TW200811318A - Machine and method for electrochemically polishing indentations within an aluminum wheel - Google Patents

Description

200811318 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明大體上有關於電化學研磨，且更特別關於電化 學研磨紹輪。 【先前技術】 目的 電化學加工（elecuochemicai machining，ecm)的 疋為了從一金屬工作部件移除材料，來提供待研磨的光滑 表面可以使用具有南離子強度的電解液來進行這樣的處 待加工之工作部件可作為陽極，而電化學加工設備的 電極的可作為陰極。在研磨處理中，力陽極與陰極之間會 電流。在這樣的條件之下，電極可作為1形工具。 作為陽極的工作部件則會溶 · n ^合解，例如，以金屬氫氧化 =式溶解’且其中在電極表面產生了氣氣。電化學加 成在-:】案或任意成形的孔润以較簡單且精確的方式形 部# # i ,丨、曰 化予加工粒序亦可藉由從工作 夕^、量材料，而用來研磨一I # 滑之表面加工的目❺，❹件，以達成較光 的形狀。 "，也，僅移去材料而製成預設 然而，電化學研磨的大型工件 電流’而因為這樣的限制，於是；需要較強的 的面積。此外，因為持續的電磨會受限於較小 且電解液姆是人古τ从 電机會由工作部件移去材料， 心疋含有工作部件的殘餘物。 我們需要一種方法鱼嘹借 η >、°又備，因此例如是輪子，亦可以 5 200811318 一有效的方式進行電化學研磨 好的加工。 來移除殘餘物且達成更 良 針對一種用以電化學研磨鋁 凹陷的機器，該鋁製工作部 狀。工作部件空間界定了工 機益具有含一陰極的較兩 ，其中陰極與一凹陷處相聯 但較小的形狀，其可調適成 在陰極與凹陷處之間注入電 準較高平台，其中較低乎台 高平台與較低平台可彼此相 ’陰極會遠離較低平台，且 較低平台，且陰極會相鄰於 陷處之位置。該機器亦具有 套，其中該等護套係可導電 件時，工作部件本身可作為 液注入位於陰極與工作部件 通道會移除位於陰極與工作 ° 一電源供應利用較高平台 的電解液來提供電流，且一 針對一種用以電化學研磨鋁

【發明内容】 本發明目的之實施例係 工作部件（例如一鋁輪）内之 内之壁内具有習知的表面形 部件在機器中所佔據的空間 台，該陰極從較高平台突出 其中陰極具有與凹陷處相似 置在與凹陷處相鄰，來界定 液的溝隙。一較低平台會對 調適成容納鋁輪，且其中較 移動，因而在一第一位置處 一第二位置處，陰極會接近 置於較低平台的工作部件凹 以與鋁輪接觸的多個陽極護 因而當該等護套接觸工作部 陽極。一入口通道會將電解 陷處之間的溝隙，且一出口 件凹陷處間之溝隙的電解液 陰極與較低平台的陽極之間 制益控制陰極與陽極間之電 本發明的另一實施例係 製 件 作 y 設 解 會 對 在 設 用 凹 部 的 控 製

