TW200837810A - Process chamber, inline coating installation and method for treating a substrate - Google Patents

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TW200837810A
TW200837810A TW097100855A TW97100855A TW200837810A TW 200837810 A TW200837810 A TW 200837810A TW 097100855 A TW097100855 A TW 097100855A TW 97100855 A TW97100855 A TW 97100855A TW 200837810 A TW200837810 A TW 200837810A
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substrate
Prior art date
Application number
TW097100855A
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English (en)
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Jurgen Henrich
Michael Schafer
Edgar Haberkorn
Original Assignee
Applied Materials Inc
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    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
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Description

200837810 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 針美t月係有關於一種用來處理基板的製程室,尤复曰 對一基板進行雷漿描μ 兀再疋 漿玲強化學氣相沈積(PECVD)塗佈 程至,該製程室包括一接為··,、 接又态(recnplent)、用以產生處 基板之反應條件的處理工且尤^ 《 爽理 处理工具、位於該接受器中且用以承載 至少一基板的至少一可動式载具,以及一運送裝置,其用 Ο 以沿著該運送運動所定義之運送途徑來運送該載具進入該 接受器中或㈣接受器離開。其中該運送裝置具有至少二 導引裝置’以沿著該運送途徑導引該至少一載具。此外, 本發明亦有關於一種在線塗佈(inline e〇ating)設備,更明 確而&是一種在線電漿增強化學氣相沈積(pECVD)塗佈設 備,以及一種用以對位於载具處之基板進行處理的方法, 更明確而言’是利用電漿增強化學氣相沈積(pECVD)進行 塗佈之方法。 【先前技術】 〇 習知技術中有多種對一基板進行塗佈之方法。舉例而 言,在製造光電電池時,這些方法中的其中一種方法為電 漿增強化學氣相沈積法(PECVD)。在PECVD塗佈時,不同 膜層通常在群集設備中進行塗佈。 在群集式PECVD設備中,尤其是在塗佈室内,基板 載具與電極之間的運送及接觸或電極連接,都被證明是有 問題的,真因而限制了產能。接觸不良的原因經常是因為 5 200837810 1¾製程溫度導致基板載具熱膨服所造成。 此現象導致反應室的結構相對複雜、高維護成本 及因為複雜的運送與接觸方式而造成產能降低。此外 接觸時所產生的錯誤可能導致不當的塗佈結果以及設 障。 【發明内容】 因此,本發明之目的係提供一種塗佈室、一種塗 備以及一種塗佈方法,以確保在反應室中的運送方式 且與基板載具的接觸可靠穩固。 