TW201027270A - Illumination optical system, exposure system and method of fabricating device - Google Patents

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201027270 32/20pit 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明有關於一種照明光學系統、具備該照明光學系 統的曝光裝置以及使用該曝光裝置的元件的製造方法。 【先前技術】 一般而言，用於製造半導體積體電路（semiconductor integrated circuit)等的微型元件的曝光裝置包括照明光學 系統，該照明光學系統用於將光源所輸出的曝光光引導至 形成著規定的圖案的標線片（reticle)等的罩幕中。在此 種照明光學系統中，設置著作為光學積分器（optical integrator)的複眼透鏡（fly-eye lens)。而且，在曝光光已 入射至複眼透鏡的情況下，在該複眼透鏡的射出面側相對 於罩幕的被照射面為光學傅裏葉變換（Fourier transform ) 關係的照明光瞳面上，形成著規定的光強度分佈（以下， 稱為「光瞳（pupil)強度分佈」）。另外，形成著光瞳強度 分佈的照明光曈面’亦是指由多個光源所構成的二次光源 (secondary light source )。 自此種二次光源所射出的曝光光，在藉由聚光透鏡 (condenser lens)而聚光之後，對罩幕進行重疊照明。接 著，已穿透罩幕的曝光光，經由投影光學系統而照射至塗 佈著感光材料的晶圓等的基板上。結果將罩幕的圖案投影 曝光（轉印）至基板上。 然而，近年來，罩幕上所形成的圖案的高集成化（微 細化）不斷發展。為了將罩幕的微細圖案準確轉印至基板 201027270 /厶υρι丄 上使基板上形成具有均勻照度分佈的照射區域（亦稱為 「靜止曝光區域」）則不可或缺。因此，先前以來，為了將 罩幕的微細圖案準確轉印至基板上，而在照明光瞳面上形 成例如環狀或多極狀（2極狀、4極狀等）的光瞳強度分佈， ‘ 從而使投影光學系統的焦深（f〇cus depth)或解像力 (resolution)提南（參照專利文獻i)0 [先行技術文獻] φ [專利文獻] [專利文獻1]美國專利申請案公開第2〇〇6/〇〇55834號 說明書 然而，在將罩幕的微細圖案準確轉印至基板上時不 僅需將照明光瞳面中的光曈強度分佈調整為所需的形狀， 而且必需將作為最終的被照射面的基板上的各點的光強度 調整成大致均勻。若基板上的各點的光強度存在差異，則 基板上的每個位置處的圖案的線寬（linewidA)有差異， 從而無法跨及整個曝光區域以所需的線寬將罩幕的微細圖 ® 案準確轉印至基板上。 【發明内容】 本發明是鑒於上述情況而完成的，其目的在於提供一 種可對被照射面上的光強度分佈進行調整的照明光學系 統、曝光裝置以及元件的製造方法。 為了解決上述課題，本發明採用實施形態中所示的斑 圖式相對應的以下的構成。 ~ 本發明的照明光學系統是利用來自光源（12)的光 7 201027270 32726pif (EL)對被照射面（Ra、Wa)進行照明的照明光學系統 (13)，其包括：光學積分器（26)，在來自上述光源（12) 的光（EL)已入射的情況下，於上述照明光學系統（13) 的照明光程内的照明光瞳面（27)上形成規定的光強度分 佈；透射濾光片（64、81、82、81A、82A)，較該光學積 分器（26)而更靠近上述被照射面（Ra、wa)侧，且於上 述照明光學系統（13)的光軸方向上，配置於設定為包含 上述照明光瞳面（27)的第1調整區域（63)及設定為包 含與上述照明光曈面（27)為光學共軛的光瞳共軛面（83) 的第2調整區域（80)中的至少一個區域内，且根據所入 射的光（EL)的位置而透射率特性不同；以及移動機構 (70) ’使該透射濾光片（64、81、82、81A、82A)在上 述至少一個區域内沿上述光轴方向移動。 根據上述構成，透射濾、光片（64、81、82、81A、82A) 以根據光（EL)的入射的位置而透射率特性不同的方式而 形成。此種透射濾光片（64、81、82、81A、82A)配置於 第1調整區域内及第2調整區域内之中的至少一個區域 内。而且，藉由使透射濾光片（64、81、82、81A、82A) 照明光學系統（13 )的光轴方向移動，來獨立地調整被 照射面（Ra、Wa)上的各點中的光強度分佈（亦稱為「光 瞳強度分佈」）。因此，可將被照射面（Ra、Wa)上的各點 中的光強度分佈調整為相互大致相同性狀的分佈。 另外’相對應著表示實施形態的圖式符號來說明本發 明，以便於理解地說明本發明，但無庸置疑本發明不受實 201027270 /ζ,υριι 施形態限定。 [發明之效果] 整根據本發明，可對被照射面上的光強度分佈進行調 為讓本發明之上述特徵和優點能更明顯易懂， 舉實施例，並配合所附圖式作詳細說明如下。 特 【實施方式】 ❹ 、(第1實施形態） 以下，基於圖1〜圖13對將本發明具體化的第丨 形態進行說明。另外，本實施形態中，將下述投影光與， 統15的光轴（圖工中為上下方向）稱為ζ軸方向，= 將圖1中的左右方向稱為γ軸方向’進而，將圖i中與 面正交的方向稱為X軸方向。 〃 如圖1所示，本實施形態的曝光裝置u是如下裝置， 即用於藉由對形成著規定的電路圖案的透射型標線片R照 明曝光光EL，而對表面Wa(+Z方向側的面，圖i中為上 參表面）上塗佈著阻劑（resist)等的感光材料的晶圓w投 影電路圖案的像。此種曝光裝置11包括：照明光學系統 13 ’將自光源裝置12射出的曝光光EL引導至標線片R的 被照射面Ra(+Z方向侧的面）；保持標線片r的標線片載 物台（reticle stage) 14 ;投影光學系統15，將已通過標線 =R的曝光光EL引導至晶圓W的表面Wa上；以及保持 晶圓w的晶圓載物台16。另外，本實施形態的光源裝置 12具有將193 nm波長的光予以輸出的ArF準分子雷射 201027270 32726ριί

Cexcmier laser)光源，且自該ArF準分子雷射光源輸出 的光作為曝光光EL而被引導至曝光裝置u内。 照明光學系統13包含：整形光學系統17，用於將自 光源裝置12所射出的曝光光EL轉換為呈規定的剖面形狀 (例如，剖面大致矩形）的平行光束；第丨反射鏡18，將 自該整形光學系統17所射出的曝光光^^反射至標線片R 侧（此處為+Y方向侧即圖1中的右側）^該第1反射鏡i8 的射出侧（標線片R側）設置著繞射光學元件19。該繞射 光學元件19，藉由於玻璃基板上形成具有與曝光光EL的 波長同等程度的間距的多個階差而構成，且具有使自入射 側（光源裝置12側）所入射的曝光光EL以規定的角度繞 射的作用。例如，在使用環狀照明用的繞射光學元件丄9 的情況下，若剖面呈大致矩形的平行光束的曝光光EL自 入射侧而入射至繞射光學元件19，則剖面形狀呈環狀（大 致圓環狀）的光束會自繞射光學元件19而射出至標線片r 侧。而且’在使用多極（2極、4極、8極等）照明用的繞 射光學元件19的情況下，若剖面呈大致矩形的平行光束的 曝光光EL自入射側而入射至繞射光學元件19，則與極數 相應的多個（例如4個）光束自繞射光學元件19而射出至 標線片R侧。 而且，照明光學系統13中設置著供自繞射光學元件 19所射出的曝光光EL入射的無焦（afocal)光學系統20 (亦稱為「無焦點光學系統」）。該無焦光學系統20具有第 1透鏡群21(圖1中僅圖示了一片透鏡）、較該第1透鏡群 201027270 21更靠近射出侧而配置的第2透鏡群2¾圖1中僅圖示了 一片透鏡）。而且，無焦光學系統20的入射侧的焦點位置 與繞射光學元件19的設置位置大致相同，並且無焦光學系 統20的射出側的焦點位置以與圖1中虛線所示的規定面 23的位置大致相同的方式而形成。 而且，於第1透鏡群21與第2透鏡群22之間的光程 内’在與下述光學積分器26的照明光瞳面27為光學共軛 Q 的位置或其附近，設置著具有根據曝光光EL的入射位置 而透射率不同的透射率分佈的修正濾光片24。該修正濾光 片24是對於入射侧面以及射出側面平行的玻璃基板形成 著由鉻或氧化鉻等所構成的遮光性點圖的濾光片。 而且’在無焦光學系統20的標線片R側，設置著用 於使σ值（σ值=照明光學系統13的標線片R侧的數值 孔徑/投影光學系統15的標線片r侧的數值孔徑）可改變 的變焦光學系統25 ’該變焦光學系統25較規定面23更靠 近射出側而配置。接著，自變焦光學系統25所射出的曝光 光EL，在藉由變焦光學系統25而轉換為平行光束之後， 入射至配置於该變焦光學系統25的射出侧的光學積分器 26中。接著，光學積分器26將所入射的曝光光EL波前區 分為多個光束，並在位於該光學積分器26的射出側（+γ 方向侧）的照明光瞳φ 27上形成規定的光強度分佈（亦稱 為「光曈強度分佈」）。另外’將形成著光瞳強度分佈的照 明光瞳面27,亦稱為由多個面光源構成的二次光源6〇(參 照圖3 )。 201027270 32/Z0pit 光學積分器26以入射面（-Y方向側的面，圖1中為 左面）位於變焦光學系統25的射出侧的焦點位置（亦稱為 光瞳面）或者該焦點位置附近的方式而配置。亦即’規定 面23與光學積分器26的入射面為實質性傅裏葉變換的關 係，並且無焦光學系統20的光瞳面（亦即’修正濾光片 24的設置位置）與光學積分器26的入射面為光學上大致 共軛的關係。

