TW201001615A - Liquid processing system, liquid processing method and storage medium - Google Patents

Description

201001615 六、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於將洗淨液供給至被旋轉驅動之被處理 體，而洗淨該被處理體之液處理裝置及液處理方法，以及 用以實施該液處理方法之記憶媒體。 【先前技術】 如日本專利特開平9-290 1 97號公報所示般，自以往 所知的液處理裝置，具備：保持屬於被處理體之半導體晶 圓（以下也稱爲晶圓），並且成爲中空之底板；被固定連結 於底板，藉由旋轉馬達而被旋轉驅動之旋轉軸；在旋轉軸 內延長，供給洗淨液至被底板保持之晶圓之供給管路；和 可以藉由上升從下方支撐晶圓之基板推上銷。 [發明所欲解決之課題] 在以往之液處理裝置中，爲了洗淨晶圓而所使用之藥 液或沖洗液等之洗淨液經貫通孔而可能附著於基板推上 銷。因此’於晶圓之乾燥工程之後，藉由基板推上銷抬起 晶圓而轉交至搬運機械手臂之時，則有附著於基板推上銷 之洗淨液之液滴附著於晶圓背面之情形。 當如此洗淨液附著於晶圓時，不僅在液滴附著之晶圓 本體形成水印’載運晶圓之載體內之溼度上升，在被收容 於載體內之其他晶圓也有形成水印之情形。 201001615 【發明內容】 本發明係考慮該點而所硏究出，其目的爲提供藉由防 止在抬寧被處理體之構件殘留洗淨液，防止洗淨液附著於 被處理體之背面’進一步防止在被處理體上形成水印的液 處理裝置及液處理方法，以及用以實施該液處理方法之記 憶媒體。 (用以解決課題之手段） 藉由本發明之液處理裝置係具備： 保持被處理體，並且成爲中空之保持板； 被固定連結於上述保持板，成爲中空之外方旋轉軸； 被配置在上述保持板之中空內，並且具有支撐上述被 處理體之頂出銷的頂出銷板； 在上述外方旋轉軸之中空內延伸存在，被固定連結於 上述頂出銷板之內方旋轉軸； 被配置在上述內方旋轉軸之內部，將洗淨液供給至該 保持板所保持之上述被處理體之洗淨液供給部； 使上述頂出銷板升降，並使配置於上方位置及下方位 置的升降構件； 被連結於上述外方旋轉軸，將該外方旋轉軸予以旋轉 驅動之外方旋轉驅動部；和 被連結於上述內方旋轉軸，將該內方旋轉軸予以旋轉 驅動之內方旋轉驅動部。 藉由如此之構成，可以防止洗淨液淤積於頂出銷板， -6 - 201001615 或洗淨劑殘留於頂出銷，並且可以防止洗淨液附著於被處 理體之背面。 在藉由本發明之液處理裝置中，可以將依據上述外方 旋轉驅動部所產生之上述外方旋轉軸之旋轉方向，與依據 上述內方驅動部所產生之上述內方旋轉軸之旋轉方向設爲 相同方向，並將依據上述外方旋轉驅動部所產生之上述外 方旋轉軸之旋轉速度，與依據上述內方旋轉驅動部所產生 之上述內方旋轉軸之旋轉速度設爲相同，並可以在上述頂 出銷板和上述保持板之間設置密封構件。 藉由如此之構成，可以防止洗淨液等從頂出銷板和保 持板之間進入至外方旋轉軸之中空內。 藉由本發明之液處理裝置中，上述頂出銷板位於下方 位置之時，可以將上述頂出銷板之上述頂出銷之前端，和 被保持於上述保持板之上述被處理體之下端之距離設爲 5mm以下。 