上述目的係藉由申請專利範圍第i項的製程室、 專利範圍第1 6項的在線塗佈設備,以及申請專利範 18項的方法而達成。 根據本發明所做且用來處理基板,特別是對基板 電漿增強化學氣相沈積(pECVD)塗佈的製程室(反力 包括·-接受器;帛以產生處理基板之反應條件的處 具’至少一可動式载具,該載具位於該接受器中且用 2至^ I板’以及’—運送裝置用以沿著該運送運 定義之運送途徑來運送該载具進入或離開該接受器。 5、(裝置具有至少一導引裝置,用以沿著該運送途 導引該至少-載具。此外,&製…括了位在製程 且用以使位於運送位置的载具脫離該導引裝置的工具 :用以從導引裝置接收載具的工具,其中該接收工具 轉移裝置,用以將载具從運送位置轉移成橫越運送 ,以 ,在 備故 佈設 簡單 申請 圍第 進行 I室) 理工 來承 動所 其中 徑來 室内 ,以 包括 方向 6 200837810 的一處理位置。 此製程室在靜態PECVD塗佈製程有特別的效果。 具可包括例如一框架,而基板則固定於此框架。該轉移 置接收一載具,並在載具從導引裝置上鬆脫後,將载具 該運送途徑橫向地(亦即侧向)移除開來。一般而言,本 明的基本概念是將「運送與導引」與r運送與接觸」功 性地分別分開。 更明確而言,製鞋室製造成可藉由該運送裝置沿著 運送途徑實質垂直地運送安置於載具上的基板。 較佳地’轉移方向(transfer direction)實質上與該運 途徑垂直,使得在該载具位於處理位置時該基板之對齊 向實質上平行於該載具位於運送位置時該基板之對齊 向0 明讀而吕,此製程室具有一接觸框設置於該接受器 或設置在該接受器處,該該接觸框係用以使該载具在處 位置時接觸且對準該接觸框。在處理位置時,此載具方 Q 彳買向偏離該運送途徑(運送軌跡、運送方向),進而使载 在處理位置時接觸該接觸框。 為了能與接觸框形成穩固的接觸,載具最初可藉由 定位裝置(position determination device)而大致位於接 框的前方。為了精確定位,具有支撐柄(h〇lding比“的 心軸可橫向進入位於載具下半部的一對應中心孔中。利 此方法,可使載具相對較精準地接近接觸框,並在接觸 的電極以及載具上的對應電極(e〇unter_eiectr〇(Je)之間 载 裝 從 發 能 該 送 方 方 内 理 能 具 觸 中 用 框 形 7 200837810 成穩固的接觸,#_ ^ 便传處理製程可以毫無顧慮地進行。 處理工具特別是指塗佈工具,其包括至少一電極。在 處理位置中,此電極與载具上的對應電極接觸。 額外的塗佈工具可以例如氣體入口、氣體出口、載具 上的對應電極、用以提供電力至電極以產生反應條件的電 源用以產生電漿以處理基板的工具等。 特別地’電極位於接觸框上。利用此設定,可以確保 ζ) 與接觸框相面對對準的載具可牢固定位,使得當基板與載 、的…、膨服時’载具上的對接點(counter-contact)也能與接 觸框上對應的對接點產生穩固接觸。 較佳地’在處理位置中,接觸框具有多個用以與載具 上的對應對接點產生連接的接點。舉例而言,可以利用支 標臂拉近載具而抵靠著電極的接觸框,使得載具上的後電 極和接觸框的電極可以彼此接觸。在接觸框的區段中,載 具可以額外設置有彈性接點。本發明因此可以在一在線塗 佈設備中’確保载具能進行可靠且可重複的運送以及接觸 〇 動作’即使是在高操作溫度以及伴隨而來的熱膨脹作用下 更明確地,運送裝置具有至少一驅動器,以及用以傳 遞此驅動力的工具,以沿著運送途徑來運送此載具。 在一較佳實施例中,該驅動力傳遞工具具有至少一第 一滾輪定位器,在運送位置時,其與載具之間具有一操作 連結。舉例而言,與運送裝置間的操作連結可以是第一下 滚輪定位器之滾輪與载具下導執(guide rail)之間的摩擦性 8 200837810 咬合。此外,例如可提供一第二非驅動性上滾輪定位器, 以在運送過程中定位該垂直設置的載具。欲將位在接受器 外部之驅動器所提供的驅動力傳遞到滾輪的傳遞動作,可 以經由一真空傳動器(vacuum through-guide)而導入接受 器中。為了使滾輪定位器可在稍後從該載具上鬆脫,滾輪 定位器可利用磁性耦合裝置以可分離的方式與驅動器連 接。