在光學積分器26的射出側設置著未圖示的照明孔徑 光闌（aperture stop)，該照明孔徑光闌配置於與投影光學 系統15的入射光瞳面為光學上大致共軛的位置處，且用於 規定有助於二次光源60照明的範圍。該照明孔徑光闌具有 大小以及形狀不同的多個孔徑部。而且，照明孔徑光闌中， ◎ 與自一次光源60所射出的曝光光EL的剖面形狀相對應色 孔徑部配置於曝光光EL的光程内。亦即，在自二次光$ 60所射出的曝光光EL的剖面形狀為環狀的情況下，照曰 孔徑光闌以使形狀與環狀相對應的孔徑部位於曝光光e 的光程内的方式進行驅動。而且，在自二次光源6〇所射^ =曝光光EL的剖面形狀為4極狀的情況下，照明孔捏; 對應的孔徑部位於曝光光EL- 側設=分上述照明孔徑光蘭的射! 用於系統31，該分佈修正光學系統3 夕該才示線片R上的照明區域ER1(參照圖4(a、 或與該照明區域咖為光學共_係的晶圓W上所^ 12 201027270 οζ,/^υριι 的靜止曝光區域ER2 (參照圖4 (b))内的各點中的光強 度分佈進仃修正。另外，分佈修正光料統31的具體構成 將於下文中加以描述。 在分佈修正光學系統31的射出側，設置著由至少— 片，透鏡（圖1翻*了1 )構朗第1聚光光學系統 (condenser optical systems) 28、以及配置於該第丨聚光 光學系統28的射出側且與標線片R的被照射面如為光學 ❺共輛的位置處的標線片遮器（blin(〇29 (亦稱為「罩幕遮 器」）。第1聚光光學系統28由具有焦度（p_r)(焦距的 倒數）的光學元件（透鏡）所構成。而且，在標線片遮器 29中形成著長邊方向為Z軸方向且短邊方向為X轴方向 的矩形孔徑部29a。而且，自第i聚光光學系統28所射出 的曝光光EL對標線片遮器29進行重疊照明。另外，所謂 具有焦度的光學元件’是指藉由曝光光EL入射至光學元 件而該曝光光EL的特性產生變化的光學元件。 ❿且，在標線#遮11 29的射出繼置著由具有焦度 ® 的透鏡構成的第2聚光光學系統30,該第2聚光光學系統 30可將自標線片遮器29側所入射的光轉換為大致平行的 光束。而且，在第2聚光光學系統3〇的射出側設置著成像 光學系統32。該成像光學系統32具有入射側透鏡群33、 將該入射侧透鏡群33所射出的曝光光EL朝向_z方向侧 (圖1中為下侧）反射的第2反射鏡34、及配置於該第2 反射鏡34的射出側的射出側透鏡群35。入射侧透鏡群33 由至少一片（圖1中僅圖示了一片）具有焦度的光學元件 13 201027270 32726pif (透鏡）所構成，並且射出侧透鏡群％由至 僅圖示了一片）具有焦度的光學元件（透鏡）所構成(圖接 者，自成像先學系統32所射出的曝光光EL對標線片R的 !=R二進行重疊照明。另外’本實施形態中，標線 片遮器29的孔徑部29a的形狀如上所述呈矩形。因此，標 線片R上的照明區域ER1及晶B1W上的靜止曝光區域ER2 如圖4 (a)、圖4 (b)所示，分別形成為長邊方向為作為 第1方向的Y轴方向且短邊方向為作為第2方向的χ轴方 向的矩形。 ❹ 標線片載物台14如圖1所示，於投影光學系統15的 物體面侧，以該標線片R的載置面與投影光學系統15的 光軸方向（Z軸方向）大致正交的方式而配置。而且，於 標線片載物台14上設置著使所保持的標線片&沿又軸方 向以規定行程（stroke)移動的未圖示的標線片載物台驅動 部。 而且’於標線片載物台14的附近設置著光瞳強度分 佈計測裝置36。該光瞳強度分佈計測裝置36是對二次光 ❹ 源60中藉由入射至標線片r上的照明區域EIU内的一點 上的各入射光所形成的光瞳強度分佈以每一點（每個位置） 為單位進行計測的裝置。此種光瞳強度分佈計測裝置36 包括：光束分光器（beamsplitter) 37，使自射出侧透鏡群 35朝向標線片R射出的曝光光EL的一部分（亦稱為「反 射光」）進行反射；計測用透鏡38，供藉由該光束分光器 37所反射的反射光入射；以及檢測部39’供自該計測用透 14 201027270 / ^\JU±L· 鏡38所射出的反射光入射。該檢測部39具有電荷耦合裝 置（charge coupled device，CCD)攝影元件或光二極體 (photodiode)等，且將與所入射的反射光相應的檢測信 號自檢測部39輸出至控制裝置4〇。而且，控制裝置奶根 據來自檢測部39的檢測信號，而導出照明區域ER]i的每 一點的光瞳強度分佈。另外，關於光瞳強度分佈計測裝置 36 ’例如揭示於日本專利特開2〇〇6_54328號公報或日本專 e 利特開2003_22967號公報以及與其對應的美國專利申請 案公開第2003/0038225號說明書之中。

投影光學系統15包括内部填充著由氮等的惰性氣體 的鏡筒（lens barrel) 41，且於該鏡筒41内沿著曝光光EL 的，程（Z軸方向）設置著未圖示的多個透鏡。而且，於

鏡简41内，在與晶圓w的表面Wa的設置位置及標線片R 的被照射面Ra的設置位置為光學傅裏葉變換的^的位 置處，配置有孔徑光闌42。接著，被曝光光肛照明的標 線片R上的電路圖案的像’在經由投影光學系統Μ而^ 小至規定的縮小倍率的狀態下，投影轉印至晶圓载物么16 處，所謂光程，是表示在使用狀態下^ 无光EL通過的路徑。 晶圓載物台16包括與投影光學系統15的光軸大 =的平面狀的載置面43,在該載置面43上載置著晶圓W。 且’於晶圓裁物台16上設置著使所保持的晶圓* 方向以規定行程移動的未圖示的晶圓载物台驅 而’對晶圓载物台16設置有使晶圓w的位置進行^調整 15 201027270 3272bpit 的功能，以使晶圓w的表面Wa成為與投影光學系統15 的光軸正交的狀態。 接著，在使用本實施形態的曝光裝置u而於晶圓w 上投影圖案的像的情況下’標線片R藉由上述標線片载物 台驅動部的驅動，每次以規定行程自+x方向側朝向_x方 向側（圖1中為自紙面近前侧朝向紙面裏側）移動。如此， 標線片R中的照明區域ER1自該標線片R的被照射面Ra 的-X方向侧沿+X方向側（圖i中為自紙面裏侧朝向紙面 近前侧）移動。亦即，標線片R的圖案自4方向侧朝向 © +X方向侧依序被掃描。而且，晶m w#由上述晶圓載物 台驅動部的驅動，相對於標線片R的沿乂軸方向的移動， 以與投景>光學系統15的縮小倍率相應的速度比，而自_χ 方向侧朝向+Χ方向侧同步移動。結果，在晶圓w的一個 攝影（shot)區域内，伴隨標線片R以及晶圓貿的同步移 動，形成了將標線片R上的電路圖案縮小至規定的縮小倍 率的形狀的圖案。接著，在已完成了對一個攝影區域的圖 案形成的情況下，連續進行對晶圓W的其他攝影區域的圖 ❹ 案形成。 其次，基於圖2對本實施形態的光學積分器進行 說明。另外，圖2中，為便於說明書的說明理解，而將下 述各柱狀透鏡（cylindrical lens)面 52、53、54、55 的大 小放大描緣。 如圖2所示，光學積分器20包括沿照明光學系統13 的光軸AX (圖1以及圖2中由一點鏈線所示）而配置的 16 201027270 一對微複眼透鏡50、51。上述兩微複眼透鏡50、51分別 以如下方式進行配置’即’使位於光學積分器26的射出侧 的照明光瞳面27形成於與投影光學系統15的孔徑光闌42 為光學共軛的位置處。 在位於入射侧的第1微複眼透鏡50的入射側、及位 於射出侧的第2微複眼透鏡51的入射側，分別形成著與照 明光學系統13的光軸AX大致正交的入射面50a、51a。

而且’在第1微複眼透鏡50的射出侧及第2微複眼透鏡 51的射出侧’分別形成著與照明光學系統13的光軸Αχ 大致正交的射出面50b、51b。而且，在兩微複眼透鏡50、 51的入射面50a、51a側，在Z轴方向上延伸的多個（圖2 中為10個）柱狀透鏡面52、53沿X軸方向分別排列著。 該些各柱狀透鏡面52、53分別形成為圓柱的一部分被切除 的形狀’且各柱狀透鏡面52、53的X轴方向上的長度（亦 即寬度）為第1寬度H1。 而且’在兩微複眼透鏡5〇、51的射出面50b、51b侧， 在X軸方向上延伸的多個（圖2中為10個）柱狀透鏡面 54 沿Z轴方向分別排列著。該些各柱狀透鏡面54、 55分別形成為圓柱的一部分被切除的形狀，且各柱狀透鏡 55的z轴方向上的長度（亦即寬度）為較第1寬 ϋ更寬的第2寬度H2。另外’第1寬度m及第2寬 ΐ及Ζ’Γ榡線片遮器29的孔徑部29a的x軸方向上的長 二ER2 向上的長度、亦即照明區域£幻及靜止曝光區 轴方向上的長度及Υ軸方向上的長度分別具 17 201027270 iZ/ZOplt 有對應關係。 在著眼於光學積分器26的與X軸方向相關的折射作 用的情況下’沿著照明光學糸統13的光轴AX而入射的曝 光光EL (亦即，平行光束）’藉由第1微複眼透鏡50的入 射面50a上所形成的各柱狀透鏡面52,而沿X軸方向以第 1寬度H1的間隔被波前區分。接著，藉由各柱狀透鏡面 52而被波前區分的各光束，於第2微複眼透鏡51的入射 面5la上所形成的各柱狀透鏡面53中的各別對應的柱狀透

鏡面上分別受到聚光作用’然後，於位於光學積分器26 的射出侧的照明光曈面27上分別進行聚光。而且，在著眼 於光學積分器26的與Z轴方向相關的折射作用的情況 下’ Ί著照明光學系統13的光轴AX而入射的曝光光EL (亦即’平行光束）’藉由第1微複眼透鏡50的射出面50b 上所形成的各柱狀透鏡面54’而沿著X轴方向以第2寬度 H2的間隔被波前區分。接著，藉由各柱狀透鏡面54而被

波前區分的各光束，於第2微複眼透鏡51的射出面5】 上所形成的各柱狀透鏡面55中的各別對應的柱狀透鏡t 上分別文到聚光作用，然後，於位於光學積分器26的射丨 侧的照明光瞳面27上分別進行聚光。接著，自形成於照e 光瞳27上的多個點光源（省略圖示）分別射出如下的曝; 光EL，該曝光光EL在各柱狀透鏡面52〜分的寬度 Η的幻或γ軸方向上的柱狀透鏡面&〜％的配置位】 軸方向相對應的發散角較與Χ軸方㈣ 對應的發散角更大。亦即，自照明光瞳27所射出的曝以 18 201027270 ^ I \J Μ.Λ. EL的光束沿著z軸方向的擴散較沿著χ轴方向的擴散更 大。 另外，各微複眼透鏡50、51的各柱狀透鏡面52〜55 的第1寬度H1及第2寬度H2本來非常狹窄。因此，本實 %形態的光學積分器26的波前區分數要多於使用由多個 透鏡要素所構成的複眼透鏡的情況。結果，形成於光學積 分器26的入射侧的綜合光強度分佈、與形成於作為射出側 〇 的照明光瞳面27上的二次光源整體的综合光強度分佈，彼 此顯示出較尚的相互關係（c〇rrelati〇n)。因此，光學積分 器26的入射侧及與該入射側為光學共軛的面中的光強度 分佈’亦可稱為光瞳強度分佈。 一此處，在使用環狀照明用的繞射光學元件來作為繞射 光學元件19的情況下，於光學積分器26的入射側形成著 以照明光學系統13的光軸Αχ為中心的環狀的照野。結 果’位於光學積分器26的射出側的照明光瞳面27中，與 形成於入射側的環狀的照野相同而形成著環狀的二次光源 ® 60。而且，在使用多極照明用的繞射光學元件來作為繞射 光學元件19的情況下，於光學積分器26的入射側形成著 由以照明光學糸統13的光轴ΑΧ為中心的多個規定形狀 (圓弧狀、圓形等）的照野所構成的多極狀的照野。結果， 在位於光學積分器26的射出侧的照明光瞳面27上，與形 成於入射侧的多極狀的照野相同而形成著多極狀的二次光 源60。另外，本實施形態中，使用的是4極照明用的繞射 光學元件19。 19 201027270 32720plf 亦即，位於光學積分器26的射出侧的照明光曈面27 上，如圖3所示，形成著由4個圓弧狀的實質性面光源（以 下，簡稱為「面光源」）60a、60b、60c、60d所構成的4 極狀的二次光源60 (光曈強度分佈）。具體而言，二次光 源60具有位於照明光學系統13的光轴AX的+X方向側的 圓弧狀的第1面光源60a'及位於照明光學系統13的光轴 AX的-X方向侧的圓弧狀的第2面光源60b，且包含照明 光學系統13的光軸AX的虛擬分割面D1 (本實施形態中 為Y-Z平面，圖3中由兩點鏈線所示）位於各面光源6〇a、 ® 60b的中間位置。而且，二次光源60具有位於照明光學系 統13的光轴AX的+Z方向侧的圓弧狀的第3面光源6〇c、 及位於照明光學系統13的光軸ΑΧ的-Z方向侧的圓弧狀 的第4面光源60d，且包含照明光學系統13的光轴Αχ的 未圖示的虛擬分割面（本實施形態中為χ_γ平面）位於各 面光源60c、60d的中間位置。 若將自此種各面光源60a〜60d所射出的各曝光光el 引導至標線片R上，則在標線片R的被照射面Ra上如❹ 圖4 (a)所示，形成著長邊方向為γ軸方向且短邊方向為 X轴方向的矩形照明區域ER1。而且，在晶圓w的表面 Wa上，如圖4⑻所示’形成著與標線片R上的照明區 域ER1相對應的矩形靜止曝光區域ER2。此時，入射至靜 止曝光區域ER2(以及照明區域ER1)内的各點上的入射 光所形成的4極狀光瞳強度分佈的各個，並不依存於曝光 光EL所入射的位置，而是彼此呈大致相同形狀。然而， 20 201027270 /ζ,υριι { 靜止曝光區域ER2 (以及照明區域ER1)内的每—點的4 極狀光曈強度分佈的光強度則具有依存於入射至靜止曝光 區域ER2内的曝光光EL的位置而不同的傾向。 具體而言，如圖5所示，在藉由入射至照明區域側 内及靜止曝光區域ER2内的Y軸方向上的中心點pia、plb 的第1入射光ELI (參照圖8)所形成的第i光瞳強度分 佈61中，具有如下傾向，即沿z轴方向配置的第3面光 ❿源61c及第4面光源61d的光強度要強於沿χ轴方向配置 的第1面光源61a及第2面光源61b的光強度。另一方面， 如圖4⑴、圖4(b)以及圏6所示，=入另射二 £域ER1内及靜止曝光區域ER2内的中心點pia、pib的 沿Y轴方向而離開的各周邊點P2a、P3a、p2b、p3b上的 第2入射光EL2及第3入射光EL3 (參照圖8)所形成的 各第2光瞳強度分佈62中，具有如下傾向，即，沿z軸 方向配置的第3面光源62c及第4面光源62d的光強度要 弱於沿X轴方向配置的第1面光源62a及第2面光源62b 〇 的光強度。另外’此處所謂的各光瞳強度分佈61、62，是 指當照明光學系統13内的曝光光EL的光程内未配置修正 濾、光片24及下述透射濾光片64的情況下，分別表示形成 於照明光曈面27以及與該照明光瞳面27為光學共輛的光 曈共耗面上的、與靜止曝光區域ER2内的各點plb、p2b、 P3b相對應的光強度分佈。 一般而言’如圖7 (a)所示’與中心點pla、Plb相 對應的第1光瞳強度分佈61的沿Z轴方向的光強度分佈 21 201027270 02/2bpit 為如下的凹曲線狀的分佈，即， 得最弱，並且隨著自中央開向上的中央處變 :而且，如圖7⑻所示’與各周邊點P2a、❿、P3a、 分佈為如下=二佈：的:J=向的光強度 ir強，並且隨著自中央開始沿