依據如此之構成，藉由流到被處理體下面之洗淨液， 可以洗淨頂出銷之前端，並且可以防止於頂出銷之前端抵 接於被處理體之背面時，附著於頂出銷之前端的髒污移至 被處理體之背面。 藉由本發明之液處理裝置中，可以將上述頂出銷板之 上述頂出銷配置在上述保持板之周緣附近。 依據如此之構成，於洗淨被處理體背面之後，可以洗 淨頂出銷之前端，並可以更確實防止於頂出銷之前端抵接 於被處理體之背面時，附著於頂出銷之前端的髒污移至被 201001615 處理體之背面。 在藉由本發明之液處理裝置中，即使使藉由上述外方 旋轉驅動部而被旋轉驅動之上述保持板之旋轉速度，和藉 由上述內方旋轉驅動部而被旋轉驅動之上述頂出銷板之旋 轉速度不同亦可。 藉由如此之構成，例如可以使頂出銷板之旋轉速度高 於保持板之旋轉速度，並且可以更確實去除頂出銷板上之 洗淨液。 藉由本發明之液處理方法係屬於使用液處理裝置的液 處理方法，該液處理裝置具有：成爲中空之保持板；被固 定連結於該保持板，成爲中空之外方旋轉軸；被配置在上 述保持板之中空內，並且具有頂出銷的頂出銷板；在上述 外方旋轉軸之中空內延長，被固定連結於上述頂出銷板之 內方旋轉軸；被配置在上述內方旋轉軸之內部的洗淨液供 給部；和使上述頂出銷板升降，並配置於上方位置及下方 位置的升降構件；被連結於上述外方旋轉軸之外方旋轉驅 動部；和被連結於上述內方旋轉軸之內方旋轉驅動部，其 特徵爲：具備： 藉由上述升降構件，使上述頂出銷板定位於上方位置 之工程； 藉由上述頂出銷板之上述頂出銷，支撐上述被處理體 之工程； 藉由上述升降構件，使上述頂出銷板定位於下方位置 之工程； -8- 201001615 藉由上述保持板，保持上述被處理體之工程； 藉由以上述外方旋轉驅動部旋轉驅動上述外方旋轉 軸，使在上述保持板所保持之上述被處理體旋轉之工程； 藉由以上述內方旋轉驅動部旋轉驅動上述內方旋轉 軸，使上述頂出銷板旋轉之工程； 藉由上述洗淨液供給部將藥液供給至上述被處理體之 工程；和 藉由上述洗淨液供給部將沖洗液供給至上述被處理體 之工程。 藉由如此之方法，可以防止洗淨液淤積於頂出銷板， 或洗淨劑殘留於頂出銷，並且可以防止洗淨液附著於被處 理體之背面。 在如此之方法中，即使使在上述保持板所保持之上述 被處理體之旋轉速度，和上述頂出銷板之旋轉速度不同亦 可。 藉由如此之方法，例如可以使頂出銷板之旋轉速度高 於在保持板所保持之被處理體之旋轉速度，並且可以更確 實去除頂出銷板上之洗淨液。 藉由本發明之記憶媒體係屬於儲存有用以使電腦實行 液處理方法之電腦程式的記憶媒體，其特徵爲： 該液處理方法係屬於使用液處理裝置的液處理方法， 該液處理裝置具有：成爲中空之保持板；被固定連結於該 保持板，成爲中空之外方旋轉軸；被配置在上述保持板之 中空內，並且具有頂出銷的頂出銷板；在上述外方旋轉軸 -9 - 201001615 之中空內延長，被固定連結於上述頂出銷板之內方旋轉 軸；被配置在上述內方旋轉軸之內部的洗淨液供給部；和 使上述頂出銷板升降，並配置於上方位置及下方位置的升 降構件；被連結於上述外方旋轉軸之外方旋轉驅動部；和 被連結於上述內方旋轉軸之內方旋轉驅動部，具備 藉由上述升降構件，使上述頂出銷板定位於上方位置 之工程； 藉由上述頂出銷板之上述頂出銷，支撐上述被處理體 之工程； 藉由上述升降構件，使上述頂出銷板定位於下方位置 之工程； 藉由上述保持板，保持上述被處理體之工程； 藉由以上述外方旋轉驅動部旋轉驅動上述外方旋轉 軸，使在上述保持板所保持之上述被處理體旋轉之工程； 藉由以上述內方旋轉驅動部旋轉驅動上述內方旋轉 軸’使上述頂出銷板旋轉之工程； 藉由上述洗淨液供給部將藥液供給至上述被處理體之 工程；和 藉由上述洗淨液供給部將沖洗液供給至上述被處理體 之工程。 