TW200932206A - Anti-bacterial pyrocatechols and related methods - Google Patents

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Guo-Feng Xu
Ravi Subramanyam
Joe Vazquez
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Description

200932206 六、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明包括一種化合物或一種口腔護理組成物,其 包含結構(I)所表示之化合物:
OH
OH •R3
R (¾ 其中R3係選自氫原子及下式所示之結構:
其中m係為0至100之整數,R獨立選自具有1至50 5 200932206 個碳原子之第一烴結構且R1及R2係獨立選自氫原子及 具有1至10個碳原子之第二烴結構。亦揭示相關方法。 【先前技術】 5 有效且安全之抗菌劑對於個人護理工業極為重要, 尤其是口腔護理。許多疾患係與口腔中細菌之作用有 關。牙菌斑、齒齦炎、牙周病及齒垢係為數種已知與口 腔細菌有關之疾患。 為預防或治療此等疾患,經常在口腔護理組成物中 ❹10 摻入抗菌劑。根據記載,此等抗菌劑經常缺乏活性,例 如無法有效地減少細菌或細菌副產物,包括揮發性硫化 合物("VSC")。某些情況下,原本有效之用劑因為諸如有 效之溶解度及所致之生物可利用性、陽離子電荷(限制於 口腔護理產品中之用途)及較差之安全特性的因素而無 15 法調配。 【發明内容】 本發明包括一種化合物或一種口腔護理組成物,其 包含結構⑴所表示之化合物:
OH -R3 R2 20 200932206 其中R3係為氫原子或係由結構(II)表示:
QH ΌΗ R1
R R2 ❹ m (Π) 其中m係為0至100之整數,R獨立選自具有1至50個 碳原子之第一烴結構且R1及R2係獨立選自氫原子及具有 1至10個碳原子之第二烴結構。 亦包括使用結構(I)化合物之方法,包括減少基質上 qio 細菌群落之方法,此方法包含使該基質與結構(I)所表示 之化合物接觸。 或本發明包括一種保持及/或增進哺乳類全身健康 之方法,其包含使該哺乳類之口腔表面與包含結構(I)所 表示之化合物的組成物接觸。 發明之詳細說明 全文中所使用之範圍係用以描述在該範圍内之各個 及每一個值的簡寫。該範圍内之任一值皆可選擇作為範 15 200932206 圍終端。 本發明包括以下結構所表示之化合物(I):
OH
OH R3 R2
R R1 Ο) 其中R3係由結構(II)表示:
L 」m (Π) i〇 結構(I)中之符號” m”係表示整數0至100、1至20、1 至15或1、2、3、4、5、6、7、8、9或10° R可獨立表示 技術界已知或待發展之任何烴結構。R之烴結構可較佳 地具有1至50個碳原子、1至20個碳或1至10個碳原子。此 200932206 、, 外,若需要,R可為烷基、烷氧基、烯基、炔基及/或烷 基團。 化合物(I)包括R1及R2,其獨立表示氳原子或具有1 至10個碳原子之第二烴結構。R1及R2在各個化合物(1)單 5 體中可相同,或其可相異。R1及R2可獨立選自烷基、烷 氧基、烯基、炔基及/或烷基團。 任一R、R1、R2及R3之烴結構可獨立地為環結構、 鏈結構、線性結構、分支鏈結構或此等之組合。R、R1、 R2及R3及/或整體化合物(I)之任一碳原子内的任一碳原 10 子可獨立地經技術界已知之任一官能基取代或不經取 代。甲基、乙基、丁基、經基、炫•基及_素基團可為較 佳官能基。 本發明可包括結構(III)之化合物
