TW200906874A - Novel fluorine-containing compound, fluorine-containing polymer, and method for producing the compound - Google Patents

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Description

200906874 九、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於新穎含氟化合物、含氟聚合物、及其製 造方法。 【先前技術】 於主鏈含有具有含氟脂肪族環結構之重複單位的含氟 聚合物,其光學特性(透明性、耐久耐光性等)、撥水撥油 性等之物性優良。 作爲形成前述重複單位之環化聚合性化合物,已知有 CF2 = CFOCF2CF2CF = CF2等聚氟烯基乙烯醚(參照專利文 獻1等)。 又,於主鏈具有含氟脂肪族環結構,且含有具有官能 基之重複單位的含氟聚合物爲,不僅具有優良的前述物 性,亦可表現來自前述官能基之物性,可發展至種種用途 上(微影術用光阻材料等,參考專利文獻2等)。 作爲形成前述重複單位之環化聚合性化合物,於專利 文獻2中記載具有官能基之氟烷二烯類 (CF2= CFCF2C(CF3)(OH)CH2CH= CH2 等)。 又,作爲具有羧基之類似基的氟烷二烯,於專利文獻 3中記載 1,1,2-三氟-4-烷氧基羰基-1,6-庚二烯(〇?2 = cfch2ch(c(o)oc(ch3)3)ch2ch= CH2 等)。 [專利文獻1]特開平01-13 1215號公報 [專利文獻2]國際公開第02/ 064648號手冊 200906874 [專利文獻3]特開2005-298707號公報 【發明內容】 具有官能基之氟院二嫌類爲配合該聚合物之用途而具 有種種結構之化合物。然而,實際上,大多情況爲難以得 到原料化合物,故不容易得到該化合物。 又’對於具有羧基之類似基的氟脂肪脂二烯烴,僅知 道於專利文獻3中記載的上述化合物,對於其他化合物無 未知。 本發明係爲解決上述問題所得者,提供1,1,2,3,3·五 氟-4-烷氧基羰基-1,6-庚二烯等具有新穎羧基或該類似基 之氟烷二烯、其聚合物、及其製造方法。 即,本發明具有下述要旨。 < 1 > 下式(1)所示化合物。 CF =CFCF C(X) (C(O)OZ) (CH ) CR=CHR (1) 2 2 2 n / 式中符號表示下述意思。 x:氫原子、氰基或式-c(o)oz所示基。 z:氫原子或碳數1〜20的1價有機基。 η : 0、1 或 2。
R:氫原子或碳數1〜20的1價有機基,其中2個R 可相同或相異。 < 2> 下式(11)所示化合物。 200906874 CF = CFCF CH (C (Ο) OZ1) CH CH=CH (11) 2 2 2 2 式中符號表示下述意思。 z1 :氫原子、式-(^(Y1)]所示基、式-ch2oy2所示 基、或下式所示基。
Y1及Y2:各獨立爲氬原子、或碳數丨〜19的1價飽 和烴基。 Y3:氫原子或碳數1〜16的1價飽和烴基。 Q3:與式中碳原子共同形成2價環式烴基之碳數3〜 1 9的基。 但,1價飽和烴基時的y1、Y2及Y3、以及Q3中的碳 原子-碳原子間可插入式所不基、式-c(〇)_所不基、或 式- C(〇)〇-所示基。又,Y1、Y2、Y3及Q3中的碳原子上 可結合氟原子、羥基、或羧基。 < 3 > 下式(1 1 1)所示化合物。 CF =CFCF CH(C(〇)OZn)CH CH = CH (ill) 2 2 2 2 200906874 式中符號表示下述意思。 Z11 :氫原子、式- C(YU)3所不基、式_CH2OY2丨所示 基、或下式所示基。 [化2] Y11 :碳數1〜6的1價飽和烴基。 Y21:碳數1〜12的1價飽和烴基或碳數2〜 1 2之含 有式·〇-所示基的1價飽和烴基。 Y31 :氫原子、或碳數1〜6的1價飽和烴基。 Q31:碳數4〜12的2價飽和烴基、碳數4〜 i2的2 價含氟飽和烴基、或碳原子-碳原子間插入式-〇_所示基 式- C(〇) -所不基或式- C(0)0 -所不基之碳數4〜12 λ ^ 1 ζ的 2價 飽和烴基。 < 4 > 下式(1 1 1 1 )所示化合物。 CF=CFCF2CH (C (Ο) ΟΖ-) CH CH=CH (l 111) 式中符號表示下述意思。 Z111 :具有1個以上的式-C(CF3)2〇H所示基之碳數 〜20的1價有機基。 < 5 > 下式(1 2)所示化合物。 200906874 CF2=CFCF ¢:((3(0)0/) (^ CH = CH (12) Δ 2 2 2 式中符號表示下述意思。 Ζ :氫原子、式所示基、式_ch2〇Y2所示 基、或下式所示基。 [化3]
Y及丫2:各獨立爲氫原子、或碳數1〜丨9的1價飽 和烴基。 γ :氫原子或碳數1〜1 6的1價飽和烴基。 Q3:與式中碳原子共同形成2價環式烴基之碳數3〜 1 9的基。 但’ 1價飽和烴基時,Υ 1、Υ 2及Υ 3、以及Q 3中的碳 原子-碳原子間可插入式-〇-所示基、式_c(0)_所示基、或 式- C(〇)〇-所示基。又,γΐ' γ2、γ3及Q3中之碳原子上 可結合氟原子、羥基 '或羧基。 < 6 > 下式(1 2 1 )所示化合物。 CF2=CFCF2C(C ⑼ OZ'CH CH=CH (121) 2 2 2 200906874 式中符號表示下述意思。 z":氫原子、式- C(Y")3所示基、式- CH2OY21所示 基、或下式所示基。
γ11 :碳數1〜6的1價飽和烴基。 Y21:碳數1〜12的1價飽和烴基或碳數2〜12之含 有式-0-所示基的1價飽和烴基。 Y31:氫原子、或碳數1〜6的飽和烴基。 Q31 ·_碳數4〜12的2價飽和烴基、碳數4〜12的2 價含氟飽和烴基、或碳原子-碳原子間插入式-〇_所示基、 式- C(O) -所示基或式- C(0)0_所示基之碳數4〜12的2價 飽和烴基。 < 7> 使下式(p5)所示化合物與下式(p4)所示化合物 進行反應得到下式(p 3 )所示化合物,再將該化合物與下式 (p2)所示化合物進行反應之下式(pi 2)所示化合物的製造方 法。 CH (C(0)0ZP) (p5) 2 2 CHR=CR(CH) -GP (p4) 2 n CH(C(0)0ZP) ((CH ) CR=CHR) (p3) 2 . 2 n CF =CFCF -JP (p2) 2 2 CF =CFCF C(C(0)0ZP) (CH ) CR=CHR (pl2) 2 2 2 2 n -10- 200906874 式中符號表示下述意思。
Zp :碳數1〜20的i價有機基。 R.氫原子或碳數1〜2〇的1價有機基,2個R可相 同或相異。 η : 0、1 或 2。
Gp:氯原子、溴原子或碘原子。 JP:氯原子、溴原子、碘原子或式_os〇2_lp所示基。 LP:氟原子、碳數1〜10的烴基或碳數1〜1〇的含氟 烴基。 < 8 > 使下式(P 1 2)所示化合物進行水解反應之下式 (12H)所示化合物的製造方法。 CF=CFCF2C(C(0)0ZP)2(CH)nCR=CHR (pl2) CF2=CFCF2C (C (O) OH) 2 (CH2) nCR = CHR (12H) 式中符號表示下述意思。 zp :碳數1〜20的1價有機基。 R:氫原子或碳數1〜20的1價有機基,其中2個R 可相同或相異。 η : 0、1 或 2。 < 9> 使下式(12Η)所示化合物進行脫碳酸反應之下 式(1 1 Η)所示化合物的製造方法。 -11 - 200906874 CF =CFCF C(C(0)0H) (CH ) CR=CHR (12H) 2 2. 2 2 n CF =CFCF CH(C(0)0H) (CH ) CR=CHR (11H) 2 2 2 n 式中符號表示下述意思。 R:氫原子或碳數1〜20的1價有機基,其中2個R 可相同或相異。 η : 0、1 或 2。 < 1〇> 使下式(12Η)所示化合物與下式(w)所示化合 广... 物進行反應之下式(1 2 W)所示化合物的製造方法。 CF =CFCF C(C(0)0H) (CH ) CR = CHR (12H) 2 2 2 2 η CH =CWP (w) 2 2 CF =CFCF C(C(0)0C(CH )WP ) (CH ) CR=CHR (12W) 2 2 3 2 2 2 n 式中符號表示下述意思。 R:氫原子或碳數1〜20的1價有機基,其中2個R 可相同或相異。 η : 0、1 或 2。 wp:各獨立爲氫原子或碳數1〜20的1價飽和烴 基、或2個Wp與式中碳原子共同形成碳數3〜20的2價 環式烴基之基。 < 1 1 > 使下式(1 1 Η)所示化合物與下式(w)所示化合 物進行反應之下式(U W)所示化合物的製造方法。 -12- 200906874 CF =CFCF CH(C(0)0H) (CH ) CR=CHR (11H) 2 2 2 n CH =CWP (w) 2 2 CF =CFCF CH(C(0)0C(CH )WP ) (CH ) CR=CHR (11W) 2 2 3 2 2 n 式中符號表示下述意思。
R:氫原子或碳數1〜20的1價有機基,其中2個R 可相同或相異。 η : 0、1 或 2。 wp:各獨立爲氫原子或碳數1〜20的1價飽和烴 基、或2個Wp與式中碳原子共同形成礦數3〜20的2價 環式煙基之基。 < 12 > 使式(1 )所示化合物進行聚合所得之聚合 物。 < 13 > 使下式(2)所示化合物進行聚合所得之聚合 物。 CF =CFCF CH(C(0)0Zin) (CH ) CR=CHR (2) 2 2 2 η 式中符號表示下述意思。 Ζ1 1 1 :具有1個以上的式- C(CF3)2OH所示基之碳數3 〜2 〇的1價有機基。 η · 0、1 或 2。
R:氫原子或碳數1〜20的1價有機基,其中2個R 珂相同或相異。 < 1 4 > 重量平均分子量爲1,000〜1,000,000之< 1 2 -13- 200906874 >或<13>所記載之聚合物。 本發明爲提供一種於主鏈具有含氟脂肪族環結構、且 形成具有羧基或其類似基之重複單位的環化聚合性之化合 物。本發明之聚合物因氟含有量較高,故撥水撥油性與光 學特性(透明性、耐久耐光性等。)特優。 實施發明的最佳形態 本說明書中,式(1)所示化合物以化合物(1)記載, 又’式所示基以-C^Y1);記載。其他化合物與其他 基亦以此爲準記載。 又’基中之符號’若無特別記載時與上述同義。 本發明爲提供下述化合物(1)。 CF =CFCF C(X) (C(O)OZ) (CH ) CR=CHR (l) 化合物(1)中之x爲氫原子、氰基或式_c(〇)〇Z。其中 作爲x’以氫原子或- c(o)oz爲佳。 化合物(1)中之Z爲氫原子或碳數1〜的1價有機 基。其中作爲z,Z1爲佳。該Z1爲氫原子、_C(Y1)3(以下 亦稱爲基(Y1)。)、_CH2〇Y2(以下,亦稱爲基(γ2)。)'或 下式所示基(以下亦稱爲基(Υ3)、_C(Y3)(= 。 -14- 200906874 [化5] t) 且作爲Z,Z11爲較佳。該z11爲氫原子、-C^Y11);、 -CH2〇Y21、或- C(Y3 1)(=Q31)。又作爲z具有1個以上的 式-C(CF3)2OH所示基(雙三氟甲基甲醇基)之基(Z111)爲 佳。 γ1、Y2及Y3皆非氫原子時,各獨立可爲非環式基, 亦爲含有環式基之基。非環式基可爲直鏈狀基或亦可爲支 鏈狀基。含有環式基之基可爲含有多環式基之基、或含有 單環式基之基。含有多環式基之基可爲含有交聯環式基的 基、或含有縮合環式基之基。 作爲含有環式基之基的具體例,可舉出含有下述基之 基、該基中之氫原子由氟原子取代之基。 [化6] ~o~〇~0 XX)
作爲含有環式基之基中的氫原子由氟原子取代之基的 具體例,可舉出下述基。 -15- 200906874 [化7]
cf2
H CF2-CF2