Q 此種光曈強度分佈61、62的机 =具有如下傾向，即’雖然幾乎不二存於^^^ 變化。因此，當與靜止曝光區域ER2内的沿 > 62 Ρΐ ' P3b 有可能二差為了’二= 昭明1題，而於本實施形態的 i系^ 設置著修正遽光片24以及分佈修正光 ❹ 率分ί外2實施形態的修正滤光片24具有如下的透射 的3，構成形成於照明紐面27上的二次光源6〇中 “的第3g_e及第U_6〇d的光 二第2一 1面’幾乎不使構成沿X軸方向的第1面光源 及第2面光源6〇b的光束減弱。 風接著，基於圖8及圖9來對本實施形態的分佈修正 予糸統31進行說明。另外，圖8中僅圖示了自構成二次光 22 201027270 源60的各面光源60a〜60d中的第3面光源60c及第4面 光源60d所射出的曝光光EL的光束。而且，圖8中，在 標線片遮器29的設置位置處，分別表示出與靜止曝光區域 ER2内的中心點pib相對應的共軛中心點Pic、及與各周 邊點P2b、P3b各別對應的共軛周邊點P2c、P3c。 如圖8所示，分佈修正光學系統31包括透射濾光片 64 ’該透射濾光片64配置於形成於光學積分器26與第1 ❹ 聚光光學系統28之間的第1調整區域63内。該透射濾光 片64如圖9所示，具有供曝光光EL透過的光透射性構件 64a (本實施形態中為呈大致正方形的玻璃板），且在該光 透射性構件64a中’形成著以照明光學系統13的光軸Αχ 為中心的大致圓形的有效濾光片區域65(圖9中由虛線所 包圍的區域）。 而且，該有效濾光片區域65被分割為與第1面光源 60a相對應的第1濾光片區域65a、與第2面光源60b相對 應的第2濾光片區域65b、與第3面光源60c相對應的第3 © 濾光片區域65c、及與第4面光源60d相對應的第4濾光 片區域65d。具體而言，各滤光片區域65a〜65d分別藉由 如下方式而形成：藉由與照明光學系統13的光軸Αχ ^交 的作為虛擬線的第1線L1 (圖9中由虛線所示）與在光透 射性構件64a上與第1線正交的作為虛擬線的第2線（圖 9中由虛線所示）來劃分有效濾光片區域幻。而且，包含 照明光學系統13的光軸AX的虛擬分割面D2 (圖9中為 由兩點鏈線所示的平面即γ·ζ平面）位於各遽光片區域祝 23 201027270 iz/zopir 〜65d中的沿X軸方向配置的第1濾光片65a與第2濾光 片區域65b之間。並且，自與該各濾光片區域65a〜65d 各別對應的面光源60a〜60d所射出的曝光光EL，分別入 射至各慮光片區域65a〜65d内。 各濾光片區域65a〜65d中的第3濾光片區域65c及 第4濾光片區域65d，並未分別被施以用於使入射至該各 濾光片區域65c、65d中的曝光光EL·減弱的處理。亦即， 自第3面光源60c及第4面光源60d所射出的各曝光光EL 即便通過了透射濾光片64亦不會減弱。另一方面，剩餘的 第1濾光片區域65a及第2濾光片區域65b中，為了使入 射至該各濾光片區域65a、65b的曝光光EL減弱而分別 =成著由鉻或氧化鉻等所構成的遮光性點的圖案。具體而 s，在第1濾光片區域65a中形成著第丨透射率分佈，該 ^透射率分佈中與靜止曝光區域ER2的長邊方向相對= 的f軸方向上財央部分的透射率最高，且在z 隨著離開中央部分而透射率逐漸降低。而且， ^ ❹ =域65b中形成著第2透射率分佈，該第2透= :、靜止曝光區域ER2的長邊方向相對應 ^ 射率最高，且在z財向上隨著離 射率逐漸降低。亦即，第1透射率分佈與第2 = =為同-透射率分佈。因此，第1濾光片區域65 :第1圖案區絲發揮雜，該第 =作為第1區域的第1面先㈣a所 射’並且，第2渡先片區域柳作為第2圈案= 24