其中R1及R2係獨立選自氫原子、烯基及烷基或具有 結構(IV): 200932206
OH OH
前述化合物可藉任何適當之路徑或方法合成或可自 ❹ 天然來源單離或純化。例如,本發明化合物可藉由母體 5 焦鄰苯二驗之簡單夫-夸(Friedel-Crafts)型酸化,接著還 原產生所需之最終產物來製備。 本發明包括一種口腔護理組成物,其含有至少一種 前式所示之化合物及適當之載劑。該載劑可包括口腔組 成物除活性劑以外之所有組份,諸如例如非活性成份, ίο 佐藥。該載劑可為或可包括水、甘油、鹽、聚乙二醇、 煙霧狀二氧化矽、聚合物、海洋膠體、丙烯酸酯聚合物 Q 膠、纖維素聚合物、殿粉、明膠、油、界面活性劑、在 暴露於口腔環境時溶解之材料、織物基質及纖維與其他 賦形劑。載劑可為凝膠、液體、膏劑、珠粒、口含片、 15 口香糖、嚼食點心(”橡皮糖")、發泡物及喷劑(經氣溶膠 化或非氣溶膠化)及固體。 本發明化合物(I)可於任何量下存在於口腔護理組成 物中。可期待其包含量以口腔護理組成物之總重計約 0.001重量%至約10重量%,例如0.01重量%至約5重量% 2〇 或約0.1重量%至約2重量%。有效量可視口腔組成物之形 200932206 ♦ 式:改變。例如,在牙膏、牙膠、漱Π水、口含片及牙 有效量可為至少約_重量%且/或至少約〇〇5重 若需要,本發明化合物或口驗絲練於且/或渗 5 ^ 口腔濩理器具,諸如纖維或棉絮、刷毛、舌頭及/ ^體組織清潔元件、護㈣及/絲正或伽器具 仵。 除抗g化合物财卜’ 口腔護雜成物巾可包括許多 ❹ 讀成份及功能性材料。該特料包括而不限於研磨 1〇劑、保濕劑、界面活性劑、抗牙結石劑、增稠劑、黏度 調節劑、抗齲齒劑、調味劑、著色劑、附加抗菌劑、抗 氧化劑、抗發炎組份等等。該等材料可根據已知方法添 加至膏劑、漱口水、口香糖、口含片、條狀及其他形式 之口腔護理組成物。 根據某些具體實施態樣,其中口腔護理組成物係為 固體或膏劑,口腔組成物包括牙醫學上可接受之研磨材 料,用以拋光牙齒琺瑯質或提供增白效果。非限制實例 包括二氧化矽研磨劑,諸如矽膠及沉澱二氧化矽。市售 具體實施態樣包括 J· M. Huber,Edison,N.J., United States of America所售之 ZEODENT®l 15,及 Davison Chemical Division of W.R. Grace & Co” New York, N.Y., United States of America 之 SYLODENT®XWA, SYLODENT® 783 或 SYLODENT® 650 XWA。其他適當 之潔牙研磨劑係包括而不限於偏磷酸鈉、偏磷酸鉀、磷 25 酸三鈣、二水合磷酸二鈣、矽酸鋁、鍛燒氧化鋁、膨潤 土或其他含矽材料或其組合物。 11 200932206 根據㈣具體實施態樣,D腔護雌錢包括 一種保=劑,可餘例如防止Μ在暴露於空 1 卜任何σ腔可接受之保濕劑皆可使用,包括而不㈣ ,諸如甘油、山梨糖醇、切醇及低分子量PEG、。 =:具體實施態樣中,-或多種保濕劑存在總量 重篁%至約70重量%,例如約!重量%至⑽重量%,約2 重罝%至約25重量%,或約5重量%至約15重量%。
10 15
