚合起始劑機能的化合 物’便無特別的限制，較佳係由利用光而產生自由基的化 口物構成。具體係、可舉例如：二酮類、醇酮類、醇酮_ 類、嗟個類、苯乙峨、嶋、二祕酬、胺基苯曱 酸類、齒化合物、過氧化物、肟酯類等。 本發明之製造方法所使用的負型感光性樹脂組成物 (自由基硬化型）中’上述光聚合起始劑的調配比例雖然係依 妝所使用之光學元件的種類與用途而異，但相對於上述光 自由基聚合性黏結樹脂，較佳係設為2〜4〇質量％、更佳係 設為5〜20質量％。若屬於此種範圍，感光性組成物的硬化 性與顯影性便均良好。 負型感光性樹脂組成物（酸硬化型）係至少含有：鹼可溶 的黏結樹脂、三聚氰胺化合物、光酸產生劑者，可使用習 知公知負型感光性樹脂組成物（酸硬化型）來作為光學元件 的隔間壁形成用之樹脂組成物。另外，此種負型感光性樹 脂組成物（酸硬化型）的具體例係可舉例如：日本專利特開 2002-83687、特開2002-40659、特開2005-315986所揭示的 負型感光性樹脂組成物（酸硬化型）。 上述鹼可溶的黏結樹脂較佳係在光學微影的曝光時， 光照射部分會利用光酸產生劑的作用而與三聚氰胺化合物 產生反應俾促進硬化，而未被光照射的部分（未曝光部分) 則會在緊接著曝光之後所施行的顯影時，對所使用的顯影 液(通常係鹼顯影液）具可溶性。 此種鹼可溶的黏結樹脂較佳一態樣係可舉具有叛基及 13 201106027 /或酿性經基的樹脂。 鹼可溶的黏結樹脂之酸值較佳係丨0〜600mgK〇H/g、更 佳係50〜30〇mgK〇H/g。若屬於該範圍，則感光性樹脂組成 物的顯影性呈良好。鹼可溶的黏結樹脂之數量平均分子量 較佳係2〇0〜20000、更佳係肋㈨〜丨刈⑻。若屬於該範圍，則 感光性樹脂組成物的鹼溶解性、顯影性均呈良好。 負型感光性樹脂組成物（酸硬化型）所含有的光酸產生 係利用光來產生酸的化合物^光酸產生㈣可舉例如： 方基碘鏑鹽、二芳基銃鹽、三畊系化合物、磺醯基化合 物、磺酸酯類等。 本發明之製造方法所使用負型感光性樹脂組成物（酸 =化型）巾，上雜可溶的減樹脂、三聚氰胺化合物、光 酸產生劑之調配比例，雖㈣依照所使用之光學元件的種 類與用途而異，何舉勤：相對於上祕可溶的黏結樹 脂，以三聚氰胺化合物較佳係呈10〜1〇〇質量％、更佳係呈 20’質量。/。’光酸產生劑較佳係呈〇 〇丨〜3〇質量％、更佳係 ,2〇貝里％的方式進行調配之比例。若屬於此種範圍，' 負型感光性樹脂組成物的硬化性及顯影性呈良好。 正型感光性樹脂組成物(含有。.疊氮萘酿化合物的類型） =至少含有0·疊氮萘醌化合物、黏結樹脂者，可使用習知 公知正型歧性樹脂組成物(対。H魏化合物的類型） 來作為光學元件的隔間壁形成用之樹脂組成物。此種正型 感光性樹脂組成（含有〇-疊氮萘職化合物的類型）的具體 例’係可舉例如：曰本專利特開Hu•迎31 '特開 201106027 H11-246738所揭示的正型感光性樹脂組成物。另外，黏結 樹脂較佳係熱硬化性樹脂、或藉由併用交聯劑經熱硬化而 獲得的樹脂。 正型感光性樹脂組成物（含有經嵌段化之酸性基的類 型）係至少含有具經嵌段化之酸性基的黏結樹脂、光酸產生 劑者，可使用習知公知正型感光性樹脂組成物（含有經嵌段 化之酸性基的類型）來作為光學元件的隔間壁形成用之樹 脂組成物。此種正型感光性樹脂組成物（含有經嵌段化之酸 性基的類型）的具體例，係可舉例如：日本專利特開 H9-6002、特開 2001-296662、特開 2001-350264、特開 2〇〇2-6499、特開2002-155118所揭示的正型感光性樹脂組成 物。另外’黏結樹脂較佳係熱硬化性樹脂、或者藉由併用 交聯劑經熱硬化而獲得的樹脂。 (ii)疏墨劑 本發明的製造方法所使用之感光性樹脂組成物含有疏 墨劑，該疏墨劑係當使用該感光性樹脂組成物進行隔間壁 形成之際，會對隔間壁的上部表面賦予疏墨性者。在此， 根據油墨的組成，所謂「疏墨性」係指撥水性或撥油性、 或者撥水性與撥油性雙方性質。更具體而言，係指會將油 墨所使用的水與有機溶劑等溶劑予以彈撥的性質，一般而 言，可藉由水或適當有機溶劑(例如：卜甲氧基_2_乙醯氧基 丙烷、丙二醇4 —單甲醚_2_乙酸酯(pGMEA)等，通常噴墨法 所使用的油墨中含有的有機溶劑)各自的接觸角來進行評 估。本發明之製造方法所❹的疏錢，係#含有其的感 15 201106027 光性樹脂組成物細彡成隔間壁之際，能對隔間壁的上部表 面賦予所要求之疏墨性（即，可將油墨所使用的水與有機 溶劑等溶劑予以彈撥雜質）之化合物。 以下’針對疏墨劑，依負型感光性樹脂組成物、正型 感光性樹脂組成物的類型區別，例禾該等所對應的較佳態 樣並同時進行說明，惟本發明之製造方法所使用的疏墨劑 並不僅侷限於該等。 藉由調配入感光性樹脂組成物而在形成隔間壁之際， 對隔間壁的上部表面賦予疏墨性的此種疏墨劑 ，較佳係可 舉例如：含氟化合物、含矽化合物、兼具氟原子與矽原子 的化合物等。 當作上述疏墨劑使用的含氟化合物，可不特別受限地 舉出習知公知的疏墨劑用含氟化合物，例如：氟烯烴系樹 脂（參照日本專利特開2〇〇4-〇53897(段落0011))、側鏈具有氟 化烷基的聚合物（參照日本專利特開H7-35915、 W02004/042474、W02006/129800、W02007/069703、日本 專利特開HI 1-281815(段落0042、0062、0073〜0075)、特開 2005-315984、特開2005-036160、特開2004-277493、特開 Hll-327131(段落 0036))等。 再者，當作上述疏墨劑使用的含矽化合物，可不特別 受限地舉出習知公知的疏墨劑用含矽化合物，例如：具有 二甲基矽氧烷基的聚合物（參照曰本專利特開 2004-149699、特開2005-134439)等。 當作上述疏墨劑使用的兼具氟原子與矽原子的化合 16 201106027 物，可不特別受限地舉出習知公知的疏墨劑用含氟矽化合 物，例如：含氟矽烷偶合劑（參照日本專利特開H9_2〇3 8〇3 (段 落0030〜0034))、兼具氟化烷基與二曱基矽氧烷基的化合物 (參照曰本專利特開S61-275365、特開2003-82042(段落 0070、0072)、W020〇4/〇79454、日本專利特開 2005-315983、 特開2005-300759、W02008/123122)等。 此種疏墨劑之中，就疏墨性賦予能力較高的觀點，可 舉側鏈具有氟化烷基的聚合物作為較佳態樣。 上述疏墨劑較佳態樣之一的側鏈具有氟化烷基之聚合 物的製造方法’係可參照日本專利特開2〇〇〇_丨〇2727、特開 2002-249706等所揭示的方法。 負型感光性樹脂組成物（自由基型）的情況，疏墨劑之較 佳態樣係可舉側鏈具有氟化烷基與乙烯性雙鍵的聚合物。 理由係若將該側鏈具有氟化烷基與乙烯性雙鍵的聚合物使 用為疏墨劑，在後述本發明之製造方法的第丨加熱步驟中， 前述疏墨劑會與負型感光性樹脂組成物中的其他調配成分 產生反應’並在隔間壁上部表面呈固定化。 此種側鏈具有氟化烷基與乙烯性雙鍵的聚合物較佳一 態樣，係可舉例如：具有氫原子至少丨個（較佳係全部)被取 代為氟原子之碳數20以下的直鏈狀或分支狀烷基(其中，烷 基係亦可具有謎性氧）的聚合單位；及含有諸如丙稀醯基、 甲基丙烯醯基 '稀丙基、乙烯基 '乙烯醚基等具有乙稀性 雙鍵之聚合單位的聚合物。 當作疏墨劑使用的上述聚合物之數量平均分子量，較 17 201106027 更佳係1000以上且未滿1〇〇〇()。

個。右屬於該範圍’則顯影性呈良好。 佳係500以上且未滿15000、更 右屬於該範圍，則驗溶解性、 再者，上述聚合物在側鏈可具有矽數200以下程度的聚 矽氧鏈（直鏈）。又，聚合物的矽含有量係就疏墨性與隔間壁 成形性的觀點，較佳為0.5〜30質量％'更佳為〇 5〜1〇質量％。 .此處當作疏墨劑使用的上述聚合物，較佳係具有酸性 基，例如，選自於缓基、紛性經基及績酸基的群組中之至 少1種的酸性基。關於其理由，係因為藉由具有鹼可溶性， 在支撲基板上利用隔間壁所隔間的區域（以下亦稱「點陣」） 内’便不易殘留疏墨劑，當利用喷墨法注入油墨時，油墨 的濕潤擴展性會呈良好的緣故。就此種觀點，聚合物的酸 值較佳係10〜400mgKOH/g、更佳係20〜300mgKOH/g。 上述所說明之在側鏈具有氟化烷基、乙烯性雙 鍵及任意聚矽氧鏈，且較佳係更具有酸性基的聚合 物之製造方法，具體而言，已揭示於W02004/042474、 W02007/069703 ' WO2008/149776。 負塑感光性樹脂組成物（酸硬化型）的情況，疏墨劑之較 佳態樣係可舉側鏈具有氟化烷基與羧基及/或酚性羥基的 聚合物。理由係如同上述，在本發明之製造方法的第1加熱 步驟中，該疏墨劑會與其他組成物成分產生反應，而在隔 18 201106027 間壁上部表面呈固定化。又’這是因為具有鹼可溶性者， 在像素内較不易有疏墨劑殘留，當利用嘴m油墨時， 油墨的濕潤擴展性會呈良好的緣故。 再者，負塑感光性樹脂組成物（酸硬化型）中疏墨劑之 另一較佳態樣係可舉：由側鏈具有氫原子至少其中一=(軟 佳係全部）被取代為氟原子之碳數2G以下的直鍵狀或H 狀氟化烧基(其中’燒基係含有ϋ性氡）' 與較佳係更進—步 具有敌基及/絲性經基的聚合物所構成的疏_。此外， 上述聚合物係可在側鏈具有純_以下程度的聚石夕氧鍵 (直鏈)。酸硬化型中的疏墨劑之聚合物中的氟含量與石夕含量 之較佳範圍，與自由基硬化型中的疏墨劑之聚合物中所= 的較佳範圍相同。 該等疏墨劑之製造方法，具體而言，關於侧鍵具有氣 化烧基與緩基及/或盼性羥基的聚合物，已揭示於日本專利 特開2005_315984,且，關於上述將具有氟化烷基的聚合物 與具有聚石夕氧鏈的聚合物組合而成的疏墨劑，已揭示於日 本專利特開2005-300759。 正型感光性樹脂組成物（含有〇-疊氮萘醌化合物的組成 物）之情況，疏墨劑之較佳態樣係可舉側鏈具有氟化燒基與 酸性基的聚合物。關於其理由，係因為具有鹼可溶性者在 點陣内較不易有疏墨劑殘留，當利用噴墨法注入油墨時， 油墨的濕潤擴展性會呈良好的緣故。上述酸性基係可舉例 如：鲮基、酚性羥基、磷酸基、磺酸基等。 正型感光性樹脂組成物（含有經嵌段化之酸性基的類 19 201106027 型）之情況’疏墨劑之較佳態樣係可舉側鏈具有氟化烷基與 經嵌段化之酸性基的聚合物。