200811318 工作部件内壁内習知表面形狀之凹陷的方法。一工 空間界定了工作部件在機器中所佔據的空間。該方 包含以下步驟： a) 在一平台上架設一鋁製工作部件； b) 將至少一陽極附著於工作部件； c) 在工作部件内之凹陷處内設置至少一陰極， 定位於陰極與陽極間之溝隙； d) 在溝隙中注入電解液流， e) 在陰極與陽極之間引入一電流；及 f) 給予電流脈衝，使電解液沖刷凹陷處表面。 【實施方式】 第1圖及第2圖繪示典型工作部件（例如一鋁輜 細節，其中這些圖式係一鋁輪，外形為一圓柱狀且 一輪緣1 5，該輪緣1 5可支撐一輪胎（未顯示）及一輪 其具有穿透的複數個螺絲孔2 5，俾以使用從鋁輪主 的螺絲（未顯示）來固定鋁輪10。 鋁輪10在輪10壁35内具有已知表面形狀的複 陷處30。尤其是，一凹陷處30可以是穿透輪10璧 一窗口 4 0或僅部份穿透鋁輪10壁3 5的一凹槽4 5 解的是，與窗口 40相關的電化學研磨處理和與凹中 關的處理有輕微的不同。尤其是，電解液會在處理 由窗口 40而湧入，而電解液則必須注入凹槽45且 除0 作部件 法至少 藉以界 r 10)的 可界定 轂20， 體突出 數個凹 l· 3 5的 。應了 f 45相 期間經 從其移 7 200811318 為了電化學處理的有效性，陽極必須與待研磨之工作 部件的形狀完全緊密地符合。在第3圖中，陰極5 0的外形 實質上相似於窗口 4 0的外形（第2圖）。陰極5 0必須稍微 小於窗口 4 0的外形，以產生一溝隙。該溝隙的存在有兩個 原因。第一，必須將電解液注入該溝隙，來促進將材料從 窗口 4 0移除的化學反應。第二，必須維持該溝隙，來避免 在陰極與陽極之間產生電弧，因為電弧會在窗口 40壁42 上留下凹痕。陰極5 0典型上為固體黃銅所製。

暫時回顧第1圖且對照第3圖，應可發現陰極50置放 在多個窗口 4 0的任一者中，且較高平台上的定位銷5 5會 位於螺絲孔2 5内，以適當地間隔陰極5 0。陰極5 0附著於 一較高平台60。較高平台60具有多個表面65，其可接觸 窗口邊緣43，以垂直地將陰極50設置在窗口 40内。 在第4圖中所繪示的一機器1 00係用於電化學研磨凹 陷處3 0，例如位於一鋁輪1 0之壁3 5内具有已知表面形狀 的窗口 40。一鋁輪空間12用以界定當一真實的鋁輪10置 入機器1 00内時所佔據的體積。機器1 00具有一較高平台 6 0，從其上.突出二陰極5 0。各陰極5 0與一凹陷處3 0相聯， 且各陰極5 0之形狀相似於凹陷處30，但較小。各陰極5 0 調適成設置於與凹陷處3 〇相鄰，以在其之間界定一溝隙， 以為了在陰極50與凹陷處30之間注入電解液。 一較低平台1 0 5對準較高平台6 0。較低平台1 0 5調適 成容納鋁輪1 0。較高平台6 0與較低平台1 0 5可彼此相對 移動，因而在一第一位置處（第4圖中），陰極5 0與較低平 8 200811318 台1 0 5送離’且在一第一 上的陰極、。會接近，二？ Μ5圖中)’較高平台6° 3。内，…0 〇5且位於一輪1〇之凹陷處 30内，銘輪10固宏y 車父低平台1〇5。在第4圖與第5圖中， 凹陷處3Ό係窗口 4〇 〇、 Μ 丁 40。廷樣的設置可提供一溝隙107，而電 解液可&過該溝隙1G7而在其之間傳送電流。 第4圖繪示第一位置的機器1〇〇，其险極 _ ^極5 0延離較低 平口 运樣的設置用於裝備’是故可弓丨用紹輪10或從