20 ,口腔護理組成物亦可包括至少一種界面活性劑。某 些具體實施態樣巾’界©活性射提供較高之安定性了 經由清潔力幫助清潔牙齒表面且在攪動時(例如以本發 明潔牙組成物刷牙期間)提供泡沫。任何口腔可接受之^ 面>去性劑(大部分為陰離子性、非離子性或兩性)皆可使 用。適當之陰離子性界面活性劑包括而不限於硫酸ha 燒基酯、C8_2〇脂肪酸之績化單甘油酯、肌胺酸酯、牛續 酸酯及諸如此類者之水溶性鹽。此等及其他類型之說明 實例可包括硫酸月桂酯鈉、椰子磺酸單甘油酯鈉、肌胺 酸月桂酯鈉、羥乙磺酸月桂酯鈉、月桂醇聚醚羧酸鈉及 笨磺酸十二碳酯鈉。適當之非離子性界面活性劑可包括 而不限於泊洛沙姆(poloxamer)、聚環氧乙烷山梨醇軒 酯、脂肪醇乙氧化物、烷基酚乙氧化物、第三胺氧化物、 第三膦氧化物、二烷基亞颯及諸如此類者。適當之兩性 界面活性劑可包括而不限於具有陰離子基團(諸如綾酸 根、硫酸根、續酸根、磷酸根或膦酸根)之脂族第二 及第三胺。適當之實例有椰子醯胺丙基甜菜鹼。某些具 體實施態樣中,一或多種界面活性劑存在總量係約0.〇1 重量%至約10重量%;例如約0.0 5重量°/°至約5重量°/❶例如 12 25 200932206 或約0.1重量%至約2重量%。 另一具體實施態樣中,組成物包括口腔可接受之抗 Z、°石劑。各種具體實施態樣可存有一或多種該等用 " 適當之抗牙結石劑可包括而不限於磷酸鹽及聚磷酸 5 例如焦磷酸鹽)、多胺基丙烷磺酸(AMPS)、檸檬酸辞 Q物]多肽(諸如聚天冬胺酸及聚穀胺酸、聚烯烴磺 酉鹽、聚婦煙磷酸鹽、二膦酸鹽(諸如氮雜環烷-2,2-二膦 酸鹽(例如氮雜環庚烧_2,2_二膦酸)、Ν-曱基氮雜環戊烧 ❹ \,·一麟酸、乙烷-1-羥基-1,1-二膦酸(EHDP)及乙烷-1· 1〇 胺基-1,1-二膦酸鹽、膦醯基烷羧酸鹽及任一此等用劑之 鹽’例如驗金屬及銨鹽。適當之無機磷酸鹽及聚磷酸鹽 可包括例如鱗酸單鈉、二鈉及三鈉、三聚蛾酸鈉(STPP)、 四聚磷酸鹽、焦磷酸單鈉、二鈉、三鈉及四鈉、焦磷酸 二氫二鈉、三偏磷酸鈉、六偏磷酸鈉及諸如此類者,其 15 中在某些具體實施態樣中,納可視情況由鉀或敍所置換。 本發明口腔護理組成物可包括聚羧酸酯聚合物。聚 叛酸醋聚合物可括含有羧酸基之單體(諸如丙烯酸、曱基 丙烯酸及順丁烯二酸或酐)之聚合物或共聚物。非限制實 例可包括聚乙烯基曱基醚/順丁烯二酸酐(PVME/ΜΑ)共 20 聚物,諸如ISP,Wayne, N.J., United States of America商 標為GANTREZ®者。另外其他可使用之抗牙結石劑可包 括螯合劑,包括羥基羧酸,諸如檸檬酸、反丁烯二酸、 蘋果酸、戊二酸及草酸及其鹽,及胺基多羧酸,諸如伸 乙二胺四乙酸(EDTA)。 25 某些具體實施態樣中,本發明組成物包括至少一種 增稠劑。某些具體實施態樣中,增稠劑可賦予所需之稠 13 200932206 度及/或口腔護理組成物之口感。任何口腔可接受之增稠 劑皆可使用,包括而不限於卡波姆(carbomer),亦稱為羧 基乙烯基聚合物,紅藻膠,纖維素聚合物,諸如羥基乙 基纖維素、鲮基甲基纖維素(CMC)及其鹽,例如CMC鈉, 5 天然膠,諸如梧桐膠、黃原膠、阿拉伯膠及黃蓍樹膠, 膠態矽酸鎂鋁、膠態二氧化矽及諸如此類者。某些具體 實施態樣中,一或多種增稠劑存在總量係約〇〇1重量% 至約15重量% ;例如約01重量%至約1〇重量%例如或約 0.2重量%至約5重量%。 ❹ίο 根據某些具體實施態樣,口腔護理組成物包括至少 一種黏度調節劑。某些具體實施態樣中,黏度調節劑抑 制成份沉降或分離,或於攪動液體組成物時促進再分 散。任何口腔可接受之黏度調節劑皆可使用,包括而不 限於礦油、石蠟油、黏土及經有機修鈽之黏土、二氧化 15 矽及諸如此類者。某些具體實施態樣中,一或多種黏度 調節劑存在總量係約0.01重量%至約1〇重量% ;例如約 0.1重量%至約5重量%。 Ο 另—具體實施雜巾,組餘包括口腔可接受之氟 離子來源。某些具體實施態樣中,存在—或多種該等來 20 源。