關於其理由，係因為若經曝 光而有生成酸性基’則在點陣内便不易有疏墨劑殘留，當 利用噴墨法注入油墨時，油墨的濕潤擴展性會呈良好的緣 故。經嵌段化之酸性基係可舉習知公知物，例如日本專利 特開2004-277493(段落〇〇24〜0028)所揭示的基，關於側鏈具 有氟化烷基與經嵌段化之酸性基的聚合物之製造方法，亦 已揭示於日本專利特開2004-277493。 含有疏墨劑的感光性樹脂組成物固體含量中，疏墨劑 的含有比例係不管上述任何類型的負型感光性樹脂組成 物、正型感光性樹脂組成物，相對於組成物固體含量全量， 均較佳在0.01%〜30%範圍。關於其理由，係因為所獲得之 隔間壁的疏墨性呈良好，又，利用喷墨法注入的油墨在點 陣内之濕潤擴展性呈良好，且，經注入之油墨層的均勻性 呈良好的緣故。 (iii)感光性樹脂組成物所含有的任意成分 本發明之製造方法所使用的感光性樹脂組成物中，除 上述各種成分之外，可依每個上述感光性樹脂組成物的類 型，適當且視需要地調配入例如：增加塗膜硬化物之交聯 密度的自由基交聯劑或熱交聯劑、用以獲得基材密接性的 矽烷偶合劑、硬化促進劑、增黏劑、可塑劑、消泡劑、均 塗劑、防塌劑、紫外線吸收劑等。 該等之中，本發明之製造方法特別係以在感光性樹脂 組成物中調配入熱交聯劑為佳。熱交聯劑係具有2個以上能 20 201106027 與感光性樹脂（其係經添加之感光性樹脂組成物中所含有 的感光性樹脂)所具有的官能基進行反應之基的化合物，藉 由與前述感光彳i樹脂產生反應而增加塗膜硬化物的交聯密 度’便可達耐熱性提升。 此種熱交聯劑係可舉例如：胺樹脂、具有2個以上環氧 基的化合物、具有2個以上肼基的化合物、聚碳二醯亞胺化 合物、具有2個以上噁唑啉基的化合物、具有2個以上氮丙 〇疋基的化合物、多價金屬類、具有2個以上硫醇基的化合 物水異氱酸酯化合物等。該等係可單獨使用、亦可併用2 種以上。 該等之中，本發明之製造方法在感光性樹脂組成物中 所添加的熱交聯劑，就耐溶舰的觀點，較佳為胺樹脂及 ”有2個以上環氧基的化合物、更佳為具有2個以上環氧基 的化合物。 :、有2個以上環氧基的化合物，具體係可舉例如：雙甜 Α型環氧樹脂、雙，型環氧樹脂，·騎型環氧樹脂、 曱紛·祕型環氧樹脂、三盼甲燒型環氧樹脂、漠化環章 ^旨等環氧丙基_;3’4_環氧環己基甲基·从環氧環己傾 級醋、雙砂環氧環戊基购等脂環式環氧樹脂；六細 U魏丙絲 '四氫⑽二環氧丙基_、献酸二環氧天 Γ酉曰專環乳丙基自旨類；四環氧丙基二胺基二苯甲燒、三項 氣丙基對胺基料環氧丙基胺類；旦 一― 等雜環式環氧樹脂料。 …I (二％氧丙酿 胺樹月曰係可舉例如·三聚氰胺系化合物、脈胺系化仓 21 201106027 物、尿素系化合物等，將胺基其中一部分或全部施行羥甲 基化的化合物；或將該羥甲基化之化合物的羥基其中一部 分或全部，利用諸如甲醇、乙醇、正丁醇、2-甲基-1-丙醇 等施行醚化的化合物。具體係可舉例如：六羥甲基三聚氰 胺及烷醚化六羥甲基三聚氰胺（六曱氧基甲基三聚氰胺、丁 醚化六羥曱基三聚氰胺等）、部分羥曱基化三聚氰胺及其烷 醚化物；四羥曱基苯并脈胺及烷醚化四羥曱基笨并胍胺； 部分羥甲基化笨并胍胺及其烷醚化物等。 本發明之製造方法所使用的感光性樹脂組成物中，上 述熱交聯劑的調配比例雖然係依照所使用之光學元件的種 類與用途而異’但相對於感光性樹脂組成物全量，較佳設 為0.5〜30質量％、更佳設為3〜20質量。/。。若屬於此種範圍， 所獲得之感光性樹脂組成物的顯影性呈良好。 本發明之光學元件之製造方法中，當隔間壁係具有遮 光性遮光層的情況，即’使用為黑矩陣的情況，本發明之 效果將更為明顯。所以’在隔間壁為遮光層之類的光學元 件製造時’本發明之製造方法便頗為適用。 當感光性樹脂組成物所形成的隔間壁如前述般地使用 為黑矩陣的情況，較佳係在感光性樹脂組成物中含有黑色 著色劑。此種黑色著色劑，具體係可舉例如：碳黑、苯胺 黑、蒽醌系黑色顏料、鈦黑等金屬氧化物的粒子；銀錫合 金等合金的粒子；茈系黑色顏料（例如：C.I.顏料黑1、6、7、 12、20、31)等。又，黑色著色劑亦可使用紅色顏料、藍色 顏料、綠色顏料等有機顏料或無機顏料的混合物。此外’ 22 201106027 上述黑色著色劑係就價格、遮光性程度觀之，較佳為碳黑， 奴黑可在樹脂等施行表面處理。又，為調整色調，可併用 監色顏料或紫色顏料。 黑色著色劑的調配量雖然係依照所使用之光學元件的 種類與用途而異，但是例如將隔間壁使用為彩色濾光片的 黑矩陣時’相對於構成隔間壁的感光性樹脂組成物全量， 較佳係將1〇〜50質量％黑色著色劑，視需要與適當分散媒、 分散劑調製混合成分散液。若黑色著色劑的調配量係在該 範圍内’則所獲得之感光性樹脂組成物的感度良好，且所 形成之隔間壁的遮光性優異。 再者，在感光性樹脂組成物中，為能順暢地執行對支 撐基板的塗佈，視需要亦可將對組成物成分與支撐基板屬 於無具反應性的各種溶劑當作稀釋劑來添加。稀釋劑的具 體例係可舉例如：醇類、酮類、賽珞蘇類、卡必醇類、酯 類、醚類、鏈式烴、環式飽和烴、芳香族烴等。該等係可 早獨使用、亦可併用2種以上。 上述稀釋劑的添加量，就感光性樹脂組成物的塗裝性 觀點，可舉相對於感光性樹脂組成物全量係呈50〜95質量 %、更佳係呈70〜90質量％的量作為理想量。 本發明中，感光性樹脂組成物並無特別的限制，當感 光性樹脂組成物係使用負型感光性樹脂組成物（自由基硬 化型）的情況，較佳係在鹼顯影液中含有可溶性樹脂黏結 劑、疏墨劑、光聚合起始劑、及黑色著色劑的感光性樹脂 組成物。 23 201106027 其二欠’針對使用此種含有疏墨劑的感光性樹脂組成 物’在支揮基板主面上形成隔間壁的方法，視需要一邊參 ‘照示意性地顯示負型感光性樹脂組成物之隔間壁形成方法 的第1(a)〜(c)圖—邊進行說明。 (在基板上形成由感光性樹脂組成物構成的層） 在支樓基板主面上形成含有疏墨劑之感光性樹脂組成 拍/的層時’可舉在支撐基板上，塗佈含有疏墨劑的感光性 樹·脂組成物、或含有該組成物的塗佈液的方法。塗佈的方 法係可舉例如：旋塗法、喷塗法、狹縫式塗佈法、輥式塗 佈法、旋轉塗佈法、棒塗佈法等。 再者’含有疏墨劑的感光性樹脂組成物層的膜厚、或 採用含有該組成物與稀釋劑的塗佈液時的塗佈液的膜厚， 雖然係依照所使用之感光性樹脂的種類、以下所說明的隔 間壁形成方法、以及採用塗佈液時的塗佈液中之稀釋劑量 等而有所差異，但可設定為得以使最終所獲得之隔間壁的 咼度成為期望值的厚度，例如設定為前述期望值的2〜2〇倍 程度。 即’依照本發明之製造方法所獲得之光學元件中，前 述最終所獲得之隔間壁的高度，換言之，（4)經第2加熱步驟 後的隔間壁高度H2雖然係依照光學元件的種類而異，但較 佳設為0.05〜50μηι、更佳為0.2〜ΙΟμιη、特佳為〇 5〜5μιη、極 佳為2〜4μιη、最佳為2.2〜4μιη。所以’含有疏墨劑的感光性 樹脂組成物或含有該組成物的塗佈液之塗佈，係依Η2可成 為此種數值的方式來實施。 24 201106027 (乾燥) 其次，視需要最好將在支樓基板主面上所形成之 疏墨劑的歧性樹脂組成物層施行錢。藉由將該舞:— 乾你，便可使絲紐飽旨組成物巾視⑭所添加的: 劑(溶劑)揮發，而獲得黏著性較少的塗膜。當感光性樹μ 成物中縣加當作稀釋劑用的溶劑時’便無必要施行乾=’。 但是，當對感光性樹脂組成物中當作稀釋劑添加的容 劑施行乾燥時，較佳係施行真空乾燥或加熱乾燥。又，為 不致發生塗膜外射均，俾能效㈣地施行錢，更佳係 併用真空乾燥與加熱乾燥。雖依照各成分的種類、調配比 例等而異，但較佳係就真空乾燥採用500〜10Pa、10〜3〇〇秒 鐘程度’而就加熱乾燥則採用5〇〜12叱、1〇〜2〇〇〇秒鐘程度^ 第1⑷圖所示係在支撐基板主面上，施行含有疏墨劑的 負型感光性樹脂組成物、或含有該組成物的塗佈液之層的 塗佈，然後視需要進行乾燥後的狀態，屬於支撐基板丨與負 型感光性樹脂組成物層2的截面圖。 (曝光） 其-人，對感光性樹脂組成物層其中一部分施行曝光。 曝光較佳係隔著既定圖案的遮罩實施。所照射的光係可舉 例如：可見光；紫外線；遠紫外線；KrF準分子雷射、ArF 準分子雷射、F2準分子雷射、Kr2準分子雷射、KrAr準分子 雷射、Ar·2準分子雷射等準分子雷射；X射線；電子束等。 車父佳係波長100〜6〇〇nm的電磁波、更佳係分佈在3〇〇〜5〇〇nrn 摩色圍的光線、特佳係I線(365nm)、h線(405nm)、g線(436nm)。 25 201106027 第1(b)圖所示係曝光步驟的截面圖，該曝光步驟中，對 支撐基板1上經乾燥後的負型感光性樹脂組成物層2，隔著 既定圖案之遮罩4施行光5的照射，光5僅穿透過前述遮罩4 所切出的既定圖案部分，並到達支撐基板1上的負型感光性 樹脂組成物層，僅該部分進行感光硬化。 另外’正型中，光到達感光性樹脂組成物層的部分可 溶於驗。 照射裝置係可使用公知的超高壓水銀燈與深紫外光燈 等。曝光量較佳係5〜l〇〇〇mJ/cm2範圍、更佳係 10〜200mJ/cm2。若曝光量過低，當負型的情況，隔間壁的 硬化嫌不足，會有因後續的顯影而發生溶解或剝離的可能 性。當正型的情況’隔間壁的鹼溶解性嫌不足，會有發生 顯影殘渣的可能性。若曝光量過高，不管負型的情況、或 正型的情況’均有無法獲得高解析度的傾向。 經曝光後，於顯影前，特別係負型感光性樹脂組成物 (酸硬化型）、正型感光性樹脂組成物的情況，較佳係施行用 以促進反應的加熱處理。加熱溫度係採用5〇〜14〇。〇、 10〜2000秒鐘程度。此係一般通稱PEB(p〇st Exp〇sure Bake，曝光後烘烤）的處理。該peb係在負型（酸硬化型）、 正型中，作為用以使因曝光所生成的酸能進行擴散之處理 而施行的加熱處理。 (顯影） 經曝光步驟後，利用顯影液施行顯影，在負型中便會 將未曝光部分予以除去，而在正型中便會將曝光部分予以 26 201106027 除去。顯影液係可使用含有例如：氫氧化鉀等鹼金屬氫氧 化物；碳酸鉀等鹼金屬碳酸鹽；以及胺類、醇胺類、四級 铵鹽等驗類的驗水溶液。 顯影時間（接觸到顯影液的時間）較佳係5〜180秒鐘。 又，顯影方法係可為滿液法、浸塗法、淋灑法等任一種。 ，經顯影後’施行高壓水洗或沖水洗淨，再利用壓縮空氣或 壓縮氮施行風乾，藉此便可將基材上的水分予以除去。 