TW200915016A - Maskless exposure device - Google Patents

Description

200915016 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種不使用光罩而使圖案曝光於曝光基 板之無光罩曝光裝置。 【先前技術】 為於印刷基板形成配線圖案等，以往，將圖案預先形 成2光罩，再使用光罩曝光機使該光罩圖案投影曝光，藉 由搶合或近接方式曝光使圖案曝光於曝光基板。近年來， 開發了不使用光罩而直接曝光於曝光基板之技術，並開始 產業上之應用(專利文獻υ。此外’藉由此種無光罩曝光裝 置，例如，能製作圖案寬度為20心之印刷基板。 (專利文獻1)曰本特開2004-39871號公報 【發明内容】 為進-步提昇電子零件等之構裝密度，期望將圖案寬 度變細至⑺一下。然而’使1〇…下之圖案曝光時， 由於焦點深度之寬度㈣，若曝光基板有彎曲或厚度不均 勻’則不易使圖案之寬度均—。 本發明之目的在於提供能解決該課題，且即使工件有 彎曲或厚度不均勾日夺，亦能使均一寬度之圖案曝光於工件 之表面的無光罩曝光裝置。 為解決該課題，本發明之無光罩曝光裝置，係由輸出 曝光用照明光之曝光光源、2維空間調變器、第i投影透鏡、 微透鏡陣列、第2投影透鏡、及保㈣光基板並移動於與 該第2投影透鏡之光軸正交之方向之載台構成，其特徵在 200915016

1與第 1與第2的2 面相對於板厚方向之另一面成角度

於：設置板厚方向之一 影透鏡之成像面定位於該曝光基板之表面。 即使工件有弯曲或厚度不均勻，亦能使均一寬度之圖 案曝光於工件之表面。 【實施方式】 以下，詳細說明本發明。 [實施例1 ] 圖1係本發明之第1無光罩曝光裝置的構成圖。 由7個光軸構成之曝光照明系統1丨〜；[7係大致相同構 造。此外，為避免圖式繁雜，在同圖7個光軸系統中，雖 僅對容易表示的部分顯示號碼或訊號線（虛線），但全部的光 軸同樣皆有號碼或訊號線。以下，說明曝光照明系統丨i〜 1 7中之曝光照明系統1 7。 自曝光照明系統17射出之曝光用照明光係藉由返折鏡 27照射於上方之2維空間調變器37。此處，作為2維空間 調變器，使用數位微鏡元件（以下’稱為「DMD」>37。 200915016 於DMD37,在xy面内將多數可動微反射鏡配置成矩陣 狀。自控制裝置9傳送ΟΝ/OFF訊號至各微反射鏡時，接受 ON訊號之微反射鏡即傾斜一定角度，使入射之曝光用照明 光反射並射入第1投影透鏡47。又，〇FF狀態之微反射鏡 所反射之曝光用照明光不射入第1投影透鏡47，無助於曝 光。透射過投影透鏡47之曝光用照明光係射入微透鏡陣列 57。於形成DMD37之微反射鏡之放大像（或縮小像）之微透 鏡陣列57之位置分別配置微透鏡。

