TW200831406A - Dispersion of high surface area silica - Google Patents

Dispersion of high surface area silica Download PDF

Info

Publication number
TW200831406A
TW200831406A TW096132756A TW96132756A TW200831406A TW 200831406 A TW200831406 A TW 200831406A TW 096132756 A TW096132756 A TW 096132756A TW 96132756 A TW96132756 A TW 96132756A TW 200831406 A TW200831406 A TW 200831406A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
dispersion
oxide powder
mixed oxide
weight
water
Prior art date
Application number
TW096132756A
Other languages
English (en)
Other versions
TWI359788B (en
Inventor
Wolfgang Lortz
Gabriele Perlet
Werner Will
Kai Schumacher
Original Assignee
Degussa
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Degussa filed Critical Degussa
Publication of TW200831406A publication Critical patent/TW200831406A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI359788B publication Critical patent/TWI359788B/zh

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D5/00Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
    • C09D5/34Filling pastes
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82NANOTECHNOLOGY
    • B82YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y30/00Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/113Silicon oxides; Hydrates thereof
    • C01B33/12Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
    • C01B33/14Colloidal silica, e.g. dispersions, gels, sols
    • C01B33/141Preparation of hydrosols or aqueous dispersions
    • C01B33/1415Preparation of hydrosols or aqueous dispersions by suspending finely divided silica in water
    • C01B33/1417Preparation of hydrosols or aqueous dispersions by suspending finely divided silica in water an aqueous dispersion being obtained
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D7/00Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
    • C09D7/40Additives
    • C09D7/60Additives non-macromolecular
    • C09D7/61Additives non-macromolecular inorganic
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D7/00Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
    • C09D7/40Additives
    • C09D7/66Additives characterised by particle size
    • C09D7/67Particle size smaller than 100 nm
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K3/00Materials not provided for elsewhere
    • C09K3/10Materials in mouldable or extrudable form for sealing or packing joints or covers
    • C09K3/1003Pure inorganic mixtures
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00Particle morphology
    • C01P2004/50Agglomerated particles
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00Particle morphology
    • C01P2004/60Particles characterised by their size
    • C01P2004/64Nanometer sized, i.e. from 1-100 nanometer
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/12Surface area
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/19Oil-absorption capacity, e.g. DBP values
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/22Rheological behaviour as dispersion, e.g. viscosity, sedimentation stability
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/18Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
    • C08K3/20Oxides; Hydroxides
    • C08K3/22Oxides; Hydroxides of metals

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Nanotechnology (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Composite Materials (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Silicon Compounds (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Sealing Material Composition (AREA)
  • Silicates, Zeolites, And Molecular Sieves (AREA)