如前述般地在曝光步驟後，使用顯影液施行顯影，第 1(b)圖所示之支撐基板丨上的未曝光部分2便會因此而被除 去’而如同第Kc)圖的截面圖所示，獲得支撐基板1與隔間 壁6的構造’該隔間壁6係藉由負型感光性樹脂組成物而形 成在前述支撐基板上者。又，由隔間壁6與支撐基板1所包 - 圍的部分’係表示利用油墨注入等而形成油墨層（即像素） 的”沾陣7的。卩分。第1 (C)圖所示之隔間壁6的上部表面層8係 疏墨劑分佈不均的層。該層係在隔間壁形成步驟初期，在 感光性樹脂組成物中呈均勻溶解的疏墨劑 ，利用疏墨劑所 有的特性’在從上述塗佈起至曝光的期間，經由視需要 所施仃的乾燥等步驟，而移往感光性樹脂組成物層的上 部，並藉由曝光而被固定於層上部表面者。 如此一來’利用上述(A)的方法便可實施本發明的（1) 7間壁形成步驟’在本發明的製造方法中’會將利用該⑴ 隔間壁形成步驟所獲得的形成有隔間壁（係由樹脂組成物 所構成且上部表面具有疏墨性)之支撐基板 ，緊接著提供給 後述的本發明的⑺第i加熱步驟。 27 201106027 此處’本發明的製造方法中，依HO所表示的（1)隔間壁 形成步驟後之隔間壁高度，與依H1m表示的（2)第丨加熱步 驟後之隔間壁高度之間，具有丨〇5$Η〇/Η1$1.18、較佳丨〇8 SH0/H1S1_17的關係，且前述H1、與依Η2*表式的（句第2 加熱步驟後之隔間壁高度之間，成立丨〇2$Η1/Η2$ 1.3〇、 較佳1·05$Η1/Η2^1.2〇的關係。又，依照本發明之製造方 法所獲得的光學元件中，最終所獲得之隔間壁的高度，即， (4)第2加熱步驟後的隔間壁高度Η2，雖然係依照光學元件 的種類而異，但較佳為〇 〇5〜5〇μηι、更佳為⑴卜丨叫阳、特佳 為0.5〜5μιη、極佳為2〜4μηι、最佳為2 2〜4哗。藉由將此種 Η2的較佳值、與上述H〇、HbH2間之關係全部納入考量， 便可求出H0值。 該Η 0 (隔間壁形成步驟後的隔間壁高度）值係只要經考 慮隔間壁所仙之裝置的種類、隔間壁形成性等因素再適 當設定便可。Η0值大概係〇.3〜2〇μηι範圍、較佳範圍係 〇_5〜ΙΟμηι、更佳範圍係2〜8μιη、特佳範圍係2 。 其次，針對本發明之製造方法中，可當作（1)隔間壁形 成步驟使用的（Β)在支㈣板主面上依序形成感光性樹脂 組成物層與含疏墨劑層，再利用光學微影法形成疏墨性隔 間壁的方法進行說明。 該（Β)疏墨性隔間壁形成方法中所使用的感光性樹脂 、、且成物係就上述(Α)方法所說明的感光性樹脂組成物中， 除疏墨劑的調g己非屬必需之外，其餘均可直接使用完全同 樣的感光性樹脂組成物。又，疏墨劑係可使用與上述(A)方 28 201106027 法所使用者為同樣的疏墨劑。 在支撐基板上形成感光性樹脂組成物層與含有疏墨劑 層的方法，係可舉例如町的叫)與(B_2)之方法。 (B-1)在支撐基板上將感光性樹脂組成物或含有該組成 物的塗佈液施行塗佈’視需要進行乾燥，而形成感光性樹 脂組成物層，然後在該層上施行疏墨劑或含有疏墨劑的塗 佈液之㈣’視f要輯賴，㈣成含有疏墨_層後， 經曝光、顯影，形成疏墨性隔間壁的方法。 含有疏墨劑的層可具有或不具有感光性。當含有疏墨 劑的層係具有感光性的情況，感光性樹脂組成物層、與含 有疏墨劑的層便均屬正型、或均屬負型。乾燥、曝光、顯 影步驟可採用（A)所記載的方法。 另外，該B-1方法的更具體例係可舉日本專利特開 H9-203803所揭示的方法。 (B-2)在支撐基板之外的另一臨時支標體上形成由含 疏墨劑層與感光性樹脂組成物層所構成的轉印層，然後將 轉印層轉印於支撐基板上的方法。 係屬在支撐基板之外的另一臨時支撐體上，施行疏墨 劑或含疏墨劑之塗佈液的塗佈，視需要進行乾燥，而形成 含疏墨劑層的方法，含疏墨劑層可具有或不具有感光性。 又，亦可在臨時支撐體上，預先施行可平滑且均勻地形成 含疏墨劑層的前處理，也可積層著熱可塑性樹脂組成物層 或氧遮斷層等。惟，該等均係屬能在後續的顯影步驟等予 以除去者。 29 201106027 在上述業經形成的含有疏墨劑的層上，施行感光性樹 月曰組成物或含有該組成物的塗佈液之塗佈，視需要進行乾 燥，而形成感光性樹脂組成物層。又，視需要亦可利用保 護膜保護表面。當有黏貼保護膜時，在將保護膜撕開’並 層壓於支撐基板上之後，再將臨時支撐體撕開，而在支撐 基板上形成感光性樹脂組成物層及含疏墨劑的層，經曝 光、顯影步驟，便形成疏墨性隔間壁。另外，當含疏墨劑 的層係具有感光性的情況，感光性樹脂組成物層與含有疏 墨劑的層便均屬正型、或均屬負型。乾燥、曝光、顯影步 驟可採用（A)所記載的方法。 另外，該B-2方法的更具體例係可舉W02008/078707、 曰本專利特開2002-139612所揭示的方法。 針對本發明之製造方法中，可當作（1)隔間壁形成步驟 使用的（C)利用光學微影法或印刷法在支撐基板主面上，形 成由感光性樹脂組成物或熱硬化性樹脂組成物所構成之隔 間壁後，再藉由對隔間壁的上部表面賦予疏墨性而形成疏 墨性隔間壁的方法，說明如下。 當利用光學微影法形成由感光性樹脂組成物層所構成 的隔間壁時’可使用上述(A)方法所示之負型感光性樹脂組 成物、亦可使用正型感光性樹脂組成物。惟，方法中， 由於係使含疏墨劑的層有別於該感光性樹脂組成物層而妒 成，故在(C)方法所使用的感光性樹脂組成物中，上述认) 所示之疏墨劑便非屬必需成分。 另一方面，當利用印刷法形成隔間壁時，例如藉由使 30 201106027 用熱硬化性樹脂組成物進行隔間壁圖案的印刷，便可形成 由樹脂組成物構成的隔間壁。 (c-i)在形成有由樹脂組成物所構成之黑色隔間壁（黑 矩陣）的透明基板上，施行含疏墨劑的正型感光性樹脂組成 物之塗裝’視需要進行乾燥，再從透明基材的背面施行曝 光’經顯影，便形成疏墨性隔間壁。另外，依照該方法所 施行的疏墨性隔間壁之形成中，乾燥、曝光'顯影步驟可 採用（A)所記載的方法。又，關於該方法所使用的疏墨劑， 係可使用與依上述(A)方法所使用者為同樣的疏墨劑。 另外，該C-1方法的更具體例，係可舉日本專利特開 2〇〇8-165〇92(段落0102、實施例Π)所揭示的方法。 (C-2)在支撐基板之外的另一臨時支撐體上，施行疏墨 劑或含有疏墨劑的塗佈液之塗佈，視需要進行乾燥，形成 含有疏墨劑的層。另外，疏墨劑或含疏墨劑的塗佈液可具 有或不具有感光性。將形成有由樹脂組成物所構成隔間壁 的支樓基板、與形成含有前述疏墨劑之層的臨時支樓體進 行層壓後，再將臨時支撐體撕開，便在支撐基板上形成疏 墨性隔間壁。又，關於該方法所使用的疏墨劑，係可使用 與上述(A)方法所使用者為同樣的疏墨劑。 另外，該C-2方法的更具體例，係可舉曰本專利特開 2008-139378所揭示的方法。 (C - 3)對形成有由樹脂組成物所構成之隔間壁的支樓基 板上，將氟化合物使用為導入氣體來施行電漿照射。當作 導入氣體使用的氟化合物係可舉例如：CF4、、qF6、 31 201106027 SF6、NF3等。又’可在減壓下施行電漿照射，亦可在大氣 壓下施行電漿照射。 另外，該C-3方法的更具體例，係可舉日本專利特開 2002-062422 、特開 2003-344640 、特開 2003-124210 、 W02006/035621所揭示的方法。 其他’亦可利用凹版塗佈或喷墨，僅對隔間壁表面賦 予疏墨性（參照日本專利特開2008-76651(實施例1、實施例 11)) 〇 再者，針對本發明的製造方法中，可當作（1)隔間壁形 成步驟使用的（D)在支撐基板主面上依序形成可溶於有機 溶劑但不溶於鹼顯影液的非感光性樹脂組成物（例如熱硬 化性樹脂組成物）的層、以及含疏墨劑的感光性層，再利用 光學微影法’接著利用有機溶劑施行的蝕刻處理，而獲得 疏墨性隔間壁之方法，說明如下。 支樓基板上將可溶於有機溶劑但不溶於鹼顯影液的非 感光性樹脂組成物、或含有該組成物的塗佈液施行塗佈， 視需要進行乾燥’形成非感光性樹脂組成物層，再於該層 上將含有疏墨劑的感光性組成物、或含有該組成物的塗佈 液施行塗佈’視需要進行乾燥，便形成含有疏墨劑的層。 可溶於有機溶劑但不可溶於鹼顯影液中的非感光性樹 脂組成物，只要係屬未具有酸性基的樹脂組成物，且重量 平句刀子里在10萬以下便可使用。且，較佳為熱硬化性樹 脂組成物。可舉例如環氧樹脂、丙烯酸共聚物等。 含疏墨劑之層係可為玉型、亦可為負型。經曝光、顯 32 201106027 影而僅對含有疏墨劑的層施行圖案化。此處所形成之含有 疏墨劑的層係不溶於有機溶劑。視需要進行乾燥’再利用 有機溶劑對非感光性樹脂組成物層施行姓刻’而形成疏墨 性隔間壁。乾燥、曝光、顯影步驟可採用（A)所記載的方法。 又’關於該方法所使用的疏墨劑’亦可使用依上述(A)方法 所使用者為同樣的疏墨劑。 另外，該(D)方法的更具體例，係可舉日本專利特開 2008-165092(段落〇〇79、實施例1)所揭示的方考。 本發明之光學元件之製造方法中，在上述所說明的（1) 隔間壁形成步驟之後，緊接著施行以下所說明的（2)第1加熱 步驟。另外，構成由（1)所形成之隔間壁的樹脂組成物係例 如，即便在隔間壁形成時經曝光等施行光硬化處理，仍處 於未充分硬化的狀態，更具體而言，處於僅隔間壁表面硬 化而隔間壁内部未充分硬化的狀態，因而利用以下的（2)第1 加熱步驟來促進硬化’且更進一步利用（4)第2加熱步驟來結 束硬化。另外，本發明之光學元件之製造方法中，該(2)第1 加熱步驟及(4)第2加熱步驟中的樹脂組成物的硬化程度，如 後述，係以隔間壁的高度變化為基準來進行調整。 再者’上述(1)隔間壁形成步驟中，雖針對本發明之製 造方法可適用的各種樹脂組成物、與其所適用的隔間壁形 成步驟進行說明，但該等之中，最適用於本發明之製造方 法者係樹脂組成物域紐樹·成物，壁形成步 驟係依序施行：在㈣基板切«紐樹餘成物之塗 膜、曝光及顯影的操作。更適用於本發明之製造方法者係 33 201106027 感光性樹脂組成物為負型感光性樹脂組成物的情況。此 外，本發明之製造方法中’當使用感光性樹脂組成物的情 況，该組成物就耐溶劑性、财熱性的觀點，較佳為含有熱 硬化劑、且更佳為含有具2個以上環氧基的化合物。又，為 形成由樹脂組成物構成且上部表面具有疏墨性的隔間壁， 便採取在隔間壁形成時使用疏墨劑，對隔間壁上部表面賦 予疏墨性的手段，而此種疏墨劑較佳係如上述地使用含氟 疏墨劑。 