適當之氣離子來源包括氟化物、單襄填酸鹽及氟石夕 酸鹽及胺氟化物,包括奥拉氟(olaflur)(N,_十八碳基三亞 f基二胺-N,N,N’·三(2-乙醇)_二氫氟酸鹽)。任何口腔可 接叉之該種鹽皆適用,包括而不限於驗金屬(例如卸, 納)、銨、亞錫及銦鹽及諸如此類者。某些具體實施態樣 25 巾’使用水*性氟離子釋出鹽。根據某些具體實施態樣, -或多種氟離子釋出鹽係存在提供總共約刚ppm至約 200932206 20,000 ppm ;約 200 ppm至約 5,〇〇〇 ppm例如或約 500 ppm 至約2,500 ppm氟離子之量。某些具體實施態樣中,其中 氟化鈉是存在之唯一氟離子釋出鹽,口腔護理組成物包 括約0.01重量%至約5重量% ;約0.05重量%至約i重量% 5 例如或約〇.1重量%至約0.5重量%氟化鈉。 其他組份可包括而不限於調味劑、著色劑及其他活 性成份,諸如抗氧化劑及抗發炎劑。某些具體實施態樣 中’该等附加之組份係根據已知方法調配成口腔組成物。 0 本發明包括減少或防止細菌群落在基質上發展之方 10 法,包括革蘭氏陰性、革蘭氏陽性及/或兩者之混合物。 該方法包括使本發明任一化合物及/或組成物與所選擇 之基質接觸。接觸週期可短(數秒至數小時),或基質可 塗覆、滲透或添加本發明化合物或組成物。該基質可為 技術界中任一者,包括塑料、聚合物樹脂、薄膜、金屬、 15 纖維、織物、木材、紙、瓷器或陶瓷。基質可為任何欲 控制細菌群落之裴置、器具、裝備或儀器的所有或一部 分,包括例如,服裝諸如尿布、内衣、鞋、醫療裝置°、 手術器具、醫療植入物、辦公室用品、尿片袋、女性用 品、廁所零件、盤碟、餐飲器具、垃圾桶、管線、 2〇 電話聽筒、電腦鍵盤、攔杆、地板、手術室表面、硬表 面、寵物用品諸如攜帶器、玩具及便盤;浴室及廚房表 面、牆壁、貨幣、實驗室設備及/或眼部及牙科裝置、器 具、植入物及工具諸如隱形眼鏡、假牙及眼鏡;及表皮 及上皮表面。在口腔環境中,基質可為表層、琺 25 或口腔上皮。 本發明亦包括保持且/或促進哺乳類之全身健康的 15 200932206 r 方法°亥等方去係包括使口腔表面(諸如牙質、琺瑯質、 牙銀上皮表層表面)與本發明組成物或化合物(I)接觸。 【實施方式】 實施例1 。製水,其中所選擇之化合物⑴(其中 Γ 基’且係為氫原子)係溶於乙醇 中隨後下表1所示般地調配。 實施例2
根據下表1所示之财製備實施例1配方的配合安慰 劑。 。 表1 :實施娜漱ϋ調配物
PEG-40山梨酐^踌栺酸西旨 0.125 0.125 ❹ 調味劑 0.080 0.080 糖精納 0.010 0.010 染料,1%溶液 0.0001 0.0001 化合物⑴ 0.05% 0.05% 總量 100% 100% 使用實施例1及2之調配物進行臭味減輕能力的體外 評估。調配物各施以含有VSC之口腔環境。含有〇.03% 16 15 200932206 TCN之漱口水亦施加含vsc之口腔環境β 針對每一調配物測量在口腔環境申減少VSC的百分 比。此情況下,預期因優異之抗菌活性而減低臭味,尤 其是對抗革蘭氏陰性細菌,諸如笨所周知於含硫胺基酸 5 存在下產生VSC的核梭桿菌(F. nucleatum)及產黑色素普 雷沃菌(P. melangenica)。實施例1調配物證實對所產生之 口臭程度有極大影響。 ❹ 17

Claims (1)

  1. 200932206 七、甲請專利範圍·· 1. 一種結構(I)所表示之化合物:
    m 其中m係為0至100之整數,R獨立選自具有1至50個碳原 子之第一烴結構且R1及R2係獨立選自氫原子及具有1至 10個碳原子之第二烴結構。 2. —種口腔護理組成物,其包含結構(I)所表示之化合物: 〇