201027270 -J Μλ I 發揮功能，該第2圖案區域供自二次光源60的與第i面光 源60a不同的作為第2區域的第2面光源60b所射出的曝 光光EL入射。另外，在圖9中為了便於說明書的說明理 解，而藉由點的密度的濃淡來描繪透射率的高低。 順便而言’形成於照明光瞳面27上的二次光源60的 各面光源60a〜60d分別藉由入射至晶圓W上的靜止曝光 區域ER2内的各點上的曝光光EL而形成。亦即，曝光光 EL中的入射至中心點pib的第1入射光ELI以相對照明 光學系統13的光轴AX呈第1角度（規定的角度）而通過 各面光源60a〜60d内。而且，曝光光EL中的入射至周邊 點P2b的第2入射光EL2以相對照明光學系統13的光軸 AX呈大於上述第1角度的第2角度而通過各面光源6〇a 〜60d内。而且，曝光光EL中的入射至周邊點P3b的第3 入射光EL3以相對照明光學系統13的光轴AX呈具有與 上述第2角度大致同等大小的第3角度而通過各面光源 60a〜60d 内。 接著，自構成第1面光源60a的未圖示的多個點光源 (規定的點）所射出的各入射光ELI〜EL3，分別通過透 射濾光片64中的位於較分割面D2更靠近_χ方向侧的第i 濾光片區域65a。而且’自構成第2面光源獅的未圖示 的多個點光源（規定的點）所射出的各入射光EL1〜EL3， 分別通過透射濾光片64中的位於較分割面D2更靠近+χ 方向側的第2濾光片區域65b。而且。自構成第3面光源 60c的未圖示的多個點光源（規定的點）所射出的各入射 25 201027270 32720ριΙ 光ELI〜EL3，分別通過透射濾、光片64中的位於+Ζ方向 侧（圖9中為上侧）的第3濾光片區域65c。而且，自構 成第4面光源60d的未圖示的多個點光源（規定的點）所 射出的各入射光ELI〜EL3,分別通過透射濾光片64中的 位於-Z方向侧（圖9中為下側）的第4濾光片區域65d。 結果，在第1濾光片區域65a内，藉由自第1面光源 60a所射出的曝光光EL而形成第1入射區域66，並且， 在第2濾光片區域65b内，藉由自第2面光源60b所射出 的曝光光EL而形成第2入射區域67。而且，在第3濾光 ❹ 片區域65c内，藉由自第3面光源60c所射出的曝光光EL 而形成第3入射區域68’並且’在第4濾光片區域65d内， 藉由自第4面光源60d所射出的曝光光EL而形成第4入 射區域69。另外’在圖9中，圖示了配置於與照明光瞳面 27在γ軸方向上大致相同的位置處的透射濾光片64。 而且，如圖8所示，在分佈修正光學系統31中包括 用於使透射滤'光片64沿Y軸方向移動的移動機構。該 移動機構70中設置著沿Y軸方向延伸的引導部71、以及 ❹ 對透射遽光片64賦予驅動力的驅動源72。引導部71的γ 轴方向上的長度，如圖9以及圖10所示，設定為第1入射 區域66 (或者第2入射區域67)與光軸Αχ之間的沿χ 軸方向的距離R2相對於有效濾光片區域65的半控lR1(有 效濾光片區域65的有效直徑的一半）的比（==距離R2/ 半徑R1)超過「1/2」。而且’驅動源72根據控制裝置4〇 的控制指令進行驅動。並且，在自驅動源72掛透射淚光片 26 201027270 DL· ι ^,υριχ { 64賦予驅動力的情況下，透射濾光片64沿引導部71在Y 轴方向上移動。而且，在分佈修正光學系統31中設置著未 圖示的進退移動裝置，該進退移動裝置可使透射濾光片64 於曝光光EL的光程内與光程外的二個位置間進退移動， 該進退移動裝置可根據來自控制裝置40的控制指令而驅 動。 接著，基於圖10〜圖13來對與靜止曝光區域ER2内 ❿ 的沿Y軸方向的各點Plb、P2b、P3b相對應的各光瞳強度 分佈61、62進行調整時的作用的一例進行說明。另外，初 始狀態下各透射濾光片64分別配置於曝光光EL的光程 外。 若自光源裝置12所射出的曝光光EL入射至繞射光學 元件19 ’則自該繞射光學元件19射出剖面形狀呈*極狀 的曝光光EL。接著’藉由該曝光光jgL通過配置於與照明 光瞳面27為光學共輛的位置或其附近的修正濾光片24， 而於形成在光學積分器26的射出側的照明光曈面27上形 β f二次光源60 ’該二次光源60包含藉由修正濾光片24而 得以修正（減光）的第1面光源60a及第2面光源60b、 以及歲乎未藉由修正滤光片24而修正的第3面光源60c 及第4面光源60d。此時，與照明光瞳面27為光學共軛的 光瞳共軛面（例如，標線片遮器29的配置位置）的光瞳強 度分佈亦藉由修正濾光片24而修正。 另外，本實施形態的修正濾光片24是用於使形成於 …、月光瞳面27上的二次光源6〇的沿Z軸方向的第3面光 27 201027270 32726pif 源60c及第4面光源60d的光強度減弱的濾光片。而且， 如上所述，與標線片R的照明區域内及晶圓w上的 靜止曝光區域ER2内的中心點Pla、pib相對應的第i光 瞳強度分佈61中’於曝光光EL的光程内無修正濾光片24 的情况下’沿X轴方向的第1面光源61a及第2面光源61b 的各光強度分別較沿Z軸方向的第3面光源61c及第4面 光源61d的各光強度更弱。因此，第丨光瞳強度分佈61 中’藉由修正濾光片24而使第3面光源61c及第4面光源 61d的各光強度與第1面光源61a及第2面光源61b的各 © 光強度大致同等。另一方面，在與照明區域ER1内及靜止 曝光區域ER2内的各周邊點P2a、P2b、p3a、p3b相對應 的第2光曈強度分佈62中，於曝光光EL的光程内無修正 濾光片24的情況下，沿X軸方向的第i面光源62a及第2 面光源62b的各光強度，分別較沿z轴方向的第3面光源 62c及第4面光源62d的各光強度更強。因此，第2光曈 強度分佈62中，藉由修正濾光片24反而使得第i面光源 61a及第2面光源62b的各光強度與第3面光源62c及第4 ❹ 面光源62d的各光強度的差變大。 為了使如此的第1光瞳強度分佈61與第2光瞳強度 分佈62成為大致相同性狀的分佈，而必需使第丨光瞳強度 分佈61的第1面光源61a及第2面光源61b的光強度略微 減弱，並且使第2光瞳強度分佈62的第丨面光源62a及第 2面光源62b的光強度大幅度減弱。因此，本實施形態中， 藉由光瞳強度分佈計測裝置36，而於照明光瞳面27上所 28 201027270 jz, /^,υριι 形成的二次光源60中，對靜止曝光區域ER2内的每一點 的4極狀的光瞳強度分佈的光強度分別進行計測。此處， 分別對藉由入射至靜止曝光區域ER2内的中心點plb、周 邊點P2b、P3b的入射光ELI、EL2、EL3而形成於照明光 瞳面27上的第1光瞳強度分佈61及第2光瞳強度分佈62 進行計測。此時，第1光瞳強度分佈61與第2光瞳強度分 佈62彼此性狀不同。因此，藉由未圖示的進退移動裝置的 ❹ 驅動’透射濾光片64分別配置於自二次光源60的第1面 光源60a所射出的曝光光EL的光程内以及自第2面光源 6〇b所射出的曝光光EL的光程内。此時，透射濾光片64 在第1調整區域63内配置於與照明光瞳面27在Y軸方向 大致相同的位置處（以下，稱作「初動位置」）。 接著’藉由第1光曈強度分佈61的第1面光源61a 及第2面光源61b而形成於透射濾光片64上的第1入射區 域66a及第2入射區域67a，分別在第1濾光片區域65a 内及第2濾光片區域65b内形成於Z軸方向上的中央處（參 ❹ 照圖9)。而且，藉由第2光瞳強度分佈62的第1面光源 62a及第2面光源62b而形成於透射濾光片64上的第1入 射區域66b、66c及第2入射區域67b、67c，分別在第1 濾光片區域65a内及第2濾光片區域65b内形成於Z轴方 向上的中央處（參照圖9)。亦即，在透射濾光片64位於 初動位置的情況下，各第1入射區域66a、66b、66c分別 在第1遽光片區域65a内形成於彼此大致相同位置，並且 各第2入射區域67a、67b、67c分別在第2濾光片區域65b 29 201027270 32720plt 内形成於彼此大致相同位置處。因此，自第1面光源60a 及第2面光源60b所射出的曝光光EL中的入射至中心點 Plb的第1入射光ELI、入射至周邊點P2b的第2入射光 EL2及入射至周邊點P3b的第3入射光EL3，分別藉由透 射濾光片64而略微減弱。並且，該些的減光程度互為同等 的程度。因而，第1光瞳強度分佈61與第2光瞳強度分佈 62彼此仍為性狀不同。 因此’若藉由來自移動機構70的驅動力而使透射濾 光片64自初動位置向+γ方向（圖8中為右側）移動，則 如圖10〜圖13所示’入射至透射濾光片64内的各入射光 ELI、EL2、EL3的入射態樣會產生變化。亦即，自二次光 源60所射出的曝光光EL中的自與中心點Plb相對應的第 1光瞳強度分佈61的各面光源61a〜61d所射出的各第1 入射光ELI ’即便在透射濾光片64的Y軸方向上的位置 產生變化’亦會分別入射至與透射濾光片6 4位於初動位置 時大致相同的位置處。換言之，關於藉由各第1入射光EL1 而形成的各入射區域66a、67a、68a、69a (圖1〇〜圖13 中為由實線所包圍的區域）在透射渡光片64内的各形成位 置，即便透射滤光片64沿Y軸方向移動也幾乎不會產生 變化。 而且，自與周邊點P2b相對應的第2光瞳強度分佈62 的各面光源62a〜62d所射出的各第2入射光EL2入射至 透射濾光片64的入射位置，隨著透射濾光片64沿離開照 明光瞳面27的方向移動而逐漸朝向名方向侧（圖1〇〜圖 30 201027270 13中為下侧）移動。換言之，藉由各第2入射光EL2所形 成的各入射區域66b、67b、68b ' 6% (圖10〜圖13中為 由一點鏈線所包圍的區域）在透射濾光片64内的各形成位 置，分別隨著透射濾光片64沿離開照明光瞳面27的方向 移動而逐漸朝向-Z方向側移動。另外，本實施形態中，當 透射濾光片64在可動範圍内移動至與照明光瞳面27相距 最遠的位置為止時，藉由自第4面光源62d所射出的第2 入射光EL2而形成於透射濾光片64上的第4入射流域69b 的一部分（具體而言為_Z方向側的部分）位於第3濾光片 區域65c外。 而且’自與周邊點P3b相對應的第2光瞳強度分佈62 的各面光源62a〜62d所射出的各第3入射光EL3入射至 透射濾光片64的入射位置，隨著透射濾光片64沿離開照 明光瞳面27的方向移動而逐漸朝向+z方向側（圖1〇〜圖 13中為上侧）移動。換言之，藉由各第3入射光EL3所形 成的各入射區域66c、67c、68c、69c (圖10〜圖13中為 φ 由虛線所包圍的區域）在透射濾光片64内的各形成位置， 分別隨著透射濾光片64沿離開照明光瞳面27的方向移動 而逐漸朝向+Z方向侧移動。另外，本實施形態中，當透射 滤光片64在可動範圍内移動至與照明光瞳面27相距最遠 的位置為止時’藉由自第3面光源62c所射出的第3入射 光EL3而形成於透射濾光片64上的第3入射流域68c的 一部分（具體而言為+Z方向侧的部分）位於第3濾光片區 域65c外。 31 201027270 32726pif 若如此使透射濾光片64沿Y軸方向離開照明光瞳面 27’則與各周邊點p2b、p3b相對應的各第1入射區域66b、 66c分別形成於與中心點pib所對應的第1入射區域6如 在2轴方向上不同的位置處。而且，各第2入射區域67b、 67c分別形成於與第2入射區域67&在z軸方向上不同的 位置處。亦即，各第1入射區域66b、66c及各第2入射區 域67b、67c分別在各濾光片區域65a、65b内形成於與第 1入射區域66a及第2入射區域67a相比減光作用更強的 各位置處。因此’自第1光瞳強度分佈61的第1面光源 ® 61a及第2面光源61b所射出的各第1入射光ELI藉由透 射濾光片64而略微減弱，自第2光瞳強度分佈62的第1 面光源62a及第2面光源62b所射出的各第2入射光EL2 及各第3入射光EL3藉由透射濾光片64而大幅度減弱。 並且，第1濾光片區域65a及第2濾光片區域65b分別形 成為Z軸方向上的較中央處而更靠近+z方向側的減光態 樣、與Z軸方向上的較中央處而更靠近_z方向側的減光態 樣呈大致相同的態樣。因此，自第i面光源62a及第2面 ❹ 光源62b所射出的各第2入射光EL2及各第3入射光Eu 藉由通過透射濾光片64而以彼此同等的程度減弱。 結果，第1光瞳強度分佈61的性狀與第2光瞳強度 分佈62的性狀為彼此大致相同的性狀。亦即，自各面光源 61a〜61d入射至靜止曝光區域ER2的中心點pib上的各第 1入射光ELI的光強度、與自各面光源62a〜62d入射至靜 止曝光區域ER2的各周邊點P2b、P3b上的各第2入射光 32 201027270 EL2及各第3入射光EL3的光強度’為彼此大致相同的光 強度。因此，若以此狀態實施曝光處理’則與晶圓W上的 靜止曝光區域ER2内的沿Y轴方向的各點pib、P2b、P3b 相對應的各光曈強度分佈61、62成為大致相同性狀，故 而，晶圓W的表面Wa上所形成的圖案的線寬產生不差異 的情況得以抑制。 因此，本實施形態可獲得以下所示的效果。 ❹ 配置於第1調整區域幻内的透射濾光片64以 根據曝光光EL所入射的位置而透射特性不同的方式而形 成。藉由使此種透射濾光片64在第1調整區域63内沿照 明光學系統13的光轴AX移動，而對晶圓w的靜止曝光 區域ER2内的各點Plb〜P3b中的各光瞳強度分佈6卜62 進行獨立調整。因此，可將靜止曝光區域ER2内的各點