較低平台105移去鋁輪1〇。較低平台可提供非傳導性基底 11〇,這可：是玻璃充填之蔚材料，且定位螺栓ιΐ2會：該 基底11 〇大出而與鋁輪10的一或多個螺絲孔响合。該機器 100包括與鋁輪10接觸的多個陽極護套115。該等護套115 係可導電’因而當該等護套丨〗5接觸鋁輪1 〇時，鋁輪i 〇 本身即作用如同一陽極。該等陽極護套丨〗5可從第4圖所 繪示的第一位置移除，其中該等護套丨丨5離開鋁輪1 〇而前 往一第二位置（第5圖），其中該等護套1 1 5與鋁輪1 0接觸。 應了解的是，在這個狀況中，鋁輪1 0不會固定在機器1 00 内，第二位置的該等陽極護套會設置在與鋁輪1 0位置相同 的鋁輪空間12内。 該等陽極護套1 1 5附著於長圓柱狀物1 2 〇上’其能夠 指示第一位置的陽極護套11 5，如第4圖中所繪示般’或 指示第二位置的陽極護套11 5，如第5圖中所繪示般。一 電源供應125可在較高平台60的陰極50與較低平台105 的陽極115之間提供電流，而允許在這二部件之間經由其 間之電解液的注入而通過該電流。在其之間之電解液1 200811318 以及在陰極5 0與鋁輪丨〇之間通過之電流的組合，可促進 從鋁輪1〇之窗口 40移除材料的化學反應，其中鋁輪1 〇 口電解液1 2 7可作為陽極。一控制器丨2 9可控制陰極$ 〇 與作為一陽極之链輪10間的電流。 為了促進機100所提供的研磨品質，控制器129更 包括一脈衝電路13 1，用以讓電流間歇地供應至陰極5 0， 藉以使電解液1 2 7可更有效地從鋁輪丨〇沖去殘餘物。控制 為129提供了至少一加工模式及一研磨模式。在加工模式 中’電流較強’故可從鋁輪丨〇移除大量的材料。在研磨模 式中，電流較弱，故會從鋁輪1 〇移除較少量的材料。因此， 較粗糙製成的鋁輪1 〇會首先被加工，而接著接受研磨，而 製成一成品。因這個二步驟處理的使用，可免除在電化學 加工處理之前的一初期撝械磨削步驟。 使供給這個處理所用之電流產生脈衝的參數取決於多 種因素’例如工作部件大小，陰極與工作部件間之溝隙， 及電解液的組成’大體而言，使用於加工模式之電流的脈 衝對於一典型工作部件而言，約為5 〇千分之一秒的導通與 25千分之一秒的戴止。對於研磨模式而言，電流的脈衝約 為40千分之一秒的導通與2〇千分之一秒的截止。整體而 言，電流的脈衝速率為2〇與25千分之一秒之間的導通與 8與30千分之一秒之間的截止。發明者已發現，脈衝處理 本身可大巾田促進研磨處理的效率，且這樣的二階段加工/ 研磨方法可再強化脈衝處理的效力。 此外’以針對一典型工作部件的一般指導方針而言， 10 200811318 電流约在12,000至1 5,000安培之間，且電壓為約0 · 伏特的直流電。 應了解的是，電解液127的流動對於機器100的 操作是必要的。電解液i 27的流動不僅可促進電流在 與铭輪10之間的傳送，且更可提供從鋁輪1〇的工作 去熱與殘餘物的機制。 第4圖中，來自一貯存器13 5的電解液12 7會經 泵138通過一導管14〇送到一入口通道143，這在第 中是環繞各陰極5 0的一套筒1 4 5，是故電解液1 2 7可 於陰極5 0的邊緣。第3圖更繪示出，該套筒丨4 5的延 經過較高平台60,且環繞陰择50。應注意的是在第3 s 一雄封墊1 4 7環繞著套筒1 4 5。密封墊1 4 7含有一可 的無孔材料，其環繞著陰極5 〇與入口通道1 4 3。套倒 的繪示如同用以使電解液127分散在陰極5〇邊緣的機 構’該套筒145亦可以是在陰極5〇邊緣的複數個接口 達成相同的結果。該入口通道143符合於陰極5〇的讀 且當使用了具有不同表面形狀的一陰極5 〇時，相關的 通道143會再次地符合於新陰極5〇的邊緣。 在第5圖中’當較高平台6 〇依著鋁輪1 〇 〇而設】 密封墊147會推著鋁輪1〇，藉以在較高平台6〇與鋁 之間提供一不透水的密封墊，來容納電解液丨2 7。同 視第4圖與第5圖可知，電解液1 2 7在環繞陰極5 〇的 145之中與在一出口通道15〇之中流過，該出口通道 在第4圖中位於銘輪1〇的窗口 4〇中。在此設置中， E 25 正常 陽極 區移 由一 4圖 注入 伸會 a中， 撓性 [145 械結 〖，以 t緣， 入口 L時， 輪10 時檢 套筒 .150 電解 11 200811318 液127可經由窗口 40而排出，進入一收集檜153，這接著 會回到貯存器以等待再次地被使用。如第4阖中所繪示 般，貯存器1 3 5中的電解液1 2 7會轉而流到一再生處1 5 5， 以從電解液1 2 7中除去在研磨處理期間所加入的雜質。一 再生技術涵括將石肖酸鐵加入用過的電解液中，而後將該溶 液進行離心。該技術較詳細地描述於申請中的美國專利申 請案中：申請號1 1/465,839，申請曰2006/08/2 1，名 稱 ” Process for Regeneration Electrolytes in