    其中R3係選自氳原子及下式所示之結構: 18 200932206 OH
    其中m係為0至100之整數,R獨立選自具有1至50個碳原 子之第一烴結構且R1及R2係獨立選自氫原子及具有1至 5 10個碳原子之第二烴結構;及載劑。 3. 如申請專利範圍第2項之組成物,其中m係為0至50之整 數。 4. 如申請專利範圍第2項之組成物,其中m係為1至20之整 數。 I 10 5.如申請專利範圍第2項之組成物,其中m係為1至15之整 數。 6. 如申請專利範圍第2項之組成物,其中m係選自1、2、3、 4、5及 6。 7. 如申請專利範圍第2項之組成物,其中第一烴結構及第二 15 烴結構中之一或兩者係獨立地為環結構。 8. 如申請專利範圍第2項之組成物,其中第一烴結構及第二 烴結構中之一或兩者係獨立地為鏈結構。 200932206 9. 如申請專利範圍第8項之組成物,其中該烴鍵係獨立地為 分支鍵。 10. 如申請專利範圍第2項之組成物’其中該第—烴結構係獨 立選自烷基、烷氧基、烯基及炔基及烷基團。 5丨1·如申請專利範圍第2項之組成物’其中R係獨立地為具有工 至20個碳原子之烴結構。 12.如申請專利範圍第2項之組成物,其中R係獨立地為具有1 至10個碳原子之烴結構。 〇 13.如申請專利範圍第2項之組成物,其中R1及R2係獨立選自 10 經取代或未經取代之甲基、經取代或未經取代之乙基及 經取代或未經取代之丁基。 14.如申請專利範圍第2項之組成物,其中化合物(1)存在量係 約ο.ύοι%至約1〇重量%。 15·如申請專利範圍第2項之組成物,其中化合物(I)存在量係 15 約〇.〇1至約5重量%。 16·如申請專利範圍第2項之組成物,其中化合物(I)存在量係 ® 約0.1%至約2重量%。 17. 如申清專利範圍第2項之口腔護理組成物,其進一步包含 選自凝膠、液體、粉劑、與口腔環境接觸時溶解之材料、 20 織物’基質、纖維及膏劑之口腔可接受之載劑。 18. 如申請專利範圍第3項之組成物,其進一步包含選自聚乙 烯基曱基醚與順丁烯二酸酐之共聚物、丙二醇、聚乙二 醇、曱殼素、聚乙烯基膦酸之聚合物/共聚物的用劑。 19·如申請專利範圍第2項之口腔護理組成物,其係為膏狀、 20 200932206 凝膠、口含片、液體、口香糖、橡皮糖及喷劑形式。 20. —種減少基質上之菌群的方法,其包含使該基質與結構 (I)所表示之化合物接觸: OH •R3
    R 其中R3係選自氫原子及下式所示之結構:
    I— m ⑼ ίο 其中m係為0至100之整數,R獨立選自具有1至50個碳原 子之第一烴結構且R1及R2係獨立選自氫原子及具有1至 10個碳原子之第二烴結構。 21 200932206 · 21. 如申請專利範圍第19項之方法,其_ m係為1至15之整 數。 22. 如申請專利範圍第19項之方法,其中該第—烴結構係獨 立選自炫基、燒氧基、稀基及炔基及燒基團。 5 23.如申請專利範圍第19項之方法,其中R1及R2係獨立選自 經取代或未經取代之甲基、經取代或未經取代之乙基及 經取代或未經取代之丁基。 24.如申a青專利範圍第19項之方法’其中5亥基質係選自表 〇 層、琺螂質及口腔上皮。 10 25.如申請專利範圍第19項之方法,該基質係為口腔之表面。 200932206 四、指定代表圖; (一) 本案指定代表圈為:第(無)圖。 (二) 本代表圖之元件符號簡單說明: 無 五、本索若有化學式時,讀揭示最.能顯示發明特徵的化學式:
    4
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