配置於微透鏡陣列57之各微透鏡係焦點距離為心之凸 透鏡，與各微透鏡大致垂直射入之曝光用照明光（來自〇N 狀態之微反射鏡之曝光用照明光）係自各微透鏡於大致心 之位置形成微小光點。 一此外，亦可於此光點形成位置配置具有大致與光點直 徑相同孔徑之針孔陣列。藉由配置針孔陣列，能遮擔多餘（不 需要）光。 於微透鏡下方fM位置產生之光點圖案射入 =自：投影透鏡67射出之曝光用照明光透射過由: 曝光美板8^型玻璃727構成之楔型玻璃單元GU7,於 + 土，上形成倍率M之光點圖案排列像。 接著，說明楔型玻璃單元gU7。 圖2係楔型破璃單元Gu7之主 從圖2之箭號K方向的視圖。。刀體圖，圖3係 楔型玻璃717，係板厚方向 向之另一面由备你 相對於板厚方 成角度Θ的傾斜面。又，楔型破璃727, 7 200915016 係板厚方向之一面727b相對於板厚方向之另一面727a成角 度θ的傾斜面。又，面717a係垂直配置於第2投影透鏡67 之光軸。此外，組合並配置楔型玻璃727，以使面727b相 對於面71 7b成為距離（間隔）占。此外，於此實施形態，楔 型玻璃727與楔型玻璃717ixy方向的大小皆相同，如圖 3所示，自z方向觀察，兩者完全重疊時（以下，將此時兩 者之位置稱為「楔型玻璃之基準位置」）之面717a至面 為止的距離為卜以下，將距離（稱為楔型玻璃之「總厚度」。 於基準位置之總厚度t設定為4〜7mm。又，距離係0.01 〜〇.3mm間之一定值。此外’雖可使距離占之最小值小於 0.01mm，但考慮後述之移動機構的製作容易度，在實用性 上，將距離5之最小值設為〇_〇5mm程度。又，將距離占之 最大值設為0.3mm，係因距離5若超出〇 3mm則像差會變 大。 省略圖示之移動機構，係使楔型玻璃727(或楔型玻璃 717之任一個）沿著面727b(嚴密地說，沿著與斜面之法線正 交且與斜面平行之向量方向）移動。該移動機構，係以控制 電路9控制。 當使楔型玻璃727沿著該斜面往y方向移動+ Ay時， 與杈影透鏡2之光轴平行方向之玻璃的總厚度變化△丨，可 以下列式1來表示。 △ t= -Ay · tan<9 •••(Si) 此處，設楔型玻璃717、727之折射率為n。如此，因 總厚度產生Δί變化’帛2投影透鏡727之焦點位置之變化 200915016 ϊΔζ’可以下列式2表示（又，上方為正）。 Δζ= -At · (n-l)/n = Z\y . tan θ . (n-l)/n ....(式 2) 亦即，楔型玻璃單元GU7係對焦裝置。 因此，曝光基板8上之光阻面或載有光阻之面的高度 h(x，y)已預先測定時，能以以下方式將光點之像定位於光阻 面上。亦即，預先將高度h(x，y)之資料輸入控制電路9,且 預先將楔型玻璃7!7、727配置於基準位置，使第2投影透 鏡67之成像面與曝光基板8之設計表面高度一致。接著， 根據儲存於控制電路9之資料求出投影透鏡所曝光區域之 平均高度hm，使楔型玻璃72移動，以使式2 2Δζ為 吣之高度（△Fhd，並進行曝光。以此方式能進行優良精度 之曝光。 習知無光罩曝光裝置，係假設曝光基板之表面平坦， 並將第2投影透鏡61〜67定位於z方向，以使第2投影透 鏡61〜67之成像面與假設之曝光基板之表面一致。 然而，例如多層印刷基板之情形，不僅板厚隨部位而 不同，且由於伴隨基板之積層化之基板面的彎曲或扭曲 等’幾乎沒有曝光面為平坦之情形。因此，例如，難以使 圖案之寬度均一。 其次’ δ兑明即使曝光基板之表面有凹凸或彎曲之情 形’亦可進行優良精度之曝光之無光罩曝光裝置。 此外，楔型玻璃單元GU7亦可配置於第2投影透鏡67 之入口侧（亦即’微透鏡陣列57與第2投影透鏡67間 200915016 [實施例2] 圖4係本發明之無光罩曝光裝置的構成圖，與圖1相 同的元件附有相同符號，以省略重複說明。又，圖5係高 度檢測器之構成圖。 配置於載台80上方之第2投影透鏡群（第2投影透鏡 61 67)之y方向之一側（圖示之情形為前侧），設有於X方 向排列配置多數尚度檢測器6〇〇之多重高度檢測器6〇〇u。 各局度檢測器600 ’係用以檢測曝光基板8之光阻表面或光 阻下之曝光基板本身之表面高度。 其次，說明高度檢測器6〇〇之構造。 如圖5所示’咼度檢測器6〇〇係由發光體6〇丨、透鏡 602、透鏡603、位置感測器6〇4構成。發光體6〇1，係發 光一極體（LED)或輸出不使光阻感光之紅光之半導體雷射 (LD)。透鏡602，將自發光體601射出之光聚光於曝光基板 8之表面。透鏡603,將基板表面所反射之光聚光，並成像 於位置感測器604上以作為基板之反射部。 由以上之構成’曝光基板8之高度與設定於加工程式 之高度（實際測量曝光基板8之複數處高度所獲得之平均高 度或設計上高度。以下’稱為「設定高度」）不同時，位置 感測器上之成像位置隨自設定高度偏移之大小而變化。因 此’藉由讀取此變化量，能檢測出實際曝光基板8之高度。 其次，說明此實施形態之動作。 使裝載曝光基板8之載台80依照感光材料之感度，以 一定速度v於y方向自圖4之前側往内側移動。各高度檢 200915016 測器600 ,於各固定時間檢測曝光基板8之表面高度。所檢 測出之表面尚度與曝光基板8之位置資訊（測定處之xy座標 值）同時儲存於控制電路9之記憶部。檢測出高度的部位， 當以速度v經過既定時間，即到達曝光位置87(與dmd37 相似之矩形）。控制電路9，自記憶部讀取到達曝光位置87 之曝光基板8之表面高度，並根據此資訊使楔型玻璃727 於y方向移動，使第2投影透鏡67之成像面與曝光基板8 之表面一致。 圖6係曝光基板8之截面圖，係以示意方式表示將曝 光基板8於X方向剖開時之表面附近的圖。 δ亥圖中，曝光基板8之表面以實線表示。又，面川〇(冗 ex〇)為設定高度。如該圖所示，曝光位置87内之高度隨部 位而分別不同。此處，由於檢測器6〇〇配置於各曝光位置 之兩端，因此’將虛線所示之第2投影透鏡之成像面定位 於各曝光位置之兩端高度的平均值。&外，藉縮小檢測器