特別是,導引裝置具有至少一滾輪定位器。一下滾輪 疋位态及/或一上滾輪定位器可僅只作為導引元件,也可同 時作為導引及驅動元件。載具具有對應的上導軌與下導 軌’其在運送位置時會與該些滾輪定位器結合。從塗佈設 備的一模組中將載具運送到另一模組係在運送位置内發 生。該些滾輪定位器,尤其是載具的上導引滾輪,可以設 置用以容許載具因加熱而膨脹,從而適應垂直膨脹所引起 的改變。 較佳地’這些工具包括至少一升降裝4,用以將載具 從導引裝置鬆脫。根據本發明,因為必須在從運送位置 (transport position)或轉移位置(transfer州出叫改變成 處理位置的過渡期間完成該垂直設置之載具的水, 因此在從運送位置改變成轉移位置 主動從導引裝置上鬆脫。此動…:由::具必須 (roller conveyors)的升降 _ 送裝置 向下移動,使得先前下滾輪輸送裝置係 送裝置。從該上滾輪輪 /下滾輪輸 裝置鬆脫的動作可以藉由使該上 9 200837810 滾輪輸送裝置向上衝程(strc)ke)而達成,或較佳地,可藉由 在載具被該接收裝置接收前,先降下載具而達成。可用的 升降裝置例如具有轉軸傳動或氣動汽缸的電動馬達。 因此,升降裝置係特別為了降低及/或升高至少一部份 的導引裝置,及/或降低或升高載具,及/或使該載具脫離 該導引裝置或使載諸合到導引裝置所形成的。舉例而
Ο 言,上述衝程係與運送方向垂直及/或與轉移方向垂直,因 此當為了降低該下導引裝置時,該衝程通常是實質垂直向 下,而當要耦合載具時(例如在塗佈後,將载具運離塗佈站 之前),則該衝程通常是實質垂直向上。在脫離過程中,載 /、〃運送裝置解除操作連結,在耦合時則建立操作連結。 接收工具較佳包括至少一個具有一促動裝置的框架及 或支撐濛該促動裝置係用以移動此框架或支樓臂。框架 及或支##了藉由促動裝置(驅動器)而至少在介於轉移 位置與處理位置之間的轉移方向上移動該載具。 特別地,接收工具可包括結合工具,用以與载具上的 對應裝置耦合。舉例而·r,結合工具可以是至少一個拾起 叉(Pidup f0rk),更明確而言可以是多個拾起又,拾起又 (pick-up fork)係連接至支撐臂。 舉例而s ’為利用接收工具接收該載具,可提供二支 撐臂,該等支撐臂結合到載具垂直側邊的左右二側數點。 因此拾起又可以移動插入到載具的橫向凹口中。藉著降 低滾輪疋位器,载具亦被降低並且轉移到拾起又内。 選擇該下滾輪定位器的衝程,使得載具與上導引裝置 10 200837810 失去接觸’接著(被轉移裝置接收的同時)下滾輪定位器釋 放了載具的下導執。載具凹口的位置以及拾起叉的位置係 經選擇’使得當載具接近接觸框時,基板的中心以及電極 的中心位於同一高度。以此方式’可以確定無論溫度變化 為何,基板對於電極的相對位置都是類似的。 藉由一支撐臂促動器來促動該支撐臂會將載具拉近到 抵靠接觸框,使得接觸框上的電極可與載具上的後電極接 觸。
Ο 為了定位上述的接觸動作’可鎖緊設置在製程室的一 中心軸,得以額外藉由中心軸的支撐柄將載具拉至接觸 框❶在載具的上半部,可提供一具有旋轉敦置的緊鎖栓以 進行進一步的塵緊動作,其在一較低位置令橫向進入載具 的一開口,並且在鎖緊過程中旋轉90度。 當塗佈製程完成後,載具以逆向順序脫離該接觸框, 並回到運送位置。與運送裝置耦合之後,開始運送至下一 個塗佈模組。 無須贅述,可以清楚得知本發明尤其適用於在線塗佈 設備,而在此在線塗佈設備中串接數個塗佈站。 在一特定實施例中,設置 的促動及移動以耦合至移動裝 他載具運送的影響。舉例而言 程(stroke extension)。