-Q CF2—CF2 基(Yl)中之3個y1可相同或相異。 3個Y1爲氫原子、或碳數1〜19的1價飽和烴基。 但,I價飽和烴基時的γ1中之碳原子·碳原子間可插入式 -0-所示基(醚性氧原子)、式-c(0)-所示基(羰基)、或式 -C(0)0-所示基(酯基)。又,Y1中的碳原子上可結合氣原 子、羥基、或羧基。又,Y1具有1個以上的雙三氟甲基 甲醇基爲佳。 3個Y1爲,2個爲碳數1〜6的1價飽和烴基,1個 爲碳數1〜12的1價環式飽和烴基之組合、或2個爲氫原 子,1個爲碳數1〜12的聚氟烷基之組合、或3個爲碳數 1〜6的1價飽和烴基之組合(Y11)爲佳。且3個γ1爲,2 個爲碳數1〜6的烷基(甲基爲佳。)’ 1個爲丨_金剛烷基 之組合、或式-CH2RFY所示聚氟烷基(但,rH表示碳數1 〜1〇之全氟烷基。)之組合、或3個爲碳數1〜6的院基 (甲基爲佳。)之組合爲特佳。 基(Y2)中之Y2爲氫原子、或碳數1〜19的1價飽和 烴基。但’ 1價飽和烴基時的Y2中之碳原子-碳原子間可 插入式·〇 -所示基、式-C(O) -所示基、或式-C(〇)〇_所示 基。又’ Y2中的碳原子上可結合氟原子、羥基、或羧 基。又,Y2具有1個以上的雙三氟甲基甲醇基爲佳。 -16- 200906874 γ2以碳數1〜12的1價飽和烴基、含有碳數2〜12 之_ 〇 _的1價飽和烴基、碳數1〜1 2的1價含氧飽和烴 基、或含有碳數2〜12之-〇_的1價含氧飽和烴基爲佳。 其中作爲γ2,以Υ21(碳數1〜12的1價飽和烴基或含有 碳數2〜1 2之-〇 -的1價飽和烴基)爲較佳。 作爲基(Υ2)之具體例可舉出下述基。 [化8] —ch2o-ch3 —ch2o—ch2ch3 —ch2o—ch2ch2och3
基(Y3)中之Y3爲氫原子、或碳數1〜16的1價飽和 烴基。但,1價飽和烴基時的γ3中之碳原子-碳原子間可 插入式-0-所示基、式-c(0)-所示基、或式-C(0)〇-所示 基。又,Y3中之碳原子上可結合氟原子、羥基、或钱 基。又Y3.具有1個以上的雙三氟甲基甲醇基爲佳。 Y3以氫原子、碳數1〜6的1價飽和烴基或含有如數 2〜6之-0-的1價飽和烴基爲佳。其中作爲γ3以γ31 (藝 原子或碳數1〜6的1價飽和烴基)爲較佳。 -17- 200906874 基(Y3)中之Q3爲與式中碳原子共同形成2價環式烴 基之碳數3〜19的基。但’ Q3中之碳原子-碳原子間可插 入式-0-所示基、式- C(〇) -所示基、或式- C(0)〇 -所示基。 又,Q3中的碳原子上可結合氟原子、羥基、或羧基。又 Q3具有1個以上的雙三氟甲基甲醇基爲佳。 Q3可爲與式中之碳原子共同形成2價單環式烴基之 基、或亦可爲與式中之碳原子共同形成2價多環式烴基之 基。前述多環式烴基亦可爲縮環式烴基、或亦可爲交聯環 式烴基。Q3以飽和基爲佳。 Q3爲碳數4〜1 2的2價飽和烴基、碳原子·碳原子間 插入-0-、-C(O)-或-C(0)〇-之碳數4〜12的2價飽和烴 基、碳數4〜12的2價含氟飽和烴基、或碳原子-碳原子 間插入- 0-、-C(O) -或-C(0)0 -之碳數4〜12的2價含氟飽 和烴基爲佳。其中作爲Q3以Q31(碳數4〜12的2價飽和 烴基、碳數4〜1 2的2價含氟飽和烴基、或碳原子-碳原 子間插入- 0-、-C(O)-或-C(0)0-之碳數4〜12的2價飽和 烴基)爲較佳。 作爲基(Y3)之具體例,可舉出下式所示之任一基。 [化9]
Lch3 ^c(43)2 i0-CH3 cf2
CF2 /CF2 、cf2
^^-CH2CH3f*CFi
icH
:CF CF、CFrCF2 -18- 200906874 化合物(1)中之η爲0、1或2’其中以1爲佳。 化合物(1)中之R爲氫原子或碳數的1價有機 基’2個R可相同或相異。其中2個R皆爲氫原子時爲 佳。 碳數1〜20’較佳爲1〜12的1價有機基之r中,以 碳數1〜12的1價飽和烴基爲佳。前述1價飽和烴基可爲 非環式基、或亦可爲環式基。非環式基可爲直鏈狀基、或 亦可爲支鏈狀基。環式基可爲多環式基、或亦可爲單環式 基。多環式基可爲交聯環式基、或亦可爲縮環式基。 又’ R中之前述1價飽和烴基中的碳原子-碳原子間 可插入-0-。又,前述1價飽和烴基中之碳原子上可結合 氟原子、羥基或羧基。 化合物(1)以下述化合物(1〗)或下述化合物(丨2)爲佳。 CF2=CFCF2CH (C (Ο) OZ1) CH2CH=CH (11) ^^2~^PCF^C(C(0)OZ1)^CH CH=CH (12) 且’作爲化合物(1 I )以下述化合物(丨n)爲佳,作爲化 合物(12)以下述化合物(121)爲佳。 CF=CFCF CH (C (Ο) OZ11) CH^H = CH (ill) cf2=CFCF2C(c(0)0Z'ch ^h=ch 2(i 2 2
又,化合物(1)以下述化合物(2)爲佳,以化合物dll U -19- 200906874 爲特佳。 CF =CFCF CH(C(0)0Zni)(CH ) CR=CHR (2) 2 2 2 η CF =CFCF CH(C(0)0Zin)CH CH=CH (1111) 2 2 2 ^ 作爲化合物(1)之具體例,可舉出下述化合物。 [化 10] 2:爲氫原子的化合物(1)之具體例 CF2bCFCF2CH(C(0)0H)CH2CHsCH2 CF2=CFCF2C(C{0)0H)2CH2CH»CH2 qF2=CFCF2C(CN)(C(O)0H)CH2CH«CH2 Z爲基(Y1)的化合物⑴之具體例 CF2sCFCF2CH(C(0)0C(CH3)3)CH2CH«CH2 CF2=CFCF2C(C(0)0C(CH3)3)2CH2CH»=CH2 CF2=CFCF2CH(C(0}0(CH2)3C(CF3)2〇H)CH2CH*CH2 CF2bCFCF2CH{C(0)OCH{CH3)C(CF3)2〇H)CH2CH=CH2 CF2sCFCF2CH(C(0)OCH{CH2C(CF3)2〇H)2)CH2CH=CH2 CF2=CFCF2C(CN)(C(0)0C(CH3)3)CH2CH=CH2 CF2=CFCF2CH(C(0)OCH2CF2CF3)CH2CH«CH2 Z爲基(Y2)的化合物(1)之具體例 CF2sCFCF2CH(C(0)0CH20CH3)CH2CH=CH2 CF2=CFCF2CH(C(0)OCH2〇CH2CH3)CH2CH=CH2 CF2bCFCF2C(C(0)OCH2〇CH3)2CH2CH*CH2 CF2=CFCF2C(CN)(C(0)OCH2〇CH3)CH2CH»CH2 CF2sCFCF2CH(C{0)OCH2OCH2CH2〇CH3)CH2CH=CH2
本發明提供一種使下述化合物(P5)與下述化合物(p4) 進行反應後得到下述化合物(P3),繼續將化合物(p3)與下 -20- 200906874 述化合物(p2)進行反應製造出下述化合物(p 12)之製造方 法。 CH (C(0)0ZP) (p5) 2 2 CHR=CR(CH ) -GP (p4) 2 n CH(C(0)0ZP) ((CH ) CR=CHR) (p3) 2 2 n CF =CFCF -Jp (p2) 2 2 CF =CFCF C(C(〇)OZP) (CH ) CR=CHR (pi2) 2 2 2 2 n zp爲碳數1〜20的1價有機基。zp以可含有碳數1〜 20的-0-、-C(O)-或- C(0)0-之1價飽和烴基爲佳。又,Zp 以碳數1〜6的烷基爲特佳。 R、η如前述。
Gp爲氯原子、溴原子或挑原子,以氯原子或溴原子 爲佳。 JP爲氯原子、溴原子、碘原子或式-0S02-Lp所示 基。又,1^爲氟原子、碳數1〜10的烴基或碳數1〜10 的含氟烴基。Jp中之Lp以氟原子、甲基、三氟甲基或4-甲基-苯基爲佳、氟原子爲特佳。 化合物(P5)與化合物(p4)之反應於鹼性化合物的存在 下進行爲佳。鹼性化合物並無特別限定,以金屬氫化物爲 佳、NaH、NaBH4 或 LiAlH4 爲特佳。 前述反應於非質子性溶劑之存在下進行爲佳。作爲非 質子性溶劑之具體例,可舉出二乙基醚、甲基-tert-丁基 醚、四氫咲喃、二卩惡垸、monoglyme(glyme,二甘醇二甲 醚)、diglyme、triglyme、tetraglyme、乙腈、苯甲腈、環 丁碾、二甲基甲醯胺、二甲基乙醯胺、二甲基亞楓。 -21 - 200906874 前述反應之溫度並無特別限定以-78 °C〜+ 25 °C爲佳。 前述反應之壓力並無特別限定。 化合物(p3)與化合物(p2)之反應於鹼性化合物@ #在 下進行爲佳。又,反應於非質子性溶劑之存在下進彳了爲 佳。反應溫度並無特別限定,以-78 ΐ:〜+ 25。(:爲佳。前述 反應之壓力,並無特別限定。又,鹼性化合物之具體例與 非質子性溶劑之具體例、與化合物(ρ5)與化合物(P4)t S 應所記載的溶劑相同。 作爲化合物(p5)之具體例,可舉出 CH2(C(0)0CH3)2、CH2(C(〇)OCH2CH3)2、 CH2(C(0)0C(Y1)3)2 ' CH2(C(0)0CH20Y2)2 ' T 2ft ft Η 物。Y 1、Y2如前述。
作爲化合物(Ρ4)之具體例,可舉出CH2=CHCH2C1、 CH2= CHCH2Br、CΗ2 = CHCH2CH2CM、 CH2 = CHCH2CH2Br。 作爲化合物(P 3 )之具體例’可舉出 CH(C(0)0CH3)2(CH2CH= CH2)、 ch(c(o)och2ch3)2(ch2ch= ch2)、 CH(C(0)0C(Y1)3)2(CH2CH = CH2) ' -22- 200906874 ch(c(o)och2oy2)2(ch2ch=ch2)、下述化合物。 [化 12] CH2CH=CH2
Y3
^*^-0(0)C 作爲化合物(p2)之具體例’可舉出CF2 = cfcf2oso2f。 作爲化合物(P 1 2)之具體例,可舉出 CF2= CFCF2C(C(0)0CH3)2CH2CH= CH2、 cf2= cfcf2c(c(o)och2ch3)2ch2ch= CH2、 CF2= CFCFsCCCCCOOC^Y^hdCH: CH2、 cf2= cfcf2c(c(o)och2oy2)2ch2ch= CH2、下述化合 物。 [化 13]
又’化合物(P12)亦可爲,使化合物(P5)與化合物(P2) 進行反應後得到下述化合物(p3F),繼續使化合物(P3F)與 下述化合物(P4)進行反應而製造。 -23- 200906874 CH(C(0)〇Zp)2(CFCF = CF2) (P3F) 本發明提供一種將化合物(pi 2)經水解反應之下述化 合物(12H)的製造方法。 CF =CFCF C(C(0)0H) (CH ) CR=CHR (12H) 2 2 2 2 n 7 化合物(p 1 2)之水解反應於酸性條件下進行爲佳,於 質子酸之存在下進行爲特佳。質子酸可爲無機酸、亦可爲 有機酸。作爲質子酸之具體例可舉出羧酸、磺酸。 又,水解反應可於溶劑存在下進行,亦可於無溶劑下 進行。水解反應之溫度並無特別限定以- 78°C〜+ 25°C爲 佳。前述反應之壓力,並無特別限定。 本發明提供一種使化合物(12H)經脫碳酸反應之下述 化合物(1 1 Η)的製造方法。 CF =CFCF CH(C(0)0H) (CH ) CR=CHR (11H) 2 2 2 n 化合物(12H)之脫碳酸反應於加熱化合物(12H)下進行 爲佳。化合物(1 2 Η )之加熱溫度以5 0〜2 00 °C爲佳。又,化 合物(12H)之加熱壓力,並無特別限定。 本發明提供一種使化合物(1 2H)與下述化合物(w)進行 反應之下述化合物(12W)的製造方法、與使化合物(1 1H)與 下述化合物(w)進行反應之下述化合物(1 1 W)的製造方法。 -24- 200906874 CR'R^CW1· (w) 2 CF =CFCF C(C(〇)OC(CH )WP ) (CH ) CR=CHR (12W) “ L 3 2 2 2 n CF =CFCF CH(C(0)0C(CH )WP ) (CH ) CR=CHR (11W) 2 2 3 2 2 n 然而,R1、R2爲氫原子或碳數1〜20,較佳爲1〜12 的1價有機基,彼此可相同或相異。R1、R2以碳數1〜1 2 的1價飽和烴基爲佳。前述1價飽和烴基可爲非環式基、 或亦可爲環式基。非環式基可爲直鏈狀基、或亦可爲支鏈 狀基。環式基可爲多環式基、或亦可爲單環式基。多環式 基可爲交聯環式基、或亦可爲縮環式基。又,前述1價飽 和烴基中之碳原子-碳原子間可插入-0-。又,前述1價飽 和烴基中之碳原子上可結合氟原子、羥基或羧基。且亦可 具有雙三氟甲基甲醇基。 各反應於酸性條件下進行爲佳。各反應之溫度與壓力 並無特別限定。 作爲化合物(W)之具體例可舉出下述化合物。
-25- 200906874 又,可於酸性條件下藉由使化合物(1 2H)或化合物 (11H)、與Zp_〇h或ZP-C1進行反應,製造出下述化合物 (P12)或下述化合物(pi 1)。 CF =CFCF C(C(0)0ZP) (CH ) CR=CHR (pl2) 2 2 2 2 n CF =CFCF CH(C(0)0ZP) (CH ) CR=CHR (pll) ^ 2 2 n 又,使用Zp-OH時,化合物(12H)或(11 H)中之羧基, 以二環己基碳化二亞胺等活化劑進行活化者爲佳。 作爲化合物Ζ ρ - Ο Η之具體例,可舉出下述化合物。