Description

200831406 九、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種包含高表面積矽石的高度塡充分散 液及其製備和用途。 【先前技術】 高度塡充的矽石分散液係已知者。彼等係用於,例如 ’拋光程序(化學機械拋光)中,製紙工業中用於製造紙 張塗料,或用在玻璃工業中用於製造玻璃模製品。 發煙矽石粉末較佳地係經由火焰水解法製備。於此操 作中,係用氫和氧來煅燒蒸氣形式的矽化合物,通常爲四 氯化矽。於此操作的過程中,其第一步驟中,氫與氧反應 產生水,此於第二步驟中將該矽化合物水解形成發煙矽石 〇 於此操作中,首先形成初級粒子,且於後續反應過程 中,可結合形成聚集物(aggregate)。該等聚集物可能繼 續會集形成黏聚物(agglomerates )。在將發煙砂石分散 之時,首先在低分散能量的作用下,使黏聚物分離。在更 高分散能量下,也將相當大的聚集物轉變成較小的聚集物 〇 US 5,246,624和EP-A-773270揭示出用於製備發煙 砍石粉末分散液之方法。 在US 5,246,624中揭示的發明下之原理爲在酸性pH 範圍內於高剪切能量的作用下儘可能達到該發煙矽石粉末 -5- 200831406 的完全破壞成爲一系統,其在此pH範圍內具有高黏度。 雖然其也揭示出該方法可以用於所有的發煙矽石,不過業 經出現者爲只有具有小於75平方米/克的BET表面積之矽 石粉末才能製成穩定的分散液。根據US 5,264,624係不能 得到具有較高BET表面積的矽石粉末分散液。再者,緊接 在製備之後,該分散液會顯示出明顯的結構黏度,換言之 ,在低剪速率下有高黏度。 此點也在EP-A-773 270中發現。得到具有相當高BET 表面積的矽石之高塡充、穩定分散液的問題於其中係利用 高壓硏磨來解決。於此方法中,兩道在高壓下的初步分散 液物流進行碰撞,其結果爲粒子進行自硏磨(高能量磨機 )。經由此手段,可以得到具有9 0至> 5 0 0平方米/克的 BET表面積的砂石及局達40重量%砂石含量之分散液。 E P - A - 1 2 1 6 9 5 8揭示一種水性分散液,其包含摻加鹼 金屬且具有小於100奈米的平均粒度之發煙矽石粉末。由 於已結合在一起的初級粒子之非常低含量,此粉末可順利 地分散。其中特定揭示者爲一種方法,其中,經由兩道高 壓粒子物流的碰撞,粒子進行相互硏磨。此方法可用來製 備高塡充的矽石分散液。於EP-A- 1 2 1 695 8中,揭示一種 具有約100至130平方米/克的BET表面積的鉀摻雜矽石 之30重量%分散液。 要由比兩道初步分散液物流的碰撞法更具成本效用的 分散技術來製備高表面積聚集矽石之穩定、高塡充的分散 液之企圖仍未完成。 -6- 200831406 【發明內容】 本發明的目的因而爲提供一種更具成本效用的方法以 製備具有低結構黏度的高表面積矽石之穩定且低黏度分散 液。 本發明的另一目的爲提供一種具有低結構黏度的高表 面積矽石之穩定且低黏度分散液。 本發明提供一種分散液,其包含水和經混合之鉀-矽 氧化物粉末,其特徵在於 -該混合氧化物粉末 •爲初級粒子的聚集物形式,具有100至400平方米 /克之BET表面積,具有小於100奈米的平均聚集 物直徑在該分散液內,且 -擁有以K20形式計算且以該混合氧化物粉末爲基準 計之0.05至1.5重量%的鉀分量,及 -該分散液 -具有25至40重量%的該混合氧化物粉末之分量在 該分散液內, -水和該混合氧化物粉末的總和爲至少98重量%,且 -其pH爲9至1 1 .5。 經混合之鉀矽氧化物粉末可較佳地爲經由熱解操作而 獲得者。所論及的粉末可特佳地爲在專利申請號碼爲 DE 102005027720.9(申請日期:2005 年 6 月 16 日)和 EP 05024753.5(申請日期:2005年11月12日)的專利 200831406 申請中所揭示者。與從D E - A - 1 0 0 6 5 0 2 8所知者相比,此等 粉末爲具有高結構的粉末,某種會變成透明者,例如,因 在酞酸二丁酯測定中有終點存在之結果。