6〇〇之配置間隔，能縮小實際曝光基板8之表面與 之成像面之差值的偏差。 透鏡 又’在此雖已說明x方向之截面，但於y方向亦相同。 是以，例如，設曝光位置87之丫方向之長度為yi、x方向 :長度為XI時，實際上為將第2投影透鏡之成像面的言 又"又為與區域yl χ χ1内所測定之高度的平均值— 此外，其他曝光位置81〜86亦相同。 。 基板此實施形態’由於曝光時同時進行曝光 面同度之測量與成像面高度方向之位置調整，因 200915016 此，能於曝光基板之全面使成像面大致對齊於曝光基板之 表面。其結果，圖案寬度成為均一。 其次，說明進一步提昇檢測器6〇〇之曝光基板表面之 高度檢測精度的方法。 將自圖5说明之發光體6〇7所輸出之測定光作為p偏 振，並將主光線B11之入射角作為配置於曝光基板8之表 面之感光層之折射率所決^之布魯斯特角⑺謂加叫⑷ ΘΒ入射。以此方式’如圖7所示’全部之入射光通過感光 層8U亦即，在感光層纟面未被反射），到達底層之基板面。 又，被底層之基板面反射並回到上方之光，幾乎保持1>偏 振之狀態，不被感光層之表面反射而回到上方，作為檢測 光Dl 1自感光層射出並射入位置感測器6〇4。亦即，以圖中 虛線表示之檢測時感光層表面所反射之成為雜訊之雜訊光 Dlin成為〇。且，射入位置感測器6()4之入射光幾乎不衰 減。是以，能進行優良精度之檢測（測定）。 又，由於將檢測器所測定之結果儲存於控制電路 :’因此’例如即使有如超出第2投影光學系統之焦點深度 之考曲的情形，亦能容易特定出有彎 男零曲的位置。是以，能 1先，示此種基板上之位置，或警告表示曝光後該部分成 …不良品之南危險性，並作為資料储存。 【圖式簡單說明】 圖1係本發明實施例1之無光罩曝光裝置的構成圖。 圖2係本發明之楔型玻璃單元的主要部分立體圖。 圖3係從圖2之箭號K方向觀察的圖。 12 200915016 圖4係本發明實施例2之無光罩曝光裝置的構成圖。 圖5係局度檢測的構成圖。 圖6係曝光基板的截面圖。 圖7係本發明之測量光的說明圖。 【主要元件符號說明】 8 曝光基板 67 第2投影透鏡 717 第1楔型玻璃 727 第2楔型玻璃 717u 第1楔型玻璃之面 727u 第2楔型玻璃之面 Θ 楔型玻璃717、727之傾斜面的角度 5 面717u及面727u之距離

K 13

Claims (1)

1. 200915016 十、申請專利範圍： 光屌？：無光罩曝光裝置，係由輪出曝光用照明光之曝光 / 隹空間調變器、第1投影透鏡、微透鏡陣列、第2 =和透鏡及保持曝光基板並移動於與該第2投影透鏡之 先軸正交之方向之載台構成，其特徵在於： 设置板厚方向之一面相對於板厚方向之另一面成角度 之傾斜面之第i與第2的2個楔型玻璃、及使該楔型玻 璃之至少1個移動的移動手段； 將該第1楱型玻璃之該另一面配置成垂直於該第2投 。透鏡之光軸，並組合該第2楔型玻璃之該一面，使其與 义第1铋型玻璃之§亥一面之距離成為預定值，配置於該第2 才又影透鏡之入射侧或出射側； 當該第2投影透鏡之該光軸方向之成像位置自該曝光 基板之表面偏移時，藉由該移動手段使該楔型玻璃之任意 個移動於該角度0方向並保持該距離為一定，以將該第2 投影透鏡之成像面定位於該曝光基板之表面。 2. 如申請專利範圍第丨項之無光罩曝光裝置，其具備測 疋该曝光基板之表面高度之測定手段； 在曝光前測定該曝光基板之表面高度。 3. 如申請專利範圍第2項之無光罩曝光裝置，其中，該 測定手段具備輸出不使該曝光基板上之感光層感光之測定 光的光源、接受被該曝光基板反射之該測定光的受光手 段、及根據受光手段受光之位置運算反射部之高度的位置 感測器； 14 200915016 該光源，以該感光層之折射率所決定之布魯斯特角， 將p偏振之該測定光照射於該感光層。 十一、圖式： 如次頁 15