在基板 載具可以越過已被佔用的塗佈 置的載具,故可以避免依序停 該促動裝置,而可透過載具 置,使得運送途徑不受到其 ’支擇臂可以具有一延伸衝 的靜態塗佈製程中,不同的 站’並且超越正位於處理位 靠所有的塗佈站。因此,視 11 200837810 塗佈設備的循環84 pq π 時間不同,可以利用此方法來改善沈積時 間對運送/接觸時^ , 曰1的比例,進而增加塗佈設備的產能。 藉著將载八的接觸動作和傳送/導引動作做功能性分 離,可增*口卷且》 ^ (匕括對應電極)對於電極的低形變緊壓動 的”又计範圍此外,運送動作與接觸動作的功能性分離 了以確保:塗佈基板過程甲該滾輪定位器及導轨是釋放開
來的,使仔其他载具可以通過此塗佈模組。此特點對於在 線PECVD設備特別有利。 * 本發明之目的亦可藉由提供一在線塗佈設備而達成, 特別疋包括至少一上述製程室的在線pEcvD塗佈設備。 明確而έ,根據本發明,可以串接二個或多個製程室。 在各製程室之間的運送途徑決定運送方向。 <與習知群集式PECVD設備相較之下,使用在線塗佈 叹備執仃PECVD方法的主要優點在於在線塗佈設備具有 較间的產能。若產能相同時,在線塗佈設備則佔據較少的 空間。 藉由載具之間的「超越程序」,如同本發明所述般,可 以增加在線塗佈設備操作時的彈性,進而增加產能。 此外’本發明目的可以藉由一種用以處理位於載具處 之基板的方法而達成,尤其是利用電漿增強化學氣相沈積 (PECVD)進行塗佈的方法,該方法包括下列步驟:a)沿著 第一運送途徑運送载有至少一基板的載具進入一製程室 内(特別疋進入上述製程室内),以及藉由一運送與導引裝 置而進入一運送位置;b)促動一接收裝置;c)促動一鬆 12 200837810 脫裝置以產生一接合使該接收裝置接收該載具,以及使該 載具脫離該運送與導引裝置;d)促動該接收裝置以使該載 具產生相對於該運送途徑的橫向移動而移動至一接觸框, 該接觸框係設置為橫向遠離該運送途徑,該接觸框之目的 是為了使該载具與該接觸框接觸,以及在該載具的接點與 在該接觸框對應處的接點之間產生連結;以及開始該 處理製程。 明確而言’在執行此方法時,基板實質上垂直地排列。 此基板通常是平坦(在許多情況下具有大表面積)、平面且 方形的元件。基於節省空間以及便於操作等考量,以垂直 方式運送基板通過一設備。 特別地,在步驟〇中,該鬆脫裝置的促動係藉由降低 一滾輪定位器而達成。 特別地,在步驟d)中到達該接觸位置之後,載具係朽 向偏移而空出該運送途徑,使得其他載具可沿著該運送途 徑而通過。 在一特定實施例中,可在在串接的數個製程室内重 進行本方法。 【實施方式】 第1圖係用以進行PECVD塗佈製程之製程室或反應 室1的剖面圖。 … 反應室1包括一接受器2,接受器2具有至少一門3, 以方便進入接受器2的内部。在本實施例+,反應室i係 13 200837810
設計為雙腔式及;& A …至’用以塗佈二個基板。然而在本發明 中,此種設計並非絕對必要。 在接受考 9 4 i ° 内安排有二個載具4a、4b,其中在右側 所不的第' 一葡且zl » 八 a位於運送位置,而在左側所示的第二載 具讣則位於一接觸/處理位置。第一載具4a承載一第一基 板’第二载具4b則承載-第二基板5b。 反應家1可作為用來靜態塗佈基板5a、5b之在線 PECVD塗係母供从 Ο Ο 叹備的一部份,反應室1具有一運送裝置,用 以運送承载右14c t 土板5a、5b的載具4a、4b進入接受器2, 、用乂在不同的接受器2、模組、反應室、塗佈站等設 備之間來回運读番θ .,. 送载/、❶在本實施例中,運送裝置包括下滾 輪定位器 6;!、 ” ’下滚輪定位器6a、6b的滾輪可以藉由 〇 _(21,參見第3圖)加以驅動,以運送位於運送位 置的第-載具4a。第一下滾輪定位器“一方面可以運動 並以垂直於頁面的方向運送第一載具4a;卜方面,此下 滚輪疋位器6a可作為卜載具4a的下導5|道並定義載 具的運送途徑4 了達料個目的,第 ⑷係與下滾輪定位…合。 “a的下導軌 除此之外,本發明亦提供具有導引 7a、7b,f a 丨,衷輪的上導引道 中由第一上導引道7a來導引位於 一載具4a。第哉认,道虹 於運送位置的第 第一載具4a的上導軌13a與宽 的滾輪結合。μ道2|、皆7认崎班 、一上導引道7a 上導引道7&的没置容許載具 改變所引扣认上 、4a、4b因溫度 雙叮引起的線性膨脹(例如沿著垂直方 兔T w的膨脹)。 ”、、了使載具4a、4b耦合或脫離該導 $ 51道與運送裝置 14 200837810 6a、7a,滾輪定位器6a、6b各自具有一升降裝置8a、8b。 在右側所示第一載具4a的運送位置中,升降裝置8a延伸 出’使得位於較高位置的第一滾輪定位器6a與第一載具 4a的下導執14a結合。經由一磁性耦合裝置9a、9b,第一 下滾輪定位器6a或第二下滾輪定位器係與一絞盤(capstan) 磁性輕合。在本實施例中,驅動器(未示)係設置於接受器 的外部’並經由一真空傳動器(vacuuin through-feed)10
Ο 以及耦合的磁性離合器9a將驅動力傳送到第一下滾輪定 位器6a的滾輪。 犯外,在接受 〜_ 一 , 双,伯 1 1 a、1 1 & 1系因疋地遷接 J接又器2上,亦即其在製程室内不可移動。接觸框iia、 Ub係被帶到载具4a、4b附近,之後與載具4a、4b接觸。 :觸框11a與Ub各自具有至少一電極⑴、⑵。第一接 :a的第t;fel2a並未接觸第一載具4a,因為第一 戰具4&位於運送位置。 處 4反地,第二載具4b位於接觸或 处理位置,因此第二載 是緊壓第二接觸框,並以、第置:第二接觸框11… 應的對應電極。 乂第二電極⑵接觸到載具4b上相 1〜~ 1 、從^重 該栽具4a、4b(進而β 置鬆脫的位置(鬆脫位置)以及 的運送動作,係由而一,5&、讣)之接觸或處理位置之間 行》有關於用以從運tr置的運送7接收裝置(未示)來執 第2圖及第3圖進/ 接收載具的接收工*,係參考 圖右側的運送位置轉仃4述。此接收工具將載具4&從第i 移成如第1圖左側所示的接觸位置。 15 200837810 尤其是 其中第 位置(輕 第2圖顯示本發明反應室必要元件的立體圖, 轉移/接收工具15a、16a及15b、16b。 如同在第1圖中所示,圖中有二载具4a、4b, 一載具4a位於運送位置,而第二載具4b位於轉移 脫位置)。 在運送位置中,下滾輪定位器6a的升降裝置 伸出’使得具有上導轨13a以及下導轨14a的第—栽具 可以與此設備中之傳送與導引裝置的對應上與下導弓丨、4a 或絞盤7a、6a結合。藉由驅動下滾輪定位器6a的滾輪 及藉由摩擦力而將驅動力傳遞給載具4a,使得载具 以在處理設備的各模組之間沿著運送途徑進行運送動作
Ο 滾輪 可 在第一載具4a位於運送位置時,用於載具4a的轉移 接收裝置15a、16a並未與該第一載具4a結合。 此轉移/ 接收裝置15a、16a具有第一支撐臂15a,並在第一支撐后 15a上設置有拾起叉i6a。這些拾起又16a可以和對應的 具凹口 17a結合,因此只要第一載具4a大致定位,便可以 接收載具4 a並將其從運送位置移動到下一個位置,例如與 接觸框(未示)接觸的接觸位置或塗佈位置。 圖中使用第一載具4b的構件係與上述使用第一載具 4a的構件相同。 然而’第2圖中的第二載具4b位於一鬆脫位置。第二 載具4b已經被具有支撐臂15b及拾起又16b的第二轉移/ 接收裝置15b、16b所接收,也就是該等第二拾起叉i6b 與第二載具4b上的對應載具凹口 i7b結合,並且承載载具 16 Ο ο 200837810 4b 〇 、在鬆脫位置中,第:載具4b係從導引道以及運送 鬆脫或分離。第二載具4b的上導執13b與下導軌14b 未結合或接觸至上或下滾輪定位器7b、6b。