該結構更接近具 有可相比的BET表面積的發煙矽石的結構。 在專利申請號碼1 02005027720.9的德國專利申請中 所揭示的粉末爲經混合之鉀矽氧化物粉末,爲無孔初級粒 子的聚集物之形式,其含有0.2至1.5重量%的K20,係 分布在初級粒子核心內及表面上者,且其擁有1〇〇至350 平方米/克的 BET表面積和比 DBP値(specific DBP number )(其表示每平方米比表面積的D B P値),該比 DBP値大於或等於不含鉀成分,具有相等BET表面積的 發煙矽石粉末之値。 在申請編號爲EP 05024753.5的歐洲專利申請中所揭 示的粉末爲經混合之鉀矽氧化物粉末,其中鉀成分完全位 於初級粒子的表面上。 前述粉末的每平方米比表面積的DBP値較佳地大於 1 · 1 4。 存在於本發明分散液中之粉末的鉀成分以K20形式計 算之分量爲0 · 0 5至2重量%。低於〇 · 〇 5重量%的値時,只 有使用高能量磨機才能製備出穩定的高塡充型分散液。高 於2 · 0重量%之値時,不能觀察到進一步更加添的效用。 鉀成分的分量較佳地爲 〇·1至0_4重量%。對本發明而言 ,重要者爲與純砂石分散液相比,即使如此少量也都足夠 得到穩定的分散液。 -8 - .200831406 經混合之鉀矽氧化物粉末的BET表面積可從100變異 到400平方米/克。經證明在後續作爲塗料組分的用途範 疇中特別有利的BET表面積爲從150至350平方米/克且 特別者爲從175至225平方米/克而特別有利者爲270至 3 3 0平方米/克。 本發明進一步提供一種製備本發明分散液之方法’其 中 - 將來自儲器之水通過轉子/靜子機器(stator machine ) 循環,且通過進料工具’連續地或不連續地且在該轉 子/靜子機器運轉之下’導入混合氧化物粉末’其量爲 諸如導致具有在3 0與5 0重量%之間的混合氧化物粉 末含量之初分散液,且在所有混合氧化物粉末已加入 之後, - 關閉該進料工具,且在2至4的pH和1 〇至5 0 °C的溫 度,以10 〇〇〇至30 000s"的剪速率下進行剪切, - 用足量的水進行稀釋,使得以所欲固體含量爲基準計 ,所欲固體含量超過0.1 %至10%,且隨後,在相同的 剪切條件下,加入鹼性水溶液,其量和其濃度爲使達 到所欲固體含量所需的量得以達到且導致9至1 1 .5的 pH, - 於需要時,可用水進行進一步的稀釋以調定所欲含量 和所欲pH。 本發明方法的突出處在於下述事實,在添加鹼性水溶 -9- 200831406 液之前,要經由用水稀釋到幾乎達到該固體含量。在塡加 鹼性水溶液之前的固體含量爲高出所欲固體含量的〇· 1 % 至10%,較佳者0.2%至5%且更佳者0.4%至2.5%。 該百分比係以所欲固體含量爲基準。例如’在3 0重 量%的所欲固體含量之情況中,必須用足量的水進行稀釋 使固體含量成爲30% + 0.1% = 3 0.03重量%到30%+1〇% = 33% ,較佳者 30% + 0.2% = 30.06 重量%至 30% + 5% = 31·5 重量 % ,且更佳者 30% + 0.4% = 30.12重量%至 30% + 2·5% = 30·75 重 量% 〇 若含該混合氧化物的溶液不是已經具有2至4的ΡΗ 之時,此等pH可經由添加酸予以調定。通常,所採用的 經混合之鉀矽氧化物粉末係已經具有在從2至4的範圍內 之pH値者。於此等情況中,無需添加酸。酸本身的本質 不具關鍵性。典型者,係使用鹽酸、硫酸或硝酸。 相對地,可能具關鍵性之因素爲在酸性範圍內的分散 操作期間,分散液的溫度。業經觀察到者,在超過55 t的 溫度,可能發生自然膠凝。所以,在分散操作期間將分散 液冷卻可能爲有利者。 在酸性範圍內的分散操作結束之後,先加水然後加鹼 ,以給出9至1 1 · 5的p Η値。於此情況中,所需的鹼含量 有利地不是分數份加入;取而代之者,係將整個量的鹼全 部一次且快速地加入。 鹼的本質不具關鍵性。