另外，本發明之製造方法中’隔間壁形成後的樹脂組 成物之硬化’係藉由該第1加熱步驟與第2加熱步驟的組合 而可充分地達成’不需要在經隔間壁形成後，為促進樹脂 硬化而實施諸如習知公知之後曝光等高成本步驟，屬於頗 富經濟效益的製造方法，該後曝光係藉由可照射出與上述 曝光同樣之光的250nm〜450nm之電磁波來進行曝光。 即，本發明之光學元件之製造方法中，在上述（1)隔間 壁形成步驟後，不對所獲得之隔間壁照射250nm〜450nm之 電磁波，而是依序施行以下所詳細說明的（2)第1加熱步驟、 (3)油墨層形成步驟及(4)第2加熱步驟之方法，係屬於較佳 的製造方法。 再者，本發明之製造方法中，關於在從未施行過上述 隔間壁之加熱的情況下，將利用加熱施行的樹脂組成物之 硬化分成(3 )噴墨步驟的前後2階段來實施的效果，連同隔間 壁的高度變化一併在以下各步驟的相關記載中進行說明。 (2)第1加熱步驟 34 201106027 本發明之光學元件之製造方法中’（2)第1加熱步驟係對 利用上述(1)隔間壁形成步驟而在支撐'基板上所形成的前述 隔間壁施行加熱，俾促進前述樹脂組成物的硬化，藉此當 將隔間壁形成步驟後的隔間壁高度設為H0,且將第丨加熱步 驟後的隔間壁高度設為H1時，使隔間壁形成步驟後的隔間 壁高度對第1加熱步驟後的隔間壁高度之比（h〇/h1)成為 1_05€H0/H1S1_18之關係的步驟。另外，本發明之製造方 法中’較佳係以令前述H0/H1之關係成為1 .〇8 $ h〇/h1 S 1.17的方式來實施(2)第1加熱步驟。 使上述隔間壁形成步驟後的隔間壁高度對第1加熱步 驟後的隔間壁高度之比(Η0/Η1)成為1.05 $ H0/H1 $ 1.18的 加熱條件，雖然係依照所使用之樹脂組成物而異，但具體 而言，可舉150°C〜215°C的溫度條件作為較佳條件。加熱的 方法係可舉：將支撐基板與隔間壁一起利用諸如加熱板、 烤箱等加熱裝置，施行5〜90分鐘加熱處理的方法。又，加 熱時’較佳係未減壓，且依氧濃度為通常的2〇〜21%施行加 熱。又’第1加熱步驟中的加熱溫度較佳係185〜21〇。(：。 藉由以此種加熱條件對利用（1)隔間壁形成步驟在支樓 基板上所形成的前述隔間壁施行加熱，便可使(2)第1加熱步 驟後的隔間壁高度，成為令上述H0/H1可成立ι.〇5$Η〇/ίΐ1 S 1 · 18之關係的高度。 在此’當依上述H0/H1未滿1.05的條件施行第1加熱步 驟時’因為構成隔間壁的樹脂組成物之硬化並未被充分地 促進，因而隔間壁無法獲得充分的耐溶劑性。若耐溶劑性 35 201106027 嫌不足’當在以下的(3)噴墨⑼步驟施行油墨塗佈時，便會 因该油墨中所含的溶劑’導致隔間壁發生膨调、或隔間壁 成分>谷出於油墨中’而構成問題。又疏墨劑分佈不均的 1¾ 1 土表面上層。卩中’亦會因為樹脂組成物的硬化不足而 引發’例如m造成隔間壁膨潤等情形而造祕墨性未 充分顯現’導致發生&墨跨到隔間壁上之所謂溢流情形， 造成油墨間出現混色情H方面，若依HG/H1超越1.18 的條件施行第1加熱步料，必然的會依高溫施行處理，因 而會造成弊端’即’因油墨層均勻性降低，導致油墨層呈 不均勻化。 本發明之製造方法的（2)第1加熱步驟中，當依(2)第1加 熱步驟後的H0/H1成為丨別^刪^丨㈣條件施行加熱 處理時’構成隔間壁的樹脂組成物雖可保持爿溶劑性，但 仍處於硬化收縮途巾。此處，在接著所施行的（3)喷墨⑼ 步驟中，在防止油墨混色的情況下，保持隔間壁之高度一 事係屬有利。當作最終所獲得之光學元件的隔間壁高度， 因為只要在後續的⑷第2加熱步驟中達成便已足多句，因而該 (2)第1加熱步驟中’經加熱後的隔間壁高度便設為可保持在 某程度之高度的上述範圍。即’該⑺第i加熱步驟後的隔間 壁高度H1’如後述，將因（4)第2加熱步驟而更進一步減少， 最終當將第2加熱步騾後的隔間壁高度設為H2時，便會成為 使第1加熱步驟後的隔間壁高度對第2加熱步驟後的隔間壁 局度之比(H1/H2)成為1·〇2$Ηι/Η2$ i 3〇的高度。 另外，若提到有關H1的具體值，依據以下要件，即， 36 201106027 在前述H1、與細所表示之(4)第㈣ 度之間可成立㈤侧啦UG、且較佳⑽5规他 S1.20的關係，又，依照本發明之製造方 與 元件中，最終所獲得之關壁高度，即， 的隔間壁高度H2’雖依光學元件的_而異，但較佳為 0.05〜、更佳為〇.2〜！ 〇_、特佳為〇 $吻爪、極佳為 2〜最佳為2_2〜4μιη的要件，便可求得出值。此種Hi((2) 第1加熱步驟後的隔間壁高度）值，係只要經考慮隔間壁所 使用之裝置的種類、隔間壁形成性等因素再適#設定便 可。H1值大約〇_2〜ι5μιη範圍，較佳範圍為〇 4〜8哗、更佳 範圍為2〜6μηι、特佳範圍為2 3〜4 5μηι。 再者’將(2)第1加熱步驟後的隔間壁高度保持於較高值 事對於在緊接著所施行的（3)IJ步驟中使點陣内所形成 之油墨層具均勻性一事亦具有有利功用。即，隔間壁的疏 墨性較高部分係隔間壁的上層部分，而上層部分的油墨濕 润性偏低’不僅止於被要求疏墨性的隔間壁上，就連隔間 側面’上層部亦均會彈撥油墨。藉由將隔間壁膜厚保持 於較向值’疏墨性較高的隔間壁上層部分亦會被保持於較 而位置處’即’隔間壁側面可在截至某程度為止之位置處 具有親油黑性’因而判斷在(3)IJ步驟所注入的油墨，即便 疋隔間壁邊緣亦能與點陣中央處不會有太大差異，而濕潤 擴展至較上部處。又，將P)第1加熱步驟後的隔間壁高度 H1保持於較高值—事，判斷就防止油墨溢流的觀點亦屬有 效。 37 201106027 再者，（2)第1加熱步驟中’當依⑺第丨加熱步驟後的 H0/H1成為i.〇5$h〇/H1S1_18之條件，換言之，將溫度條 件專加熱條件設成如上所例示之條件來施行加熱處理時， 隔間壁不易發生熱下垂。若屬於如上述溫度範圍，在隔間 壁上部所形成的疏墨層便不易因第丨加熱步驟的熱而熱下 垂至隔間壁側面，隔間壁側面便可輕易保持親油墨性。所 以，如同上述 艾驟的油墨層均勻性將可提高 換5之，當依H0/H1超越1 · 18的高溫加熱條件施行第丨加^ 步驟時，導致油墨層均勻性降低的理由，認為係因熱下1 而導致隔間壁側面具有疏墨性的緣故所致。另外，關於》 墨層的均勻性，並非是注入時的均勻性，而是最終所獲$ 之光學元件的油墨層，即，像素的均勻性，較佳值容後述 另外，一般疏墨性係可舉撥水性及撥油性，分別可; 用水、及1-甲氧基-2-乙醯氧基丙烧、丙二醇小單甲^ 乙酸酯（PGMEA)等的油性成分的接觸角進行評估。為 暢地實施以下所說明之(3)υ步驟，依本發明之製造;能力 行⑺第1加熱步驟後的隔間壁上面，水的接觸角較佳& 以上、更佳達95°以上。又，隔間壁上面的丙二醇單& -2-乙酸酯的接觸角較佳達20。以上、更佳達25。以上早甲3 另外’實際光學元件的隔間壁寬度，通常係⑽ 下，難以對隔間壁上面的接觸角進行測定。此情況，\mj 照與實際光學元件的隔間壁形成方法同樣的方二’，形可十 度達5mm以上的膜，再測定其上面的接觸角。 成〕 (3)喷墨(IJ)步驟 38 201106027 本發明之製造方法中，待上述(2)第1加熱步驟結束後， 便實施(3)噴墨（IJ)步驟，即，對前述支撐基板主面上由前述 隔間壁進行隔間的區域(點陣）中，利用喷墨法注入油墨，而 形成油墨層的步驟。另外，第1(d)圖係示意性地顯示本發明 之製造方法中的IJ步驟之一例的截面圖。經上述所說明的以 第1(a)〜(c)圖所示之示意圖為例的本發明之製造方法中之（1) 隔間壁形成步驟後，歷經上述(2)第1加熱步驟（未圖示）而施 行的第1(d)圖所示之(3)IJ步驟一例中，對支撐基板1上由隔 間壁6所包圍之區域(點陣7)，從喷墨裝置（未圖示）的油墨供 應喷嘴9供應油墨10，便形成油墨層11。 此處，上述(2)第1加熱步驟後的隔間壁，係充分具有耐 溶劑性，且上部表面確保充分疏墨性，並確保高膜厚與側 面中除上層以外之區域的親油墨性的隔間璧，當利用上述 喷墨法施行油墨注入時，不會發生因溢流導致之油墨混色 等問題，可形成均勻的油墨層。另外，本發明之製造方法 中，當施行(3)喷墨（IJ)步驟之際，對支撐基板主面上有形成 油墨層的部分，視需要亦可施行親油墨化處理。 (3)喷墨（IJ)步驟係可使用喷墨法一般所使用的喷墨裝 置，與通常方法同樣的實施。此種油墨層形成時所使用的 喷墨裝置並無特別的限定，可採用利用下述各種方法的喷 墨裝置，該等方法係例如：將帶電油墨連續喷射並利用磁 場進行控制的方法、使用壓電元件間歇性地喷射油墨的方 法、將油墨加熱並利用其發泡而間歇性喷射的方法等各種 方法。 39 201106027 另外’本說明書中所謂「油墨」係指例如具有光學性、 電氣性機能的物質（亦可為利用硬化等反應而成為該物質 的刖驅物）、或含有該物質的組成物(硬化性化合物與非屬硬 化性之該物質的組成物等）’其本身呈液狀之物、或含溶劑 的液狀組成物之統稱。本說明書的「油墨」並不侷限於例 如染料或顏料等著色物質與黏結劑及溶劑的混合物、著色 物夤與硬化性黏結劑及溶劑的混合物'著色物質與液狀硬 化性黏結劑的混合物等，習知所使用的著色用油墨。 當油墨含有溶劑時’油墨層係將油墨注入於由隔間壁 所包圍的開口部中，再利用乾燥將溶劑予以除去而形成。 虽油墨係含有硬化性黏結樹脂成分等硬化性化合物時，便 會在將溶劑除去後，使硬化性化合物硬化。 3有經乾燥後之油墨、或經乾燥後硬化之油墨的1個開 口。卩，便成為表示具有光學性'電氣性機能之區分的1個「像 素」。 本發明之製造方法中，該IJ步驟所使用的油墨旅無特別 的限制，可使用當利用噴墨法進行光學元件製造之除通帛 所使用的油墨。另外，油墨係依每個所製造光學元件，根 據對油墨所要求之機能進行適當設計並調製。關於此襁油 墨的具體構造，在後述可理想地適用本發明之製造方法的 各光學元件之記載中有說明。 旦此處若提到有關利用喷墨法而被注入於點陣中的油墨 量，在例如彩色遽光片製造的情况，後述⑷第2加熱少鄉結 束後的油墨體積(L)，較佳係、相對於點陣體積(v辦定在以下 40 201106027 範圍内。