Plb〜P3b巾的各光曈強度分佈61、62調整為彼此大致相 同性狀的分佈。 ⑺*且，本實施形態中，於較光學積分H 26而更 罪近光源裝置12侧且與晶圓W的表面Wa為光學共輛的 位置處’叹置著用於對與晶圓w上的靜止曝光區域 内的各點Plb〜P3b靖應的各光瞳強度分佈6卜62進行 統-調整的修正濾、Μ 24。而且，與靜止曝光區域ER2 内的各點Plb〜P3b相對應的各光瞳強度分佈61、62，藉 由修正濾、光片24與透射遽光片64的協動作用，而分別被 調整為達到大致均勻。因此，與修正滤光片24未配置於曝 光光EL的光程内的情況相比，可高精密地對與靜止 33 201027270 32726pit 區域ER2内的各點Plb〜P3b相對應的各光瞳強度分佈 6卜62進行調整。因此’可基於與標線片R的電路圖案相 應的適當的照明條件來對晶圓W進行曝光處理，結果可在 晶圓W上跨及整個晶圓W而正確地形成所需線寬的圖案。 (3) 本實施形態中，透射濾光片64是基於根據來自 光瞳強度分佈计測裝置36的檢測信號所計算出的計測結 果，亦即基於與標線片R的照明區域ER1内的各點pia二 P3a相對應的各光瞳強度分佈6卜62而沿γ軸方向移動。 因此’當由構成照明光學系統13的各種光學元件中的至少 ❹ 一個光學元件的劣化等而引起各光瞳強度分佈61、62產生 變化時，藉由光曈強度分佈計測裝置36的計測結果而使透 射濾光片64移動，藉此可迅速地將各光曈強度分佈61、 62的性狀的分佈調整為所需性狀的分佈。 (4) 透射滤光片64配置於照明光曈面27附近。因 此，當透射濾光片64沿Υ轴方向移動時，藉由自第1光 瞳強度分佈61的各面光源61a〜61d所射出的各第1入射 光ELI而形成於透射濾光片64上的各入射區域66a〜 ❹ 69a、與藉由自第2光瞳強度分佈62的各面光源62a〜62d 所射出的各第2入射光EL2及各入射光EL3而形成於透射 慮光片64上的各入射區域66b〜69b、66c〜69c的位置關 係會分別產生變化。亦即，可藉由改變各入射區域66a〜 69a、各入射區域66b〜69b及各入射區域66c〜69c的位置 關係’來調整各光瞳強度分佈61、62的性狀。 (5) 本實施形態中，當透射濾光片64沿γ轴方向移 34 201027270 oz/^opn 動時，透射濾光片64中藉由第2入射光EL2及第3入射 光EL3而形成的各入射區域66b〜69b、66c〜69c的各形 成位置沿Z轴方向而分別移位。第1濾光片區域65a及第 2濾光片區域65b分別以如下方式而形成，即與各入射區 域66b〜69b、66c〜69c的沿Z轴方向的移位相對應，根據 Z軸方向上的每一位置而透射率不同。因此，可藉由使本 實施形態的透射濾光片64在第1調整區域63内沿Y軸方 ❹ 向移動’從而將各光曈強度分佈61、62的性狀調整為較佳。 (6) 本實施形態中’於一片透射濾光片64中，形成 著與各面光源60a〜60d相對應的濾光片區域65a〜65d。 因此’與針對每一面光源60a〜60d而各別設置透射濾光片 的情況相比，可抑制分佈修正光學系統31的構成的複雜 化。 (7) 而且’第1慮光片區域65a的透射率分佈與第2 濾光片區域65b的透射率分佈為彼此相同的分佈。因此， 可使自第2光瞳強度分佈62的第i面光源62a及第2面光 〇 源62b所射出的各第2入射光EL2及各第3入射光EL3 的減弱程度分別為同等的程度。 (第2實施形態） 其次，基於圖14 (a)、圖14 (b)對本發明的第2實 施形態進行說明。另外，第2實施形態中，分佈修正光學 系統的構成不同於第1實施形態。因此’以下的說明中， 主要對與第1實施形態不同的部分進行說明，並對與第^ 實施形態相同或者相當的構件構成賦予同一符號，且'省略 35 201027270 32726pif 重複說明。 如圖14 (a)所示，本實施形態的分佈修正光學系、統 31A具備配置於第2聚光光學系統30與入射侧透鏡群 之間的第2調整區域80内的多片（本實施形態中為2片） 透射濾光片81、82。該些各透射濾光片81、82藉由來自 移動機構70的驅動力，而於第2調整區域8〇内沿γ轴方 向各別移動。另外，與位於光學積分器26的射出側的照明 光瞳面27為光學共軛的光曈共軛面83位於第2調整區'域 80内’並且與標線片遮器29為光學共輛(的像面共輕面料 ❽ 位於入射側透鏡群33的射出側。 如圖14 (a)、圖14 (b)所示’各透射濾光片81、82 中的第1透射濾光片81，配置於自形成於照明光曈面27 上的二次光源60的相當於第1區域的第1面光源6〇a所射 出的曝光光EL的光程内。而且，剩餘的第2透射濾光片 82’配置於自二次光源60中相當於與第1區域不同的第2 區域的第2面光源60b所射出的曝光光EL的光程内。亦 即，各透射滤光片81、82分別以之間失著包含昭明光學系 統的光軸AX的虛擬分割面D3 (圖者二〇 平面，由兩點鏈線所示）的方式而配置。 形成於第1透射濾光片81的第i透射率分佈與形成 於第2透祕光片82的第2透射率分伟為彼此相同的透射 率分佈。具體而言，各透射濾光片81、82的透射率分佈分 別形成為：與靜止曝光區域ER2的長邊方向相對應的2轴 方向上的中央部分的透射率最高，且隨著在z轴方向上離 36 201027270 開中央部分而透射率逐漸降低。另外，此種透射率分佈分 別藉由鉻或氧化鉻等所構成的遮光性點的圖案而形成。 接著，自構成第1面光源6〇a的未圖示的多個點光源 (規定的點）所射出的各入射光EL1〜EL3，分別通過位 於較分割面D3而更靠_χ方向側的第i透射濾光片81。而 且，自構成第2面光源6〇b的未圖示的多個點光源（規定 的點）所射出的各入射光ELI〜EL3，分別通過位於較分 ❹ 割面D3而更靠近+χ方向側的第2透射濾光片82。另一方 面，自構成第3面光源6〇c及第4面光源6〇d的未圖示的 多個點光源（規定的點）所射出的各入射光EL1〜EL3， 不經由各透射濾光片81、82而入射至入射側透鏡群33。 結果，於第1透射濾光片81内，藉由自第】面光源6〇a 所射出的曝光光EL而形成第1入射區域66，並且於第2 透射濾光片82内’藉由自第2面光源60b所射出的曝光光 EL而形成第2入射區域67。 另外’圖14 (b)是在各透射濾光片81、82位於與光 參 瞳共輊面83在Y軸方向上相同位置處的情況下自第2聚 光光學系統30侧所觀察到的概略正視圖。因此，藉由第1 入射光ELI而形成的各入射區域66a、67a、藉由第2入射 光EL2而形成的各入射區域66b、67b以及藉由第3入射 光EL3而形成的各入射區域66c、67c，分別在各透射濾光 片81、82内形成於大致相同位置處。 並且，當將各透射濾光片81、82配置於Y軸方向上 與光瞳共輊面83相同位置處的情況下，各入射區域6如〜 37 201027270 32720pit 66c、67a〜67c分別形成於各透射濾光片81、82的Z轴方 向上的中央。因此，自第1面光源6〇a及第2面光源60b 所射出的各入射光ELI〜EL3，幾乎未藉由各透射濾光片 81、82而減弱。而且’當使各透射濾光片81、82在γ軸 方向上沿離開光瞳共耗面83的方向分別移動時，藉由自第 1面光源60a及第2面光源60b所射出的各第1入射光EL1 而形成於各透射濾光片81、82内的各入射區域66a、67a 的各形成位置，在Z軸方向上幾乎不產生移位。另一方面， 藉由自第1面光源60a及第2面光源60b所射出的各第2 ® 入射光EL2而形成於各透射濾光片81、82内的各入射區 域66b、67b的各形成位置，會分別隨著各透射濾光片81、 82沿Y軸方向離開光瞳共扼面83而逐漸朝向方向側移 位。而且，藉由自第1面光源6〇a及第2面光源60b所射 出的各第3入射光EL3而形成於各透射濾光片81、82内 的各入射區域66c、67c的各形成位置，會分別隨著各透射 濾光片81、82沿Y轴方向離開光瞳共軛面83而逐漸朝向 +Z方向侧移位。 0 當基於光瞳強度分佈計測裝置36的計測結果，來對 如上所述的各透射濾光片81、82的Y軸方向上的各位置 分別進行調整時，晶圓W上的靜止曝光區域ER2内的每 一點Plb〜P3b的各光瞳強度分佈61、62的性狀將分別得 以調整。 而且，本實施形態中，可使各透射濾光片81、82沿¥ 軸方向各別移動。此時，入射至靜止曝光區域ER2的周邊 38 201027270 點P2b上的各第2入射光EL2中，已通過第1透射濾光片 81的第2入射光EL2的透射率與已透過第2透射濾光片 82的第2入射光EL2的透射率互不相同。因此，欲使已通 過第1透射濾光片81的第2入射光EL2的光強度與已透 過第2透射濾光片82的第2入射光EL2的光強度互不相 同的情況下，可使第1透射濾光片81與光瞳共軛面83的 Y軸方向上的距離、及第2透射濾光片82與光瞳共輛面 φ 83的γ軸方向上的距離不同。另外，入射至靜止曝光區域 ER2的周邊點P3b上的各第3入射光EL3的情況亦相同。 因此’本實施形態可獲得如下所示的效果。 (8)配置於第2調整區域80内的各透射濾光片8卜 82分別形成為根據曝光光el所入射的位置而透射率特性 不同。藉由使此種各透射濾光片81、82在第2調整區域 80内沿照明光學系統13的光轴AX移動，而對晶圓w的 靜止曝光區域ER2内的各點pib〜P3b中的各光曈強度分 佈61、62進行獨立調整。因此，可將靜止曝光區域ER2 β 内的各點Plb〜P3b中的各光瞳強度分佈61、62調整為彼 此大致相同性狀的分佈。 ^ (9)而且，本實施形態中，於較光學積分器26而更 靠近光源裝置12侧且與晶圓W的表面Wa為光學共軛的 位置處，設置著用於對與晶圓w上的靜止曝光區域er2 内的各點Plb〜P3b相對應的各光瞳強度分佈61、62進行 統-調整的修正濾'光片24。而且，與靜止曝光區域现2 内的各點Plb〜P3b相對應的各光曈強度分佈6卜62，藉 39 201027270 32726pif 由修正滤光片24與各透射滤光片8卜82的協動作用，而 分別被調整為大致均勻。因此，與修正濾光片24未配置於 曝光光EL的光程内的情況相比，可高精密地對與靜止曝 光區域ER2内的各點Plb〜P3b相對應的各光曈強度分佈 61、62進行調整。因此，可基於與標線片R的電路圖案相 應的適當的照明條件來對晶圓w實施曝光處理，結果在 aa圓W上跨及整個晶圓W而正確地形成所需預期線 圖案。 (10) 本實施形態中’各透射濾光片81、82是基於 ❻ 根據光瞳強度分佈計測裝置36的檢測信號而計算出的計 測結果’亦即基於與標線片R的照明區域ER1内的各點

Pla〜P3a相對應的各光瞳強度分佈61、62而沿γ軸方向 分別移動。因此’當由構成照明光學系統13的各種光學元 件中的至少一個光學元件的劣化等而引起各光瞳強度分佈 61、62產生變化時’藉由光瞳強度分佈計測裝置36的計 測結果而使各透射濾光片8卜82移動，藉此可迅速地將各 光瞳強度分佈6卜62的性狀分佈調整為所需性狀的分佈。 ◎ (11) 各透射濾光片81、82分別配置於光瞳共軛面 83附近。因此，當各透射濾光片81、82沿γ轴方向分別 移動時，藉由自第1光瞳強度分佈61的第1面光源61a 及第2面光源61b所射出的各第1入射光ELI而形成於各 透射濾光片81、82上的各入射區域66a、67a、與藉由自 第2光瞳強度分佈62的第1面光源62a及第2面光源62b 所射出的各第2入射光EL2及各入射光EL3而形成於各透 40 201027270 3Δ /ZUpli 射濾、光片81、82上的各入射區域_、6几ϋ的 :置關係會分職生變化。亦即，可藉由改變各入射區域 恤、673、各入射區域柳、66b以及各入射區域66c、咖 的位置關係，來調整各光瞳強度分佈61、62的性狀。 (12) 本實施形態令，當各透射濾光片81、82沿γ 轴方向分別移動時，各透射濾光片8卜82内藉由第2入射 光EL2及第3入射光EL3而形成的各入射區域66b、67c、 〇 66c、67c的各形成位置沿z軸方向而分別移位。各透射濾 光片81、82以如下方式而形成，即與各入射區域66b、67c、 66c、67c的沿Z轴方向的移位相對應，根據z轴方向上的 每一位置而透射率不同。因此，可藉由使本實施形態的各 透射濾光片8卜82在第2調整區域80内沿γ軸方向移動， 從而將各光瞳強度分佈61、62的性狀調整為較佳。 (13) 第1透射濾、光片81的第1透射率分佈與第2 透射遽光片82的第2透射率分佈為彼此相同的分佈。因 此’可藉由使第1透射濾光片81與光曈共軛面83的γ軸 ❹ 方向上的距離、及第2透射濾光片82與光瞳共輛面83的 Y軸方向上的距離為同等的程度，而使自第2光曈強度分 佈62的第1面光源62a及第2面光源62b所射出的各第2 入射光EL2及各第3入射光EL3的減光程度分別為同等的 程度。 (14) 而且，本實施形態中’可使各透射濾光片81、 82沿Y軸方向各別移動。因此，可對通過第1透射濾光片 81的第2入射光EL2及第3入射光EL3的光強度、與通 201027270 32726pif 過第2透射濾光片82的第2入射光EL2及第3入射光EL3 的光強度進行各別調整。因此，與上述第1實施形態的情 況相比’可更細微地調整針對各點Plb〜P3b的各光曈強 度分佈61、62的性狀等。 (第3實施形態） 其次，依據圖15對本發明的第3實施形態進行說明。 另外’第3實施形態中，分佈修正光學系統的構成不同於 第1及第2的各實施形態。因此’以下的說明中，主要對 不同於第1及第2的各實施形態的部分進行說明，而對於 ❹ 與第1及第2的各實施形態相同或者相當的構件構成標註 相同符號並省略重複說明。 如圖15所示’本實施形態的分佈修正光學系統31B 包括多片（本實施形態中為2片）第1透射濾光片81、81A， 該第1透射濾光片81、81A在自照明光瞳面27上所形成 的二次光源60的第1面光源60a所射出的曝光光EL的光 程内沿Y軸方向而配置。而且’分佈修正光學系統31B包 括多片（本實施形態中為2片）第2透射濾光片82、82A， Q 該第2透射濾光片82、82A在自二次光源60的第2面光 源60b所射出的曝光光EL的光程内沿γ軸方向而配置。 並且’各透射濾光片81、82、81A、82A分別配置於第2 調整區域80内。 而且’各透射濾光片81、82、81A、82A中的位於第 2聚光光學系統30側的各透射濾、光片81、82的透射率分 佈，如上所述’分別被設定為Z轴方向上的中央的透射率 42 201027270

JZ/Z〇piI 最高’且隨著在z軸方向上離開中央而透射率逐漸降低。 而且，位於入射侧透鏡群33側的各透射滤光片81A、82A =射率分佈’不同於各透㈣光片8卜82，而是分別被 設定為z軸方向上的中央的透射率最低，且隨著在z轴方 向上離開中央而透射率逐漸變高。