經證明特別適當的鹼包括氫氧 化鉀水溶液、氫氧化鈉、氨、氨水、胺類,諸如單乙醇胺 -10- 200831406 '二乙醇胺、三乙醇胺、單異丙醇胺、二異丙醇胺、三異 丙醇胺、N,N-二甲基異丙醇胺、氫氧化四烷基銨、嗎啉、 及胺基醇類’諸如3_胺基丙醇、1-胺基-2-丙醇及2-胺 基-2-甲基-1-丙醇。 驗的濃度不具關鍵性。不過,業經證明有利地爲使用 具有2至20莫耳/升,更佳者5至1 8莫耳/升且非常較佳 者8至15莫耳/升的濃度之鹼。 本發明進一步提供本發明分散液用於製造透明密封劑 和塡充配料’尤其是含丙烯酸酯的透明組成物之用途。 在製造透明組成物時使用矽石粉末作爲強化劑係已知 者。不過’高體積粉末的使用也需要將大量空氣倂入到水 性黏稠的丙烯酸酯分散液內。因此,爲了達成透明調配物 ’隨後有需要在一耗時的移除步驟中,移除氣體泡沬。此 外’若以本發明分散液取代矽石粉末導入,則因爲在分散 液製備過程中,已有在非常低黏度下的操作步驟,而在分 散液製備期間已進行過空氣移除。 樹脂(A)也可包含具有2000至50 000數平均分子 量的不飽和丙烯酸系樹脂。其特定例子爲經由(甲基)丙 烯酸環氧丙基酯、烯丙基環氧丙基醚與含羧基的丙烯酸樹 脂(其係藉由將乙烯型不飽和酸,諸如(甲基)丙烯酸, 作爲主構造單元,與至少一種選自(甲基)丙烯酸酯,諸 如(甲基)丙烯酸甲酯和(甲基)丙烯酸丁酯,苯乙烯與( 甲基)丙烯腈,共聚合而製備成),進行加成反應而製備 成的樹脂;一種經由將(甲基)丙烯酸2 -羥基乙酯或(甲 -11 - 200831406 基)烯丙醇與二異氰酸酯化合物之間的反應產物之加成反 應形成含羥基的丙烯酸系樹脂所製備的樹脂,此係經由將 含羥基單體作爲根本成分,與上述單體共聚合而製備者。 本發明進一步提供本發明分散液在塗料,特別是丙烯 酸酯塗覆材料的製造中之用途。 此等材料包含作爲彼等的丙烯酸酯成分之至少一種( 甲基)丙烯酸酯單體及/或低聚物。適當的單體可爲甲基 丙烯酸羥基乙酯、丙烯酸三甲醇基丙烷甲醯基酯、己二醇 二-(丙烯酸酯)、三丙二醇二-(丙烯酸酯)、新戊二醇 二-(丙烯酸酯)、三甲醇基丙烷三-(丙烯酸酯)、甘油 三(丙烯酸酯)、季戊四醇四-(丙烯酸酯)、及/或此等 化合物的衍生物。該塗料在固化後具有顯著的高抗刮擦性 及高透明性。彼等可用於,例如,光學透鏡。 【實施方式】 實施例: 起始物之製備 實施例P1 :經混合之鉀矽氧化物粉末P1 (根據2005年6 月16日,申號號碼102005027720.9的德國專利申請): 將85仟克/時的SiCl4蒸發且傳輸到燃燒器的中央管內, 如DE-A- 1 9650500中所述類型者。另外於此管中送入40 立方米/時(stp)的氫氣和124立方米/時(stp)的空氣。 此氣體混合物從內燃燒器噴嘴流出且在水冷卻火焰管的燃 燒室中燃燒。爲了避免結塊情況,另外4立方米/時(stp -12- 200831406 )的另外氫氣送到包圍中央噴嘴的套管噴嘴內。 利用安裝在容器底部上的二流體噴嘴從5%濃度的氯 化鉀水溶液得到氣溶膠。產生11 0 0克/時的氣溶膠。利用 1 8立方米/時(stp )的載氣(空氣)流將該氣溶膠載送通 過外部加熱管線,其經導引成使得其先側向撞擊到裝有二 流體噴嘴的板底部上之二流體噴嘴,且在經載送通過該管 線的過程中,將其加熱到120 °C。然後,該氣溶膠/載氣混 合物離開該內部噴嘴且與四氯化矽、氫和氧氣體混合物均 勻地混合。於火焰水解之後,在抽吸下,經由施加低壓, 將反應氣體和所得粉末抽送經過冷卻系統,且於此程序的 過程中,該粒子/氣體物流被冷卻到約100至160 °C。在過 濾器或旋風機中,從流出的氣體物流分離出固體。於後續 步驟中,在400與700 °C之間的溫度下,經由用含水蒸氣 的空氣處理而從矽石粉末移除仍附著之鹽酸殘留物。得到 白色,細分粉末形式之粉末。 粉末P1的鉀含量,以K20形式計算,爲0.12重量% ,BET表面積爲216平方米/克,DBP値/BET爲1.5克/平 方米,dn/da爲0.69。