1/1〇xV<L<3/2xV 另外，因為油墨中含有溶劑、或因乾燥加熱等而收縮， 因而在該U步驟中利用噴墨法進行注人的油墨量便成為較 多於油墨體積(L)的量。在該步驟中，注入於點陣中的油墨 里雖然係依照油墨組成、組成成分而異，但可從最終所獲 才于之油墨體積(L)、所使用之油墨的溶劑含有率、及收縮率 等適當地計异出。又，當油墨係屬於硬化性油墨的情況， 因為油墨施行硬化之際會發生收縮，因而該硬化收縮率亦 被考慮入。 再者，該喷墨(IJ)步驟中，經在點陣中注入油墨後，視 需要施行用以使油墨中所含之溶劑乾燥的加熱。該加熱不 同於第2加熱步驟’係以使溶劑乾燥為目的，加熱乾燥係可 依50〜l2〇°C、1〇〜2000秒鐘程度的廣範圍實施。又，亦可併 用真空乾燥。此情況’可採用壓力500〜l〇pa、1〇〜3〇〇秒鐘 程度的真空乾燥條件。 (4)第2加熱步驟 本發明之製造方法中’待上述(3)噴墨(IJ)步驟結束後， 便對前述隔間壁與前述油墨層更進一步施行加熱而形成像 素，且為使前述樹脂組成物的硬化結束，當將上述(2)第1 加熱步驟後的隔間壁高度設為H1、將(4)第2加熱步驟後的 隔間壁高度設為H2時，依第1加熱步驟後的隔間壁高度對第 2加熱步驟後的隔間壁高度之比（H1/H2)成為1.02SH1/H2 S 1.30之關係的方式，施行(4)第2加熱步驟。另外，本發明 41 201106027 之製造方法中，最好依前述H1/H2的關係成為1〇5$Η1/Η2 S 1.20的方式’施行⑷第2加熱步驟。 衫色濾光片的製造時所使用之油墨，較佳為硬化性油 墨。硬化性油墨較佳係含有諸如染料或顏料等著色物質、 與硬化性黏結樹脂成分、及溶劑的油墨。黏結樹脂成分較 佳係硬化性化合物、或組成物(具乙烯性雙鍵之聚合性化合 物與聚合起始劑的組合、具2以上環氧基之聚環氧化物與硬 化劑的組合等）。當使用硬化性油墨的情況，在上述第2加 熱步驟中，硬化性油墨便會硬化。 另外，本發明之光學元件之製造方法中，該第2加熱步 驟係為提高關壁與油墨層㈣熱性，並抑制產生氣體， 俾獲得高可靠度之光學元件的最終加熱步驟。又，本發明 之製迤方法中，在上述第丨加熱步驟與第2加熱步驟各自的 加熱中，藉由將隔間壁的高度關係維持成為上述關係便 可將構成隔間壁的樹脂組成物之硬化程度調整為適當狀 態。 使上述第1加熱步驟後的隔間壁高度對第2加熱步驟後 的隔間壁高度之比（Η1/Η2)成為1·〇2^Η1/Η2$ 1.30的加熱 條件，雖然係依照所使用之樹脂組成物而異，但具體而言， 可舉220°C〜250°C的溫度條件作為較佳條件。加熱的方法係 可舉··將支撐基板與隔間壁一起利用諸如加熱板、烤箱等 加熱裝置，施行5〜90分鐘加熱處理的方法。又，亦可併用 真空乾燥。此時的條件係可舉壓力l()〜l50000Pa、丨〜⑹分鐘 程度。又’第2加熱步驟的加熱溫度，較佳係225。〇〜245°C。 42 201106027 藉由以此種加熱條件對(3)噴墨(u)步驟彳㈣前述隔間壁與 前述油墨層-起施行加熱，便可使(4)第2加熱步驟後的隔間 壁高度’成為令上述H1/H2可成立1.〇2$Ηΐ/Τ^γ, ~ δ 1.30之關 係的高度。 此處，若依上述Η1/Η2未滿1.02的條件施行第2加熱步 驟時’隔間壁的硬化與油墨層的硬化會嫌不足，更會因'力 熱而發生膜減情形。依此，當硬化不足的情況，所养得之 光學元件的耐熱性會有問題，將損及可靠产。 又 为一方面， 若依Η1/Η2超越1.30的條件施行第2加熱步驟時 Ί 必然依南 溫施行處理，導致隔間壁與油墨層發生分解。若八解軾為 明顯，色濃度便會改變，導致無法達成所需色調。 本發明之光學元件之製造方法中，藉由依序實施上述 (1)〜(4)步驟，便可獲得具有：支撐基板、隔間壁（其係在前 述支撐基板主面上，依將該主面隔間為複數區間的方式形 成，且由樹脂硬化物構成）、及複數像素（其係分別形成於前 述支撐基板上，利用前述隔間壁所隔間的區域中）的光學元 件。 依本發明之製造方法所獲得之光學元件中，由樹脂硬 化物所構成之隔間壁雖然係依照光學元件的種類而異，《曰 較佳係寬度（平均值)在ΙΟΟμηι以下、更佳在5〇|xm以下。又， 相鄰之隔間壁間的距離（即，開口部（點陣）的寬度（平均 值）），較佳係ΙΟΟΟμιη以下、更佳係500μηι以下。且，隔間 壁高度（即’上述所稱的Η2(平均值))較佳係〇.05〜5〇μηι、更 佳0.2〜1〇μιη、特佳〇 5〜5pm。特別係在TFT陣列側製作彩色 43 201106027 滤光片之所謂 C〇A(color filter 0n array)、或 B〇A(black matrix on array)式時，2.2~4μπι最為適當。 噴墨法所使用之油墨的固體含量，通常係1〇〜3〇質量 %，大多係含大量溶劑的情況。所以，當隔間壁高度較高 的情況，利用噴墨法所吐出的油墨係依以隔間壁上面為基 準面，並從假設形成的面呈大幅壟起之狀態而填充至開口 部中。結果，油墨便容易溢流。特別係彩色濾光片的情況， 最好係隔間壁上面與油墨層上面形成略同平面構造。若假 設將開口部面積設為同一，則隨著隔間壁高度的提高，所 填充的油墨量亦會變多，從開口部發生的油墨壟起情形會 有趨於明顯的傾向。依此，當隔間壁高度較高的情況(特別 係Η2(平均值）達2.2μιη以上的情況），本發明之製造方法係 屬有效，抑制溢流的效果較大。 一個開口部的面積較佳係5,000μιη2以上且300,000μιη2 以下、更佳係1〇,〇〇〇μιη2以上且2〇,〇〇〇0μιη2以下、特佳係 15,000μιη以上且1〇〇 〇〇〇μιη2以下、最佳係2 〇〇〇μηι2以上且 75,000μηι2以下。若開口部面積過小，便較難利用喷墨使油 墨彈落於所需點陣中。另一方面，若開口部面積過大，則 所彈落之油墨較難在點陣呈均勻地濕潤擴展。 一個開口部的體積（即’一個開口部的面積X隔間壁高 度），較佳係500μηι3以上且3,000,〇〇〇μιη3以下、更佳係 1，500μηι3以上且丨，500 000μιη3以下、極佳係3 〇〇〇μιη3以上且 500,000μιη3以下、最佳係6 000μιη3以上且3〇〇 〇〇〇μιη3以下。 若開口部（點陣）的體積過小，則較難利用喷墨使油墨彈落於 44 201106027 所治’點陣* °另—方面’若點陣的體積過大，則所填充的 油墨較難均勻地填充於點陣中。 噴土去所使用之油墨的固體含量通常係10〜30質重 /。大夕係3有車父多溶劑的情；兄。所以，帛口部面積車父小 的情’兄4開口部體積較小的情況利用噴墨法所吐出的 油墨隔間壁上面為基準面，並從假設形成的面呈 大幅藝起之狀態而填充至開口部中。結果，油墨便容易溢 流° ^ ’開口部面積較小(特另係75，00(W以下）的情況、 或開口。P體積較小（特別係細，_哗3以下）的情況，本發明 之製造方法係屬有效’抑制溢流的效果較大。 依如則述，在隔間壁上面與油墨層上面成為略 同平面的構4中’開口部的油墨I起係當隔間壁高度較高 的情況會趨於明顯’因而本發明之製造方法係當隔間壁高 度較高的情況(特別細(平_達2.細以上的情況），會 更加有效。 以轉的Μ壁與像权尺寸，絲照光學 凡件的種類而異。例如，42吋電視機的像素面積大約 75，_卿’ 32忖電視機的像素面積則大約30，_〆。彩 +色慮光1的膜厚大約1〜3哗，有紙的膜厚大約⑴哗。 右考慮该專因辛，目|丨pq Γ»» Α 〜與程度 的體積範圍便成為上述 再者，依照本發明之製造方法所獲得之光學元件中’ =用清驟塗佈於由隔間壁所隔間的區域(點_，接 者利用⑷第2加熱步驟施行加熱處理的油墨層（即，像素)之

45 201106027 均勻性，較佳係在下述評估方法中可取得以下的值。即， 如第2圖所示，測定經由IJ步驟、第2加熱步驟，而在點陣内 所形成之油墨層的隔間壁邊緣部分4個地方（如第2 (b)圖所 示之yl〜y4位置）的平均膜厚（M)、與中央（如第2(b)圖所示之 X位置）的膜厚（N)後，隔間壁邊緣部分4個地方的平均膜厚 (M)對中央膜厚（N)的百分率（即，M/NxlOO)，較佳係 70〜150、更佳係75〜120。 依此所製得光之學元件中，隔間壁具有充分的耐溶劑 性、耐熱性，利用喷墨法施行油墨注入時油墨間亦不會發 生混色情形，藉由對點陣内的油墨確保良好濕潤性，而形 成有均勻油墨層。此外，本發明之光學元件之製造方法中， 即使未含有於隔間壁形成後為促進樹脂組成物硬化而施行 的後曝光等高成本步驟，利用2階段加熱步驟便可使樹脂組 成物的硬化結束，可依簡單化且符合經濟效益的步驟，進 行光學元件的製造。 上述可理想地適用本發明之光學元件之製造方法的光 學元件，具體而言，可舉彩色濾光片、有機EL顯示元件、 有機TFT陣列等。以下，針對前述3種光學元件的本發明之 製造方法之適用進行說明。 〔彩色濾光片之製造〕 彩色濾光片中，上述隔間壁較佳係通稱「黑矩陣(BM)」 的遮光層。又，當彩色濾光片的隔間壁係BM之情況，將要 求高遮光性，表示該遮光性的值(OD (Optical Density，光學 密度)值），係依通常可成為1.5〜6範圍的方式來設計。另外， 46 201106027 〇D值的調整係藉由適當選擇上述（i)隔膜形成步驟所記載 之黑色著色劑的種類、調配.量等而實施。當黑矩陣(BM)係 以負型感光性樹脂組成物為原料進行製作的情況，特別係 在（1)隔間壁形成步驟的曝光中，負型感光性樹脂組成物的 硬化不足’而依照本發明之製造方法施行的（2)第1加熱步驟 及(4)第2加熱步驟，對於負型感光性樹脂組成物的硬化具有 有效作用。 彩色濾光片中，所形成之像素的形狀係可為諸如條紋 式馬赛克式、二角式、4像素配置式（4 display pixel arrangement)等公知任何排列。 像素之形成所使用的油墨係主要含有：著色成分、黏 結樹脂成分、及溶劑。著色成分較佳係使用耐熱性、耐光 I1生專句優異的顏料及染料。黏結樹脂成分較佳係透明且财 熱性優異⑽脂，可舉例如：丙烯酸樹脂、三聚氰胺樹脂 胺甲酸_脂等。水性油墨係含有當作溶劑用的水及視f 要之水溶財機㈣，並含有當作縣樹脂成分用的水;笔 性樹脂或水分散性難，且減要含有各種㈣。又，每 =油墨係含有料溶劑關錢溶劑，並対當作黏結接 :成分用之可溶於有機溶劑的掛脂，且視需要含有各種助 劑° 恢如前述’黏結樹脂成分較佳係屬於硬化性。 經像素形成後，視需要再形成保護膜 =在提升表面平坦性之目的下、與阻斷來自隔二;;象 ㈣=墨的溶出物到達液晶層之目的下形成。