本發明的化合物(1)爲文獻未知的丨,1,2,3,3-五氟-4-羧 基-脂肪族二烯烴類,可作爲聚合性化合物有用。 Φ發明爲提供聚合化合物(1)所得之聚合物(以下亦稱 爲本發明之聚合物。)。化合物(〗)爲環化聚合性化合物, 本發明的聚合物一般含有1種以上選自下式(U1)、下式 (U2)及下式(U3)所示重複單位所成群之1種以上的重複單 位(U)之含氟聚合物。 -26- 200906874 [化 16] R CF2 f -CH 、CF—έ〆、 / \ CFs (CH2)n X’、c(o)oz (U1)
R trCH、
vC(0)OZ I I CF2 (CH2)„、c〆 (U2)
R
本發明的聚合物之重量平均分子量並無特別限定’以 1,〇〇〇〜1,000,000 爲佳。 化合物(1)之聚合於聚合啓始劑之存在下進行爲佳。 聚合啓始劑以自由基聚合啓始劑爲佳,以過氧化物' 偶氮化合物或過硫酸鹽爲較佳,過氧化物爲特佳。 作爲過氧化物之具體例,可舉出 C6H5C(0)00C(0)C6H5、C6F5C(0)00C(0)C6F5、 CF3CF2CF2C(0)00C(0)CF2CF2CF3、 (CH3)3CC(0)00C(0)C(CH3)3、 (CH3)2CHC(0)00C(0)CH(CH3)2 ' (CH3)3CC6H10C(O)OOC(O)C6H10C(CH3)3、 (ch3)3coc(o)ooc(o)oc(ch3)3、 (ch3)2choc(o)ooc(o)och(ch3)2、 (ch3)3cc6h1()oc(o)ooc(o)oc6h1()c(ch3)3(但,c6h5 表示 苯基,C6F5表示五氟苯基’ C6H1()表示1,4-環二甲苯基)° 化合物(1)之聚合方法並無特別限定,依據大量聚合 法、溶液聚合法、懸濁聚合法、乳化聚合法等聚合法實施 爲佳。 化合物(1)之聚合中’使用聚合溶劑時,該聚合溶劑 -27- 200906874 之種類並無特別限定。 作爲聚合溶劑之具體例,可舉出戊烷、己烷、庚烷等 脂肪族烴類:甲醇、乙醇、η-丙醇、異丙醇、tert-丁醇等 烴系醇類;丙酮、甲基乙酮、甲基異丁酮、環己酮等烴系 酮類;二甲基醚、二乙基醚、甲基乙基醚、甲基tert-丁 基醚、二乙二醇二甲基醚、四乙二醇二甲基醚等烴系醚 類;四氫呋喃、1,4-二噁烷等環狀脂肪族烴系醚類;乙腈 等腈類;乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丙酯、乙酸異丙酯、 乙酸丁酯、乙酸tert-丁酯、丙酸甲酯、丙酸乙基等烴系 酯類;甲苯、二甲苯等芳香族烴類;二氯甲烷、氯仿、四 氯化碳等氯化烴類;R-1 13、R-l 13a、R_-141b、R-225ca、 R-225 cb 等氟化氯化烴類、1,1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6·十三 氟己烷、1,1,1,2,2,3,3,4,4-九氟己烷等的氟化烴類;甲基 2,2,3,3-四氟乙基醚等氟化烴系醚類;2,2,2-三氟乙醇、 1,1,1,3,3,3-六氟異丙醇、2,2,3,3-四氟丙醇、 2,2,3,3,4,4,5,5-八氟戊醇等氟化烴系醇類。 化合物(1)之聚合中,溫度與壓力並無特別限定。聚 合溫度以0。(:〜2 0 0 t爲佳,以2 5 °C〜1 0 0 °C爲特佳。聚合 壓力以大氣壓〜1〇〇氣壓爲佳、大氣壓〜1〇氣壓爲特佳。 本發明的聚合物可爲僅由重複單位(U)所成之單獨聚 合物’或亦可爲含有重複單位(U)與重複單位(U)以外之重 複單位的共聚物。共聚物爲共聚合化合物(〗)、化合物(!) 以外之聚合性化合物(以下稱爲其他化合物。)而製造爲 佳。 -28- 200906874 其他化合物僅爲與化合物(1 )共聚合所得之聚合性化 合物即可’並無特別限定。 作爲其他化合物,可舉出乙烯、丙烯、異丁烯等α_ 烯烴類;四氟乙烯、六氟丙烯、全氟(2,2 -二甲基-1,3 -二 氧雜環戊烯、全氟(丁烯乙烯醚)等含氟烯烴類;後述氫氟 二烯類、(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸酯類、乙酸乙烯 酯、安息香酸乙烯酯、金剛烷酸乙烯酯等乙烯酯類;乙基 乙烯醚、環己基乙烯醚等乙稀醚類;環己烯、原菠烯、原 菠二烯等環狀烯烴類;馬來酸酐、氯化乙烯。但,所謂 (甲基)丙烯酸表示丙烯酸與甲基丙烯酸,所謂(甲基)丙烯 酸酯表示丙烯酸酯與甲基丙烯酸酯。 其他化合物以氟二烯或(甲基)丙烯酸酯爲佳, CF2= CF-QM-CH= CH2、CH2= CHC(0)0Z 或 ch2=c(ch3)c(o)oz 爲特佳(但,QM 表示 -CF2C(CF3)(OZ)CH2-、-CH2CH(C(CF3)2(OZ)CH2-或 -ch2ch(c(o)oz)ch2-。)。但,z如前述,其爲氫原子或 碳數1〜20的1價有機基。 本發明的聚合物爲來自重複單位(U)之於主鏈具有含 氟脂肪族環結構,且含有具有羧基或其類似基之重複單位 的含氟聚合物。亦可爲將前述重複單位中之羧基或其類似 基進一步藉由化學變換而製造出含有其他重複單位之聚合 物。 例如,亦可藉由z爲氫原子之化合物(1)的聚合物、 與醇類、烷基鹵化物及烷氧基烷基鹵化物所成之嵌段化劑 -29- 200906874 的嵌段化反應’製造出該聚合物中之竣基經嵌段化的聚合 物。作爲前述嵌段化劑可舉出選自 H〇-c(Yl)3、H〇-CH2 ΟΥ2及下述化合物所成群之醇類、或該醇類的院氧基 鹵化物。 [化 17]
且作爲嵌段化劑,可使用下式所示之碳數20以上的 醇類或、其鹵化物。 [化 18]
作爲嵌段化反應例之具體例可舉出 A.J.Pearson及 W.R.Roush 編、Handbook of Reagents for Organic Synthesis : Activating Agents and Protecting Groups, John Wiley & S〇ns( 1 999)所記載的例子。 本發明的化合物(1)與過去已知的具有羧基之類似基 的環化聚合性之化合物(1,1,2-三氟-4-烷氧基羰基-1,6-庚 二烯。)做比較’其爲氟含有量較高之化合物,且具有優 -30- 200906874 良的光學特性(透明性、耐久耐光性等)與撥水撥油性。 又,因容易導入-c (C F3)2 ο Η基,故可得到兼具撥水撥油 性與顯像液可溶性之化合物。因此,本發明的聚合物於要 求光學特性與撥水撥油性、或光學特性 '撥水撥油性及顯 像液可溶性之用途(例如浸潤微影術用材料。)上爲極有用 之材料。 【實施方式】 [實施例] 繼續對於本發明之實施例做具體說明,本發明並未限 定於此。 實施例中,四氫呋喃以THF表示、二氯五氟丙烷以 R2 2 5表示、二異丙基過氧化二碳酸酯以ΙΡΡ表示、異丙 基醇類以IP Α表示、丙二醇單甲基醚丙烯酸酯以PGME A 表示、四甲基矽烷以TMS表示、1,1,2-三氯-1,2,2-三氟乙 烷以R 1 1 3表示。 又,聚合物的重量平均分子量以Mw表示,聚合物之 數平均分子量以Μη表示,玻璃轉移溫度以Tg表示。Mw 與Μη藉由凝膠滲透層析法(展開溶劑:THF,内部標準: 聚苯乙烯。)求得。Tg藉由差示掃描熱分析法測定。 〔例1〕化合物(1)的製造例 〔例 1-1〕cf2= cfcf2c(c(o)oc(ch3)3)2ch2ch = CH2(以下稱爲化合物(121)。)之製造例 -31 - 200906874 反應器内中加入純度60%之NaH(2.1g)及 THF(lOOmL)。混合攪拌下,於25°C中將 CH2(C(0)0C(CH3)3)2(llg)分 20 分鐘滴下。滴下終 了後, 251下反應器內直接攪拌1〇〇分鐘。且,反應器中經10 分鐘加入CH2=CHCH2Br(6.0g)’於65°C下反應器內攪拌 5小時。繼續於反應器加入水(1 〇 〇 m L)停止反應(q u e n c h)。 將反應器内溶液以50mL的tert-丁基甲基醚進行3次萃 取。萃取液以鹽水洗淨後再以硫酸鈉乾燥。且濃縮萃取液 後再進行減壓蒸餾,得到NMR純度90%之CH2 = CHCH2CH(C(0)0C(CH3)3)2(9.4g)。 反應器中放入純度60%之NaH(1.8g)與THF(80mL)。 經混合攪拌後於反應器經1 5分鐘滴入CH2 = CHCH2CH(C(0)OC(CH3)3)2(9.4g)。滴入時,反應器内溫保 持於20 °C以下。直接於25 °C下反應器内攪拌75分鐘。 繼續於反應器内溫〇°C下,反應器中經25分鐘加入 CF2= CFCF20S02F(8.5g)。反應器内溶液經黃變後析出固 體(FS03Na)。直接進行反應器内之20小時攪拌。反應器 中加入水(150mL)使反應停止。 將反應器内溶液以tert-丁基甲基醚(50mL)進行3次 萃取。將萃取液以氯化鈉水溶液洗淨,並以硫酸鈉乾燥後 濃縮得到粗生成物。粗生成物經矽膠管柱層析法進行純 化,得到化合物(12^(5.38)。 化合物(121)之NMR數據與IR數據如下所示。 iH-NMRQOOjMHz,溶劑:CDCh,基準: -32- 200906874
TMS)5(ppm) : 1,47(s, 1 8H),2.85(d,J = 6.9 H z, 2 H), 5 . 1 1 (d m, J =10.3Hz,lH),5.18(dm,J= 17.1Hz,lH),5.90(m,lH)。 19F-NMR(282.7MHz,溶劑:CDC13,基準: CFCl3)S(ppm) ·· -95.2(ddt,J = 36·4,57·5,4·7Ηζ, 1 F), -103.2(ddd,J=4.7,15.3,29.3Hz,2F),-106.2(ddt,J = 57.5,1 13.9,29.3Hz, IF),-181.32(ddt,J = 36.4,113.9, 15_3Hz,lF)。 IR(neat) : 2 9 8 2.2,293 5.9,1 786.3,1 740.6,1 64 1.7, 1370.9,1349.8,1298.8,1257.7 ,1153.1,1012.9,912.2, 847.2cm·1 ° 〔例 1-2〕CF2 = CFCF2C(C(0)0H)2CH2CH = CH2(以下 稱爲化合物(12H))之製造例 冰冷攪拌下,於三氟乙酸(6〇mL)經5分鐘滴入化合物 (12^(6.48),滴入終了後直接再攪拌2小時。繼續於25°C 下將三氟乙酸減壓餾去,得到化合物(12H)(4.6g)。 化合物(12H)的NMR數據與IR數據如下所示。 JH-NMRpOOjMHz,溶劑:CDC13,基準: TMS)6(ppm) : 2.97(d,J= 7.3Hz,2H),5.20(dm,J = 10.3Hz,lH),5.26(dm,J-17.1Hz,lH),5.89(m,lH), 1 1.29(br,2H)。 19F-NMR(2 82.7MHz,溶劑:CDC13,基準: CFCl3)5(ppm) : -92.4(ddt,J= 3 7.6,5 4.0,5.8 H z, 1 F), -102.6(ddd,J=5.8,15.3,28.2Hz,2F),-105.1(ddt,J = -33- 200906874 54.0,115.0,28.2Hz,lF),-183.0(ddt,J=37.6,115.0, 15.3Hz,lF)。 IR(neat) : 3 4 3 1.5,3089.4,295 1.5,1 786.8,1 733.6, 1640.8,1355.6,1302.5,1217.0,1185.5,1135.3,1080.9,934.9, 910-lcnT1 。 〔例 1-3〕CF2 = CFCF2CH(C(〇)OH)CH2CH = CH2(以 下稱爲化合物(1 1H))之製造例 將化合物(12H)(2.6g)與甲苯(15mL)混合,直接將甲苯 餾去後,繼續於1 1 2〜1 3 9 °C下進行1小時加熱。進一步經 減壓乾燥,得到化合物(llH)(1.8g)。 化合物(1 1H)的NMR數據與IR數據如下所示。 W-NMRpOOjMHz,溶劑:CDC13,基準: TMS)S(ppm) : 2.55(m,lH),2.67(m,lH),3.28(m,lH), 5.15(m,lH),5.20(m5lH)5.79(m,lH),11.72(br,lH)。 19F-NMR(282,7MHz,溶劑:CDC13,基準: C F C 13) δ (pp m ) : -93.6(ddt,J = 36.4,58.7,5.4Hz,IF), -1 05.4(m,2F),-108.0(ddt,J= 58.7,1 1 5.0,29.3Hz, IF), -186.7(ddt,J = 36.4,1 15.0,15.3Hz,IF)。 