Electrochemical Polishing Applications”，讓渡給本申請案 相同的受讓人。亦應注意的是在第4圖中，鋁輪1 〇搁置在 收集槽1 5 3上’因而鋁輪1 〇可對該槽i 5 3提供一密封墊， 以使電解液的漏：¾降到最少。 本發明的陰極5 0係針對可在鋁輪1 〇的窗口 4〇上作用 而定作，如第1圖與第2圖中所繪示般。應了解的是，各 陰極50皆是可移去的，且可以不同形狀的陰極取代之，來 相符於銘輪上不同形狀的凹陷處。第3圖，第4圖’與第 5圖繪示的陰極50，為可移除地附著於較高平台6〇。較高 平台60可滑動地架設在接口 1 6〇上，因而可在第，位置之 間移動’其中較A平台60與鋁輪1〇(第4圖）相離，接著 移動到第二位置’其中較高平台6〇相鄰於鋁輪10(第5 圖）。應了解的是’較高平台6〇與較低平台ι〇5與陽極與 陰極50是電絕緣的，其中該陽極是鋁輪1〇。 檢視第1圖可明確得知，在一鋁輪1〇内多個窗口 40。 在本發明的一異施例中’二窗口 4〇可同時進行研磨，雖然 12 200811318 秦

亦可僅研磨單一窗口。本發明亦設計為指示鋁輪1 〇或另一 工作部件，因而不同的窗口可使用相同的陰極來進行研 磨。然而，因為電化學研磨處理需要較強的電流，用於電 化學研磨之先前技藝的設計使用了 一個單一陰極。此外， 一較低平台1 0 5是可指示的，因而具有多個凹陷處3 0的铭 輪1 0可轉動，以使不同的凹陷處3 0對準於陰極5 0以利於 研磨。尤其是，一 CNC控制的伺服驅動馬達1 63可驅動一 滑輪165，其驅動一皮帶167來轉動一第二滑輪170，這再 轉動一轉軸172，藉以轉動較低平台105與附著於其上的 鋁輪10。藉此，可指示鋁輪，因而不同的窗口 40可對準 陰極5 0以利於研磨。因此，如第1圖所繪示般，ί呂輪10 中八個窗口 40的研磨僅需要指示鋁輪1 0四次，相對於當 在窗口 40上僅操作單一陰極5 0時，則必須指示鋁輪10 八次。 電解液 127含有硝酸鈉（NaN03)與水的溶液。用於一 典型用途之電解液的流動約為每分鐘2 5至5 5加崙之間。 在一特殊範例中，對於直徑20英吋且其凹陷處30與其尺 寸成比例的紹輪1 0 ·而言’電解液的流動可以是每分鐘4 5 至50加崙之間。對於直徑18英忖且其凹陷處30與其尺寸 成比例的鋁輪10而言，電解液的流動可以是每分鐘30至 35加崙之間。在陰極50與窗口 40壁35之間的溝隙107， 典型上學為0.75厘米，然而，在操作期間需要較大程度之 研磨的區域中，這個溝隙會較小，而我們必須了解太小的 溝隙會導致在陰極5 0與陽極（即鋁輪1 0)之間產生不受歡 13 200811318 迎的電弧。 因著電解液127在陰極50周圍流動，控制器129的脈 衝電路1 3 1能夠將電流通與截止，是故電解液不僅可冷卻 鋁輪10，且更可洗去累積在鋁輪10窗口 40壁3 5上的任 何雜質。