當有形成 …、-的情況，較佳係事前將隔間壁的疏墨性予以除 47 201106027 去。當未將疏墨性除去的情況，因為防護用塗佈液會被撥 彈，導致無法獲仔均勻膜厚，因而最好避免。將隔間壁的 疏墨性予以除去之方法，係可舉電漿灰化處理或光灰化處 理等。 再者，視需要，為求使用彩色濾光片進行製造之液晶 面板的高品質化，較佳係將光感式間隙子(Ph〇t〇 Spacer)形 成於由隔間壁所構成之黑矩陣上。 再者，本發明之光學元件之製造方法係當隔間壁高度 較高的情況更為有效，因而為求開口率的提升等，特別適 用於在TFT陣列側製作彩色濾光片之方式的彩色濾光片（所 謂COA方式或BOA方式的彩色渡光片）。 〔有機EL顯示元件之製造〕 在形成隔間壁之前，藉由濺鍍法等，在玻璃等透明基 材上’製膜出諸如氧化銦錫(IT〇)等透明電極’再視需要將 透明電極敍刻為所需圖案。接著，依照本發明之製造方法， 形成隔間壁，並施行上述所說明的第1加熱後，再使用噴墨 法’對點陣依序施行電洞輪送材料、發光材料的溶液塗佈， 經乾燥後’再依照上述所說明之本發明之製造方法施行第2 加熱處理，便形成電洞輸送層、發光層。然後，利用蒸鍍 法等形成諸如鋁等電極，藉此便可獲得有機EL顯示元件的 像素。 〔有機TFT陣列之製造〕 有機TFT陣列通常係依照以下（A)〜(C)之步驟進行製 造。 48 201106027 (A) 在諸如玻璃等透明基材上形成隔間壁。使用喷墨 法，對點陣施行閘極材料溶液的塗佈而形成閘極。 (B) 經形成閘極後，便在其上形成閘絕緣膜。在閘絕緣 膜上形成隔間壁，使用喷墨法對點陣施行源極、汲極電極 材料溶液的塗佈，而形成源極、汲·極電極。 (C) 經形成源極、汲極電極後，便依包圍含有一對源極、 汲極電極的區域之方式形成隔間壁，再使用噴墨法對點陣 施行有機半導體溶液的塗佈，使有機半導體層形成於源 極·汲極電極間。 另外，在上述(A)〜(C)之各項步驟中，係分別施行隔膜 形成、與利用喷墨法施行油墨注入，但可在僅該等之一步 驟中，於利用喷墨法施行油墨注入的前後，利用分別執行 上述所說明之第1加熱處理與第2加熱處理的本發明之製造 方法，亦可在2以上之步驟中，利用上述本發明之製造方法。 實施例 以下，根據實施例針對本發明進行說明，惟本發明並 不僅侷限於該等實施例。另外，以下的各實施例及比較例 中，「份」係指「質量份」。 首先，下述各實施例與比較例中所使用之化合物的代 號如下所示。 <化合物代號> ⑴疏墨劑調製時所使用的化合物 X-8201 :含二甲基聚矽氧鏈之甲基丙烯酸酯（商品名 X_24_8201，信越化學工業公司製） 49 201106027 C6FMA : CH2=C(CH3)COOCH2CH2(CF2)6F MAA :曱基丙烯酸 IBMA :甲基丙烯酸異丁酯 CHMA:甲基丙烯酸環己酯 2-HEMA:曱基丙烯酸-2-羥乙酯 V-7〇 : V-70(商品名，和光純藥公司製，2,2'-偶氮雙(4-甲氧基-2,4-二甲基戊腈)） AOI : Karenz AOI(商品名，昭和電工公司製，異氰酸 -2-丙烯醯氧基乙酯） BEI: Karenz BEI(商品名，昭和電工公司製，異氰酸-1,1 -雙（丙烯醯氧基曱基）乙酯） DBTDL :二丁錫二月桂酸酯 BHT : 2,6-二第三丁基對甲酚 MEK : 2-丁酮 (ii)感光性樹脂組成物塗佈液調製時所使用的成分 (光聚合起始劑） OXE02 : OXE02[商品名，汽巴超級化學公司製，乙酮 1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲醯基）-9H-咔唑-3-基]-l-(0-乙醯 肟)] (增黏劑） BOT : 2-硫醇基苯并噁唑 (感光性樹脂） EX1010 : EX-1010(商品名，NagaseChemteX公司製， 在環氧樹脂中導入乙烯性雙鍵與酸性基的樹脂溶液；固體 50 201106027 含量70%、重量平均分子量3020) ZCR1569: ZCR-1569(商品名，日本化藥公司製，在具 聯苯骨架的環氧樹脂中導入乙烯性雙鍵與酸性基的樹脂溶 液；固體含量70%、重量平均分子量4710) (自由基交聯劑） DPHA : KAYARAD DPHA(商品名，曰本化藥公司製， 二季戊四醇五丙烯酸酯與二季戊四醇六丙烯酸酯的混合 物） A9300 : NK酯A-9300(商品名，新中村化學工業公司 製，乙氧基化異三聚氰酸三丙烯酸酯） (稀釋劑） PGMEA:丙二醇_1_單甲醚_2_乙酸酯 (著色劑、微粒子） CB :碳黑分散液（平均二次粒徑12〇nm，分散媒 PGMEA，碳黑20% ’胺值i 8mgK0H/g的聚胺甲酸酯系高分 子分散劑5%)二氧化矽：二氧化矽分散液（平均粒徑2〇nm， 分散媒PGMEA，固體含量30%，二氧化矽係帶負電） (熱交聯劑） NC3_H : NC-3000-H(商品名，日本化藥公司製，具 有聯苯骨架的環氧樹脂，軟化點69°c) (矽烷偶合劑） KBM503 : KBM-503(商品名，信越化學公司製，3_甲 基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽炫^ KBM4〇3 : KBM_4〇3(商品名，信越化學公司製，3_環 51 201106027 氧内氧基丙基三甲氧基矽烷） 首先，針對下述各實施例與比較例所使用之疏墨劑的 合成進行以下說明。 [疏墨劑：化合物(A_i)之合成] 在具備攪拌機且内容積1L的熱壓鋼(autoclave)中，裝填 入 MEK(420.〇g)、x_82〇i(27.0g)、C6FMA(66.6g)、MAA (14,4g)、2-HEMA(72_0g)、及聚合起始劑V-70(1.4g)，於氮 极境下’一邊施行攪拌，一邊依30。(：進行24小時聚合，便 合成粗共聚物。在所獲得之粗共聚物的溶液中添加入庚 烧’經再沉澱精製後，施行真空乾燥，獲得共聚物 UM8.7g)。共聚物1係數量平均分子量25980、重量平均分 子量64000。另外，數量平均分子量與重量平均分子量係利 用凝膠滲透色層分析法，並以聚苯乙烯為標準物質進行測 定。另外’以下各化合物（聚合物）的數量平均分子量及重量 平岣分子量均全部依照同樣方法進行測定。 在具備溫度計、攪拌機、及加熱裝置且内容量300mL 的破璃製燒瓶中，裝填入共聚物l(40.〇g)、BEI(30.5g)、 DBTDL(0.12g)、BHT(1.5g)、及MEK(109.4g)，一邊施行攪 拌’ 一邊依40°C進行48小時反應，而合成粗聚合物。在所 獲得之粗聚合物溶液中添加庚院，經再沉殿精製後，施行 真空乾燥，獲得化合物(A-l)(60.1g)。化合物(A-1)係數量平 均分子量36150、重量平均分子量114000。 [疏墨劑：化合物(A-2)之合成] 在具備攪拌機且内容積1L的熱壓鍋中，裝填入 52 201106027 MEK(420.0g)、C6FMA(81.〇g)、MAA(18.0g)、2-HEMA (72.0g)、IBMA(9.0g)、及聚合起始劑v-70(2.9g)，於氮環境 下，一邊施行攪拌，一邊依30°C進行24小時聚合，便合成 粗共聚物。在所獲得之粗共聚物的溶液中添加入庚烷，經 再沉澱精製後’施行真空乾燥，獲得共聚物2(160.0g)。共 聚物2係數量平均分子量18560、重量平均分子量47080。 在具備溫度計、攪拌機、及加熱裝置且内容量300mL 的玻璃製燒瓶中，裝填入共聚物2(50.0g)、AOI(21.7g)、 DBTDL(0.087g)、BHT(l.lg)、及MEK(128.1g)，一 邊施行 攪拌，一邊依40°C進行48小時反應，而合成粗聚合物。在 所獲得之粗聚合物溶液中添加庚烷，經再沉澱精製後，施 行真空乾燥’獲得化合物(A-2)(63.8g)。化合物(A-2)係數量 平均分子量27690、重量平均分子量61110。 [疏墨劑：化合物(A-3)之合成] 在具備攪拌機且内容積1L的熱壓鍋中，裝填入

MEK(420.0g)、C6FMA(68.0g)、MAA(18.0g)、2-HEMA (72.0g)、CHMA(22_0g)、及聚合起始劑v_7〇(2.9g)，於氮環 境下，一邊施行攪拌，一邊依3(TC進行24小時聚合，便合 成粗共聚物。在所獲得之粗共聚物的溶液中添加入庚烷， 經再沉澱精製後，施行真空乾燥，獲得共聚物3(16〇 5g)。 共聚物3係數量平均分子量19030、重量平均分子量492〇〇。 在具備溫度計、攪拌機、及加熱裝置且内容量3〇〇1^匕 的玻璃製燒瓶中’裝填入共聚物3(50.0g)、A〇I(21 7g)、 DBTDL(0.087g)、BHT(l.lg)、及MEK(128_lg)，—邊施行 53 201106027 搜拌，一邊依40°C進行48小時反應，而合成粗聚合物。在 所獲得之粗聚合物溶液中添加庚烷，經再沉澱精製後，施 行真空乾燥，獲得化合物(A-3)(64.2g)。化合物(A-3)係數量 平均分子量28540、重量平均分子量63800。 [實施例1] (負型感光性樹脂組成物塗佈液之調製） 將依上述所獲得之當作疏墨劑用的化合物（A _ 1)(〇. 1 〇 份）、當作光聚合起始劑用的〇ΧΕ02(2·0份）、當作感光性樹 脂溶液用的ΕΧ1010(12.5份）、當作黑色著色劑之分散液用 的CB(48.〇份）、當作自由基交聯劑用的DPHA(3.5份）、當作 熱交聯劑/環氧樹脂用的NC3000H(1.65份）、當作矽烷偶合 劑用的KBM503(2.0份）、及當作溶劑用的PGMEA(30.25份） 予以混合’獲得負型感光性樹脂組成物的塗饰液。相對於 負型感光性樹脂組成物塗佈液的全固體含量，疏墨劑含有 量’換言之，負型感光性樹脂組成物中的疏墨劑（即，化合 物(A·1))含有量係0.33%。 其次’使用該負型感光性樹脂組成物的塗佈液，依照 以下的方法’製作出具有：支撐基板、隔間壁（其係在前述 支樓基板主面上，依將該主面隔間為複數區間方式形成， 且由樹脂硬化物構成)、及複數像素（其係分別形成於前述支 樓基板上由前述隔間壁所隔間的區域中）的試驗用光學元 件。 (1)隔間壁形成步驟 使用旋塗機，在成為支撐基板的玻璃基板AN100(旭硝 54 201106027 將依上述所調製之負 塗佈後，再於加熱板 子製’l〇(Wi〇0mm’厚0 7mm)上， 型感光性樹脂組成物的塗佈液施行 上’依100 C施行2分鐘乾燥，便形成膜厚2 4㈣的 負型感光 性樹脂組成物之塗膜。 