藉由如此之構成，可以防止洗淨液淤積於頂出銷板’ 或洗淨液殘留於頂出銷，並且可以防止洗淨液附著於被處 理體之背面。 -10- 201001615 [發明效果] 若藉由本發明，因藉甶內方旋轉驅動部使內方旋轉軸 旋轉驅動而旋轉驅動頂出銷板，故可以防止洗淨液淤積於 頂出銷板’或在頂出銷殘留洗淨液之情形。因此，可以防 止洗淨液附著於被處理體之背面，進而可以防止在被處理 體形成水印。 【實施方式】 實施型態 以下’針對本發明所渉及之液處理裝置及液處理方法 之實施型態，參照圖面予以說明。在此，第1圖（a)、（b) 至第5圖爲表示本發明之實施型態之圖式。 如第1圖（a)、（b)及第2圖所示般，液處理裝置70具 備保持屬於被處理體之半導體晶圓 W(以下也稱爲晶圓 W>，並且成爲中空之保持板1，和被固定連結於保持板 1，成爲中空之外方旋轉軸2，和被配置在保持板1之中 空內，並且具有支撐晶圓W之頂出銷21之頂出銷板20， 和在外方旋轉軸2之中空內於上下方向延長，被固定連結 於頂出銷板20之內方旋轉軸22。並且，如第2圖所示 般，保持板1藉由保持構件60保持晶圓W。 再者，如第1圖（a)、（b)所示般，在外方旋轉軸2連 結旋轉該外方旋轉軸2之外方旋轉驅動部40，內方旋轉 軸22連結有旋轉驅動該內方旋轉軸22之內方旋轉驅動部 1〇。再者，如第1圖（a) ' (b)所示般，在外方旋轉軸2之 201001615 周緣外方配置有軸承47 ’在內方旋轉軸22之周緣外方 置有軸承1 7。 再者，如第1圖（a)、（b)所示般，外方旋轉驅動部 具有被配置在外方旋轉軸2之周緣外方的帶輪42，和 驅動皮帶43對該帶輪42賦予驅動力之馬達41。 再者，如第1圖（a)、（b)所示般，內方旋轉驅動部 具有被配置在內方旋轉軸22之周緣外方的帶輪12，和 驅動皮帶1 3對該帶輪1 2賦予驅動力之馬達1 1。 再者，如第1圖（a)、（b)所示般，內方旋轉軸22和 出銷板20成爲中空形狀，在該些內方旋轉軸22和頂出 板20之內部（中空空間內），於上下方向延伸存在有將 淨液供給至保持板1所保持之晶圓W之背面側的背面 洗淨液供給部（洗淨液供給部）30。 再者，如第1圖（a)、（b)所示般，在內方旋轉軸22 置有使頂出銷板20及內方旋轉軸22升降，而使配置於 方位置及下方位置之升降構件16(參照第1圖（b)之 號）。並且，升降構件16藉由使內方旋轉軸22升降， 頂出銷板20升降。 再者，如第2圖所示般，在保持板1之上方配置有 洗淨液供給至藉由保持板1被保持之晶圓W表面側的 面側洗淨液供給部65。 再者’洗淨液係指藥液或沖洗液之意。然後，就以 液而言’可以使用例如稀有氟酸、氨水過氧化氫混合溶 (S C 1)、鹽酸過氧化氫水溶液等（s C 2)。另外，沖洗液可 配 40 經 10 經 頂 銷 洗 側 設 上 箭 使 將 表 藥 液 以 -12 - 201001615 使用例如純水（DIW)等。 再者，自背面側洗淨液供給部3 0也供給由N2等所構 成之乾燥氣體，自表面側洗淨液供給部65也供給由 IPA(異丙醇）等所構成之乾燥液。 並且，如第2圖所示般，即使在頂出銷板20位於下 方位置之時，亦在頂出銷板20和保持板1之間設置有間 隙G。