IR(neat)3088.1,2931.4,1788.2,1726.0,1646.0,1423.8, 1366.7,1309.0,1257.8,1 171 .9,1067.2,926.6cm-1。 〔例 1-4〕CF2 = CFCF2CH(C(0)0C(CH3)3)CH2CH = CH2(以下稱爲化合物(ui))之製造例 -34- 200906874 將化合物(11H)於酸性條件下與(CH3)2C= CH2進行反 應後得到化合物(1 1 1)。 即,反應器中加入化合物(llH)(1.77g)與二氯甲烷 (10mL),再加入濃硫酸3滴(約0.04g)。25°C下反應器内 攪拌,使其發泡下,於反應器中加入 CH2 = C(CH3)2(0.51g)。直接將反應器内進行5.5小時攪拌並進 行反應後,於反應器中加入5 %碳酸氫鈉水溶液(2 0 m L)並 使反應停止。將反應器内溶液以tert-丁基甲基醚(50mL) 進行4次萃取,將所得之萃取液以氯化鈉水溶液洗淨,並 以硫酸鈉乾燥後濃縮。將所得之濃縮物以矽膠管柱層析法 (展開溶劑己烷•乙酸乙酯=1 〇 : 1)進行純化,得到化合 物(1 1 1) (1 . 3 1 g)。 化合物(1 1 y的NMR數據與IR數據如下所示。 W-NMROOOjMHz,溶劑:CDC13,基準: TMS)6(ppm) : 1.45(s,9H),2.47(m,lH),2.62(m,lH), 3‘ll(m,lH),5.10(m,lH),5.16(m,lH)5.76(m,lH)。 19F-NMR(282.7MHz,溶劑:CDC13,基準: CFCl3)5(ppm) : -95.0(ddt,J= 3 6.4,6 2.2,5.9 H z, 1 F), -104.l(dm,J = 275.8Hz,IF),-107_7(dm,J = 275.8Hz, IF), -108.9(ddt,J = 62.2,115.0,30.5Hz,IF),-186.0(ddt,J = 36.4,1 1 5.0, 1 5.3Hz,1 F)。 IR(neat)2983.4,2936.4,1 788.6, 1 740.4, I 645.5, 1 3 70.8, 1307.4,1254.1,1159.4,1112.5,1064.9,9 8 6.8,926.4, 8 4 5 · 0 c m —1。 -35- 200906874 〔例 1-5〕cf2 = cfcf2ch(c(o)och2och3)ch2ch = ch2(以下稱爲化合物(1 l2))之製造例 反應器中加入化合物(1 lH)(2.30g)與tert-丁基甲基醚 (20mL)後,慢慢加入二異丙基乙胺(1.29g)。且加入 CH3OCH2Cl(0.7 9g),直接於反應器内進行2小時攪拌並進 行反應。繼續,於反應器內加入水(3 OmL)使反應停止並分 離有機層。將水層以tert-丁基甲基醚(10mL)進行2次萃 取,將萃取液以硫酸鈉乾燥後並濃縮所得之濃縮物以矽膠 管柱層析法(展開溶劑己烷:乙酸乙酯=5 : 1)純化,得 到化合物(1 l2)(1.97gh 化合物(1 I2)的NMR數據與IR數據如下所示。 1H-NMR(3 00.4MHz,溶劑:CDC13,基準: TMS)6(ppm) : 2.53(m,lH),2.69(m,lH),3.28(m,lH), 3.47(s,3H),5.13(dm,J=10.1Hz,lH),5.19(dm,J = 16_9Hz,lH),5.28(d,J=5.8Hz,lH),5.3 1(d,J = 5_8Hz,lH),5.77(m,lH)。 19F-NMR(282.7MHz,溶劑:CDC13,基準: CFCl3)6(ppm) : -93.8 (dddd, J = 4.7,5.9,3 6.4,5 9.9Hz, 1 F), -l〇4.9(dddt,J= 5.9,29.3,277.0,1 5.3Hz,lF),-106.0(dddt,J = 4.7,32.9,277.0,12.9Hz,lF),-108.2(dddd,J = 29.3,3 1.7, 59.9,1 15.0Hz,IF),-186.6(dddd,J = 14.1,15.3,36.4, 1 1 5 _ OHz,1 F)。 IR(ne at )2964.7,2836.1,1788.6,1752.1,1645.6,1351.2, -36- 200906874 1308.3,1243.6,1 169.5,1096.0,930.3cm-1。 〔例1 -6〕化合物(113)的製造例 於含有化合物(llH)(2.05g)與tert-丁基甲基醚(20mL) 之溶液中,冰冷下慢慢滴入二異丙基乙胺(1.15 g),再滴入 下述化合物(w3)(1.91g)。直接將溶液進行5小時攪拌,並 進行反應。繼續於溶液中加入水使反應停止,回收有機 層。有機層以硫酸鎂乾燥後並濃縮,得到粗生成物。粗生 成物以矽膠管柱層析法(展開溶劑己烷:乙酸乙酯=1 0 : 1)進行純化,得到下述化合物(113)(2.1§)。 [化 19] CF2sCFCF2CHCH2CH*CH2
化合物(1 1 3)的NMR數據與IR數據如下所示。 W-NMROOOjMHz,溶劑:重丙酮,基準: TMS)5(ppm) : 1.51-1.97(15H),2.48-2.73(2H),3.22(2H), 3·27(1Η)5.13(2Η),5.32(2Η),5.76(1Η)。 19F-NMR(282.7MHz,溶劑:重丙酮,基準: CFCl3)6(ppm) : - 9 4.1 ( 1 F), -1 0 5.3 (2 F ), - 1 0 8.2 ( 1 F ), -186.4(1F)。 IR(neat)2914.7,2865.0,1787.5, 1 736.1,1645.0, -37- 200906874 1448.7,1354.1,1307.7,1246.9,1 188,3,1 170.5,1 103.1,986.7, 925_9,8 86.4,840.1 cnT1。 〔例1 - 7〕化合物(1 14)的製造例 含有化合物(llH)(2.35g)與甲苯(3mL)之溶液中,加入 濃硫酸2滴。繼續冰冷下於溶液中滴入含有下述化合物 (w4)(2.04g)之甲苯溶液(3mL)並進行反應。直接將溶液進 行1 2小時攪拌後,於溶液中加入碳酸氫鈉水溶液後使反 應停止,回收有機層。有機層經水洗後以硫酸鈉乾燥並濃 縮得到粗生成物。粗生成物以矽膠管柱層析法(展開溶劑 己烷)純化後得到下述化合物(1 14)(2.1 lg)。 [化 20] CF2sCFCF2CHCH2CH=CH2
化合物(1 I4)的NMR數據與IR數據如下所示。 iH-NMROOO.4MHz,溶劑:CDC13,基準: TMS)6(ppm) : 1.57(m;2H),1.59(s)3H),1.6 9- 1.92(m,8H), 2.02(m,2H),2.29(br,2H),2.49(dm,J = 14.6Hz,1H),2.66(dm,J =14.6Hz,lH),3_19(m,lH),5.11(dm,J= ΙΟ.ΙΗζ,ΙΗ), 5.18(dm,J = 17.1Hz,lH),5.79(ddt,J = 1 0· 1 ,1 7. 1,6.9Hz,1 H)。 -38- 200906874 I9F-NMR(282.7MHz,溶劑:CDC13,基準: CFCl3)5(ppm) : - 9 4.6 (d d d d, J = 4.7,5.9,3 5.2,6 1 0 Η z,1 F), -104.4(dm,J= 275.8Hz,lF),-106.2(dm,J= 275.8Hz, IF), -108.6(ddt,J = 61.0,115.0,30.5Hz,IF),-185.9(dddd,J = 12·9,15·3,36·4,1 16.2Hz,lF)。 IR(ne at )2914.7,2865.0,1 787.5,1 736.1,1 645.0, 1448.7,1354.1,1307.7,1246.9,1188.3,1170.5,1103.1,986.7, 925.9,8 8 6.4,840.1 (:1^1。 〔例1-8〕化合物(1 l5)的製造例 含有化合物(llH)(2.38g)與二氯甲烷(20mL)之溶液 中,加入P-甲苯磺酸的吡啶鑰鹽(0.052g)。繼續於25t下 溶液中慢慢加入下述化合物(w5)(1.60g),直接進行3.5小 時攪拌。濃縮溶液後將所得之粗生成物以氧化鋁管柱層析 法(展開溶劑己烷:乙酸乙酯=1 0 : 1)純化後得到下述化 合物(115) (2 . 1 4 g)。 [化 21]
CF2sCFCF2CHCH2CH=CH2 C(0)0
化合物(1 15)的NMR數據與IR數據如下所示。 h-NMROOO.4MHZ,溶劑:CDC13,基準: -39- 200906874 TMS)5(ppm) ·· 1.40- 1 .86(m,6H),2.54(m,lH),2.7〇(m,1H), 3.27(m,lH),3.72(s,lH),3.86(m,lH),5.12(dm,J = 10.3Hz,lH),5.18(dm,J=17.1Hz,lH), 5.79(ddt,J = 6.6,10.3,17.1Hz,1H),6.08(s,1H)。 19F-NMR(282.7MHz,溶劑:CDC13,基準: CFCl3)3(ppm) : -93.7〜-94.2(m,lF),-104.1〜 -106.8(m,2F) ,-107.8 〜-108.7(m, IF),-186.0 〜 -186.9(m,1F) ° IR(neat)295 1.7,2877.4,1 788.2,1 749.9,1 644.7, 1357.9,1307.6,1246.4,1173.8,1133.0,1056.4,1037.4,937.0, 898.4,8 60.9cm,1。 〔例1-9〕化合物(1 l6)的製造例 含有化合物(1 lH)(2.0g)與tert-丁基甲基醚(20mL)之溶 液中,冰冷下慢慢滴入二異丙基乙胺(1 .1 2 g),再滴入下述 化合物(w6)( 1.83 g)。直接進行溶液之5小時攪拌,並進行 反應。繼續於溶液中加入水並使反應,回收有機層。有機 層以硫酸鎂乾燥後濃縮,得到粗生成物。粗生成物以矽膠 管柱層析法(展開溶劑己烷:乙酸乙酯=1 0 : 1)純化後得 到下述化合物(1 l6)(2.7g)。 -40- 200906874 [化 22] CF2*CFCF2CHCH2CH=CH2 C(0)0CH20 och2ci ]θ (11β) 化合物(1 I6)的NMR數據如以下所示。 1H-NMR(300.4MHz,溶劑:重丙酮,基準: TMS)5(ppm) : 1.48-2.05(1 5H),2.47-2.73(2H), 3.17-3.32(1H),5.08-5.2 1(2H),5.43(2H),5.69-5.83 ( 1 H) 19F-NMR(282.7MHz,溶劑:重丙酮,基準: CFCl3)5(ppm) : -94.1(1F),-105.9(2F),-108.3(1F), -186.4(1 F)。 〔例1-1 〇〕化合物(1 Γ)的製造例 反應器中放入化合物(llH)(5.0g)、下述化 (W7)(9.9g)、二甲胺吡啶(〇.2g)及二氯甲烷(30g),於 冷卻。繼續將二環己基碳化二亞胺(4.7g)溶解於二素 (1 5 g)之溶液慢慢滴入反應器中。直接使反應器内淫 行1小時攪拌,並進行反應後,再於2 5 °C下進行1 /J 拌並進行反應。反應器内溶液經過濾,將濾液經濃雜 到粗生成物。粗生成物以矽膠管柱層析法(展開溶$ 烷:乙酸乙酯=20 : 1)純化後得到下述化 (1 l7)(10.5g)。 合物 (TC下 ,甲烷 液進 I時攪 ;後得 丨!J己 合物 -41 - 200906874 [化 23] OH CF2=CFCF2CHCH2CH=CH2 CF:^-CF2 C(〇)<f 、C< CF、CFrCF2 (W7) (117) 化合物(117)的NMR數據如以下所示。 h-NMROOOjMHz’溶劑:重丙_,基準: TMS)5(ppm): 2.64 〜2.70(2H),3.44 〜3·48(1Η) 5.16〜5·21(2Η)、5.68〜-5.80(2Η)。 19F-NMR(282.7MHz,溶劑:重丙酮,基準: CFCl3)6(ppm) : - 9 2.3 ( 1 F ) , -1 〇 5.2 ( 2 F ), -1 〇 7.2 (1 F ), -123_6(6F),-13 2.6(2F),-187.3(lF),-2l4.7(m, IF), -223.0(1F)。 (但,Rfl- 且,化合物(w7)爲依據下述合成流程而合成 表示 F(CF2)3〇CF(CF3)CF2〇CF(CF3)-。 [化 24] 〇H OCORfό-ό (aw7) (bw7) OCORf1人 CF xCF2 、cf2 (cw7) o人CIVCF2 Ur2 (dw7) OH』H、 ?Fi〇Fi?FCF、<CF2 (w7) 即’氮氣環境下於燒瓶中放入化合物(aw7)(15g)與氯 仿(l〇〇g)及NaF(7.02g),燒瓶内於冰冷攪拌下滴入!^1-COF(79g),且於燒瓶内再攪拌。燒瓶内容物之不溶固體物 200906874 藉由加壓過爐除去後’於燒瓶放入飽和碳酸氫鈉水溶液 (l〇3g),回收濃縮有機層後得到化合物(bw7)(74g)。 於氣體出口設置NaF顆粒塡充層之高溫高壓釜加入 R1 13(3 13g) ’於25°C中高溫高壓釜内進行攪拌下,於高溫 高壓釜吹入氮氣1小時後,吹入以氮氣稀釋成2 0 %體積之 氟氣。直接吹入該20 %氟氣後,於O.IMPa之壓力下,於 高溫高壓釜中導入溶解化合物(bw7)(67g)於R113(299g)之 溶液。導入終了後,將高溫高壓釜内容物經回收濃縮後得 到化合物(cw7)。 於氮氣環境下之燒瓶,放入化合物(cw7)(80g)與粉末 狀KF(0.7g),將燒瓶内進行6小時加熱後,純化燒瓶内容 物後得到化合物(d w7) (3 8 g)。 氮氣環境下於圓底燒瓶,放入 NaBH4(l.lg)與 THF(3 0g)。將燒瓶進行冰冷攪拌下,於燒瓶滴入含有化合 物(dw7)22質量%之R225溶液(48g)。滴下終了後,再將 燒瓶内進行攪拌後,將燒瓶内溶液以1N鹽酸水溶液 (1 5 0 m L)中和後,將所得之溶液以水洗並藉由蒸餾純化後 得到化合物(w7)。 化合物(w7)的NMR數據如以下所示。 1H-NMR(300.4MHz、溶齊IJ : CDC13、基準: TMS)5(ppm) : 4.89 〜4.57(2H)。 19F-NMR(282.7MHz、溶劑:CDC13、基準: CFCl3)5(ppm) : -1 〇 5.0 ( 1 F), -1 1 9.7 (1 F), -1 2 4.0 (1 F), -124.3(1F),-125.7(1F),-126.8(1F),-133.2(2F),-216.6(1F), -43- 200906874 -223_5(1F)。 〔例 1-11〕cf2 = cfcf2ch(c(o)och2cf2cf3)ch2ch =ch2(以下稱爲化合物(1 l8))之製造例 反應器中放入化合物(1 iH)(5.〇g)、 CF3CF2CH2〇H(3.6g) '二甲胺吡啶(〇 . 2 3 g)及二氯甲烷 (15mL),於(TC冷卻。繼續將二環己基碳化二亞胺(4.9g) 溶解於二氯甲烷(3 5mL)之溶液,慢慢滴入於反應器。直接 將反應器内溶液進行1小時攪拌並進行反應後,再於25 °C 下進行1小時攪拌並進行反應。 繼續於反應器中加入水並使反應,回收有機層。有機 層以硫酸鎂乾燥後濃縮,得到粗生成物。粗生成物以矽膠 管柱層析法(展開溶劑己烷:乙酸乙酯==1 0 : 1)純化後得 到化合物(1 1 8) (4.0 g)。 化合物(1 I8)的NMR數據如以下所示。 1H-NMR(3 00.4MHz,溶劑:重丙酮,基準: TMS)S(ppm) : 2.51 〜2·73(2Η),3·30 〜3·44(1Η), 4.50〜4.69(2Η)、5.07-5·23(2Η),5.66〜5.84(1Η)。 19F-NMR(282.7MHz,溶劑:重丙酮,基準: CFCl3)5(ppm) : -84.4(3F)、-94.2(lF),-l〇5.3(2F), -107.8(1F),-124.0(2F) 、 -187.0(1F)。 〔例1-12〕化合物(1 l9)的製造例 於含有化合物(UH)(7.6g)與甲苯(30mL)之溶液中,加 -44 - 200906874 入濃硫酸3滴。繼續於冰冷下,溶液中滴入下述化合物 (w9)(4.1g)並進行反應。昇溫至25°C後,直接將溶液進行 7小時攪拌後,於溶液中加入碳酸氫鈉水溶液並使反應停 止,回收有機層。水洗有機層,並以硫酸鈉乾燥後’得到 經濃縮之粗生成物。粗生成物以矽膠管柱層析法(展開溶 劑己烷)純化後得到下述化合物(1 l9)(1.78g)。 [化 25] ch2ch3 cf2=cfcf2chch2ch=ch2 C(0)0 CH3CH2 (W9) 化合物(1 1 9)的NMR數據與IR數據如下所示。 iH-NMRpOOJMHz,溶劑:CDC13,基準: TMS)5(ppm) : 1.57(m,2H),l .59(s,3H), 1.69- 1,92(m,8H), 2.02(m,2H),2.29(br,2H),2.49(dm, J = 1 4.6 H z, 1 H), 2.6 6 (d m, J =1 4.6Hz, 1 H),3 . 1 9(m, 1 H),5 . 1 1 (dm, J = ΙΟ.ΙΗζ,ΙΗ), 5.18(dm,J=17.1Hz,lH),5.79(ddt,J = 10.1,17.1,6.9Hz,1H)。 19F-NMR(282.7MHz,溶劑:CDC13,基準: CFCl3)5(ppm) : -94.6(dddd,J= 4.7,5.9,35.2,6 1.0Hz, IF), -104.4(dm,J = 275.8Hz,IF),-106.2(dm,J = 275.8Hz,IF), -108.6(ddt,J = 61.0,115.0,30.5Hz,IF),-185.9(dddd,J = 12.9,15.3,36.4,1 16_2Hz, IF)。 -45- 200906874 IR(ne at )2914.7,2865.0,1787.5,1736.1,1645.0,1448.7, 1354.1,1307.7,1246.9,1188.3, 1170.5,1103.1,986.7,925.9,8 86.4,840.1 cm.1。 〔例 1-13〕C F 2 = cfcf2ch(c(o)o(ch2)3c(cf3)2oh)ch2ch = ch2(化合物 (ll1()))的製造例 於反應器內放入化合物(uh)(cf2 = CFCF2CH(C(0)0H)CH2CH= CH2)(1.5g)、 HO(CH2)3C(CF3)2OH(1.47g)、二甲胺吡 D定(0.07g)及二氯甲 烷(20g),冷卻至〇t。繼續將二環己基碳化二亞胺之1M 二氯甲烷溶液(9.04g)慢慢滴入於反應器內。將反應器内溶 液於2 5 °C下進行1小時攪拌並進行反應。過濾反應器内溶 液後,濃縮濾液後得到粗生成物。粗生成物以矽膠管柱層 析法(展開溶劑己烷:乙酸乙酯=1 5 : 1)純化後得到CF2 = cfcf2ch(c(o)o(ch2)3c(cf3)2oh)ch2ch = CH2(2.4g)(化合物(1 1 IG))。 NMR數據如下所示。 iH-NMRpoOjMHz,溶劑:CDC13,基準: TMS)5(ppm) : 1.85 〜2.04(m,4H),2.49 〜2.69(m,2H), 3.20〜3.33(m,lH),3.37(S,lH),4.19~4.23(m,2H), 5.10〜5.19(m,2H)、5.67〜5.80(m,lH)。 19F-NMR(282.7MHz,溶劑:CDC13,基準: CFCl3)5(ppm): -77.0〜-78.1(m,6F),-93.5〜-93_9(m,lF), -46 - 200906874 -104.6〜-106.7(m,2F),-107.8〜-108.6(m,lF), -186.3 〜-186.9(m,lF)。 〔例卜 14〕CF2 二 CFCF2CH(C(0)0CH(CH3) (:112(:(0?3)2011)(:112(:^1=(:112(化合物(1111))的製造例 於反應器中放入化合物(11H)(CF2二 CFCF2CH(C(0)0H)CH2CH = CH2)(1.0g) ' OHCH(CH3)CH2C(CF3)2OH(0.98g)、二甲胺吡啶(〇.〇7g)及 甲苯(20g),冷卻至 〇°C。繼續將二環己基碳化二亞胺 (1.1 lg)溶解於甲苯(6 g)之溶液慢慢滴入於反應器內。將反 應器内溶液於中進行1小時攪拌後,於40°C下進行3 小時攪拌,再於7〇°C下進行2小時攪拌並進行反應_。過濾 反應器内溶液,濃縮濾液後得到粗生成物。將粗生成物以 矽膠管柱層析法(展開溶劑己烷:乙酸乙酯=25 : 1)純化 後得到 cf2= cfcf2ch(c(o)och(ch3)ch2c(cf3)2oh) CH2CH= CH2(1.14g)(化合物(1 I11))。 NMR數據如下所示。 】H-NMR(3 00.4MHz,溶劑:CDC13,基準: TMS)S(ppm) : 1.26〜1.43(m,3H),2.21〜2.26(m,2H), 2.50〜2.70(m,2H),3.19〜3.31(m,lH),4.84〜 4.87(m,lH),5.13〜5.25(m,3H)、5.67〜5.77(m,lH)。 19F-NMR(282.7MHz,溶劑:CDC13,基準: CFCl3)8(ppm) : -76.5 〜- 79.6(md,J= 627.8,6F), _92.9〜-93_3(m,lF),-103.2〜-108.1(m,3F),-l86.4〜 -47 - 200906874 -1 8 7 · 1 (m, 1 F)。 〔例 1-15〕CF2= CFCF2CH(C(0)0CH (ch2c(cf3)2oh)2)ch2ch=ch2(化合物(1112))的製造例 於反應器放入化合物(11h)(CF2=CFCF2CH(C(〇)〇H) CH2CH = CH2)(1.0g) ' OHCH(CH2C(CF3)2OH)2(1.7g)、二 甲胺吡啶(〇.14g)及二氯甲烷(lOg)與甲苯(30g),冷卻至 〇°C。繼續將二環己基碳化二亞胺之1M二氯甲烷溶液 (6.03g)慢慢滴入於反應器內。將反應器内溶液於25 t中 進行2小時攪拌並進行反應。過濾反應器内溶液,濃縮濾 液後得到粗生成物。將粗生成物以矽膠管柱層析法(展開 溶劑己烷:乙酸乙酯二20 : 1)純化後得到CF2 = cfcf2ch(c(o)och(ch2c(cf3)2oh)2)ch2ch = CH2(1.13g)(化合物(1 1 12))。 NMR數據如下所示。 W-NMRpOOjMHz,溶劑:CDC13,基準: TMS)S(ppm) : 2.31 〜2.41(m,2H),2_59 〜2_73(m,4H), 3_37 〜3.51(m,lH),5.06〜5.22(m,2H),5.70~ 5_90(m,2H),7.09(s,2H)。 19F-NMR(282.7MHz,溶劑:CDC13’ 基準: CFCl3)5(ppm) : -75.5〜- 78.6(md,J = 239.8,12F), -93.9〜-95.1(m,lF),-l〇3.2~-l〇5.5(m,2F), -107.5 〜-108.4(m,lF),-l85.8 〜-186.5(m,lF)。 〔例2〕聚合物的製造例 -48- 200906874 〔例2-1〕聚合物(1)的製造例 於耐壓反應器(内容積3 0mL、玻璃製)中裝入化合物 (121)(1.51§)與、乙酸乙酯(3.44)。繼續將作爲聚合啓始 劑的含有IPP50質量%之R225溶液(0.20g)添加於耐壓反 應器。反應器内經冷凍脫氣後’將反應器保持於4 0 °C ’進 行1 8小時聚合。將反應器内溶液滴入於甲醇’回收所生 成之固體物,並於80。(:下進行20小時真空乾燥’結果於 25°C下得到白色粉末狀聚合物(l)(〇.84g)。 聚合物(1)的 Mw 爲 6,300,Μη 爲 4,600。 又,藉由19F-NMR與 W-NMR分析聚合物(1)之結 果,確認聚合物(1)爲含有1種以上選自下式(u卜121)、下 式(U2-121)及下式(U3-121)所示重複單位所成群之重複單 位(U 1 2 1 )。 [化 26] /CF2 /Ch2 cf ch2 、/cf2 /CH2 ’ /CF-C、H 、 /、CF 、CH \〇F 、CH 、 CR /CH2 CF2 ^CH2 CF2 /CH2 NC(C(0)OC(CH3)3)2 、C(C(0)0C(CH3)3>2 vC(C(0)0C(CH3)3)2 (U1-121) {112-121) (U3-121) 聚合物(l)於丙酮、THF、乙酸乙酯、甲醇、2 -全氟己 基乙醇爲可溶,於R2 25、全氟(2-丁基四氫呋喃)、全氟-n -辛烷爲不溶。 〔例2-2〕聚合物(2)的製造例 -49- 200906874 於耐壓反應器(内容積2 OmL、玻璃製)裝入化合物 (12H)(1.00g)、與 R225(5.41g)及 IPP(O.lOg)。繼續,作爲 聚合啓始劑將含有IPP50質量%之R225溶液(〇.28g)添加 於耐壓反應器。反應器内經冷凍脫氣後,將反應器保持於 4 0°C,並進行1 8小時聚合。將反應器内溶劑轉變爲THF 後,滴入於己烷中,回收生成之固體物,並於8 (TC下進行 2 0小時真空乾燥,結果於2 5 °C下得到白色粉末狀的聚合 物(2)(0.82g)。 聚合物(2)的 Mw 爲 22,1 00,Μη 爲 8,700。 又,藉由1 9F-NMR與1H-NMR分析聚合物(2)之結 果,確認聚合物(2)爲含有1種以上選自下式(U1-12H)、下 式(U2-12H)及下式(U3-12H)所示重複單位所成群之重複單 位(U12H)。 [化 27] /CF2 / 、CF-CH 、 CF2 \(C(0)0H)2 (U1-12h) /CP2 ,CH2 〆 ,CF2 ,CH2 ’ 、CF 、CH CF 、CH 、 I I II CF2 /CH2 cf2 /ch2 nC(C(0)0H)2 、c(c(o)oh)2 (U2-12h) (U3-12H) 且,甲醇中 ’反應聚合物(2)、水酸化鈉及 CH3〇CH2Cl 後’ 得到含有下式所示之任一重複單位的聚 200906874 [化 28]