情上述所獲得之坡4基板上的貞型感光性樹脂組成 物塗膜’使用超高壓水銀燈，將曝光量依i線⑽㈣基準為 3〇mWW的光，透過遮單施行1.7秒鐘照身卜而曝光 50mJ/cm。另外’遮罩係屬遮光部刚陣X·哗光穿透 部2〇岬雜子狀圖#，且令__基板上所形成之隔間 壁進订隔間的區域’即，開口部（點陣）的容積成為卿[的 設計。 將具有上述曝光後之塗膜的玻璃基板，浸潰於無機鹼 式顯影液Semi Clean DL-A4(商品名，橫濱油脂工業公司製） 的10倍稀釋水溶液中而進行顯影，將未曝光部利用水進行 沖洗後，依常溫進行乾燥，便獲得形成有一上部表面具有 疏墨性且膜厚(Η0)2.40μιη之隔間壁的玻璃基板。 (2)第1加熱步驟 將依上述所獲得之具有上部表面具疏墨性且由感光性 樹脂組成物所構成之隔間壁的玻璃基板，設置於加熱板 上’依160°C施行20分鐘加熱。經該第1加熱後的隔間壁膜 厚(H1)係 2.25μιη。 0)噴墨(IJ)步驟 其A ’依以下方法調製彩色渡光片試驗用油墨（雖未調 配入顏料’但將黏度、固體含量、表面張力調整為與實際 55 201106027 彩色濾光片用油墨相同的試驗用油墨），將其利用噴墨法， 注入於經上述第1加熱步驟後的玻璃基板上之開口部中，而 形成油墨層。 即，將液狀環氧ME-562C日本Pelnox公司製）(6.25g)、 硬化劑HV-562(日本peinox公司製）(6.25g)、己二酸二乙酯 (12.5g)、及丙二酸二乙酯（25 〇g)，使用攪拌器施行1小時攪 拌混合，而調製油墨。該油墨的固體含量係25質量％。使 用噴墨法，對上述玻璃基板的各開口部，依上述所獲得之 油墨約160pL(各開口部體積的4倍量）施行塗佈。經油墨塗 佈後，在加熱板上，依l〇0°C施行2分鐘乾燥，便在玻璃基 板上由隔間壁所隔間的各區域中形成油墨層。 (4)第2加熱步驟 將在上述基板上利用隔間壁進行隔間的各區域中形成 有油墨層的玻璃基板，於加熱板上，依24〇〇c施行2〇分鐘加 熱。經該第2加熱處理後，測定隔間壁膜厚（H2)，結果為 2·00μιη。該光學元件係成為隔間壁上面與油墨層上面為略 同平面的構造，下例亦同。 依此，便獲得具有隔間壁（其係將玻璃基板上隔間為複 數區間，且由樹脂硬化物構成）、與像素（其係由形成於基板 上利用前述隔間壁進行隔間的區域中之複數油墨層構成] 的試驗用光學元件。 再者，亦施行將上述(3)噴墨步料，對各開口部施行 塗佈的油墨量’變更為約240PL(開口部體積的6倍量）的實 驗0 56 201106027 [實施例2、3] 除將負型感光性樹脂組成物塗佈液所含有之各成分的 配方，變更為如表1所示，且將上述⑺心加熱步驟及/或⑷ 第2加熱步驟的加熱溫度，在本發明較佳範圍内變更為如表 1所示之外，其餘均如同實施例丨，獲得具有隔間壁（其係將 玻璃基板上隔間為複數區間，且由樹脂硬化物構成）、與像 素（其係由形成於基板上利用前述隔間壁進行隔間的區域 中之複數油墨層構成）的試驗用光學元件。 [比較例1、2] 除將負型感光性樹脂組成物塗佈液所含有之各成分的 配方，變更為如表1所示，且將上述(^第丨加熱步驟及/或（4) 第2加熱步驟的加熱溫度，如表丨所示，變更為逾越本發明 較佳範圍以外的條件之外，其餘均如同實施例丨，庐得具有 隔間壁（其係將玻璃基板上隔間為複數區間，且由樹脂硬化 物構成）、與像素（其係由形成於基板上利用前述隔間壁進行 隔間的區域中之複數油墨層構成）的試驗用光學元件。 [實施例4〜7、比較例3] 使用表2所示配方的負型感光性樹脂組成物塗佈液，依 如下述製作隔間壁。另外，各例中的HO、Hi、H2值、開口 部體積亦是如表2所示。 (1)隔間壁形成步驟 如同實施例1，在玻璃基板AN100上，形成膜厚2 4μιη 的負型感光性樹脂組成物塗膜。對依上述所獲得之玻璃基 板上的負型感光性樹脂組成物塗膜，使用超高壓水銀燈， 57 201106027 將曝光量依i線(365nm)基準為30mW/cm2的光，透過遮罩施 行1.7秒鐘照射，而曝光5〇mj/cm2。另外，遮罩係屬遮光部 150μηι><300μιη、光穿透部20μηι的格子狀圖案，且令利用玻 璃基板上所形成之隔間壁進行隔間的區域，即，開口部（點 陣）的容積成為90pL的設計。 將具有曝光後之塗膜的玻璃基板，利用無機鹼式顯影 液Semi Clean DL-A4(商品名，橫濱油脂工業公司製）的1〇倍 稀釋水溶液施行淋灑顯影，並將未曝光部予以除去後，再 利用水進行清洗。更依常溫進行乾燥，便獲得形成有一上 部表面具有疏墨性且膜厚(Η〇)2.4μιη之隔間壁的玻璃基板。 (2) 第1加熱步驟 將依上述所獲得之具有上部表面具疏墨性且由感光性 樹脂組成物所構成之隔間壁的玻璃基板，設置於加熱板 上，依180 C施行20分鐘加熱。經該第1加熱後的隔間壁膜 厚(Η1)係2.2μιη。 (3) 噴墨(IJ)步驟 如同實施例1，在玻璃基板上的開口部中形成油墨層。 油墨注入量係針對開口部體積的4倍量、6倍量雙方均施行 實驗。 (4) 第2加熱步驟 將在上述基板上利用隔間壁進行隔間的各區域中形成 有油墨層的玻璃基板，於加熱板上，依23(TC施行20分鐘加 熱。經該第2加熱處理後，測定隔間壁膜厚（H2)，結果為 2μιη。 58 201106027 依此便獲得具有隔間壁（其係將玻璃基板上隔間為複 數區間，且由樹脂硬化物構成）、與像素（其係由形成於基板 上利用前述隔間壁進行隔間的區域中之複數油墨層構成） 的試驗用光學元件。 〈評估方法及評估結果> 使用依上述各實施例及各比較例所獲得之試驗用光學 元件，針對白點、溢流、良單元率（％)、耐溶劑性、經隔間 壁形成步驟後的隔間壁膜厚(H〇)、經第1加熱步驟後的隔間 壁膜厚(H1)、經第2加熱步驟後的隔間壁膜厚(H2)、h〇/H1、 H1/H2、油墨層隔間壁際膜厚、油墨層中央膜厚、及油墨層 均勻性，依下示方法施行評估。評估結果如表丨中的下欄所 不。 [白點] 針對各試驗用光學元件有無白點，使用超深度形狀測 定顯微鏡VK-8500(KEYENCE公司製，以下亦同）進行觀 察。將試驗用光學元件的長lcmx寬lcm區域視為代表樣品 亚進行觀察，當完全無白點的情況便判定屬「〇」，而只要 有1個地方出現白點便判定屬「X」。 [溢流] 針對各試驗用光學元件的油墨溢流狀態，使用超深度 形狀測定顯微鏡進行觀察。將試驗用光學元件的長lcmx寬 lcm區域視為代表樣品並進行觀察，當隔間壁上完全無油墨 跨上¥便判定屬「〇」’而隔間壁上只要有1個地方出現油 墨跨上時便判定屬「X」。 59 201106027 [良單元率（％)] 待第1加齡職束後，顧喷墨法，將依如同實施例 1所獲得之油墨塗佈於各開σ部。改變油墨塗佈量，施行開 積的4倍量、6倍量之塗佈實驗。該實驗中，為了刻 意使油墨液滴並非彈落於開口部中央處，而是彈落於靠近 隔間壁之場所，已進行過調整。經塗佈後，再經第2加= 驟’便獲得形成有Μ壁的玻璃基板1於該玻璃基板， 將油墨無出現溢流地注入至開口部内之單元數，除以全單 元數的數值，視為良品率(％)並施行評估。 [耐溶劑性] 針對各試驗用光學元件的隔間壁因油墨而遭侵餘狀 況’使用超深度形狀測定顯微鏡進行觀察。將隔間壁並未 因油墨而遭侵蝕，且隔間壁上非粗糙者判定為「0」，將隔 間壁因油墨而稍有遭侵蝕’隔間壁上出現若干粗糖者判定 為「△」，將隔間壁因油墨而遭侵餘，隔間壁上呈粗趟者判 定屬「X」。 [經隔間壁形成步驟後之隔間壁膜厚(Η0)] 針對經隔間壁形成步驟後的隔間壁膜厚（ΗΟ)，使用超 深度形狀測定顯微鏡進行測定。另外，膜厚的測定係依隔 間壁5個地方施行的平均值。 [經第1加熱步驟後的隔間壁膜厚(Η1)] 針對經第1加熱步驟後的隔間壁膜厚(Η1)，使用超深度 形狀測定顯微鏡進行測定。另外’膜厚的測定係依隔間壁5 個地方施行的平均值。 60 201106027 [經第2加熱步驟後的隔間壁膜厚(H2)]

針對經第2加熱步驟後的關壁膜厚(H 形狀測定顯微鏡進行測定。另外，膜厚的剛定:依用二 個地方施行的平均值。 加 [H0/H1] 從依上述所測得之H0及H1的值所算出的值。 [H1/H2] ° 從依上述所測得之H1及H2的值所算出的值。 將油墨塗佈量設為開口部體積4倍時，施行以下的評 [油墨層隔間壁邊緣膜厚(Mave)] 針對各試驗用光學元件的3個地方之像素（即，油墨層) 中，隔間壁邊緣部分_厚，使用超深度形狀㈣顯微鏡 VK-85〇〇(KEYENc^司製）進行測定。測定處係針對各像 素依如第2(a)與(b)圖所示，各邊中央部隔間壁邊緣的權地 方’即，第2(b)圖所示之心4處，將該等的平均值設為該 像素的油墨層關壁邊_厚⑽後，接下來將所測定之3 方的像素平均值設為油墨層隔間壁邊緣膜厚(Μ_)。 [油墨層中央膜厚(Nave)] 針對各試驗用光學元件的3個地方之像素（即，油墨層） 、的膜厚，使用超深度形狀測定顯微鏡VK_85〇〇 (KEYENCE公司製)進行測定。測定處係針對各像素依如第 2⑷與⑼圖所示’將該測定值設為該像素的油墨層中央， 即’第2(b)圖所示之x位置的膜厚(N)。將接下來所測定之3 61 201106027 個地方的像素平均值設為油墨層隔間壁邊緣膜厚(Nave)。 [油墨層均勻性] 從依上述所獲得之Mave與Nave的值，依以下計算式所 算出的值。