然後，從頂出銷板20和保持板1之間之間隙G， N2等之氣體自間隙G朝向上方被吹出（成爲被清洗）。 接著，針對由如此構成所形成之本實施型態之作用予 以敘述。 首先，藉由升降構件16，頂出銷板20被定位在上方 位置（晶圓搬運機械手臂交接晶圓W之位置）（上方定位工 程8 1)(參照第1圖（b)及第3圖）。更具體而言，藉由升降 構件1 6內方旋轉軸2 2被定位在上方位置，依此固定連結 於內方旋轉軸22之頂出銷板20被定位在上方位置。 接著，藉由頂出銷板20之頂出銷21，晶圓W自晶圓 搬運機械手臂（無圖式）接取晶圓W，藉由該頂出銷21支 撐晶圓W(支撐工程82)(參照第1圖（b)及第3圖）。 接著，藉由升降構件16，頂出銷板20被定位在下方 位置（藉由洗淨液處理晶圓 W之位置）（下方定位工程 8 3 )(參照第1圖（a)及第3圖）。更具體而言，藉由升降構 件16內方旋轉軸22被定位在下方位置，依此固定連結於 內方旋轉軸22之頂出銷板20被定位在下方位置。 於如此頂出銷板20被定位於下方位置之時，藉由保 -13- 201001615 持板丨之保持構件60，保持晶圓W(保持工程）（參照第2 圖）。 接著，藉由外方旋轉驅動部40使得外方旋轉軸2被 旋轉驅動，依此在保持板1被保持之晶圓w旋轉（外方旋 轉工程）（參照第1圖（a))。如此保持板1開始被旋轉驅動 之後（或者同時），藉由內方旋轉驅動部1 〇內方旋轉軸22 被旋轉驅動，依此頂出銷板20則旋轉（內方旋轉工程）（參 照第1圖（a))。 此時，藉由自馬達41經驅動皮帶43而對帶輪42賦 予驅動力，外方旋轉軸2被旋轉驅動，再者，藉由自馬達 1 1經驅動皮帶1 3而對帶輪1 2賦予驅動力，內方旋轉軸 22被旋轉驅動。 如此一來，被保持板1保持之晶圓W和頂出銷板2 0 旋轉之期間執行以下之工程。 首先，藉由表面側洗淨液供給部65和背面側洗淨液 供給部30，對晶圓W供給藥液（藥液供給工程91)(參照第 2圖及第3圖）。即是，藉由表面側洗淨液供給部65對晶 圓W表面供給藥液，並且藉由背面側洗淨液供給部3 0對 晶圓W背面供給藥液。 此時，以藥液不從頂出銷板20和保持板1之間之間 隙G進入至外方旋轉軸2之中空內之方式，使N2等之氣 體自間隙G朝向上方被吹出（被清洗）（參照第2圖）。並 且’即使在後述沖洗工程92或乾燥工程93中也相同’ N2 等之氣體從頂出銷板20和保持板1之間之間隙G朝向上 -14- 201001615 方吹出，防止沖洗液或乾燥液進入至外方旋轉軸2之中空 內。 接著，藉由表面側洗淨液供給部65和背面側洗淨液 供給部30，對晶圓W供給沖洗液（沖洗工程92)(參照第2 圖及第3圖）。即是，藉由表面側洗淨液供給部65對晶圓 W表面供給沖洗液，並且藉由背面側洗淨液供給部3 0對 晶圓W背面供給沖洗液。 在執行如此藥液供給工程9 1和沖洗工程92之期間， 不僅藉由外方旋轉驅動部40旋轉驅動外方旋轉軸2而使 晶圓W旋轉，也藉由內方旋轉驅動部10，旋轉驅動內方 旋轉軸22而使頂出銷板20旋轉。因此，可以防止爲了洗 淨晶圓W所使用之藥液或沖洗液等之洗淨液淤積在頂出 銷板20，及洗淨液殘留在頂出銷2 1。 即是，在頂出銷板20所接受到之藥液或沖洗液等之 洗淨液，由於頂出銷板20旋轉所產生之離心力，使其移 動至頂出銷板20之周緣外方。