為了從運送位置改變成鬆脫位置,先將第二載J 運送到位於運送涂您L # A Μ 一 " 、 迕瓜上私疋給第二接觸框(未示)的位 並2大致定位在相對於接觸框(未示)中心的位置。為 ; 在中。反應室具有一下精準中心對位裝置19 上精準中〜對位裝置1 9 ’,例如-具有支撐柄的中 (centring mandrel),其可與載具扑上的對應中心孔結 接著,支撐臂促動器18b移動第二支撐臂i5b朝 二載具4b,使得第二轉移/接收裝置l5b、i6b的第二 又16b推入第二載具的載具凹口 l7b。支撐臂促動器 適用於垂直與水平地移動支撐臂15b。 接著’第1圖的磁性離合器9b鬆脫。舉例而言, 升降裝置8b可為一具有傳動轉軸的電動馬達或是一 動 >飞缸所驅動的升降裝置,該第二升降裝置8b將接著 進入一較低位置。因此,第二载具413本身也會降低。 低動作使得上導軌13b脫離了上滾輪定位器7b。在一 的降低動作之後,第二載具4b藉由第二拾起叉16b伸 口 1 7b而與第二拾起叉1 6b結合,直到載具被這些拾 16b攜起,第二升降裝置8b進一步降低其自身,使得 輪定位器6b也與第二載具4b的下導軌14b鬆脫。載 是被支撐臂15b的拾起叉16b所接收。該衝程係經選 裝置 則並 L 4b 置, 了精 以及 心轴 合0 向第 拾起 18b 第二 由氣 移動 此降 既定 入凹 起叉 下滾 具於 擇, 17 200837810 而使得载具4b不再位於上下導引道7a、6b中。第二載具 4b現在則處於所示的鬆脫位置。 從圖示第二载具415的位置可見,第二载具4b可以進 一步轉移或移動到其他位置,尤其是與電極l2b(第!圖) 接觸(未示)的期望(靜態)塗佈位置,在該位置中可進行塗 佈製程,或移動到與一接觸框llb(第1圖)接觸(未示)的接 觸位置。此位置轉移係利用支撐臂促動器18b來移動支撐 臂15b而達成。 () ^ 當塗佈製程結束之後,載具4b進入逆向程序,回到運 送位置並被運送到下一模組中。 第3圖為本發明製程室的重要構件的進一步立體圖。 載具4a係位於運送位置,其中上導軌Ua與上導引滾 輪7a結合。下導軌14a則因此與下導引滾輪結合。下 導引滾輪6a可經由具有對應磁性離合器的真空傳動器i 〇 而搞合或非耦合地連接到用於下滾輪定位器6a的驅動器 21 〇 Q 載具4a係大致地定位在一接觸框11a前方。對於粗略 定位而言,可使用一定位決定系統23。在粗略定位完成 後’支撐臂15a會被支撐臂促動器18a促動而橫向移動 (traverse),如第2圖說明所述般。支撐臂15&的拾起又16& 會與載具4a上的對應接收凹口 i7a結合。 為了使载具4a不脫離運送裝置6a、7a,滚輪定位器 6a首先脫離驅動器21,接著藉由升降裝置使滾輪定位 器6a向下移動,其中顯示了用於滾輪定位器6a的升降導 18 200837810 引器8aa以及升降驅動器8ab。在滾輪定位器6a下降時, 拾起叉16a接收了載具4a。 在載具4a被支撐臂15a接收之後,移動支標臂i5a 以將载具4a朝向接觸框11a移動’並以接觸位置與接觸框 接觸。支撐臂15a將載具4a壓向具有電極12a(第1圖)的 接觸框11a,以在接點20a(連接至载具ia的後電極)與電 極12a(第1圖)之間形成接觸。此時,载具4a的接點2〇a 與接觸框11a(亦請參見第1圖)上的對應對接點24a接觸, 〇 而使接觸框11a上的電力可以傳遞到载具4a。 為了確保可靠的接觸,载具4a的接點20a也可設計為 彈性接點。此外,下中心軸1 9可具有一旋轉裝置,使得載 具4a可以朝接觸框11a進行額外的前進動作。旋緊緊鎖检 19(例如旋轉90度),經由支撐柄使載具4a進一步壓緊於 接觸框11a。 在一特定實施例以及指定的對應支撐臂15a、15b外型 及/或接觸框11 a、11 b相對於運送途徑的對應設置中,允 許其他載具4a、4b能通過並超越位於塗佈位置的载具4a、 ^ 4b。因此,在一在線設備中,可以不需要使所有载具嚴格 地依序接近各塗佈模組’而可提供更大的彈性,並因此增 加设備的循%時間。