4 %水中分散液的pH爲4.1。 實施例P2 :經混合之鉀矽氧化物粉末P2 (根據2005年 1 1月12日,申請號碼05 02475 3.5之歐洲專利申請):將 4.44仟克/時的四氯化矽蒸發。利用3.3立方米/時(stp) 的空氣作爲載氣將該蒸氣傳輸到混合室內。由此分開地, 將2.3立方米/時(stp )的核心氫氣和6.9立方米/時(stp -13- 200831406 )的初級空氣導到該混合室內。於一中央管內,將反應混 合物供應到燃燒器且引燃。火焰係在水冷卻的火焰管內燃 燒。將附加的20立方米/時(stp )之次級空氣導到反應室 內。於3 20 °C溫度下,透過噴嘴將191克/時的3.0重量% 氯化鉀水溶液導到此矽石粒子、鹽酸、空氣和氮氣的物流 中。於12毫秒(ms )的平均滯留時間之後,將混合物的 溫度增高到500 °C。於24秒的平均滯留時間後,將金屬氧 化物粒子沈積到下游的過濾器中。 粉末P2以K20形式計算的鉀含量爲0.14重量%, BET表面積爲299平方米/克。 本發明分散液之製備 實施例D1 :於1〇〇升不鏽鋼批料容器中給入45.0仟克的 DI (完全去礦質)水。隨後,使用 Ystral Conti-TDS3抽 氣管(靜子槽口 : 4毫米環和1毫米環,轉子/靜子距離: 約1毫米)將3 0仟克的P 1在剪切條件下導入。於添加結 束後,將導入口封閉且隨後於3000rpm下進行剪切2〇分 鐘。利用外設熱交換器拿掉分散操作過程中產生的熱。使 用20仟克的DI水,將該分散液稀釋且使用2.6仟克的氫 氧化鉀水溶液(3 0 %濃度)於剪切下將p Η從3.4調到 10.0。隨後加入2.4仟克的DI水而得30重量%的Si02含 量,且重複剪切約5分鐘予以勻化。 平均聚集物直徑爲81奈米(使用Horiba LA 910測定 )或 47 奈米(使用 Zetasizer 2000 HS,Malvern 測定)。 200831406 即使經6個月之後,分散液仍顯示出沒有膠凝或沈著 之跡像。 實施例D 2 :如實施例D1,但使用粉末P 2且粉末P 2的最 後濃度爲2 5重量%。 平均聚集物直徑爲75奈米(使用HoribaLA910測定 )或 39 奈米(使用 Zetasizer 2000 HS,Malvern 測定)。 即使經6個月之後,該分散液仍未顯示出膠凝或沈著 之跡象。 根據先前技藝的分散液之製備 實施例D3 :於100升不鏽鋼容器內給入45.0仟克的DI ( 完全去礦質)水。隨後,使用Ystral Conti-TDS 3抽氣管 (靜子槽口 : 4毫米環和1毫米環,轉子/靜子距離:約1 毫米),在5 0分鐘期間,於剪切條件下導入3 0仟克的 AEROSIL® 200,一種具有200平方米/克的BET表面積之 發煙矽石。在AEROSIL® 200的添加結束之後,將導入口 封閉且在3 00 Orpm下進行後續剪切60分鐘。利用外設熱 交換器拿掉在分散操作過程中產生的熱。使用20仟克的 DI水,將該分散液稀釋且使用2.2仟克的氫氧化鉀水溶液 (3 0%濃度)於剪切下,將pH從3.2調到10.0。隨後加 入2.8仟克的水而給出30重量%的Si 02含量,且重複剪 切約5分鐘使其勻化。 平均聚集物直徑爲119奈米,有約1.5 %較粗粒子之 -15- 200831406 分量, ο 【圖式 圖 例D3 以s·1 在整個 〇 圖 (虛線 明分散 者)。 由 分散液 膠凝粒子爲約25微米(使用Horiba LA 9 1 0測定) 簡單說明】 1顯示出來自實施例D1 (以||示出)與來自實施 (以□示出)的分散液以mPas爲單位之黏度相對於 爲單位的剪速率之關係。可清楚看出本發明分散液 剪速率範圍內有較低的黏度,且也具有低結構黏度 2顯示出來自實施例2 (連續線)和來自實施例3 )的分散液,利用雷射繞射測定的粒子尺寸。本發 液不含粗粒部份,而D3展示出此等分量(以*標出 於具有低黏度,高固體分量和低空氣含量,本發明 理想地適用來製作透明密封劑和塡充配料。 -16 -