討論至此皆是針對以電化學方式研磨一輪 1 0内的窗 口 4 0。如第1圖與第2圖所繪示般，凹陷處3 0亦可以是 不從鋁輪1 0壁135突出的一凹槽45。因此，為了研磨一 凹槽45，電解液127必須以不同方式來分配。第6圖繪示 的較高平台60具有從其突出的一陰極180。當較高平台60 置於凹槽45上方時，一密封墊182環繞該陰極180來提供 一不透水的密封作用。這樣設計的目的在於使電解液 1 2 7 流送到陰極1 8 0的各個側與面上。尤其是，在陰極1 8 0 — 側上的一入口通道1 8 5會將電解液1 2 7注入一隔絕室1 8 7 内。電解液1 2 7會流經陰極1 8 0且從該室1 8 7 .經由一出口 通道1 8 9而移除，接著電解液會從該出口通道1 8 9而送至 收集槽153，如第4圖中所繪示般。賭於第1圖中所繪示 的鋁輪10，第6圖中所繪示的較高平台60具有二個定位 銷190(第6圖），這相稱於螺絲孔25内，等螺絲孔25相 鄰於待研磨的凹槽45。 本發明亦針對於一種用以電化學研磨一鋁輪1 0壁3 5 内具有已知表面形狀之凹陷處3 0的方法。一鋁輪空間界定 了 一鋁輪10在機器100中所佔據的空間。該方法包含以下 步驟：在一平台105上架設一鋁輪10且將至少一陽極附著 14 200811318 於鋁輪10上，例如，藉由陽極護套11 5而附著於鋁輪10 上。至少一陰極5 0設置在鋁輪1 0的凹陷處3 0内，藉以界 定位於陰極50與陽極間之一溝隙107。一電解液127注入 該溝隙中，且一電流會接著在陰極5 0與陽極之間產生。該 電流會具有脈衝，因而可使流動的電解液1 2 7從凹陷處3 0 的表面沖去雜質。電解液會在研磨處理期間再循環，但此 外，電解液可經由一再生處理（例如上文中曾提及的處理） 而再生。

此刻已詳細敘述了本發明的特殊實施例，熟習該項技 藝者應了解，這些細節的種種改良與替換皆可依所揭露的 所有教示内而產生。本文述及的多個本發明·較低實施例僅 i 用於繪示說明，而非限制本發明的範圍，這應可由文後的 申請專利範圍與其任何的或所有的等效物來給定完整的範 圍界限。 【圖式簡單說明】 第1圖為典型鋁輪的前視圖，鋁輪使用根據本發明的 機器與方法來、研磨； 第2圖為第1圖中所繪示之輪的部份放大圖； 第3圖為頂部平台之部份透視圖，該平台具有從該處 突出的陽極； 第4圖係根據本發明之設備的概略圖； 第5圖係第4圖中所繪示的機器概略圖，然其彼此相 鄰的上部平台與下部平台可執行機器處理；及 15 200811318 第6圖係用以研磨一關閉凹槽之陰極的平面圖。

鲁 【主要元件符號說明】 10 鋁 輪 12 鋁 輪 空 間 15 輪 緣 20 輪 轂 25 螺 絲 孔 3 0 凹 陷 處 35 鋁 輪 壁 40 窗 口 42 窗 口 壁 43 窗 π 邊 緣 45 凹 槽 50 陰 極 55 定 位 銷 60 較 平 台 65 較 高 平 台 表 面 100 機 器 105 較 低 平 台 107 溝 隙 110 非 傳 導 性 基 底 112 定 位 螺 栓 115 陽 極 護 套 120 長 圓 柱 狀 物 125 電 源 供 應 127 電 解 液 129 控 制 器 131 脈 衝 電 路 135 貯 存 器 138 泵 140 導 管 143 入 α 通 道 145 套 筒 147 密 封 墊 153 收 集 槽 155 再 生 處 160 接 π 163 伺 服 驅 動 馬達 165 滑 輪 167 皮 帶 170 第 --- 滑 輪 172 轉 轴 180 陰 極 182 密 封 墊 16 200811318 185 入 口通道 1 8 7 隔絕室 189 出 口通道 190定位銷