、 ^CH2 ^CF-CH 、 〆 CF2 /'CH2 O(C(0)OCH2〇CH3)2
'CF2 /CH2 / 、CF NCH
cf2 /CH2 CH s I CF2 /CH2 CP2 /CH2 、C{C(0)OCH2OCH3}2 xC(C(0)OCH2〇CH3}2 〔例2-3〕聚合物(3)的製造例 於反應器(内容積 200mL、玻璃製)中放入化合物 (11、(16.(^)與乙酸乙酯(129_8§),再添加作爲聚合啓始劑 之50質量%11225溶液之IPP(5.95g)。反應器内經減壓脫 氣後,使反應器内溫成40 °C,進行1 8小時的聚合反應。 回收將反應器内溶液滴入於己烷中所得之固體成分,於 120 °C下進行40小時真空乾燥。其結果於25 °C下得到白色 粉末狀聚合物(3)(15.5g)。 聚合物(3)的Mw爲9,700,Μη爲4,600,聚合物(3) 之Tg爲178°C。又,藉由19F-NMR與1H-NMR分析聚合 物(3)之結果,確認聚合物(3)爲含有1種以上選自下式 (Ul-1 lH)、下式(U2-1 1H)及下式(U3·:! 所示重複單位所 成群之重複單位(U1 1H)。 [化 29] ,CF2 ^CHz 'CF-CH 、 CF2 /CH2 \ /cf2 /CH2 CF2 ^CF XCH 、CF VCH 、 ch2 cf2 ch2 cf2 ch2
CH C(0)0H
XCH VCH
C(C)OH C(0)OH (U2-11h) (U3-11h)
聚合物(3)於丙酮' THF、乙酸乙酯、甲醇、PGMEA 爲可溶,於R225、全氟(2-丁基四氫呋喃)、全氟-η-辛烷 -51 - 200906874 爲不溶。 〔例2-4〕聚合物(4)的製造例 於反應器(内容積 3 OmL、玻璃製)中裝入化合物 (l^KO.Sg)、R225(8.0g)及 IPA(0.06g),再添加作爲聚合 啓始劑之50質量%R225溶液的ipp(i.Og)。反應器内經減 壓脫氣後,使反應器内溫成4 0 °C,進行1 8小時的聚合反 應。回收將反應器内溶液滴入於己烷(9 0 g)中所得之固體 成分,於90 °C下進行40小時真空乾燥。其結果於25 °C得 到白色粉末狀聚合物(4)(〇.56g)。 聚合物(4)的Mw爲16,000,Μη爲11,000,聚合物(4) 之Tg爲118°C。又,藉由]9F-NMR與】H-NMR分析聚合 物(4)之結果,確認聚合物(4)爲含有1種以上選自下式 (ΙΠ-111)、下式(U2-111)及下式(U3-111)所示重複單位所成 群之重複單位(U111)。 [化 30]
,ch2 ^CF-CH , / \ CF2 /CH2 \h
I C(O)0C(CH3)3 (U1-111) ,ch2 / 、CF 、CH I I cf2 ch2 XCH I C(0)OC(CH3)3
ch2 C(OJOC(CH3)3 (U3-111)
ch2 聚合物(4)於丙酮、THF、乙酸乙醋、PGMEA爲可 溶,於R225、全氟(2 -丁基四氫呋喃)、全氟- η-辛院爲不 溶。 -52- 200906874 〔例2-5〕聚合物(5)的製造例 於反應器(内谷積30mL、玻璃製)中裝入化合物 (ll2)(〇.8g)、R225(4,3g)及 IPA(0.07g) ’ 再添加作爲聚合 啓始劑之50質量°/〇R22 5溶液的IPP(〇.53g)。反應器内經 減壓脫氣後’使反應器内溫成40°C,進行1 8小時的聚合 反應。回收將反應器内溶液滴入己烷(60g)中所得之固體 成分,於90°C下進行40小時真空乾燥。其結果,於25t: 得到白色粉末狀聚合物(5) (〇 . 6 g)。 聚合物(5)的 Mw 爲 1 5,800,Μη 爲 8,900。 藉由NMR分析,確認聚合物(5)爲含有1種以上選自 下式(ΙΠ-1 I2)、下式(U2-l I2)及下式(Uhl I2)所示重複單位 所成群之重複單位(U112)。 [化 31] xf2 、CF—CH / \ cf2 ch2 ,ch2 CH I C(0)OCH2〇CH3 ,CF2 /CH2 ^ 、CF CH CF2 /CH2 、CH I C(0)OCH2OCH3 (U2.112) ^cp2 ^CHj 、〒F XCH 、 cf2 ch2 、CH I C{0)OCH2OCH3 (U3-112) 聚合物(5)於丙酮、THF、乙酸乙醋、PGMEA爲可 溶,於R225、全氟(2 -丁基四氫咲喃)、全氟·η -辛院爲不 溶。 〔例2-6〕聚合物(6)的製造例 -53- 200906874 於反應器(内容積30mL、玻璃製)中裝入化合物 (ll3)(2.0g)與乙酸乙酯(15_8g)’再裝入50質量%之R225 溶液的IPP(〇.73g),於40°C進行1 8小時聚合反應。回收 將反應器内溶液滴入於己烷中所得之固體物,於90 °C下進 行24小時真空乾燥後得到聚合物(6)(1.40g) ^ 聚合物(6)的Mw爲12,600,Μη爲6,100,聚合物(6) 之Tg爲90°C。藉由NMR分析,確認聚合物(6)爲含有1 種以上選自下式(Ul-1 I3)、下式(U2-1 I3)及下式(U3-1 I3)所 示重複單位所成群之重複單位(U1 I3)。 [化 32] CH C(0)〇CH2〇CH2
VCH^ C(0)OCH2OCH2
,cf2 ,ch2 、CF-CH 、 / \ cf2 .ch2 ,cf2 /CH2 、?F 、?H CF2 xh2 /CF2 xch2 、CF 、CH 、 I I cf2 ch2 \h I C(0)〇CH2OCH2
(U2-ir (U3-113) 聚合物(6)係爲25t下白色粉末狀,於各丙酮、四氫 呋喃、乙酸乙酯爲可溶。 〔例2 · 7〕聚合物(7)的製造例 於反應器(内容積30mL)中裝入化合物(ll4)(2.0g)及乙 酸乙酯(ll.Og)’再裝入50質量%之R225溶液的 IPP(0.53g)’於40°C進行18小時聚合反應。回收將反應 器内溶液滴入於己烷中所得之固體物,於n 〇 〇c進行2 4小 -54- 200906874 時真空乾燥後得到聚合物(7)(1.90g>。 聚合物(7)的]^评爲23,5〇〇,:\111爲9,6〇0,聚合物(7) 之 T g 爲 1 6 1 °C。 藉由NMR分析,確認聚合物(7)爲含有至少1種選自 下式(U1-114)、下式(U2-114)及下式(υπρ)所示重複單位 所成群之重複單位(U II4)。 [化 33] /CF2 ^ch2 / 7F-C、H 、 CF2 /CH2 \h C(0)0 cH3is (U1-114)
聚合物(7)爲25C下之白色粉末狀,於各四氫呋喃、 乙酸乙酯爲可溶。 〔例2-8〕聚合物(8)的製造例 於反應器(内容積30mL)中裝入化合物(116)(1.0g)及乙 酸乙酯(8.8g),再裝入 50質量。/。之 R225溶液的 IPP(0.40g),於40°C進行18小時聚合反應。回收將反應 器内溶液滴入於甲醇中所得之固體物,於9 0 °C下進行2 4 小時真空乾燥後得到聚合物(8 )(0.62 g)。 聚合物(8)的Μη爲6,100’ Mw爲10,200,聚合物(8) -55- 200906874 之Tg爲107t。藉由NMR分析,確認聚合物(8)爲含有1 種以上選自下式(Ul-1 I6)、下式(U2-1 I6)及下式(U3-1 I6)所 示重複單位所成群之重複單位(U II6) ° [化 34]
C(0)OCH2〇 ,cf2 ^ch2 ~CF—CH ' CF2 /CH2 \h
(U2-116) V /CF2 /CH2 CF 、CH 、
I I CF: ch2
、CH
I C(0)0CH20 (U3-116) 〔例2-9〕聚合物(9)的製造例 於反應器(内容積30mL)中裝入化合物(1 i7)(〇.5g)及 R22 5 (l .93g),再裝入 50 質量%之 R225 溶液的 IPP(0.15g),於40°C進行18小時聚合反應。回收將反應 器内溶液滴入於己烷中所得之固體物,於1 〇(TC進行24小 時真空乾燥後得到聚合物(9) (0 ·4 2 g)。 聚合物(9)的 Μη 爲 9,900,Mw 爲 15,1〇〇。 藉由:NMR分析’確認聚合物(9)含有1種以上選自下 式(U1-117)、下式(U2-117)及下式(U3-ii7)所示重複單位所 成群之重複單位(U 1 17)。 -56- 200906874 [化 35] CF2 cf4\ CH‘ CF—CF2 CFaCFry H2v »c o—cIcl/H(o)1.1fc(u )-H O—CIC11 H2/H(02* c, 、c—c(uVF2、 CIC F2、 c
Γ 2 Η H CIC CIC CF—CF2 rCFr'CFr
F2 聚合物(9)於25。(:下爲白色粉末狀,於各丙酮、 THF、乙酸乙酯' 甲醇、r225爲可溶。 〔例2-10〕聚合物(1〇)的製造例 於反應器(内容積30mL)裝入化合物(n8)(〇.81g)及 R2 25(7.2g),再裝入 50 質量 %之 R2 25 溶液的 IPP(〇_81g) ’於4 0 °C進行1 8小時聚合反應。回收將反應器内溶液滴 入於己烷中所得之固體物,於901進行24小時真空乾燥 後得到聚合物(1 0 ) ( 0.6 6 g )。 聚合物(10)的 Μη 爲 4,300,Mw 爲 6,0〇〇。 藉由 NMR分析,確認聚合物(10)爲含有1種以上選 自下式(U1-118)、下式(U2-118)及下式(U3_il8)所示重複單 位所成群之重複單位(U1 Is)。 [化 36] /CF2、eF_e/H2、/CF2、/CH2 / \ /f2 /η2 CF-CH CF 、CH 、CF 、CH 、
CF< /H2 >H2 if2 U
〒H ^CH 、〒H C(0)0CH2CF2CF3 C(0)0CH2CF2CF3 C(0)0CH2CF2CF3 (U1-118) (U2-118) (U3-11®) -57- 200906874 〔例2-11〕聚合物(11)的製造例 於反應器(内容積3〇mL)裝入化合物(ii9)(〇.89g)及乙 酸乙酯(7.8g),再裝入 50質量%之 R2 25溶液的 IPP(0.35g),於40°C進行18小時聚合反應。回收將反應 器内溶液滴入於己烷中所得之固體物,於9 0 °C下進行2 4 小時真空乾燥後得到聚合物(1 1)(0.80g)。 聚合物(11)的 Μη 爲 7,500,Mw 爲 16,000。 藉由N MR分析,確認聚合物(1 1 )爲含有1種以上選 自下式(U1-119)、下式(U2-119)及下式(U3-119)所示重複單 位所成群之重複單位(U 1 19)。 [化 37] ^cf2 ^CF-CH cf2 Jch2 ,CH2 CH C(0)〇 CH3CH2 t) (ϋΐ-11») ,cf2 xch2 / 、CF 、CH cf2 ch2 nch C(0)0 CHaCHz--^ (U2-119) 、,cf2 ch2 CF 'CH ' cf2 .ch2 nch C{0)0 (U3-119) 聚合物(11)爲25 °c下白色粉末狀’於各四氫呋喃、乙 酸乙酯爲可溶。 〔例2-12〕聚合物(12)的製造例 於反應器(内容積3〇mL、玻璃製)裝入化合物 (llH)(0_67§)、化合物(ll2)(2.8g)及乙酸乙酯(22.7g),再 -58- 200906874 裝入作爲聚合啓始劑之50質量%R22 5溶液的IPP(1 . lg)。 反應器内經減壓脫氣後,使反應器内溫成40°C,進行18 小時的聚合反應。回收將反應器内溶液滴入於己烷(270 g) 中所得之固體成分,於ll〇t下進行40小時真空乾燥。其 結果,於25 °C得到白色粉末狀聚合物(12)(2.5 5g)。 聚合物(12)的 Mw 爲 1 5,400,Μη 爲 8,3 00。 藉由NMR分析,確認聚合物(12)爲含有重複單位 (U11H)與重複單位(U112)之聚合物,其對於全重複單位而 言’含有重複單位(U11H)36莫耳%,重複單位(Ull2)64莫 耳%。 聚合物(12)於丙酮、THF、乙酸乙酯、甲醇、PGMEA 爲可溶’於R225、全氟(2-丁基四氫呋喃)、全氟-n-辛院 爲不溶。 〔例2-13〕聚合物(13)的製造例 於反應器(内容積30mL、玻璃製)裝入化合物 (llH)(0.07g)、化合物(1^)(0.758)及乙酸乙酯(i.85g),再 裝入作爲聚合啓始劑之 50質量% R2 25溶液之 IPP(〇.l lg)。反應器内經減壓脫氣後,使反應器内溫成 4 0 °C ’進行1 8小時的聚合反應。回收將反應器内溶液滴 入於己院中所得之固體成分,於9 0 t:進行2 4小時真空乾 燥後得到聚合物(13)(0.67g)。 聚合.物(13)的 Mw 爲 28,000,Μη 爲 14,500。 藉由NMR分析’確認聚合物(13)爲含有重複單位 -59- 200906874 (U 11 H)與重複單位(U111)之聚合物,其對於全重複單位而 言,含有重複單位(υιιΗ)ΐ2莫耳%、重複單位(U111)88吴 耳%之聚合物。 〔例2-14〕聚合物(14)的製造例 於反應器(内容積3〇mL、玻璃製)中裝入化合物 (ll4)(0.75g)、化合物(ll8)(0.18g)及乙酸乙酯(6_7g),再裝 入作爲聚合啓始劑之50質量%R22 5溶液之IPP(0.31g)。 反應器内經減壓脫氣後,使反應器内溫成40°C ’進行1 8 小時的聚合反應。回收將反應器内溶液滴入於己烷中所得 之固體成分,於90°C進行24小時真空乾燥後得到聚合物 (14)(0.61g)。 聚合物(14)的 Mw 爲 1 8,900,Μη 爲 1 0,600。 藉由NMR分析,確認聚合物(14)含有重複單位(U114) 與重複單位(U118)之聚合物,其對於全重複單位而言,含 有重複單位(Ull4)77莫耳%、重複單位(Ull8)23莫耳%之 聚合物。 〔例2-15〕聚合物(15)的製造例 於反應器(内容積 30mL、玻璃製)中裝入化合物 (llH)(0.20g)、化合物(n7)(0.45g)及乙酸乙酯(5.7g),再 裝入作爲聚合啓始劑之50質量%R225溶液的 IPP(0_2 6g)。反應器内經減壓脫氣後,使反應器内溫成 4 〇 C ’進行1 8小時的聚合反應。回收將反應器内溶液滴 -60- 200906874 入於己烷中所得之固體成分,於1 00 °C下進行24小時真空 乾燥後得到聚合物(15)(0.51g)。 聚合物(15)的 Mw 爲 15,400,Μη 爲 8,300。 藉由NMR,並分析聚合物(15)結果,確認聚合物(15) 爲含有重複單位(U1 1Η)與重複單位(U1 I7)之聚合物,對於 全重複單位而言,其爲含有重複單位(U1 1Η) 52莫耳%、重 複單位(ΙΠ 17)48莫耳%之聚合物。又,聚合物(15)於各丙 酮、THF、乙酸乙酯、甲醇爲可溶。 〔例2-16〕聚合物(16)的製造例 於耐壓反應器(内容積3 OmL、玻璃製)中裝入化合物 (cf2= cfcf2ch(c(o)o(ch2)3c(cf3)2oh)ch2ch= CH2)(化 合物(ll1Q))(1.0g)、與乙酸乙酯(7.0g)。繼續添加作爲聚 合啓始劑之含有IPP50質量%之R225溶液(0.67g)於耐壓 反應器中。反應器内經冷凍脫氣後,保持反應器於40°C, 並進行1 8小時聚合。於反應器内溶液中滴入己烷,回收 所生成之固體物,並於80°C下進行18小時真空乾燥,結 果25°C下得到白色粉末狀聚合物(16)(1.6打)。 聚合物(16)的 Mw 爲 9,700’ Μη 爲 5,800。 又,藉由19F-NMR與1Η-NMR分析聚合物(16)結果, 確認聚合物(16)爲含有1種以上選自下式(U1-111G)、下式 (U2-ll1())及下式(U3-11I())所示重複單位所成群之重複單 位(U1 1 10)。 -61 - 200906874 [化 38]
(U1-1110) (U2-1110) (U3-11 ) 聚合物(16)於丙酮、THF、乙酸乙酯、甲醇爲可溶。 〔例2 -1 7〕聚合物(1 7)的製造例 於耐壓反應器(内容積30mL、玻璃製)中裝入化合物 (CF2 = CFCF2CH(C(0)0CH(CH3)CH2C(CF3)20H)CH2CH = CH2)(化合物(1 1 Hmo.Sg)、與乙酸乙酯(3.6g)。繼續添加 作爲聚合啓始劑的含有IPP50質量%之R22 5溶液(〇.3 63 g) 於耐壓反應器中。反應器内經冷凍脫氣後,將反應器保持 於4 0 °C下並進行1 8小時聚合。將反應器内溶液滴入於己 烷中,回收所生成之固體物,於80 °C進行24小時真空乾 燥結果’於25 C得到白色粉末狀聚合物(17)(0.4g)。 聚合物(17)的 Mw 爲 9,000,Μη 爲 6,000。 又’藉由"F-NMR與1H-NMR分析聚合物(17)結果, 確認聚合物(16)爲含有1種以上選自下式(Ui_uI1)、下式 (U2-11 )及下式(U3-1111)所不重複單位所成群之重複單 位(U 1 1 1 1)。 -62- 200906874 [化 39] /CF2
、αί
、CF-CH cf2 Jch2 CH cf2 .ch2 VCH
{UM111 (U2-1111) (U3-1111) 聚合物(17)於丙酮、THF、乙酸乙酯、甲醇爲可溶。 〔例2 -1 8〕聚合物(1 8)的製造例 於反應器(内容積30mL、玻璃製)中裝入化合物 (11H)(CF2= CFCF2CH(C(0)0H)CH2CH= CH2)(〇.l〇g)、化 合物(cf2 = cfcf2ch(c(o)o(ch2)3c(cf3)2oh)ch2ch = CH2)(0.52g)及乙酸乙酯(4.9g),再裝入作爲聚合啓始劑的 50質量%R225溶液之IPP(0.22g)。反應器内經減壓脫氣 後,使反應器内溫成4〇°C,進行1 8小時的聚合反應。回 收將反應器内溶液滴入於己烷中所得之固體成分,於90°C 進行24小時真空乾燥後得到聚合物(1 8)(0.4 5g)。 聚合物(18)的 Mw 爲 11,900,Μη 爲 6,400。 藉由NMR分析聚合物(18)結果,確認聚合物(18)爲含 有重複單位(U11H)與重複單位(cf2=cfcf2ch(c(o) o(ch2)3c(cf3)2oh)ch2ch=ch2)之聚合物,對於全重複 -63- 200906874 單位而言,其爲含有重複單位(U1 1 H)23莫耳%、重複單位 (CF2= CFCF2CH(C(0)0(CH2)3C(CF3)2〇H)CH2CH= ch2)77 莫耳%之聚合物。又,聚合物(18)於各丙酮、THF、乙酸 乙酯、甲醇爲可溶。 〔例2_19〕聚合物(19)的製造例 於反應器(内容積30mL、玻璃製)中裝入化合物 (11h)(CF2= CFCF2CH(C(0)0H)CH2CH= CH2)(0.10g) ' 化合物(cf2 = cfcf2ch(c(o)och(ch3) CH2C(CF3)2OH)CH2CH= CH2)(0.44g)及乙酸乙酯(4.8g), 再裝入作爲聚合啓始劑之50質量%R225溶液的 IPP(0_22g)。反應器内經減壓脫氣後,使反應器内溫成 4 〇 °C,進行1 8小時的聚合反應。回收將反應器内溶液滴 入於己烷中所得之固體成分,於9 0 °C進行2 4小時真空乾 燥後得到聚合物(19)(0.39g)。 聚合物(19)的 Mw 爲 11,600,Μη 爲 6,500。 藉由NMR分析聚合物(19)結果,確認聚合物(19)爲含 有重複單位(U11Η)與重複單位(cf2 = cfcf2ch(c(o)och(ch3)ch2c(cf3)2oh)ch2ch = ch2)之 聚合物,對於全重複單位而言,其爲含有重複單位 (U11h)28 莫耳%、重複單位(CF2 = CFCF2CH(C(0)0CH (CH3)CH2C(CF3)2OH)CH2CH = CH2)72 莫耳 % 之聚合物。 又,聚合物(1 9)於各丙酮、THF、乙酸乙酯、甲醇爲可 溶。 -64 - 200906874 〔例2-20〕聚合物(20)的製造例 於耐壓反應器(内容積30mL、玻璃製)中裝入化合物 (CF2 = CFCF2CH(C(0)〇CH(CH2C(CF3)2〇H)2)CH2CH = CH2)(化合物(ll12))(〇.5g)、與乙酸乙酯(4.4g)。繼續添加 作爲聚合啓始劑之含有IPP50質量%的R225溶液(G.2g)於 耐壓反應器中。反應器内經冷凍脫氣後,將反應器保持於 4 0°C下並進行1 8小時聚合。將反應器内溶液滴入於己烷 中,回收所生成之固體物,並於9(TC進行24小時真空乾 燥結果,於25°C得到白色粉末狀聚合物(20)(0.28g)。 聚合物(20)的 Mw 爲 10,300’ Μη 爲 6,800。 又,藉由19F-NMR匕W-NMR分析聚合物(20)結果’ 確認聚合物(20)含有1種以上選自下式(U 1-11 12)、下式 (U2-1112)及下式(U3-1112)所示重複單位所成群之重複單 位(U1 1 12)。 [化 40] ,cf2 、CF-CH CF<, ^CHz CH | o=c、 > ;〇 ^-HCC 、ch2 f3c cf3
/CF3 、OH
(U2-1110) (U3-1110) -65- 200906874 聚合物(20)於丙酮、THF、乙酸乙酯、甲醇爲可溶。 〔例3〕聚合物之撥水性評價例 將聚合物(1)溶解於PGMEA,作成含有聚合物(1)1〇 質量%之PGMEA溶液,再通過過濾器(聚四氟乙烯製、孔 徑0_2μπι。)過濾後得到樹脂溶液。 繼續於表面上形成反射防止膜(ROHM AHD HAAS Electronic Materials公司製商品名A R2 6。)之矽基板上 轉動塗佈樹脂溶液後,將矽基板於1 oot:下進行90秒加熱 處理’於矽基板上形成聚合物(1)所成之樹脂薄膜。繼 續’對於該樹脂薄膜之水,測定其靜態接觸角、掉落角、 前進角及後退角。測定則使用協和界面科學公司製接觸角 計DM-700。又,所使用之水滴體積爲,接觸角爲2μί’ 掉落角、前進角及後退角爲50μΕ。且,藉由滑落法進行 測定’掉落角以掉落角表示,前進接觸角以前進角表示, 後退接觸角以後退角表示。靜態接觸角、掉落角、前進角 及後退角之單位各以角度(度)表示。 取代聚合物(1)使用聚合物(4)或(5)以外’其他同樣地 測定出各靜態接觸角、掉落角、前進角及後退角。歸納結 果如表1所示。 [表1] 形成樹脂薄膜之材料 靜態接觸角 掉落角 前進角 後退角 聚合物(1) 86 9 89 79 聚合物⑷ 88 8 91 83 聚合物(5) 75 21 81 61 -66 - 200906874 又,取代含有聚合物(1)10質量%之PGMEA溶液使用 含有聚合物(2)、(3)、(6)〜(11)、(13)、(14)或(15)之溶液 以外,其他同樣地測定所形成之樹脂薄膜各靜態接觸角、 掉落角、前進角及後退角。又,聚合物(16)〜(20)使用含 有聚合物(16)〜(20)4質量%之4_甲基-2戊醇溶液的溶 液。歸納結果如表2所示。 [表2] 形成樹脂薄膜之材料 靜態接觸角 掉落角 前進角 後退角 聚合物(2) 54 48 70 23 聚合物(3) 56 44 67 21 聚合物⑹ 86 14 89 75 聚合物⑺ 87 8 87 80 聚合物(8) 82 14 86 73 聚合物(9) 103 12 105 92 聚合物(10) 98 15 86 73 聚合物(11) 86 9 90 80 聚合物(13) 86 14 89 75 聚合物⑽ 89 12 92 80 聚合物(15) 96 50 101 53 聚合物(16) 74 19 82 63 聚合物(Π) 80 15 84 69 聚合物(18) 71 24 77 55 聚合物(19) 75 23 81 59 聚合物(20) 73 17 79 62 由以上結果得知,本發明的化合物(1)之聚合物可作 爲撥水性材料而適用於優良撥水撥油性之被膜的形成上。 -67- 200906874 產業上可利用性 本發明的聚合物可作爲微影術用光阻材料(特別爲浸 潤微影術用感光性光阻材料、浸潤微影術用光阻保護膜材 料。)、離子父換膜用材料、燃料電池用材料、光纖維材 料、各種電子構件、透明樹脂薄膜材料、接著劑材料、纖 維材料、耐氣候性塗料材料等使用。 且’本發明g兌明書之揭示內容,包含於2007年3月 30日申請之日本專利出願2007-093221號及2007年10 月4日申請之日本專利出願2007-261185號之說明書、申 請專利範圍、圖式及摘要之全内容。 -68-