Claims (1)

  1. 200831406 十、申請專利範圍 1. 一種包含水和經混合之鉀-矽氧化物粉末之分散液 ,其特徵在於 -該混合氧化物粉末 -爲初級粒子的聚集物形式,具有100至400平方米 /克之BET表面積,具有小於100奈米的平均聚集 物直徑在該分散液內,且 -擁有以K20形式計算且以該混合氧化物粉末爲基準 計之〇· 05至1.5重量%的鉀分量, 及 -該分散液 -具有25至40重量%的該混合氧化物粉末之分量在 該分散液內, -水和該混合氧化物粉末的總和爲至少98重量%,且 -其pH爲9至11.5。 2 . —種製備根據申請專利範圍第1項之分散液之方法 ,其特徵在於 -將來自儲器的水通過轉子/靜子機器(stator machine ) 循環,且通過進料工具,連續地或不連續地且在該轉 子/靜子機器運轉之下,導入混合氧化物粉末,其量爲 諸如導致具有在3 0與5 0重量%之間的混合氧化物粉 末含量之初分散液,且在所有混合氧化物粉末已加入 之後, - 關閉該進料工具,且在2至4的pH和1 〇至5 0 °C的溫 -17- 200831406 度,以1〇 0〇〇至30 000s·1的剪速率進行剪切, . 用足量的水進行稀釋,使得以所欲固體含量爲基準計 ,所欲固體含量超過〇·1%至10% ’且隨後,在相同的 剪切條件下,加入鹼性水溶液,其量和其濃度爲使達 到所欲固體含量所需的量得以達到且導致9至1 1 · 5的 pH。 3 · —種根據申請專利範圍第1項之分散液之用途,其 係用於製備密封劑和塡充配料。 4·一種根據申請專利範圍第1項之分散液之用途’其 係用於製備塗料。 -18-
TW096132756A 2006-12-15 2007-09-03 Dispersion of high surface area silica TWI359788B (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102006059316A DE102006059316A1 (de) 2006-12-15 2006-12-15 Dispersion von hochoberflächigem Siliciumdioxid

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW200831406A true TW200831406A (en) 2008-08-01
TWI359788B TWI359788B (en) 2012-03-11

Family

ID=38740165

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW096132756A TWI359788B (en) 2006-12-15 2007-09-03 Dispersion of high surface area silica

Country Status (7)