因此，因可以隨時自頂出 銷板20以及頂出銷21除去用於洗淨晶圓W的洗淨液， 故可以防止洗淨液淤積在頂出銷板20，及洗淨液殘留在 頂出銷2 1。 並且，在本實施型態中，頂出銷板20之頂出銷21之 前端，和被保持板1所保持之晶圓W之下面之距離係頂 出銷板20位於下方位置之時，則爲5mm以下（參照第1 圖U)以及第2圖）。因此’藉由流到晶圓W下面之藥液或 沖洗液，可洗淨頂出銷2 1之前端。 -15- 201001615 其結果，可以防止如上述支撐工程82或後述搬出工 程96所示般，當頂出銷21之前端抵接於晶圓w之背面 時，附著於頂出銷2 1前端之髒污移至晶圓W背面。 如上述般，當結束沖洗工程92時，則執行乾燥工程 93 ° 即是，自表面側洗淨液供給部6 5供給由IP A (異丙醇） 等所構成之乾燥液，自背面側洗淨液供給部3 0供給由n2 等所構成之乾燥氣體。然後，此時也藉由自外方旋轉驅動 部40所施加之驅動力，頂出銷板20被旋轉。 因此，殘留在頂出銷板20及頂出銷21之洗淨液（尤 其，沖洗液）藉由頂出銷板20旋轉所產生之離心力，使其 移動至頂出銷板20之周緣外方。因此，可以確實防止頂 出銷板20及頂出銷2 1殘留洗淨液（尤其沖洗液）。 當結束如此乾燥工程93時，藉由頂出銷板20之頂出 銷2 1，晶圓W被抬起，而移動至晶圓搬運機械手臂（搬出 工程96)(參照第1圖（b)及第3圖）。在此，如上述般，因 在藥液供給工程91、沖洗工程92以及乾燥工程93之 間，頂出銷板20旋轉，故在頂出銷板20及頂出銷2 1不 會殘留洗淨液。 因此，藉由頂出銷板2 0之頂出銷2 1抬起晶圓W之 時，在晶圓W之背面不會附著淤積於頂出銷板2 0之洗淨 液的液滴及殘留於頂出銷2 1之洗淨液的液滴。 其結果，可以防止在液滴附著之晶圓 W本身形成水 印，並且也可以防止在被收容於已載入晶圓W之載體（無 -16 - 201001615 圖示）內的其他晶圓W形成水印。 並且，若藉由本實施型態時，因在頂出銷板20和保 持板1之間設置有間隙G，故可以使依據外方旋轉驅動部 40所產生知外方旋轉軸2之旋轉速度，成爲和依據內方 旋轉驅動部10所產生之內方旋轉軸22之旋轉速度不同之 速度。因此，爲了更確實去除頂出銷板20上之洗淨液， 可以使頂出銷板20之旋轉速度較保持板1之旋轉速度更 高速。即是，即使在欲以低速旋轉執行晶圓W表面之洗 淨之時，亦可以僅使保持板〗低速旋轉（例如，以1 OOrpm 旋轉），另外使頂出銷板20高速旋轉（例如，以lOOOrpm 旋轉）。因此，可以確實防止頂出銷板2 0淤積洗淨液，及 在頂出銷2 1殘留洗淨液之情形。 但是，在上述中，使用在頂出銷板2〇和保持板1之 間設置間隙G之態樣而予以說明。但是，並不限定於 此，如第4圖所示般，即使在頂出銷板20和保持板1之 間不設置間隙G，設置由Ο型環等所構成之密封構件3 5 亦可。 並且，於在頂出銷板20和保持板1之間設置如此之 密封構件3 5之時，依據外方旋轉驅動部4 0所產生之外方 旋轉軸2之旋轉方向和依據內方旋轉驅動部1 〇所產生之 內方旋轉軸2 2之旋轉方向必須爲相同方向，並且依據外 方旋轉驅動部40所產生之外方旋轉軸2之旋轉速度和依 據內方旋轉驅動部〗〇所產生之內方旋轉軸22之旋轉速度 必須相同。 -17- 201001615 如此一來，藉由在頂出銷板20和保持板1之間設置 密封構件3 5，可以防止在上述藥液供給工程9 1、沖洗工 程9 2及乾燥工程9 3中，藥液、沖洗液、乾燥液等自頂出 銷板20和保持板1之間，進入至外方旋轉軸2之中空 內。 再者，在上述中，使用頂出銷板20之頂出銷21被配 置在保持板1之中心附近之態樣予以說明，但是並不限定 於此，如第5圖所示般’由頂出銷板20延伸至保持板1 之周緣附近的圓形形狀所構成’頂出銷板20之頂出銷21 即使被配置在保持板1之周緣附近亦可。 藉由如此在保持板1之周緣附近配置頂出銷21 ’可 以使用洗淨晶圓w之背面之後的洗淨液洗淨頂出銷2 1之 前端。因此，不僅可以確實防止當頂出銷21之前端抵接 於晶圓w之背面之時，附著於頂出銷21前端之髒污移至 晶圓W之背面，亦可以一邊將晶圓W之背面之洗淨液之 亂流抑制成較少，一邊洗淨頂出銷21之前端。 再者，在本實施型態中，關於上述液處理方法之各工 程的資訊被記憶在記憶媒體52(參照第1圖（a)(b)) °然 後，液處理裝置7 〇具備有受理記憶媒體5 2之電腦5 5 ’ 和接受來自該電腦5 5之訊號控制液處理裝置7 0之控制部 5 0。因此，藉由將該記憶媒體5 2插入至電腦5 5，可以藉 由控制部50使該液處理裝置70實行上述一連串之液處理 方法（參照第1圖（a)、（b))。 -18 - 201001615 【圖式簡單說明】 第1圖爲表示本發明之實施型態所涉及的液處理裝置 之驅動態樣之側方剖面圖。 第2圖爲表示本發明之實施型態所涉及的液處理裝置 之側方剖面圖。 第3圖爲表示本發明之實施型態所涉及之液處理裝置 之液處理方法的流程圖。 第4圖爲表示本發明之實施型態之另外型態所涉及之 液處理裝置之側方剖面圖。 第5圖爲表示本發明之實施型態之又另一型態所涉及 之液處理裝置之側方剖面圖。 【主要元件符號說明】 1 :保持板 2 :外方旋轉軸 1 〇 :內方旋轉軸 1 6 :升降構件 2〇 :頂出銷板 2 1 :頂出銷 22 :內方旋轉軸 3 〇 :背面側洗淨液供給部（洗淨液供給部） 3 5 :密封構件 4〇 :外方旋轉驅動部 5 〇 :控制部 -19- 201001615 52 :記憶媒體 5 5 :電腦 7 0 :液處理裝置 8 1 :上方定位工程 8 2 :支撐工程 8 3 :下方定位工程 9 1 :藥液供給工程 9 2 :沖洗工程 93 :乾燥工程 9 6 :搬出工程 W :晶圓（被檢查體）

Claims (1)

1. 201001615 七、申請專利範圍 1. 一種液處理裝置，其特徵爲：具備 保持被處理體，並且成爲中空之保持板； 固定連結於上述保持板，成爲中空之外方旋轉軸； 被配置在上述保持板之中空內，並且具有支撐上述被 處理體之頂出銷的頂出銷板； 在上述外方旋轉軸之中空內延長，被固定連結於上述 頂出銷板之內方旋轉軸； 被配置在上述內方旋轉軸之內部，將洗淨液供給至被 保持於上述保持板之上述被處理體之洗淨液供給部； 使上述頂出銷板升降，而使配置於上方位置及下方位 置之升降構件； 被連結於上述外方旋轉軸，將該外方旋轉軸予以旋轉 驅動之外方旋轉驅動部；和 被連結於上述內方旋轉軸，將該內方旋轉軸予以旋轉 ί 驅動之內方旋轉驅動部。 2. 如申請專利範圍第1項所記載之液處理裝置，其 中， 依據上述外方旋轉驅動部所產生的上述外方旋轉軸之 旋轉方向，與依據上述內方旋轉驅動部所產生的上述內方 旋轉軸之旋轉方向爲相同方向， 依據上述外方旋轉驅動部所產生的上述外方旋轉軸之 旋轉速度，與依據上述內方旋轉驅動部所產生的上述內方 旋轉軸之旋轉速度爲相同， -21 - 201001615 上述頂出銷板和上述保持板之間設置有密封構件。 