Claims (1)

  1. 200906874 十、申請專利範圍 1.一種下式(1)所示化合物, CF2= CFCF2C(X)(C(0)0Z)(CH2)„CR= CHR (1) 式中符號表示下述意思; X;氫原子、氰基或式-c(o)oz所示基; Z:氫原子或碳數1〜20的1價有機基; η : 0、1 或 2 ; R:氫原子或碳數1〜20的1價有機基,2個R可相 同或相異。 2·—種下式(1 1)所示化合物, CF =CFCF cmc^OZ^CH CH=CH (11) 2 2 2 2 式中符號表示下述意思; z1 :氫原子、式所示基、式-ch2〇y2所示 基、或下式所示基; [化1]
    Y1及Y2··各獨立爲氫原子、或碳數1〜19的1價飽 和烴基: Y3 :氫原子或碳數1〜1 6的1價飽和烴基; Q3:與式中碳原子共同形成2價環式徑基之碳數3〜 19的基; -69- 200906874 但,1價飽和烴基時的γ1、γ2及Υ3、以及Q3中之碳 原子-碳原子間可插入式所示基、式-c(〇)-所示基、或 式- C(〇)〇-所示基;又,γ1、γ2、Y3及Q3中之碳原子可 結合氟原子、羥基、或羧基。 3.—種下式(111)所示化合物, CF =CFCF CH(C(0)0Zin)CH CH=CH (1111) 2 2 2 2 式中符號表示下述意思; Z":氫原子、式-C(Y")3所示基、式-ch2oy21所示 基、或下式所示基; [化2]
    Y 1 1 :碳數1〜6的1價飽和烴基; Y21:碳數1〜12的1價飽和烴基或碳數2〜12之含 有式所示基的1價飽和烴基; Y31:氫原子、或碳數1〜6的1價飽和烴基; Q31··碳數4〜12的2價飽和烴基、碳數4〜12的2 價含氟飽和烴基、或碳原子-碳原子間插入式-Ο -所示基、 式- C(o) -所示基或式-C(0)0 -所示基之碳數4〜12的2價 飽和烴基。 4 · 一種下式(1 1 1 1)所示化合物, CF =CFCF CH(C(0)0Zlu)CH CH = CH (1111) 2 2 2 2 式中符號表示下述意思; z111 :具有1個以上的式-C(CF3)2OH所示基之碳數3 -70- 200906874 〜20的1價有機基。 5·—種下式(12)所示化合物, CF =CFCF CiCiOiOZ1) CH CH=CH (12) 2 2 2 2 2 式中符號表示下述意思; Z1 ··氫原子、式所示基、式-CH2OY2所示 基、或下式所示基; [化3]
    Y1及Y2:各獨立爲氫原子、或碳數1〜19的1價飽 和烴基; Y3 :氫原子或碳數1〜1 6的1價飽和烴基; Q3:與式中碳原子共同形成2價環式烴基之碳數3〜 19的基; 但,1價飽和烴基時的Y1、Y2及Y3、以及Q3中的碳 原子-碳原子間可插入式-〇·所示基、式- C(O) -所示基、或 式·(:(0)0-所示基;又,Y1、Y2、Y3及Q3中的碳原子可 結合氟原子、羥基、或羧基。 6.—種下式(121)所示化合物, CF =CFCF C(C(0)0Zn) CH CH = CH (121) 2 2 2 2 2 式中符號表示下述意思; Z":氫原子、式-C(YU)3所示基、式-CH2OY21所示 -71 - 200906874 * '或下式所示基; [化4]
    Y :碳數1〜6的1價飽和烴基; Υ21:碳數1〜12的1價飽和烴基或碳數2〜12之含 有式所示基的1價飽和烴基; Υ31:氫原子、或碳數1〜6的1價飽和烴基; Q31:碳數4〜12的2價飽和烴基、碳數4〜12的2 價含氟飽和烴基、或碳原子-碳原子間插入式-〇-所示基、 式- C(〇) -所示基或式- C(0)0 -所示基之碳數4〜12的2價 飽和烴基。 7.—種式(pl 2)所示化合物之製造方法,其特徵爲 將下式(P5)所示化合物與下式(p4)所示化合物經反應 得到下式(p 3 )所示化合物,繼續將該化合物與下式(p 2)所 示化合物經反應者; CH (C(0)0ZP) (p5) 2 2 CHR=CR(CH ) -GP (p4) 2 n CH(C(〇)OZP) ((CH) CR=CHR) (p3) 2 2 n CF =CFCF -JP (p2) 2 2 CF =CFCF C(C(0)0ZF) (CH ) CR=CHR (pi2) 2 2 2 2 n 式中符號表示下述意思; Zp :碳數1〜20的1價有機基; R:氫原子或碳數〗〜20的1價有機基,2個r可相 同或相異; -72- 200906874 η : 0、1 或 2 ; Gp:氯原子、溴原子或碘原子; JP:氣原子、溴原子、碑原子或式- 〇S〇2-Lp所不基; LP:氟原子、碳數1〜10之烴基或碳數1〜10之含氟 烴基。 8. —種下式(12H)所示化合物之製造方法,其特徵爲 下式(pi 2)所示化合物經水解反應者; CF =CFCF C(C(0)0ZP) (CH ) CR=CHR (pl2) CF =CFCF C(C(0)0H) (CH ) CR = CHR (12H) 2 2 2 2 n 式中符號表示下述意思; zp:碳數1〜20的1價有機基; R:氫原子或碳數1〜20的1價有機基,2個R可相 同或相異; η : 0、1 或 2。 9. 一種下式(1 1Η)所示化合物之製造方法,其特徵爲 將下式(12Η)所示化合物經脫碳酸反應者; CF =CFCF C(C(0)0H) (CH ) CR=CHR (12H) 2 2 2 2 η CF =CFCF CH(C(0)0H)(CH ) CR=CHR (11H) 2 2 2 n 式中符號表示下述意思; R:氫原子或碳數1〜20的1價有機基,2個R可相 同或相異; η : 0、1 或 2。 10. —種下式(12W)所示化合物之製造方法,其特徵爲 將下式(12Η)所示化合物與下式(w)所示化合物經反應者. -73- 200906874 CF =CFCF C(C(0)0H) (CH ) CR=CHR (12H) 2 2 2 2 n CH =CWP (w) 2 2 CF =CFCF C(C(0)0C(CH )WP ) (CH ) CR=CHR (12W) 2 2 3 2 2 2η 式中符號表示下述意思; R :氫原子或碳數1〜2 0的1價有機基,2個R可相 同或相異; η : 0、1 或 2 ; Wp:各獨立爲氫原子或碳數1〜20的1價飽和烴 基、或2個Wp與式中之碳原子共同形成碳數3〜20的2 價環式烴基之基。 11.一種下式(11W)所示化合物之製造方法,其特徵爲 將下式(1 1H)所示化合物與下式(W)所示化合物經反應者; CF =CFCF CH(C(0)0H) (CH ) CR=CHR (11H) 2 2 2 n CH =CWP (w) 2 2 CF =CFCF CH(C(0)0C(CH )WP ) (CH ) CR=CHR (11W) 2 2 3 2 2 n 式中符號表示下述意思; R:氫原子或碳數1〜20的1價有機基,2個R可相 同或相異; η ·· 0、1 或 2 ; wp:各獨立爲氫原子或碳數1〜20的1價飽和烴 基、或2個Wp與式中之碳原子共同形成碳數3〜20的2 價環式烴基之基。 1 2 . —種聚合物,其特徵爲聚合下式(1)所示化合物所 得者; CF =CFCF C(X) (C(〇)〇Z) (CH ) CR=CHR (l) 2 2 2 n -74- 200906874 式中符號表示下述意思; X:氫原子、氰基或式- c(o)oz所示基; Z:氫原子、或碳數1〜20的1價有機基; η : 0、1 或 2 ; R:氫原子或碳數1〜20的1價有機基,2個R可相 同或相異。 1 3 . —種聚合物,其特徵爲聚合下式(2 )所示化合物所 得者; CF =CFCF CH(C(0)0Zin) (CH ) CR = CHR (2) 2 2 2 η 式中符號表示下述意思; Ζ111:具有1個以上之式- C(CF3)2OH所示基的碳數3 〜2 0的1價之有機基; η : 0、1 或 2 ; R:氫原子或碳數1〜20的1價有機基,2個R可相 同或相異。 1 4 .如申請專利範圍第1 2項或第1 3項之聚合物,其 中重量平均分子量爲1,000〜1,〇〇〇,〇〇〇。 -75- 200906874 七、指定代表圖: (一) 、本案指定代表圖為:無 (二) 、本代表圖之元件代表符號簡單說明:無 八、本案若有化學式時,請揭示最能顯示發明特徵的化學 式:式(1) CF2 = CFCF2C(X) (C(O)OZ) (CH )nCR = CHR (l)
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4897457A (en) 1987-08-14 1990-01-30 Asahi Glass Company Ltd. Novel fluorine-containing cyclic polymer
JP2526641B2 (ja) 1987-08-14 1996-08-21 旭硝子株式会社 新規含フッ素環状重合体
TW316266B (zh) * 1993-07-30 1997-09-21 Commw Scient Ind Res Org
WO1997045464A1 (en) * 1996-05-28 1997-12-04 E.I. Du Pont De Nemours And Company Partially fluorinated polymers
DE69840266D1 (de) * 1997-05-16 2009-01-08 Nippon Zeon Co Polymer enthaltende flüssigkeit und verfahren zur herstellung eines polymerfilms
JP4117468B2 (ja) 2001-02-09 2008-07-16 旭硝子株式会社 含フッ素化合物、含フッ素ポリマー及びその製造方法
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JP4010160B2 (ja) * 2002-03-04 2007-11-21 旭硝子株式会社 レジスト組成物
JP2005060664A (ja) 2003-07-31 2005-03-10 Asahi Glass Co Ltd 含フッ素化合物、含フッ素ポリマーとその製造方法およびそれを含むレジスト組成物
JP2006342059A (ja) * 2003-09-02 2006-12-21 Asahi Glass Co Ltd クロロフルオロブタンの製造方法
JPWO2005042453A1 (ja) 2003-10-31 2007-11-29 旭硝子株式会社 含フッ素化合物、含フッ素ポリマーとその製造方法
JP4407358B2 (ja) * 2004-04-14 2010-02-03 旭硝子株式会社 含フッ素ポリマーおよびレジスト組成物
JP4091952B2 (ja) 2005-09-27 2008-05-28 株式会社明電舎 信号の波形分析方法とそのプログラム及び信号の波形分析方法を使用した車両運転特性の解析方法とそのプログラム
JP2007131683A (ja) * 2005-11-08 2007-05-31 Univ Of Fukui 優れた熱的特性と光学的特性を有するアクリル酸エステル系重合体及びそのためのモノマー
JP4352058B2 (ja) 2006-03-29 2009-10-28 株式会社日本製鋼所 造粒装置用切断装置
JPWO2007119804A1 (ja) * 2006-04-13 2009-08-27 旭硝子株式会社 液浸露光用レジスト組成物

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