而且，在分佈修正光學系統31B中，設置著用於使各 透射滤光片8卜82、81A、82A各別移動的移動機構7〇。 ❹該移動機構70構成為：可各別地對各透射濾光片8卜82、 81A、82A，賦予用於使各透射濾光片81、82、81A、82A 沿Y軸方向移動的第丨驅動力、以及用於使各透射濾光片 81、82、81A、82A沿Z軸方向移動的第2驅動力。 本實施形態中，與上述各實施形態相比，配置於自第 1面光源60a及第2面光源60b所射出的曝光光£]：的各光 程内的濾光片的片數增加，並且各透射濾光片81、82、 81A、82A不僅可分別沿γ軸方向移動，且可分別沿乙軸 方向移動。因此，可對入射至晶圓w上的靜止曝光區域 ❹ ER2的各點Plb〜P3b的各入射光ELI〜EL3中的通過第1 透射濾光片81、81A的各入射光ELI〜EL3的光強度、及 通過第2透射濾光片82、82A的各入射光eli〜EL3的光 強度進行各別調整。 另外’上述各實施形態亦可變更為以下的其他實施形 態。 •在各實施形態中，繞射光學元件19既可為4極照明 以外的其他多極照明用（例如2極照明用）的繞射光學元 43 201027270 32726pif 件，亦可為環狀照明用的繞射光學元件，且可為圓形用的 繞射光學元件。而且’只要是可使曝光光EL的形狀變形 的光學元件，則可代替繞射光學元件19，或者除了繞射光 學元件19外，亦配置轉向鏡對（pair of axicon lens)等的 其他任意的光學元件。包括轉向鏡對的照明光學系統，揭 示於例如國際公開第2005/076045A1號小冊子、以及與之 對應的美國專利申請案公開第2006/0170901號說明書 中。圖2所示的實施形態中，可在修正濾光片24的附近配 置轉向鏡對。 ® 而且’亦可代替繞射光學元件19，而使用空間光調變 元件’該空間光調變元件包含例如陣列狀（array)排列且 傾斜角及傾斜方向受到各別驅動控制的多個微型要素 (element)鏡面，且使入射光束分割為每個反射面的微小單 位後發生偏向，藉此將光束的剖面轉換為所需的形狀或者 所需的大小。使用有如此的空間光調變元件的照明光學系 統，揭示於例如日本專利特開2002-353105號公報中。 .在第1及第2的各實施形態中，可使透射濾光片64、 ❹ 81、 82不僅沿Y軸方向移動，而且沿2軸方向或χ軸方 向移動。 同樣地，在第3實施形態中，可使各透射濾光片81、 82、 81A、82A亦沿X轴方向移動。而且，亦可使各透射 遽光片81、82僅沿γ軸方向移動，並且使各透射滤光片 81A、82A沿與Y軸方向交又的方向（例如χ轴方向或乙 軸方向）移動。此時，可將各透射濾光片81A、82A的透 44 201027270 SZiZtypn ，率分佈分別調整為z轴方向上的中央部分的透射率最 南、且隨著在Z軸方向上離開中央部分而透射率逐漸降低。 .在各實施形態中，只要透射濾光片64、81、82、81八、 82A的透射率分佈為與各點pia〜p3b相對應的各光瞳強 度分佈61、62的性狀相應的適當分佈，則亦可為具有任意 的透射率分佈的透射濾光片64、81、82、81A、82A。例

如，欲使自第1面光源60a及第2面光源60b所射出的各 第1入射光ELI，與自第1面光源6〇a及第2面光源6此 所射出的各第2入射光EL2及第3入射光EL3相比大幅度 減弱的情況下，則可使用如下的透射濾光片64、81、82、 81A、82A，即被設定為Z軸方向上的中央部分的透射率 最低，且隨著在Z軸方向上離開中央部分而透射率逐漸變 南0 而且，於進行如下的光學設計時，即隨著透射濾光片 64沿Y軸方向離開照明光曈面27，而藉由第2入射光el2 及第3入射光EL3而形成於透射濾光片64内的各入射區 域66b〜69b、66c〜69C的各形成位置分別在χ軸方向上 移位，透射濾光片64可為如下所示而設計的濾光片。亦 即，透射濾光片64的第i濾光片區域65a及第2濾光片區 域65b被設定為X軸方向上的中央部分的透射率最高，且 隨著在X轴方向上離開中央部分而透射率逐漸降低。 同樣地，於進行如下的光學設計時，即隨著透射濾光 片81、82沿Y軸方向離開光瞳共軛面83，而藉由第2入 射光EL2及第3入射光EL3而形成於透射濾光片81、82 45 201027270 32726pif 内的各入射區域66b〜69b、66c〜69c的各形成位置分別在 X軸方向上移位，透射濾光片81、82可為如下所示而設計 的濾光片。亦即，透射濾光片81、82被設定為X轴方向 上的中央部分的透射率最高，且隨著在X轴方向上離開中 央部分而透射率逐漸降低。 .第1實施形態中，亦可相對於透射濾光片64内的第 3 ;慮光片區域65c及第4濾光片區域65d’而分別形成用於 使入射至該各濾光片區域65c、65d内的曝光光EL減弱的 透射率分佈。而且，各濾光片區域65c、65d的透射率分佈 亦可為根據曝光光EL的入射位置而透射率不同的分佈。 若以此種方式構成’則可對自二次光源6〇的第3面光源 60c及第4面光源60d所射出的第1入射光EL1、第2入 射光EL2及第3入射光EL3的減光程度進行各別調整。 •第2及第3的各實施形態中，可將具有根據光的入 射位置而透射率不同的透射率分佈的透射濾光片，配置於 自二次光源60的第3面光源60c及第4面光源60d所射出 的曝光光EL的光程内。 •第1實施形態中，可將不具有焦度的光學元件（例 如平行平面板）配置於光學積分器26與第1聚光光學系統 28之間。此時’配置著透射濾光片64的第1調整區域63 成為光學積分器26與不具有焦度的光學元件之間的區域。 •第2及第3的各實施形態中’可將不具有焦度的光 學元件（例如平行平面板）配置於光瞳共軛面83與第2 聚光光學系統30之間。此時，配置著透射濾光片81、82、 46 201027270 ：)Z/Z〇piI 81A、82A 的第 2 敖 Γ* 83與侧的光學元件配置於光瞳共軛面 82、81A、82A的第2 時’配置著透職光片81、 第調整區域8〇成為第2聚光光學系統 3〇與不具有焦度的光學元件之間的區域。 址當然亦可將不具有焦度的光學元件分別配 置於光瞳

、 轴方向上的兩侧。此時，兩個不具有隹度 的光學元件，間的區域成為配置著透射濾光片8;有8;度 81Α、82Α的第2調整區域8〇。 各實施形癌'中’各移動機構7〇亦可不必構成為與光 里強义分佈計測裝置36的計測結果連動而驅動。亦即，可 ==佈Ϊ測裝置％的計測結果顯示於未圖示的 監綱的顯不畫面上’並基於該顯示晝面中所顯 測結果，由作業人員使透射滤光片64、8卜82、81Α、82Α 沿Υ軸方向移動。此時，移動機構7〇中亦可不設置驅動 源72。亦即，透射濾光片64、幻、82、8ια、82α可 作業人員的手動操作而分別移動。 曰 .第1實施形態中’亦可將透射絲片64配置於第2 調整區域80内。以此方式構成村獲得與上 態同等的效果。 而且，第2實施形態中，亦可將透射遽光片81、 分別配置於第1調整區域63内。以此方式構成亦可獲 上述第2實施形態同等的效果。 〃 47 201027270 32726pif 進而，第3實施形態中，亦可將透射濾光片81、82、 81A、82A分別配置於第丨調整區域63内。而且，亦可將 透射濾光片81、82分別配置於第2調整區域8〇内，且將 透射濾光片81A、82A分別配置於第丨調整區域63内。以 此方式構成亦可獲得與上述第3實施形態同等的效果。 ^ .各實施形態中，修正濾光片24只要是具有根據曝光 光EL的入射位置而透射率不同的透射率分佈的濾光片， 則可為具有任意的透射率分佈的濾光片。而且，亦可準備 相對於入射位置而透射率分佈互不相同的多片修正濾光片 © 24 ’來取代根據需要而配置於曝光光EL的光程内的修正 濾光片。若以此方式構成，則可提高修正濾光片24與透射 濾光片64、81、82、81A、82A的協動作用下的與靜止曝 光區域ER2内的各點pib、P2b、P3b相對應的各光瞳強度 分佈的調整自由度。 各實％形癌中，光曈強度分佈計測裝置％只要可對 與標線片R上的照明區域ER1内的各點pia、p2a、p3a 相對應的光瞳強度分佈61、62進行計測，則可不必位於標 ❹ 線片R的附近。其中，光曈強度分佈計測裝置36只要位 於與標線片R的被照射面Ra(亦即晶圓w的表面Wa)為 光學共軛的位置附近，則可設置在任意的位置處。 .各實施形態中，光學積分器26亦可包含沿z方向以 及X方向排列著具有折射率的單位波前區分面的1片微複 眼透鏡。而且，作為光學積分器，亦可使用排列著多個透 鏡要素而成的複眼透鏡。而且，光學積分器亦可為多個鏡 48 201027270 ^2/Z0pit ❹ 響 面排列而成的-對複眼反射鏡（flyeyemim)r)。而且，光 學積分斋亦可為沿γ轴方向延伸的圓柱型積分器（内面反 射型積分n )。在使用m㈣積分器作為光學積分器的情況 下’於變;tm统25的後侧以使魏光㈣統25之前 ，焦點位置與其後侧焦點位置—致的方式來配置聚光透鏡 mx將人射端定位_聚光透齡制後側焦點位 置或者其附近位置的方式，來配置圓柱型積分器。此時， 圓柱型積分器的射出端為標線片遮器29的位置^在使用圓 柱型積分器的情況下，可將該圓柱型積分器的下游的標線 片遮器成像光學系統（第2聚光光學系統3〇以及成像光學 系統32)内的、與投影光學系統15的孔徑光闌42的位置 為光學共軛的位置稱為照明光曈面。而且，於圓柱型積分 器的入射面的位置處形成著照明光曈面的二次光源的虛像 (virtual image)，因此，亦可將該位置及與該位置為光學 共輛的位置稱為照明光曈面。此時，分佈修正光學系統Μ 可配置於包含該照明光曈面的空間（第2聚光光學系統3〇 與成像光學系統32之間的空間）中。可將該空間視作1 調整區域或第2調整區域。 .各實施形態中，可應用以具有大於U的折射率 質（典型的是液體）充滿於投影光學系統與感光性基板 間的光程中的方法、即所謂的液浸法。此時，作為之 充滿於投影光學系統與感光性基板之間的光程中的液體 可採用國際公開第99/49504號小冊子中所揭示般月立 填充液體的方法、日本專利特開平6-124873號公報; 49 201027270 32726pif 示般使保持著曝光對象的基板的載物台於液槽中移動的方 法、或者日本專利特開平10-303114號公報中所揭示的於 載物臺上形成規定深度的液體槽，並於其中保持基板的方 法等。此處，援用國際公開第99/49504號小冊子、日本專 利特開平6-124873號公報以及曰本專利特開平1〇_3〇3114 號公報的揭示作為參照。 •各實施形態中’亦可應用美國專利申請案公開第 2006/0170901號說明書及第2007/0146676號說明書中所揭 示的所謂偏光照明方法。此處，援用美國專利申請案公開 ® 第2006/0170901號說明書以及美國專利申請案公開第 2007/0146676號說明書的揭示作為參照。 •在各實施形態中，亦可將曝光裝置U具體化為使用 了可變圖案生成器（例如，數位反射鏡元件或數位微型反 射鏡元件（Digital Mirror Device 或者 Digital Micro-mirror

Device，DMD))的無罩幕曝光裝置。該無罩幕曝光裝置 揭示於例如日本專利特開2004-304135號公報、國際公開 第2006/080285號小冊子以及與之對應的美國專利申請案 ❹ 公開第2007/0296936號說明書中。 〃 .各實施形態中，為了不僅製造出半導體元件等的微 型元件，而且製造出光曝光裝置、遠紫外線（Extreme ultraviolet，EUV)曝光裝置、X射線曝光裝置及電子束曝 光裝置等中所使用的標線片或者罩幕，曝光裝置u亦可為 將電路圖案自母標線片轉印至玻璃基板或矽晶圓等的曝光 裝置。而且，曝光裝置11亦可為用於包含液晶顯示元件 50 201027270