17

Claims (1)

1. 200811318 十、申請專利範圍： 1. 一種用於電化學研磨一鋁製工作部件之壁内凹陷之機 器，該等凹陷具有已知之表面形狀，其中一工作部件空 間界定一工作部件在該機器中所佔據之空間，且其中該 機器至少包含： a) —較高平台；

   b) —陰極，其從較高平台突出，其中陰極與一凹陷相 聯，且其中陰極之形狀相似於凹陷之形狀但較小，且 調適成設置於與凹陷相鄰，以在其之間界定一溝隙， 用以在陰極與凹陷之間注入電解液； c) 一較低平台，與較高平台對準，其中較低平台調適成 容納工作部件，且其中較高平台與較低平台係可彼此 相對移動，因而在一第一位置中，該陰極係遠離於車交 低平台，且在一第二位置中，該陰極接近較低平台， 且該陰極相鄰於架設在較低平台上之工作部件的凹 陷位ft ; d) 多個陽極護套，用以與工作部件產生接觸，其中該等 護套係可導電，因而當該等護套接觸工作部件時，工 作部件本身作用為一陽極； e) —入口通道，用以使電解液注入位於陰極與工作部件 凹陷間之溝隙； f) 一出口通道，用以移除位於陰極與工作部件凹陷間之 溝隙中的電解液； 18 200811318 g) —電源供應，用以經由較高平台的陰極與較低平台的 陽極之間的電解液來提供電流；及 h) —控制器，用以控制陰極與腸極間之電流。 2. 如申請專利範圍第1項所述之機器，其中上述之工作 部件係一輪。

   3. 如申請專利範圍第1項所述之機器，其中至少二陰極 從較高平台突起，其中各陰極與一凹陷相聯，其中各陰 極之形狀相似於凹陷之形狀但較小，且調適成設置於與 凹陷相鄰，以在其之間界定一溝隙，用以使一電解液注 入陰極與凹陷之間，且其中較高平台與較低平台係可彼 此相對移動，因而在一第一位置中，該等陰極係遠離較 低平台，且在一第二位置中，該等陰極係接近較低平 台，且陰極相鄰於架設於較低平台上之工作部件的凹陷 位置。 4. 如申請專利範圍第1項所述之機器，其中上述之控制 器更包括一脈衝電路，用以讓電流間歇地施加於陰極， 藉以使電解液可更有效地從陽極沖去殘餘物。 5. 如申請專利範圍第4項所述之機器，其中上述之控制 器具有至少一加工模式及一研磨模式，且其中在加工模 19 200811318 式中，電流較高，故可從工作部件移去大量之材料，而 在一研磨模式中，電流較低，故可從工作部件移除較少 量之材料。

   6. 如申請專利範圍第1項所述之機器，其中上述之凹陷 係穿透工作部件之壁而延伸之窗口，出口通道環繞陰 極，是故電解液可注入而環繞陰極邊緣，且出口通道係 窗口，是故電解液係從窗口排出。 7. 如申請專利範圍第6項所述之機器，其中上述之通道 係環繞陰極邊緣之一系列接口。 8.如申請專利範圍第6項所述之機器，其中上述之通道 係環繞陰極邊緣之套筒。 9.如申請專利範圍第1項所述之機器，其中上述之凹陷 係位於工作部件之壁中的一凹槽，入口通道係位於凹槽 之一側上的一狹孔，且出口通道係位於凹槽之另一側上 的一狹孔，是故電解液係從凹槽之一側注入溝隙内，且 從凹槽之另一側排出。 10.如申請專利範圍第1項所述之機器，其中上述之陰極 係可移動地附著於較高平台，是故不同陰極之架設係相 20 200811318 稱於不同形狀之凹陷。 1 1 ·如申請專利範圍第1項所述之機器，其中上述之較高 平台係可滑動地架設，俾以在第一位置與第二位置之間 移動。

   12.如申請專利範圍第1項所述之機器，其中上述之較高 平台與較低平台係與陽極與陰極電絕緣，其中陽極與陰 極係附著於較高平台與較低平台。 13.如申請專利範圍第1項所述之機器，更包括環繞各陰 極與入口通道的可撓式無孔材料，其中該材料係調適成 匹配工作部件，以在較高平台與工作部件之間提供不透 水之密封墊。 14.如申請專利範圍第1項所述之機器，其中上述之陽極 護套係可從一第一位置移開工作部件空間，而移至工作 部件空間内之一第二位置，因而該等護套可接觸架設於 工作部件空間内之一工作部件。 1 5.如申請專利範圍第1項所述之機器，其中上述之較低 平台係可指示，因而具有多個凹陷之工作部件可旋轉而 將不同凹陷對準於陰極。 21 200811318 16.如申請專利範圍第1項所述之機器，更包括一收集槽， 用以當電解液通過陰極與陽極間之溝隙之後，收集電解 液0

   1 7. —種用於電化學研磨一鋁製工作部件之壁内凹陷之方 法，該等凹陷具有已知之表面形狀，其中一工作部件空 間界定一工作部件在該機器中所佔據之空間，且其中該 方法至少包含以下步驟： a) 在一平台上架設一鋁製工作部件； b) 將至少一陽極附著於工作部件上； c) 將至少一陰極設置於工作部件之凹陷内，藉以在陰極 與陽極之間界定一溝隙； d) 將電解液流注入溝隙； e) 在陰極與陽極之間產生一電流；及 f) 使電流產生脈衝，以讓電解液沖刷凹陷表面。 1 8.如申請專利範圍第1 7項所述之方法，其中上述之工作 部件係一輪。 19.如申請專利範圍第1 7項所述之方法，其中上述之使電 流產生脈衝之步驟係一個二步驟程序，其中在一加工步 驟中，電流較大，故移除大量之材料，而在一後續之研 22 200811318 磨步驟中，電流較小，故移除較少量之材料。 20.如申請專利範圍第19項所述之方法，其中上述之用於 加工步驟之電流係約5 0千分之一秒的導通與2 5千分之 一秒的截止。

   2 1 .如申請專利範圍第1 9項所述之方法，其中上述之用於 研磨步驟之電流係约40千分之一秒的導通與20千分之 一秒的截止。 22.如申請專利範圍第1 7項所述之方法，其中上述之電流 係在約12,000安培與1 5,000安培之間，且電壓係約0 與2 5伏特之間的直流電。 2 3 .如申請專利範圍第1 7項所述之方法，其中上述之電流 脈衝速率係約在20至25千分之一秒間之導通，以及在 約8至30千分之一秒間之截止。 2 4.如申請專利範圍第17項所述之方法，其中上述之電解 液流的範圍係為每分鐘2 5至5 5加崙。 25 .如申請專利範圍第1 8項所述之方法，其中上述之輪直 徑為20英吋時，流速係在每分鐘45至5 0加崙之間。 23 200811318 26.如申請專利範圍第18項所述之方法，其中上述之 徑為18英吋時，流速係在每分鐘30至35加崙之 輪直 27.如申請專利範圍第1 7項所述之方法，其中上述之 液係再循環，以提供溝隙内之電解液。

   2 8.如申請專利範圍第17項所述之方法，其中上述之 液係受過濾、，以於再循環之前移除殘餘物。 電解 電解

   2 9. —種用於電化學研磨一鋁製工作部件之壁内凹陷 法，該等凹陷具有已知之表面形狀，其中一工作部 間界定一工作部件在該機器中所佔據之空間，且其 方法至少包含以下步驟： a) 在一平台上架設一鋁製工作部件； b) 將至少一陽極附著於工作部件上； 之方 件空 中該 c) 將至少一陰極設置於工作部件内之凹陷内，藉以 極與陽極之間界定一溝隙； d) 將電解液流注入溝隙；及 e) 在陰極與陽極之間產生一脈衝電流，其中在一預 間内之電流係導通，以研磨工作部件之凹陷，而 在一較短之預設期間内之電流係截止，以讓電解 刷凹陷表面。 在陰 設期 接著 液沖 24