整體而言,使用根據本發明所做的反 應室,例如一在線塗佈設備中,可視設備循環時間的不同 來實質改善沈積時間對運送/接觸時間的比例,進而增加產 能0 19 200837810 【圖式簡單說明】 可藉著參考針對特定實施例所述的上述内容來獲得本 發明的進一步態樣與優點。這些實施例繪成圖式如下: 第1圖為根據本發明所做之製程室的剖面圖。 第2圖係本發明製程室的重要元件立體圖。 第3圖係本發明製程室的重要元件的另一立體圖。 【主要元件符號說明】 1製程室(反應室) 2接受器 3門 4a、4b載具 5 a、5 b基板 6a、6b下滚輪定位器 7a、7b上導引道 8a、8b升降裝置 8aa升降導引器 8ab升降驅動器 9a、9b磁性離合器 1 0真空傳動器 11 a、b接觸框 1 2 a、b電極 13a、b載具的上導軌 14a、b載具的下導軌 15a、b支撐臂 1 6 a、b拾起叉 17a、b載具凹口 18a、b支撐臂促動器 1 9下精準中心對位裝置 19’上精準中心對位裝置 20a接點 21驅動器 23定位決定系統 2 4 a對接點 20

Claims (1)

  1. 200837810 十、申請專利範圍: 1· 一種用以處理一基板(5a、5b)的製程室(1),特別是利用 電漿增強化學氣相沈積法(PECVD)以塗佈一基板(5a、 5b),該製程室包括: 一接受器; 處理工具,以產生處理該基板(5a、5b)的反應條件; 至夕可動式載具(4a、4b),其位於該接受器(2)中,該 〇 載具用以承载至少一基板;以及 一運送震置,用以沿著該運送運動所定義的運送途 徑來運送該载具進入或離開該接受器(2); 其中該運送裝置具有至少一導引裝置(6a、6b、7a、 7b),以導引該至少一載具(4a、415)沿著該運送途徑;其 特徵在於, 該製程室(1)包含位在該接受器(2)内且用以使位於 一運送位置的一载具(4a、4b)脫離該導引裝置(6a、6b、 ❹ 7a、7b)的工具;以及 用以從該導弓丨裝置(6a、6b、7a、7b)接收該載具(4a、 4b)的工具, 其中該接收工具具有一運送裝置,以將該載具 (4 a、4b)從該運送位置轉移到橫越該運送方向的一處理 位置。 2·如申請專利範圍第1項所述之製程室(1),其中,該設置 21 200837810 製程室(1),使得安置於該載具(4 a、4b)上的該基板(5 a、 5b)可藉由該運送裝置以實質垂直設置的方式沿著該運 送途徑運送。 3·如申請專利範圍第1或2項所述之製程室(1),其中,該 轉移方向(transfer direction)實質上與該運送途徑垂 直,使得該載具(4 a、4b)位於處理位置時,該基板(5 a、 5 b)之設置方向實質上平行於當該載具(4 a、4b)位於運送 位置時該基板(5a、5b)之設置方向。 4·如申請專利範圍第1或2項所述之製程室(1),其中,該 製程室(1)具有至少一接觸框(11a、11b)設置於該接受器 (2)内,其目的係使該載具(4a、4b)在處理位置時對準該 接觸框(11a、lib),且經由該載具(4 a、4b)接觸該接觸 框(11a、lib)。 5. 如申請專利範圍第1或2項所述之製程室(丨),其中,該 處理電極包括至少一電極(12a、12b)。 6. 如申請專利範圍第5項所述之製程室(1),其中,該一電 極U2a、12b)至少設置於該接觸框(Ua、nb)處。 7·如申凊專利範圍第4項所述之製程室(1),其中,在該處 22 200837810 8. Ο 9· 10 11Ο 12 理位置中,該接觸框(lla、llb)具有多個接點(24),以 與位於該载具(4a、4b)上的多個對接點(20a、2Ob)產生 連結。 如申請專利範圍第1或2項所述之製程室(1),其中,該 運送裝置具有至少一驅勳器(21)以及驅動力傳遞工具, 用以沿著該運送途徑蓮送該載具(4a、4b)。 如申請專利範圍第8頊所述之製程室(1),其中,該驅動 力傳遞工具具有至少〆第一滾輪定位器(6a、6b)。 .