JL· f^KyyiL (liquid crystal display，LCD)等的顯示器的製造、並 於將元件圖案轉印至玻璃板上的曝光裝置，用於薄膜 等的製造、且用於將元件圖案轉印至陶瓷晶片（ceramk wafer)等祕光裝置’以於CCD等賴影 = 造的曝光裝置。 .各實施形態中，亦可將曝光裝置u具體化為在標線 片R與晶圓W相對移動的狀態下將標線片R的圖案轉印 ❹至晶圓W上並使晶圓W依次按照步驟移動的掃描、步進 機（Scanning stepper) ° .各實施形態中，光源裝置12亦可為能夠供給例如g 射線（436 nm)、i射線（365 nm)、KrF準分子雷射（248 nm)、F2 雷射（157 nm)、Κι*2 雷射（146 nm)、Ar2 雷射（126 nm)等的光源。而且，光源裝置12亦可為能夠供給如下 高頻諧波（higher harmonic)的光源，該高頻諧波是利用 掺雜有例如斜（或者斜與鏡兩者）的光纖放大器（fiber amplifier) ’ 將由分散式回饋（Distributed FeedBack，DFB) © 半導體雷射或者光纖雷射所振盪的紅外線範圍或者可見光 範圍的单波長雷射光放大後，利用非線性光學結晶而波長 轉換為紫外光。 •透射濾光片及旋轉機構一體化而成的單元，有時被 稱為透射濾光片單元。 其次，對微影步驟中使用本發明實施形態的曝光裝置 11的元件的製造方法的微型元件的製造方法的實施形態 進行說明。圖16是表示微型元件（積體電路（integrated 51 201027270 32726pif circuit ’IC)或大型積體電路（large scale integration，LSI) 等的半導體晶片、液晶面板、CCD、薄膜磁頭、微機器 (imcromachine)等）的製造例的流程圖的圖。 首先’在步驟S101 (設計步驟）中，實施微型元件的 功能·性能設計（例如，半導體元件的電路設計等），並實 施用以實現該功能的圖案設計。繼而，在步驟sl〇2 (罩幕 製作步驟）中，製作形成著設計好的電路圖案的罩幕（標 線片R等）。另一方面’在步驟sl〇3(基板製造步驟）中， 使用矽、玻璃、陶瓷等的材料’而製造基板（使用矽材料 ® 時為製造晶圓AV )。 接著，在步驟S104 (基板處理步驟）中，使用步驟 S101〜步驟S104中所準備的罩幕與基板，以下述方式， 藉由微影技術等而於基板上形成實際的電路等。繼而，在 步驟S105 (元件組裝步驟）中，使用步驟sl〇4中所處理 的基板，進行元件組裝。該步驟sl〇5中，視需要而包含 切割步驟、黏合步驟以及封裝步驟（晶戶封入）等的步驟。 最後，在步驟S106 (檢查步驟）中，實施步驟sl〇5中所 ❹ 製作的微型元件的動作確認測試、耐久性測試等的檢查。 經由上述步驟之後微型元件便完成，並予以出貨。 圖17是表示半導體元件的情況下步驟81〇4的詳細步 驟的一例的圖。 在步驟Sill (氧化步驟）中，使基板的表面氧化。在 步驟 sm(化學氣相沈積（chemical vap〇r d卬〇siti〇n，cvD) 步驟）中，於基板表面上形成絕緣臈。在步驟Sll3 (電極 52 201027270 SZ/Z^pii 形成步驟）中’藉由蒸鍍而在基板上形成電極。在步驟S114 (離子植入（ion implantation)步驟）中，於基板上植入 離子。以上的步驟S111〜步驟Sll4的各個構成基板處理 的各階段的前處理步驟，且可在各階段中根據所需的處理 來選擇並實施。 基板製程的各階段中，若上述前處理步驟結束，則以 如下方式實施後處理步驟。該後處理步驟中，首先，在步 ❹驟3115(阻劑形成步驟）中，於基板上塗佈感光性材料。 繼而，在步驟S116(曝光步驟）中，藉由以上所說明的微 影系統（曝光裝置11)將罩幕的電路圖案轉印至基板上。 接著，在步驟S117 (顯影步驟）中，將步驟S116中被曝 光的基板顯影，並在基板的表面上形成包含電路圖案的罩 幕層。進而接著在步驟S118(蝕刻步驟）中，藉由蝕刻而 將殘存著阻劑的部分以外的部分的露出構件去除。接著， 在步驟S119(_去除步驟）中，將_結束後多餘的感 光性材料去除。亦即，在步驟S118以及步驟中經 ®自罩幕騎基板的表㈣行加卫。U由反覆進行該些前處 理步驟與後處理步驟，而於基板上多重形成電路圖案。 雖然本發明已以實施例揭露如上，然其並非用於限定 本發明，任何所屬技術領域中具有通常知識者在不脫離 本發明之精神和範圍内，當可作些許之更動與潤飾，故本 發明之保護範圍當視後附之巾請專鄕騎界^ 【圖式簡單說明】 圖1是表示第1實施形態巾的曝光裝置的概略構成 53 201027270 32726pif

圖2是示意性表示一對微複眼透鏡的立體圖。 圖3是表示形成於照明光曈面上的圓形狀的二次光源 的示意圖。 圖4 (a)是表示形成於標線片上的照明區域的示意 圖’圖4 (b)是表示形成於晶圓上的靜止曝光區域的示意 圖。 圖5是表示藉由入射至靜止曝光區域内的中心點的入 射光所形成的第1光曈強度分佈的示意圖。 圖6是表示藉由入射至靜止曝光區域内的周邊點的入 射光所形成的第2光瞳強度分佈的示意圖。 圖7(a)是表示與靜止曝光區域内的中心點相對應的 第1光瞳強度分佈的沿Z軸方向的光強度的圖解，圖7(b) 是表示與靜止曝光區域内的周邊點相對應的第2光睹強度 分佈的沿Z轴方向的光強度的圖解。 圖8是表示第1實施形態中的分佈修正光學系統的概 略構成圖。 圖9疋示意性表示第1實施形態中的透射渡光片的正 視圖。 圖10是使透射濾光片沿Y軸方向移動時的作用圖。 圖11是使透射濾光片沿Y軸方向移動時的作用圖。 圖12是使透射濾光片沿γ轴方向移動時的作用圖。 圖13是使透射遽光片沿γ軸方向移動時的作用圖。 圖14 ( a)是表示第2實施形態中的分佈修正光學系 54 201027270 jz/zopir 統的概略構成圖，圖14 (b)是示意性表示各透射濾光片 的正視圖。 圖15是表示第3實施形態中的分佈修正光學系統的 概略構成圖。 圖16是元件的製造例的流程圖。 圖17是半導體元件情況下的與基板處理相關的詳細 流程圖。 m 【主要元件符號說明】 11 :曝光裝置 12 :光源裝置 13 :照明光學系統 14 :標線片載物台 15 :投影光學系統 16 :晶圓載物台 17 :整形光學系統 18 :第1反射鏡 © 19:繞射光學元件 20 :無焦光學系統 21 :第1透鏡群 22 :第2透鏡群 23 :規定面 24 :修正滤光片 25 :作為入射態樣調整光學系統的變焦光學系統 26 :光學積分器 55 201027270 32726pif 27 :照明光瞳面 28 ··作為光學元件的第1聚光光學系統 29 :標線片遮器 29a :矩形孔徑部 30 :作為第1光學元件的第2聚光光學系統 31 :分佈修正光學系統 32 :成像光學系統 33 :作為第2光學元件的入射側透鏡群 34 :第2反射鏡 35 :射出侧透鏡群 36 :光瞳強度分佈計測裝置 37 :光束分光器 38 :計測用透鏡 39 :檢測部 40 :控制裝置 41 :鏡筒 42 :孔徑光闌 43 :載置面 50、51 : —對微複眼透鏡 50a、51a :入射面 50b、51b :射出面 52〜55 :作為單位波前區分面的柱狀透鏡面 60 :作為規定的光強度分佈的二次光源 60a〜60d :作為區域的面光源 201027270. jz/ζόρι 丄 61 :第1光瞳強度分佈 61a :第1光瞳強度分佈的第1面光源 61b :第1光瞳強度分佈的第2面光源 61c :第1光瞳強度分佈的第3面光源 61d :第1光瞳強度分佈的第4面光源 62 :第2光瞳強度分佈 62a :第2光瞳強度分佈的第1面光源 ©62b :第2光瞳強度分佈的第2面光源 62c :第2光瞳強度分佈的第3面光源 62d :第2光瞳強度分佈的第4面光源 63 :第1調整區域 64、81、82、81A、82A :透射濾光片 64a :光透射性構件 65 :有效濾光片區域 65a〜65d :作為圖案區域、部分區域的濾光片區域 66、66a、66b、66c :第 1 入射區域 G 67、67a、67b、67c :第 2 入射區域 68、68a、68b、68c :第 3 入射區域 69、69a、69b、69c :第 4 入射區域 70 :移動機構 71 :引導部 72 :驅動源 80 :第2調整區域 83 :光瞳共軛面 57 201027270 32726pif 84 :像面共輛面 ΑΧ :光軸 D1〜D3 :分割面 EL :曝光光 ELI :第1入射光 EL2 :第2入射光 EL3 :第3入射光 ER1 :作為照射區域的照明區域 ER2 :作為照射區域的靜止曝光區域 H1 :第1寬度 H2 :第2寬度

Pla〜P3a、Plb〜P3b、、Pic〜P3c :作為規定的點的點 Ra :被照射面 S101〜S119 :步驟 〇 58

Claims (1)

1. 201027270 ^ζ/ζοριι 七、申請專利範圍： —1種照明光學系統’利用來自光源的光對被照射面 進行照明，其特徵在於包括： 光學積分器，在來自上述光源的光已入射的情況下， 於上述,、、、月光學系統的照明光程内的照明光睦面上形成規 定的光強度分佈； 透峨光片，較該光學積分器更靠近上述被照射面 ❹I ’且於上述㈣光學系統的光軸方向上配置於設定為包 3亡述照明光瞳面的第1調整區域及設定為包含與上述照 ^光曈，為光學共輛的光瞳共輛_第2調整區域中的至 (•個區域内，且根據所入射的光的位置而透射率特性不 同；以及 移動機構，使該透射濾光片在上述至少一個區域内沿 上述光軸方向移動。 2.如申請專利範圍第1項所述之照明光學系統，其中 ❹ 上述移動機構包括使上述透射濾光片沿上述光軸方 向移動的驅動源。 3·如申請專利範圍第2項所述之照明光學系統，更包 括： 汁測裝置，對到達上述被照射面上的規定的點的光束 的角度方向的光強度分佈進行計測；以及 控制裝置’根據該計測裝置的計測結果來對上述驅動 源進行控制。 4.如申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述之照 59 201027270 32726pif 明光學系統，其中 第2調魏域是第1光學元件與第2光學元件之 “二/述第1光學轉配置於較上述光瞳共辆面而 更靠^上述光源_與上述光瞳共輛面最接近的位置處， 上达弟2光學元件配置於較上述糾共輛面而更靠近上述 被照射面_與上述光瞳她面最接近的位置處。 ❺ 5.如申請專利範圍第4項所述之照明光學系統其中 上述第1光學元件及上述第2光學元件中的至少二 光學元件是具有焦度的光學元件。 6‘如申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述之昭 明光學系統，其中 上述第1調整區域是上述光學積分器與如下光學元件 之間的區域，該光學元件配置於較上述照明光曈面而更靠 近上述被照射面側的與上述照明光瞳面最接近的位置處。 7. 如申請專利範圍第6項所述之照明光學系統，其中 上述光學元件是具有焦度的光學元件。