3 .如申請專利範圍第1項所記載之液處理裝置’其 中， 於上述頂出銷板位於下方位置時’上述頂出銷板之上 述頂出銷之前端，和被保持於上述保持板之上述被處理體 之下端之距離爲5ram以下。 4.如申請專利範圍第3項所記載之液處理裝置’其 中， 上述頂出銷板之上述頂出銷係被配置在上述保持板之 周緣附近。 5 ·如申請專利範圍第1項所記載之液處理裝置，其 中， 藉由上述外方旋轉驅動部而被旋轉驅動之上述保持板 之旋轉速度，和藉由上述內方旋轉驅動部而被旋轉驅動之 上述頂出銷板之旋轉速度爲不同。 6 · —種液處理方法，屬於使用液處理裝置之液處理方 法，該液處理裝置具有： 成爲中空之保持板；被固定連結於該保持板，成爲中 空之外方旋轉軸；被配置在上述保持板之中空內，並且具 有頂出銷之頂出銷板；在上述外方旋轉軸之中空內延長， 被固定連結於上述頂出銷板之內方旋轉軸；被配置在上述 內方旋轉軸之內部之洗淨液供給部；使上述頂出銷板升 降’而配置在上方位置及下方位置之升降構件；被連結於 上述外方旋轉軸之外方旋轉驅動部；和被連結於上述內方 -22- 201001615 旋轉軸之內方旋轉驅動部，其特徵爲：具備有： 藉由上述升降構件，使上述頂出銷板定位於上方位置 之工程； 藉由上述頂出銷板之上述頂出銷，支撐上述被處理體 之工程； 藉由上述升降構件，使上述頂出銷板定位於下方位置 之工程； 藉由上述保持板，保持上述被處理體之工程； 藉由以上述外方旋轉驅動部旋轉驅動上述外方旋轉 軸，使在上述保持板所保持之上述被處理體旋轉之工程； 藉由以上述內方旋轉驅動部旋轉驅動上述內方旋轉 軸，使上述頂出銷板保持板旋轉之工程； 藉由上述洗淨液供給部，對上述被處理體供給藥液之 工程；和 藉由上述洗淨液供給部，對上述被處理體供給沖洗液 之工程。 7.如申請專利範圍第6項所記載之液處理方法，其 中， 在上述保持板所保持之上述被處理體之旋轉速度，和 上述頂出銷板之旋轉速度不同。 8 · —種記憶媒體，屬於儲存有用以使電腦實行液處理 方法之電腦程式的記憶媒體，其特徵爲： 該液處理方法係屬於使用液處理裝置的液處理方法， 該液處理裝置具有：成爲中空之保持板；被固定連結於該 -23- 201001615 保持板，成爲中空之外方旋轉軸；被配置在上述保持板之 中空內，並且具有頂出銷之頂出銷板；在上述外方旋轉軸 之中空內延長，被固定連結於上述頂出銷板之內方旋轉 軸；被配置在上述內方旋轉軸之內部之洗淨液供給部；使 上述頂出銷板升降，而使配置在上方位置及下方位置之升 降構件；被連結於上述外方旋轉軸之外方旋轉驅動部；和 被連結於上述內方旋轉軸之內方旋轉驅動部，具備： 藉由上述升降構件，使上述頂出銷板定位於上方位置 之工程； 藉由上述頂出銷板之上述頂出銷，支撐上述被處理體 之工程； 藉由上述升降構件，使上述頂出銷板定位於下方位置 之工程； 藉由上述保持板，保持上述被處理體之工程； 藉由以上述外方旋轉驅動部旋轉驅動上述外方旋轉 軸’使在上述保持板所保持之上述被處理體旋轉之工程； 藉由以上述內方旋轉驅動部旋轉驅動上述內方旋轉 軸，使上述頂出銷板保持板旋轉之工程； 藉由上述洗淨液供給部，對上述被處理體供給藥液之 工程；和 藉由上述洗淨液供給部，對上述被處理體供給清洗液 之工程。 -24-