Mave/Navex 100 62 201106027 [表i] 實施例1 實施例2 實施例3 比較例1 比較例2 各負 成型 分感 的光 調性 l&fst 量脂 广V組 重成 量物 份塗 一佈 液 中 ， 疏墨劑 化合物(A-1) 0.1 — — — - 化合物(A-2) — 0.07 — — — 化錄(A-3) — - 0.11 0.11 0.11 光聚合起始劑 OXE02 2 1 2 2 2 增感劑 BOT - 0.5 - — - 感光彳生樹脂 EX1010 12.5 - — — - ZCR1569 — 14.4 13.2 13.2 13.2 黑色著色劑 CB 48 42 42 42 42 自由基交聯劑 DPHA 3.5 — - — — A9300 — 4 3.55 3.55 3.55 熱交聯劑 NC3000H 1.65 - 1 1 1 微粒子 二氧僻 — 9.5 12 12 12 矽院偶合劑 KBM503 2 — — — — KBM403 — 1 — — — 稀釋劑 PEGMEA 30.25 27.53 26.14 26.14 26.14 相對於負型感光性組成物(塗佈液中全固體 含量），疏墨劑的比例(Wt%) 0.33 0.23 0.37 0.37 0.37 第1加熱步驟溫度(°C) 160 215 180 120 230 第2加熱步驟溫度(°C) 240 230 230 230 230 評 估 結 果 經隔間壁形成步驟後的隔間壁高度 _(μηι) 2.4 2.4 2.4 2.4 2.4 經第1加熱步驟後的隔間壁高度(HI) (μτη) 2.25 2.1 2.2 2.35 2 經第2加熱步驟後的隔間壁高度(Η2) 2 2 2 2 2 Η0/Η1 1.07 1.14 1.09 1.02 1.20 Η1/Η2 1.13 1.05 1.10 1.18 1.00 經第1隔間壁形成步驟後的像素容積 (PL) 40 40 40 40 40 耐溶劑性 〇 〇 〇 X 〇 油墨注入量： 4倍 白點 〇 〇 〇 〇 X 溢流 〇 〇 〇 X 〇 良單元率(％) 80 82 83 0 82 油墨注入量： 6倍 白點 〇 〇 〇 〇 X 溢流 〇 〇 〇 X 〇 良單元率(％) 52 53 52 0 53 油墨注入量： 4倍 油墨層隔間壁邊緣 高度(Mave) 1.7 1.55 1.65 註） 12 油墨層中央高度 (Nave) 2 2 2 註） 2 油墨層均勻性(％) (Mave/NavexlOO) 85 78 83 註） 60 表1中，「註」係表示「油墨層溢流、無法測定。」。 63 201106027 [表2] 實施例4 實施例5 實施例6 實施例7 ttfe例 3 各負 成型 分感 的光 調性 量脂 广S組 重成 量物 份塗 一佈 液 中 » 疏墨劑 化劍勿(A-1) 一 - — — — 化識A-2) — - 0.03 0.03 0.03 化錄(A-3) 0.11 0.11 一 — — 光聚合起始劑 OXE02 2 2 1.4 1.4 1.4 增感劑 BOT — - — - — 感it;蝴脂 EX1010 — — - - — ZCR1569 132 132 9.5 9.5 9.5 黑色著色劑 CB 42 42 47.3 47.3 47,3 自由基交聯劑 DPHA 一 - 13 1.3 1.3 A9300 3.55 3.55 0.76 0.76 0.76 熱交聯劑 NC3000H 1 0.76 0.76 0.76 微粒子 二氧僻 12 12 17.5 17.5 17.5 矽炫偶合劑 KBM503 一 - — — — KBM403 — — 2 2 2 稀釋劑 PEGMEA 26.14 26.14 19.5 19.5 19.5 相對於負型感光性組成物(塗佈液中全固體 含量），疏墨劑的比例(Wt%) 0.37 037 0.1 0.1 0.1 第1加熱步驟溫度(t) 180 190 190 190 230 第2加熱步驟溫度(t) 230 230 230 230 230 評 估 結 果 經隔間壁形成步鄉後的隔間壁高度 (ΗΟΧμηι) 2.4 2.7 3.45 3.9 3.45 經第1加熱步驟後的隔間壁高度(HI) (μιη) 22 2.45 3.25 3.7 3.13 經第2加熱步驟後的隔間壁高度(Η2) 2 2.25 3.1 3.5 3.1 Η0/Η1 1.09 1.10 1.06 1.05 1.10 Η1/Η2 1.10 1.09 1.05 1.06 1.01 經第1隔間壁形成步驟後的像素容積 (PL) 90 100 140 160 140 对落劑性 〇 〇 〇 〇 〇 油墨注入量： 4倍 白點 〇 〇 〇 〇 〇 溢流 〇 〇 〇 〇 〇 良單元率(％) 90 87 80 78 48 油墨注入量： 白點 〇 〇 〇 〇 〇 溢流 〇 〇 〇 〇 X 良單元率(％) 64 58 53 52 28 油墨注入量： 4倍 油墨層隔間壁邊緣 高度(Mave) 1.62 2.06 2.68 2.92 228 油墨層中央高度 (Nave) 2 2.42 328 3.57 3.49 油墨層均勻性(％) (Mave/NavexlOO) 80 82 82 84 65 64 201106027 關於實施例1〜7得知，經各步驟後的隔間壁高度關係係 滿足本發明之製造方法範圍的1.05SH0/H1S 1.18、且L02 SH1/H2S 1.30。因而，依實施例1〜3所獲得之試驗用光學 元件，不會有溢流，且耐溶劑性呈良好，並無白點，油墨 層均勻性較高。此外，即便將油墨塗佈量設為開口部體積 的6倍時，仍無發生油墨溢流情形。 另一方面，比較例1中，因為經各步驟後的隔間壁高度 關係中，H0/H1係未滿1.05，屬於逾越本發明之製造方法的 範圍外，因而所獲得之試驗用光學元件會有觀察到溢流情 形，且耐溶劑性亦嫌不足。 比較例2中，因為經各步驟後的隔間壁高度關係中， H0/H1係超過1.18，且H1/H2係未滿1·02，屬於逾越本發明 之製造方法的範圍外，因而所獲得之試驗用光學元件會有 白點發生，且油墨層均勻性偏低。 比較例3中，因為Η1/Η2係未滿1.02，屬於屬於逾越本 發明之製造方法的範圍外，因而所獲得之試驗用光學元件 的油墨層均勻性偏低。此外，將油墨塗佈量設為開口部體 積的6倍時，會發生油墨溢流情形。另外，比較例3中關於 白點係呈良好結果之事，推測如下述。隨著隔間壁高度的 提高，油墨層的高度亦會提高，因而遮光距離會變大，所 以會有不易發生白點的傾向。此情況，推測因屬於本發明 之製造方法範圍外，導致白點發生的可能性會提高。 依如上述，經各步驟後的隔間壁高度關係若在本發明 之製造方法範圍内，便可抑制油墨溢流。此外，即便增加 65 201106027 油墨塗佈量的情況，仍不會發生溢流情形，此現象對油墨 調製的自由度提高亦具有貢獻。即，在開口部所塗佈的油 墨係依照光學元件的種類，而可選擇各種組成、固體含量 等的物質。所以，即便使用固體含量濃度較小的油墨時， 若依照本發明的製造方法，仍可在不會有油墨溢流情況下 進行光學元件的製造。 再者，關於良品率，係刻意將油墨液滴的彈落點偏離 開口部中央部來施行評估。由該結果得知，即使是油墨塗 佈的操作側發生問題，諸如：油墨液滴吐出呈不均勻、喷 墨裝置的對準發生不良情況等（即，即使是隔間壁自身特性 以外的部分發生問題），只要根據本發明之製造方法，便可 輕易地獲得優異的光學元件。 產業之可利用性 本發明之製造方法係可適用於諸如彩色濾光片、有機 EL顯示元件、有機TFT陣列等光學元件的製造。 另外，2009年5月20日所提出申請的日本專利申請案 2009-122149號的說明書、申請專利範圍、圖式及摘要等全 部内容均爰引至本案十，並融入為本發明之說明書的揭示。 【圖式簡單說明3 第1 (a)〜(d)圖係示意性地顯示本發明之光學元件之製 造方法之一例的截面圖。 第2圖係依本發明之製造方法之一實施形態所獲得的 隔間壁與油墨層的截面圖（a)及俯視圖（b)。 66 201106027 【主要元件符號說明】 1...支樓基板 10...油墨 2...負型感光性樹脂組成物層 11...油墨層 4...遮罩 X...油墨層厚測定處(中央） 5...光 y 1〜y4...油墨層厚測定處(隔間 6...隔間壁 壁邊緣） 7...點陣 M...膜厚 8…隔間壁上部表面層 9...油墨供應喷嘴 N...膜厚 67

Claims (1)

1. 201106027 七、申請專利範園： L 7ft學元件之製造方法’係具有支樓基板、隔間壁及 複u素的光學元件之製造方法，該隔間壁係由樹脂硬 化物構成而被形私前述支縣板的主面上， 面隔間為複數㈣，且；該等複數像素係分別形成於前 以支# 土板上由^述隔間壁所隔間的區域中；其特徵在 於依序包括有： 隔間壁形成步驟，其在前述支撐基板的主面上形成 隔間壁’該隔間壁係由樹脂組成物構成，且上部表面具 有疏墨性； ，第1加熱步驟，係對前述隔間壁施行加熱，而促進 前述樹脂組成物的硬化； ’由墨層形成步驟’對前述支樓基板上由前述隔間壁所 隔間的區域，利用喷墨法注入油墨而形成油墨層；以及 第2加熱步驟’係對前述隔間壁與前述油墨層施行 加熱而形成像素’且使前述樹脂組成物的硬化結束； 其中’將前述隔間壁形成步驟後的隔間壁高度設為 Η0 '將則述第1加熱步驟後的隔間壁高度設為111、將前 述第2加熱步驟後的隔間壁高度設為Η2時，H〇、H1及 H2係具有以下關係： 依H0/H1表示的比係丨18 ; 依H1/H2表示的比係 1 〇2$Η1/Η2^ 1.30。 2.如申請專利範圍第1項之光學元件之製造方法，其中前 述弟2加熱步驟後的隔間壁高度H2係〇.〇5μιη〜50μιη。 68 201106027 3. 如申請專利範圍第1或2項之光學元件之製造方法，其中 前述第1加熱步驟中的加熱溫度係150°C〜215°C，前述第 2加熱步驟中的加熱溫度係220°C〜250°C。 4. 如申請專利範圍第1至3項中任一項之光學元件之製造 方法，其中前述隔間壁形成步驟後，並未對前述隔間壁 照射250nm〜450nm的電磁波，而是依序施行前述第1加 熱步驟、前述油墨層形成步驟及前述第2加熱步驟。 5. 如申請專利範圍第1至4項中任一項之光學元件之製造 方法，其中前述樹脂組成物係感光性樹脂組成物，且前 述隔間壁形成步驟係依序執行：在支撐基板上形成感光 性樹脂組成物的層及曝光與顯影的操作。 6. 如申請專利範圍第5項之光學元件之製造方法，其中前 述感光性樹脂組成物係負型感光性樹脂組成物。 7. 如申請專利範圍第5或6項之光學元件之製造方法，其中 前述感光性樹脂組成物係含有熱交聯劑。 8. 如申請專利範圍第1至7項中任一項之光學元件之製造 方法，其中前述隔間壁形成步驟中，對隔間壁上部表面 賦予疏墨性的方式包括有含氟疏墨劑的使用。 9. 如申請專利範圍第1至8項中任一項之光學元件之製造 方法，其中前述隔間壁係具有遮光性的遮光層。 10. 如申請專利範圍第1至9項中任一項之光學元件之製造 方法，其中前述光學元件係彩色濾光片、有機EL顯示元 件、或有機TFT陣列。 69