   8. 如申請專利範圍第1項至第7項中任一項所述之昭 明光學系統，其中 … 上述透射濾光片沿上述光轴方向而配置有多個。 9·如申請專利範圍第1項至第8項中任一項所述之昭 明光學系統，其中 … 上述透射濾光片包括：第1透射濾光片，配置於通過 上述照明光瞳面内的第1區域的第1照明光束的光程内； 以及第2透射濾光片，配置於通過上述照明光瞳面内的與 60 201027270 上述第1區域不同的第2區域的第2照明光束的光程内。 10. 如申請專利範圍第9項所述之照明光學系統， 中 、 上述第1透射濾光片與上述第2透射濾光片，以夹持 包含上述光軸的虛擬分割面的方式而分別配置於上述第工 調整區域及上述第2調整區域中的至少一個區域内。 11. 如申請專利範圍第1〇項所述之照明光學系統，其 ❹中 、 以相對上述照明光學系統的上述光軸呈規定的角度 而通過上述照明光曈面内的上述第丨區域的第丨光、與= 相對上述照明光學系統的上述光軸呈上述規定的角度而通 過上述照明光瞳面内的上述第2區域的第2光到達上述 被照射面的1點； 上述第1光通過上述第1透射濾光片，上述第2 過上述第2透射濾光片。 、 12·如申請專利範圍第9項至第u項中任一項所述之 11 照明光學系統，其中 上述第1透射濾光片與上述第2透射濾光片為不同 構件。 13.如申請專利範㈣！項至第8項中任—項所 照明光學系統，其中 上述透射濾光片包括··第1圖案區域，位於通過上述 照明光瞳面内的第1區域的第i照明光束的光程内，且具 有第1透射率分佈；以及第2圖案區域，位於通過上述照 61 201027270 32726pif 明光曈面内的與上述第i區域不同的第2區域的第2照明 光束的光程内，且具有第2透射率分佈。 14.如申請專利範圍第13項所述之照明光學系統其 中 、 上述第1圖案區域與上述第2圖案區域，以夾持包含 上述照明光學系統的上述光軸的虛擬分割面的方式而分別 配置於上述第1調整區域及上述第2調整區域中的至少一 個區域内。 15.如申請專利範圍第14項所述之照明光學系統其 ❻ 中 、、〜 以相對上述光軸呈規定的角度而通過上述照明光瞳 面内的上述第1區域的第丨光、與以相對上述照明光學系 統的上述絲呈上述規定㈣度^通過上賴明光瞳面内 的上述第2區域的第2光，到達上述被照射面的i點； 上述第1光通過上述第1圖案區域， 上述第2圖案區域。 上述第2光通過 〇 K如申請專利範圍帛13項至第15 之照明光學系統，其中 項所迷 上述第1_區域的上述第i透射率分佈與上述第2 圖案的上述第2透射率分佈為同一分佈。 17.如申請專利範圍第13項至第16項中任 之照明光學系統，其中 項所述 上述第1圖案區域與上述第2圖宏& 透射性構件。 ^弟2圖案Q域形成於同一光 62 201027270 JZ/ZDplI 18.如申請專利範圍第9項至第17項中任一項所述之 照明光學系統，其中 上述照明光瞳面内的上述第〗區域與上述第2區域， 以夾持通過上述照明光學系統的光軸的虛擬分割線的方式 而分卿狀上賴Μ规_。 照二::請=範圍第™項中任-項所述之 自上述照日絲曈面_規定的點發出且到達上述被 所八=2 照明光學系統的光軸的虛擬分割線 其 域内的第1點的第1光線、與自上述 =先^内的上述規定的點發出且到達上述被照射面中 :另一區域内的第2點的第2光線，通過上述透射減光片 二^過上述光軸的虛擬分割線所分割的多個區域中的 個部分區域。 ❹ 照J學dr圍第1項至第19項中任-項所述之 上述發^束照射在 r有效直徑的比，於上 的可動範圍内超過1/2。 照明請=範圍第1項至第20項中任-項所述之 方向mu。物編料上述光轴 63 201027270 32726pif 22·如申請專利範圍第1項至第21項中任一項所述之 照明光學系統，其中 上述被照射面上的藉由自上述照明光學系統所射出 的光而形成的照射區域為如下形狀’即上述被照射面上的 第1方向較與該第1方向交叉的第2方向更長；並且 上述透射濾光片以該透射濾光片中的與上述第丨方向 相對應的規定方向上的各位置的透射率特性互不相同的方 式而形成。 23.如申請專利範圍第22項所述之照明光學系統，其 中 、、〜 上述光學積分器以如下方式而構成’即射出至上述被 照射面侧的光的發散角中，與上述第i方向相對應的方向 上的發散角較與上述第2方向相對應的發散角更大。 24·如申請專利範圍第1 照明光學系統，其中 項至第23項中任一項所述之 上述光學積分器具有排列於與上述光軸交 的多個單位波前區分面。 25.如申請專利範圍第丨項至第％項中任一項 2光㈣統，其與郷光料、·合㈣該 系統形成與上述被照射面為光學共軛的面； ，干 光㈣上额f彡光學^的孔徑 26· —種曝光裝置，其特徵在於： 包括如申請專利範圍第1項至第25項中任一項所述 201027270. 導至上述被照射面光源所輸出的光引 的====== 料的基板上。 彳又办主塗佈著感光材 用於ί上ΐ 置，更包括

   板上:、、、订4對移動’而將上述圖案的像投影至上述基 28. -種元件的製造方法，其特徵在於包括· 述之ϊ ί ί ”請專利範圍第2 6項或第2 7項所 先裝置，而將上述圖案的像曝光於上述基板的表面； 顯影步驟’於鱗光步驟後，使上絲板顯影從而 使形狀與上顧⑽像相職的罩幕層形成於上述基板的 表面；以及 加工步驟，於該顯影步驟後，經由上述罩幕層而對上 述基板的表面進行加工。 29. —種透射濾光片單元，其與照明光學系統組合使 用，該照明光學系統利用來自光源的光而對被照射面進行 照明且包括光學積分器，該光學積分器在來自上述光源的 光已入射的情況下，於上述照明光學系統的照明光程内的 照明光曈面上形成規定的光強度分佈， 上述透射濾光片單元的特徵在於包括： 65 201027270 32726pif 透射滤光片’較該光學積分器更靠近上述被照射面 侧’且於上述照明光學系統的光軸方向上配置於設定為包 含^述照明光瞳面的第j調整區域及設定為包含與上述照 ，光瞳，為光學共軛的光瞳共軛面的第2調整區域中的至 少一個區域内，且根據所入射的光的位置而透射率特性不 同；以及 移動機構’使該透射濾光片在上述至少一個區域内沿 上述光轴方向移動。 〇 3〇.如申請專利範圍第29項所述之透射濾光片單 〇 元，其中 上述移動機構包括使上述透射濾光片沿上述光軸方 向移動的驅動源。 31.如申請專利範圍第29項或第3〇項 之 光片單元，其中 t述第2調整區域是第1光學元件與第2光學元件之 =區域、’、上述第i光學元件配置於較上述光瞳共輛面而 罪近上述光源侧的與上述光曈共軛面最接近的位置處，❹ 上述第2光學元件配置於較上述光瞳共軛面而更靠近上述 被照射面侧的與上述光瞳共軛面最接近的位置處。 32·如申請專利範圍第31項所述之透射濾光片單 疋，其中 上述第1光學元件及上述第2光學元件中的至少一個 光干7G件是具有焦度的光學元件。 33.如申請專利範圍第29項或第如項所述之透射濾 66 201027270 光片單元，其中 上述第1調整區域是上述光學積分器與如下光學元件 之間的區域’該光學元件配置於較上述照明光瞳面而更靠 近上述被照射面側的與上述照明光瞳面最接近的位置處。 如申請專利範圍第33項所述之透射濾光片草 元，其中 上述光學元件是具有焦度的光學元件。 ❹ 35·如申請專利範圍第29項至第34項中任一項所述 之透射濾光片單元，其中 上述透射濾光片沿上述光軸方向而配置有多個。 36·如申請專利範圍第29項至第35項中任一項所述 之透射濾光片單元，其中 上述透射濾光片包括：第1透射濾光片，配置於通過 上述照明光瞳面内的第i區域的第！照明光束的光程内； 以及第2透射濾光片，配置於通過上述照明光瞳面内的與 Ο 上述第1區域不同的第2區域的第2照明光束的光程内。 37.如申請專利範圍第36項所述之透射濾光片單 元，其中 上述第1透射濾光片與上述第2透射濾光片，以夾持 包含上述光軸的虛擬分割面的方式而分別配置於上述第1 調整區域及上述第2調整區域中的至少一個區域内。 38·如申請專利範圍第37項所述之透射濾光片單 元，其中 以相對上述照明光學系統的上述光軸呈規定的角度 67 201027270 32726pif 而通過上述照明光瞳面内的上述第丨區域的第丨光、與以 相對上述㈣光學祕的上述光軸呈±述規定的肢而通 過上述照明光曈面内的上述第2區域的第2光，到^上述 被照射面的1點； 上述第1光通過上述第1透射濾光片，上述第2光通 過上述第2透射濾光片。 39.如申請專利範圍第36項至第38項中任一項所述 之透射濾光片單元，其中 上述第1透射濾光片與上述第2透射濾光片為不同的 ❹ 構件。 4〇.如申請專利範圍第29項至第35項中任一項所述 之透射滤光片單元，其中 上述透射濾光片包括：第1圖案區域，位於通過上述 照明光瞳面内的第1區域的第1照明光束的光程内，且具 有第1透射率分佈；以及第2圖案區域，位於通過上述照 明光曈面内的與上述第1區域不同的第2區域的第2照明 光束的光程内，且具有第2透射率分佈。 ❹ 41. 如申請專利範圍第40項所述之透射濾光片單 元，其中 上述第1圖案區域與上述第2圖案區域，以夾持包含 上述照明光學系統的上述光轴的虛擬分割面的方式而分別 配置於上述第1調整區域及上述第2調整區域中的至少一 個區域内。 42. 如申請專利範圍第μ項所述之透射濾光片單 68 201027270 jz/zopu 元，其中 以相對上述光軸呈規定W度 ==區域的ΐ1光、與以相對上丄光學系 的ml軸述規⑼角度而通過上述照明光瞳面内 的上述4 2區域的第2光，到達上述被照射面的i點； 口 j第1光通過上述第1 _區域，上述第2光通過 上述第2圖案區域。

   43:如申明專利範圍第4〇項至第42項中任一項所述 之透射滤光片單元，其中 上述第1圖案區域的上述第i透射率分佈與上述第2 圖案的上述第2透射率分佈為同一分佈。 44.如申請專利範圍第4〇項至第43項中任一項所述 之透射濾光片單元，其中 上述第1圖案區域與上述第2圖案區域形成於同一光 透射性構件。 45.如申請專利範圍第36項至第44項中任一項所述 之透射遽光片單元，其中 上述照明光曈面内的上述第丨區域與上述第2區域， 以失持通過上述照明光學系統的光轴的虛擬分割線的方式 而分別形成於上述照明光瞳面内。 46·如申請專利範圍第29項至第45項中任一項所述 之透射遽光片單元，其中 自上述照明光曈面内的規定的點發出且到達上述被 照射面中的由通過上述照明光學系統的光軸的虛擬分割線 69 201027270 32726pif 所分割的其中一個區域内的第丨 照明光曈面内的上述規定的點發==被 的另-區域内的第2點的第2 _ π 4被照射面中 中的由通過上述光_虛擬分。二j透射遽光片 -個部分區域。 〃義所刀割的多個區域中的 47.如申請專利範圍第29項至第 之透射遽光片單元，其巾 壬項所迷

   自上述照明細面内的規定的點發㈣光束照射在 片上所得的區域的最小直徑對於上述透射濾 光片的有效直徑的比’於上述透射濾光片的上述光轴方向 的可動範圍内超過1/2。 48.如申請專利範圍第29項至第47項中任一項所述 之透射濾光片單元，其中 上述移動機構為可使上述透射濾光片沿與上述光軸 方向交叉的方向移動的構成。

   49·如申請專利範圍第29項至第48項中任一項所述 之透射濾光片單元，其中 上述被照射面上的藉由自上述照明光學系統所射出 的光而形成的照射區域為如下形狀，即上述被照射面上的 第1方向較與該第1方向交叉的第2方向更長；並且 上述透射遽光片以該透射濾光片中的與上述第1方向 相對應的規定方向上的各位置的透射率特性互不相同的方 式而形成。 50.如申請專利範圍第49項所述之透射濾光片單 70 201027270 元，其中 昭射面:::::::如下方式而構成，即射出至上述被 角中，與上述第1方向相對應的方向 上的發放触與上述第2方向相職 之二 ❹ 光學系:形成與:===，_ 光闌與上述投影光學系統的孔徑

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