如申請專利範圍第1或2項所述之製程室(1),其中, 該導引裝置(6a、6b、7a、7b)具有至少一滾輪定位器。 •如申請專利範圍第1項所述之製程室(1),其中,該用 以使該載具(4a、4b)脫離該導引裝置(6a、6b、7a、7b) 的工具係包括至少一升降裝置(8a、8b)。 •如申請專利範圍第11項所述之製程室(1),其中,該升 降裝置(8a、8b)係設置用以降低及/或升高該導引裝置 (6a、6b、7a、7b)的至少一部份,以降低及/或升高該載 具(4 a、4b),及/或使該载具(4 a、4b)脫離該導弓丨装置(6已、 6b 、 7a 、 7b) ° 23 200837810 1 3 ·如申請專利範圍第1或2項所述之製程室(丨), 該接收工具包括至少一框架及/或一支撐臂(15a、 該至少一框架及/或一支撐臂(15a、15b)具有一促 (18a、18b),該促動裝置係用以移動該框架或該 (15a 、 15b)〇 14·如申請專利範圍第1或2項所述之製程室(1), 該接收工具具有接合工具(16a、16b),用以與 (4 a、4b)的對應裝置(17a、17b)接合。 15·如申請專利範圍第13項所述之製程室(1),其中 該促動裝置(18a、18b),使得藉著耦合至該接收 該载具(4a、4b)的促動與移動,而空出該運送途 送其他載具(4a、4b)。 1 6· —種在線塗佈設備,特別是一種在線電漿增強化 沈積(PECVD)塗佈設備,其包括至少一個如申請 圍第1項所述之製程室(1)。 1 7.如申請專利範圍第1 6項所述之在線塗佈設備’ 該塗佈設備包括二個或多個串接設置的申讀專 第1項所述之製程室。 其中, 15b), 動裝置 支撐臂 其中, 该載具 ,設置 工具之 徑以運 學氣相 專利範 其中’ 利範圍 24 200837810 18· —種用以對位於一載具(4 a、4b)處之基板(5a、5 b)進行 處理的方法,特別是利用電漿增強化學氣相沈積 (PECVD)進行塗佈的方法,該方法包括下列步驟: a) 沿著一第一運送途徑運送裝載有該基板(5a、5b)的載 具(4a、4b)進入申請專利範圍第1項所述之製程室(1) 中,藉由一運送與導引裝置(6a、6b、7a、7b)進入一 運送位置; b) 促動一接收裝置(15a、15b、16a、16b、18a、18b); e)促動一鬆脫裝置(8a、8b、9a、9b),以產生一接合而 使該接收裝置(15a、15b、16a、16b、18a、18b)接收 該載具(4a、4b),並且使該載具(4a、4b)脫離該運送 與導引裝置(6a、6b、7a、7b); d) 促動該接收裝置(i5a、15b、i6a、16b、18a、18b), 以使該載具(4a、4b)產生相對於該運送途徑的橫向移 動而移動至一接觸框(11a、Η b),該接觸框設置為橫 向遠離該運送途徑,該接觸框係用以使該載具(4a、 4b)接觸該接觸框(1 ia、丨lb),並且使形成於該載具 上的接點(20a、20b; 24)與在該接觸框(i!a、ilb)對 應處的接點之間產生接觸;以及 e) 開始該處理製程。 19·如申請專利範圍第18項所述之方法,其中,在執行該 25 200837810 方法時,該基板(5a、5b)實質上垂直排列。 20.如申請專利範圍第18或19項所述之方法,其中,在步 驟c)中該鬆脫裝置(8a、8b、9a、9b)的促動包括藉由一 升降裝置(8a、8b)來降低該滾輪定位器(6a、6b)。 2 1 ·如申請專利範圍第1 8或1 9項所述之方法,其中在到達 步驟d)中的該接觸位置之後,載具(4a、4b)係橫向偏移 而空出該運送途徑,使得其他載具(4a、4b)可沿著該運 送途徑通過。 22.如申請專利範圍第18或19項所述之方法,其中該方法 係在串接設置的數個製程室(1)内重複執行。 26
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