Country Link
US (1) US7918933B2 (zh)
EP (1) EP2091867A1 (zh)
JP (1) JP5424892B2 (zh)
CN (1) CN101205069B (zh)
DE (1) DE102006059316A1 (zh)
TW (1) TWI359788B (zh)
WO (1) WO2008071462A1 (zh)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102781860A (zh) * 2010-04-26 2012-11-14 古河电气工业株式会社 玻璃母材的制造方法及制造装置
ES2390142B1 (es) * 2012-06-28 2013-07-25 Easy Road, S.L. Producto para la prevención de defectos de estanqueidad en balones neumáticos
CN107922197B (zh) 2015-07-10 2021-11-19 赢创运营有限公司 具有高盐稳定性的含金属氧化物的分散体
US10723628B2 (en) 2015-07-10 2020-07-28 Evonik Operations Gmbh SiO2 containing dispersion with high salt stability
CN108291137B (zh) 2015-10-26 2021-01-12 赢创运营有限公司 使用二氧化硅流体获得矿物油的方法

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10065027A1 (de) * 2000-12-23 2002-07-04 Degussa Wäßrige Dispersion, Verfahren zu deren Herstellung und Verwendung
DE10317066A1 (de) 2003-04-14 2004-11-11 Degussa Ag Verfahren zur Herstellung von Metalloxid- und Metalloidoxid-Dispersionen
JP2005154222A (ja) 2003-11-27 2005-06-16 Tokuyama Corp 微粒子状シリカ

Also Published As

Publication number Publication date
CN101205069B (zh) 2012-10-10
TWI359788B (en) 2012-03-11
DE102006059316A1 (de) 2008-06-19
JP2010513176A (ja) 2010-04-30
US20100107930A1 (en) 2010-05-06
EP2091867A1 (en) 2009-08-26
JP5424892B2 (ja) 2014-02-26
WO2008071462A1 (en) 2008-06-19
US7918933B2 (en) 2011-04-05
CN101205069A (zh) 2008-06-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4768601B2 (ja) 金属酸化物及びメタロイド酸化物分散液の製造方法
ES2672307T3 (es) Dispersión de dióxido de silicio que comprende un poliol
KR100644314B1 (ko) 열 제조된 이산화규소 분말 및 그의 분산액
TW200831406A (en) Dispersion of high surface area silica
ES2897751T3 (es) Dispersión que contiene SiO2 con alta estabilidad en sales
JP5453300B2 (ja) 二酸化ケイ素分散液の製造方法
KR20050122216A (ko) 발열성 이산화규소 분말 및 그의 분산물
US7834076B2 (en) Aluminium oxide-containing dispersion
JP4881378B2 (ja) アルカリ金属酸化物を含有する混合酸化物粉末およびこの粉末を含有するシリコーンゴム
JP2007197655A (ja) 微小粒子含有組成物及びその製造方法
US7892510B2 (en) Silicon dioxide dispersion
JP2008543708A5 (ja) アルカリ金属酸化物を含有する混合酸化物粉末およびこの粉末を含有するシリコーンゴム
EP3747965A1 (en) Titanium dioxide aqueous dispersion and method for producing same
JP5905767B2 (ja) 中性コロイダルシリカ分散液の分散安定化方法及び分散安定性に優れた中性コロイダルシリカ分散液
JP2007217228A (ja) カチオン性樹脂変性シリカ分散液
JP3970372B2 (ja) 金属酸化物粉末及びその製造方法
JP3270448B2 (ja) 二酸化珪素を含有するグリコール
JP6456786B2 (ja) 球状酸化チタン粉末及びその製造方法
JP2013067546A (ja) シリカ粒子分散液の製造方法
JP2003146644A (ja) シリカ分散液
JP6782088B2 (ja) 被膜形成用の塗布液、及び該塗布液を用いた被膜付基材
JP2023110669A (ja) シリカ粒子の粒子径の調整方法およびシリカ粒子の製造方法
JP2010120783A (ja) 高純度シリカ粒子の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees