TW200524463A - Electroluminescent device - Google Patents
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Description
200524463 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 5 ι〇 is 2〇 本發明係有關於有機電致發光(EL)元件,特別是包含 寸用性之叙射監光之有機電致發光層之電致發光元件。有 氣電致發光層包含某些2H-苯并三唾。 【先前技術】 已進步至發展適用於全彩顯示器之以有機為主之電致 ^元件。-般’電致發光元件包含發光層及—對夹置發 =層之覆《極。以_施加電場造成電子及電子洞注 、至此系統,造成能量以光線釋放。 :是’於連續操作下具適當安定性之有機電致發光元 出。特別地’依然需要發射藍光之安定有機 电敎發光元件。 US-B-5,104,740幸勃+ _ 息&… 案教不—種電致發光元件,包含含有香 素或氬雜香豆素之衍生物之 層— 赏尤增,及運迗電子洞之 麵:二者皆係由有機化合物製成且層合於另-者之上。所 布之某些香豆素化合物具有2H•苯并三姆代基。 _ It6,·,859案揭示作為有機電致發m 枓之某些聚芳香族有機化合物。2h 於長列之可能二價料族鍵結基中。开二唾部份係列示 US-B_5,116,708案目標係 予同之材料。 於電致發先讀之運送電 US-B-5,518,824案教示 , 更〜女, 種電致發光元件,其包含-或 尺夕之有機層,其中,至少一屏尨#丄 Β次 曰係精由熱或輻射誘發之交 200524463 耳外作用獲付某t本开二唑被揭不作為適春 〜田〈連迭電荷之 化合物。 US-B-4,533,6〗2案揭示電子攝影記錄材料,&含作為運 送電荷載體之化合物之某些2H-苯并三唾。 ' 5 JP58009151案揭示於電子攝影受光器之運送電荷層中 使用某些聚芳香族苯并三唑系統。 ° US-B-5,629,389案揭示一種電致發光元件,其乓有包含 2-(2H-苯并三嗤-2-基)-4,6-雙(1-甲基|苯基乙基)盼之層。 EP7647U案揭示鄰羥基苯基_2Η·苯并三唑作為電^發 10 光元件之安定劑。
Tsutsui等人於合成金屬(Synthetic Metals),1997 (85) 1201-1204揭示2-(2-羥基-5-甲基苯基)-2H-苯并三唑作為運 送電子之層中之螢光摔滅劑。 US-B_2,784,183,2,713,056,2,784,197,3,288,786, 15 3,341,530,5,006,662,GB-A-1150408,DE-A-1052405,及 DE-A-1919181案揭示萘基苯并三唑作為光增亮劑。 US-B-3,793,315案教示芪基苯并三唑衍生物作為光增 亮劑。
Woessner等人於物理化學期刊(j. phys. Chem.),1985 20 (89),3629-3636研究2-(2-羥基-5-甲基苯基)-2H-苯并三唑及 其甲氧基類似物之發射。 US-B-5,486,406案教示於有機發光元件使用鄰羥基苯 基_2H_苯弁三吐之金屬錯合物。 JP00256667及JP98140145案揭示鄰羥基苯基-2H-苯并 200524463 三唾之金屬錯合物用於電致發光元件。 某些211_苯并三唑衍生物被發現適用於有機電致發光 元件。特別地,某些2H-苯并三唑衍生物係具良好耐用性 之適當藍光發射器。 5【發明内容】 因此,本發明係有關於如下化學式之2H-苯并三唑化合 物
N < · N-Y-N Ν' '
10 Y1係二價連接基,且 Y3係crc25烷基,特別是crc4烷基,芳基或雜芳基,可選 擇性被取代,特別是c6-c3G芳基,或c2-c26雜芳基,可選擇 性被取代,
200524463
個別係H,鹵素,特別是氟,羥基,CrC24烷基,以E取代及/ 5 或以D間斷之CrC24烷基,CrC24全氟烷基,C6-C14全氟芳基, 特別是五氟苯基,C5-C12環烷基,以G取代及/或以S-,-0-, 或-NR25-間斷之05丨12環烷基,-NR25R26,CVCm烷基硫 基,_pR32R32, C5_Ci2環烷氧基,以G取代之C5_Cl2環烷氧基, C6-C24芳基,以G取代之C6-C24芳基,CrC24烷基,C5-C12環烷 10 基,c7-c25芳烷基,crc24全氟烷基,c6-c14全氟芳基,特別 是五氟苯基,或crc24i烷基;C2-C2G雜芳基,以G取代之 c2-c2G雜芳基,氟,CrC24烷基,cvcyf、烷基,c7-c25芳烷基, CrC24全氟烷基,C6-C14全氟芳基,特別是五氟苯基,或 C!-C24鹵烷基;C2_C24烯基,C2-C24炔基,CrC24烷氧基,以E 15 取代及/或以D間斷之CrC24烷氧基,C7-C25芳烷基,以G取 代之C7-C25芳烷基,C7-C25芳烷氧基,以G取代之C7-C25芳烷 氧基,或-CO-R28,或
A22及A23或A11及A23係π 或广 之基,或 200524463 二彼此鄰近之A11,A12, A13, A14,,A15, A16, A17 及A18基係
及A36彼此個別係H,鹵素,羥基,CrC24烷基,以E取代及/ 或以D間斷之CVCm烷基,CrC24全氟烷基,C6-C14全氟芳基, 5 特別是五氟苯基,C5-C12環烷基,以G取代及/或以S-,-〇·, 或-NR25-間斷之〇:5-(:12環烷基,(:5名12環烷氧基,以G取代之 C5-C12環烷氧基,C6_C24芳基,HG取代之C6-C24芳基,C2-C2〇 雜芳基,以G取代之C2-C2〇雜芳基,C2-C24稀基,C2-C24炔基, CrC24烷氧基,以E取代及/或以D間斷之CrC24烷氧基, 10 C7_C25芳烷基,以G取代之C7-C25芳烷基,c7-c25芳烷氧基, 以G取代之Ct-C25芳烷氧基,或-CO-R28,其中,較佳地,取 A22, A23, A24, A11, A12, a139 a14? a15? a16? A17^a18
之至少一者係以氟取代之CVC24芳基,Ci_C24烷基,CrCi2環 烧基,c7-c25芳燒基,Cl_c24全氟烧基,〇6心4全氟芳基,特 15別疋五氟苯基,或Cl<:24鹵烷基;或C^C:26雜芳基,特別是 硫基苯基,t各基,吱喃基,苯并σ㈣基,或苯并嗔唾Z 其係以氟取代,Cl-C24烧基,C5-C12環燒基,C7-C25芳垸基 .α24全氟烷基,c6_Ci4*氟芳基,特別是五氟苯基,或 C1-C24鹵烧基,或如下化學式之基
9 200524463
其中,X70, X71,X72, X73, X74, X75, X76, X77, X80, X81,X82, χδ3, X84, X85, X86,及X87彼此個別係Ε及/或以D間斷,CVC24全氟 5 烧基,C6_Ci4全氟芳基,特別是五氟^苯基,C5-C12環烧基,以 G取代及/或以S-,-0-或-NR25-間斷之C5-C12環烷基, _NR25R26, Cl_C24烷基硫基,_PR32 R32, 〇5-012環烷氧基,以G 取代之C5-C12環烷氧基,C6-C24芳基,以G取代之C6-C24芳基, CrC24烷基,05-012環烷基,C7-C25芳烷基,CrC24全氟烷基, 10 c6-c14*氟芳基,特別是五氟苯基,或crc24鹵烷基;c2-c20 雜芳基,以G取代之C2-C2〇雜芳基,氟,CrC24烷基,C5-C12 環烷基,c7-c25芳烷基,crc24全氟烷基,c6-c14全氟芳基, 特別是五氟苯基,或crc24鹵烷基;c2-c24烯基,c2-c24炔基, Crc24烷氧基,以E取代及/或以D間斷之CrC24烷氧基, 15 C7-C25芳烷基,以G取代之C7-C25$烷基,C7-C25芳烷氧基, 以G取代之C7-C25芳烷氧基,或-CO_R28,或 彼此鄰近之二X70, X71,X72, X73, X74, X75, X76, x77,x80, X81,
10 200524463 '、,鹵素,特別是氟,羥基,Cl_c24烷基E 7斷之%规心嫩基,从4全氟芳Λ 5 -N^^c C5'C:2it^ C c ^ 5 C12環烷基,(:5-(:12環烷氧基,以G取代之 雜=垸氧基,c6_c24芳基,以G取代之c6_C24芳基,c心 C方土,=〇取代之c2_c2G雜芳基,c2_c24稀基,C2_c24块基, ^^,以味代及/或以⑽斷之^^氧基, =芳mG取代之C7_C25芳絲,㈣5芳燒氧基, 2G取代之〇7<25芳烷氧基,或-C〇_r28, E ^CR23=CR24、特別是—CX68X' E2 係-SiR30R3i_; _p〇R32 ·牲它丨曰 〇R -,特別疋_S_,HNR'其中, 係CrC24烧基,或C6-C1()芳基, X68 Y69 V78 ν7^ λ^88 80 15 ,Χ,Χ,Χ,Χ8及妙彼此個別係Ci_Ci8烧基,以 ^及/或以D間斷之Cl_C24烧基,C6_C24芳基』G 6-C24芳基,c2_c2〇雜芳基,以G取代之c2_C2〇雜芳基c 。:=炔=院氧一 24烧乳基,或eve:25芳烧基,或 χ78及 X79,及 / 或 X88 及 χ89 2〇或 及Χ形成每,特別是五或六員之環, X68 及 X7〇,基, X69 及 X7% χ77及χ78及/或X84及X89係
200524463 D係-CO-; -COO-; -S-; -SO-; -S02-; -NR25-; -SiR30R31-; -POR32-;-CR23=CR24-;或-CeC-;且 E係-OR29; -SR29; -NR25R26; -COR28; -COOR27; -C〇NR25R26; -CN; 5 -OCOOR27;或鹵素; G係E,或CrC24烷基,其中, R23, R24, R25及R26彼此個別係H; C6-C18芳基;WCrC24烷基, *CrC24烷氧基取代之C6-C18芳基;CrC24烷基;或以-O-間 斷之CrC24烷基;或
10 R25及R26 —起形成五或六員之環,特別是
R27及R28彼此個別係H;C6-C18芳基;以CrC24烷基或CVCm 烷氧基取代之C6-C18芳基;CrC24烷基;或以-0-間斷之 CrC24烷基, 15 R29係H; c6-c18芳基;acrc24烷基或crc24烷氧基取代之 c6-c18芳基;CrC24烷基;或以-0-間斷之CVC24烷基, R30及R31彼此個別係CrC24烷基,C6-C18芳基,或以CrC24烷 基取代之c6_c18芳基,且 R32係CVC24烷基,c6-c18芳基,或以crc24烷基取代之 20 c6-c18 芳基。 12 200524463 於本發明之較佳實施例,取代基A21,A22,A23,A24, A11, A12, A13, A14, A15, A16, A17及A18之至少一者,特別是A12, A21 及/或A23,係如下化學式之基 5 10 15
X r65 ^ ? ^ ,义v 5 ^ ,乂x 5 ^ ? Α_ ? Λ52 χ53, χ54, χ55, χ56, X57, x58, x59, X60, X61, X62, χ63, χ“, χ65, X66及X67彼此個別係Η,氟,视25r26, C]_C24烷基,C5-Ci2環 烷,,C:c25芳燒基,CrC24全氟燒基,c6_c“全氣芳基,特 別疋五氟苯基,或Ci_C24鹵烧基,選擇性以E取代及/或以D 、斷之C! C24垸基,選擇性以E取代之C1_C24稀基,選擇性 取代之从2環絲,選擇性以g取代之環炫氧 土’ k擇性以G取代之C6_Ci8芳基,選擇性以£取代及/或以 D間斷之(^<24垸4其、登 擇性以碑二!c = G取代之从8芳基氣,選 Dpm 18方土元氣基,選擇性以E取代及/或以 D間斷之以24院基硫基,以G取代之 性以G取代之C6_Cls芳炫基,或2 2〇雜方基,或k擇
X,X65或X52係化學式 彼此相鄰之二Χ41 χ42 43 ,入,入,X45 χ46 γ47 γ48 ν49 γ50 V51 ν52 λ^53 ς/ΐ ,入,入,X,入, ? ^ ? X 5 X X55 γ56 γ57 SR ’X,Χ,Χ8,χ59,χ6〇,χ6 丨,χ62,χ63.
Ph之基 13 200524463
.A95 A96
基,其中,A 又64,父65,父66及又67基係 Λ9ΐ aQ, 洛’長甲,Α' A,WW5,,及,彼此個別係Η,4素,經基 C】-C24烷基,以Ε取代及/或以D間斷之工土 翕、ρ甘 疋土,Ci-Cy全 凡基,(VCk全氟芳基,特別是五氟苯基, 以G取代及/或以s_,_〇_,或·nr25 凡土, J,<L5_C12環燒基 C5-Cu環烷氧基,以G取代之C5_Cl2環烷氧 戈之c6-c24芳基,C2-C2G雜芳基,以G取代之C2_〜雜 方土,CVC24烯基,c2_c24炔基,Ci_c24烧氧基,以E取代及/ 10 15 或以D間斷之CrC24烧氧基,c7_c25芳燒基,以G取代之 C? C25芳烷基,CVC25芳烷氧基,以E取代之c7-c25芳烷氧基, 或,其中,r25, r26&r28,d,£及〇係如上所界定, 且較佳地,取代基X' Χ42, χ43, χ44, χ45, χ46, χ47, χ48, χ49, χ50^ X51, X52, X53, Χ54? Χ55? Χ56? Χ58? Χ59? χ6〇? χ61? χ62? Χ,χ64, χ65, χ66及X67 之至少一者係氟,-NR25R26, CVC24 &基,c5-c12m燒基,〇7<25芳烧基,心〜全氟烷基,C6-Ci4 全氣芳基,特別是五氟苯基,或crc24鹵烷基。 於本發明之另一較佳實施例,取代基A21,A22, A23, A24, A' A12, A13, A14, A15, A16, A17及A18之至少一者,特別是A12 及/或A23,係如下化學式之基
X 74
,85 14 200524463
其中,
A X' X' X' ’及’彼此個別係CrC24烧基,特別是 5 Ci-C!2烷基,可以二或更多個氧原子間斷 疋 84
X7。, X71,X72, X73, X74, X' χ76, χ77, χ80, χ81,χ82, χ83 X χ85, CN, Cl-C2^^, c6-C10^^; C1-C24烧氧基,C1-C24烧基硫基,-JsfR25j^26 _c〇NR25R26 或-COOR27,其中, 10 R 5及以26彼此個別係H,(VCu芳基,CVC18芳烷基,或CVC24 烧基,且R係C1-C24烧基,或
E2係-S-,-0-,或-NR25-,其中,R25’ 係crc24烧基,戒C6_Cl0 15 芳基。 2H-苯并三唾化合物需發射低於約520 nm之光,特别禾 約380 nm及約520 nm之間。2H-苯并三唑化合物需具有約 15 200524463 (0.12, 0.05)及約(0.16, 0.10)間之NTSC座標,特別是約(〇 w 0·08)之 NTSC 座標。 2H-苯并三唑化合物需具有高於約丨%%之熔點,特別 是高於約200°C,更佳係高於約25〇〇c,最佳係高於約3⑽。c。 較佳地,Y3係如下化學式之基
或 10
R67, R7〇? R71? R72? R739 R75? R765 R775 r81^ r8^ ^ r- r- CVCH全氟芳基,特別是五氟苯基,_NR25R26,選擇性以£取 代及/或以D間斷之Cl-C24烷基,選擇性以£取代之ci_c^烯 15基,騎性以G取代之cvCl2環烧基,選擇性以g取代之 C5-CJ烧氧基,選擇性以G取代之C6_Ci8芳基,選擇性以£ 選擇性以G取代之 is芳基烷氧基,選擇
取代及/或以D間斷之Cl_C24烷氧基, C6_CiS芳基氧,選擇性以g取代之C7_C 16 200524463 性以E取代及/或以關斷之CrC減基硫基,選擇性以⑽ 代之c2-c2❶雜芳基,或選擇性以G取代之c6_Ci8芳烧基,或
,R46, R47, R48, R49, R50, ,R59, R60, R6\ R62, R63, ,R74, R75, R76, R77, R80, 彼此鄰近之二R41,R42, R43, R44, r45 R51,R52, R53, R54, r55, r56, R57, r58 R64, R65, R66, R67, R70, R7〗,R72, r73
R81,R82,R83,r84,r85,r86,及] 10
之基’其中,A' A' A92, A93, A' A95, A96及 a97彼此個 別係H,鹵素,特別是氟,-NR25R26,羥基,Crc24烷基,以E 取代及/或以D間斷之CrC24烷基,Cl-C24全氟烷基,C6_Ci4全 氟务基,特別是五氟苯基,CVC!2環烧基,以G取代及/或以 S ’ 0-,或-NR -間斷之C5-C12環烧基,C5-C12環烧氧基,以g 取代之CVCu環烧氧基,CVC24芳基,以G取代之c6-C24芳基, 15 C2-C2〇雜芳基,以G取代之C2-C2〇雜芳基,C2-C24稀基,c2-C24 炔基,CVC24烷氧基,以E取代及/或以D間斷之cvc24烧氧基, CrCh芳烷基,以G取代之C7_C25芳烷基,C7_C25芳烷氧基, 以G取代之c7_c25芳烷氧基,或-C(>R28, R68, R69, R78, R79, R88AR89彼此個別係CrCi8 烷基,以e取 2〇 代及/或以D間斷之CrC24烷基,CVC24芳基,以g取代之 17 200524463 C6-C24芳基,C2_C2。雜芳基,以G取代之C2_C2〇雜芳基,C2-C24 烯基,C2-C24炔基,CrCw烷氧基,以E取代及/或以D間斷之 CVC24烷氧基,或C7-C25芳烷基,或 R68及R69, R78及R79,及/或R88及R89形成環,特別是五或六員 5 之環,或 R68 及 R70, R69AR73? r77ar78a/^r84ar89 %
基, D係-CO-; -COO-; -S-; -SO_; -S02-; -0; -NR25-; -SiR30R31-; -POR32-; -CR23=CR24_;或-C三C-;且 10 E 係 _OR29;-SR29; -NR25R26; -COR28; -COOR27; -CONR25R26; -CN;-OCOOR27;或鹵素;G係E,或CVCm烧基;其中, R23, r24, R25及r26彼此個別係H; C6-Ci8芳基;以Ci_C24烷基 或C】-C24烷氧基取代之C6-C18芳基;CrC24烷基;或以-O-間 斷之Q-C24烷基;或
R27及R28彼此個別係H; C6-C18芳基;以CrC24烷基4CrC24 烷氧基取代之C6-C18芳基;CrC24烷基;或以-0·間斷之 CVCm烷基, 18 200524463 K29係H; C6_C18芳基;以CrC24烧基或Cl_C24烧氧基取代之 C6~Cl8芳基;Ci-C24烷基;或以-〇-間斷之CrC24烷基, r31r31彼此個別係Crc24院基,c6-c18芳基,或以crc24^ 基取代之cvc18芳基,且 R係CVC24烧基,c6-C18芳基,或以Q-C24烧基取代之 芳基,或 R43,或R52係如下化學式之基
以一或二個氧原子間斷, R,R71’,R72’,R73’,R74’,r、r76’彼此個別係 H,CN, Ci-C24烷基,c6-c1()芳基,CVC24烷氧基,Cl_c24烷基硫 基,_NR25’R26,,-CONR25 R26 ,或-COOR' 15 R25’&R26’彼此個別係H,Q-C〗8芳基,c7_Cl8芳烷基,或
Cl-C24烧基,且R27係(^<24烧基;且 E1 係-S-,-0-,或-NR25’-,其中,R25、Ci-C24烷基,或c6_c⑺ 芳基。 Y1較佳係如下之基 19 200524463 R7
.π1
20 200524463
nl,n2, n3, n4, n5, n6, n7及n8係 1,2,或3,特別是1, E1 係-S-,-0-,或-NR25’-,其中,R25,係心^^烷基,或〇:6-(:10芳 基, R6及R7彼此個別係H,鹵素,特別是,_Nrmr26,羥基,CVCm 10烧基,以E取代及/或以d間斷之crC24烷基,C^-Cm全氟烷基, C6-Cu全氟芳基,特別是五氟苯基,Cs_Ci2環烷基,以G取代 及/或以S-,-0-,或-NR25-間斷之〇5-0:12環烷基,C5-C12環烷 氧基,以G取代之c5-c12環烷氧基,C6-C24芳基,以G取代之 21 200524463 =6其&芳基,” °物,以啡狀⑽嶋,㈣ 卸基,㈣滅以成氧基,卿肪或 CVC24烷氧基,C7-C25^、pa 烷基,以G取代之匸7-〇25芳烷基, 7 2 ,叫取代之c7_c25芳烧氧基,或_c〇n 90
A 91
/A 10 及R具R之意義’或—起形成a93基其中A,, 八,及八彼此侧伽,„,絲,^24院基,以脉代 及/或以D間斷之Cl-C24貌基,C]_C24全氣烧基,c6_ci4全氣芳 基,特別是五氟苯基,C5_Ci2環燒基,以G取代及/或以s·, 、,或NR間斷之c5_Ci2環烧基,C5_Ci2環院氧基,以〇取 代之c5c12i衣烧氧基,C6_C24芳基,以G取代之q-Cm芳基, c2-c2。雜芳基,二G取代之C2-C2。雜芳基,C2_C24稀基,C2_C24 炔基,C, c24烷氧基,以£取代及/或以D間斷之匸1心4烷氧基 c7-c25芳烧基,以G取代之C7_C25芳燒基,Μ#炫氧基, 以E取代之C7_C25芳烷氧基,或 15 -CO-R28, R係^七24烧基,ME取代及/或以D間斷之C「C24炫基, Cf24芳基,或c7_C25芳烷基, R9及R10彼此個別係CrC24烧基,以E取代及/或以〇間斷之
Cl C24燒基,C6"C24芳基,以G取代之c6-c24芳基,C2-C2〇雜芳 2〇 ,、G取代之雜芳基,C2-C24稀基,C2-C24炔基, 20 Cl_C24燒氧基,以E取代及/或以D間斷之Cl.c24炫氧基,或 C7_C25芳烷基,或 形成環,特別是五或六員之環, 22 200524463 R14及R15彼此個別係H,CVQm烷基,以E取代及/或以D間斷 之CrC24烷基,C6-C24芳基,以G取代之C6-C24芳基,C2-C20雜 芳基,或以G取代之C2-C2G雜芳基, D係-CO_,-COO-,-S_,-S〇-,-S02_,-0-,-NR25_,-SiR30R31-, 5 -POR32-,-CR23二CR24-,或-C三C-, G係E,或CrC24烷基,且 E係-OR29, -SR29, -NR25R26, -COR28, -C00R2VC0NR25R26, -CN,-OCOOR27,或鹵素,其中, R23, R24, R25及R26彼此個別係H,C6-C18芳基,以CrC24烷基 10 或C1-C24烧氧基取代之C6-Ci8芳基,C1-C24烧基,或以-O-間斷 之CrC24烷基,或 R25及R26—起形成五或六員環,特別是
R27及R28彼此個別係H,C6-C18芳基,以CrC24烷基或CrC24 15 烷氧基取代之C6-C18芳基,CrC24烷基,或以-Ο-間斷之CrC24 烧基, R29係H,C6-C18芳基,以CVCm烷基,Q-Cm烷氧基取代之 C6-C18芳基,CrC24烷基,或以-0-間斷之CVC24烷基, R30及R31彼此個別係CrC24烷基,C6-C18芳基,或以Q-Cm烷 20 基取代之C6-Ci8芳基,且 R32係CrC24烷基,C6-C18芳基,或以CrC24烷基取代之 23 200524463 C6-Ci8芳基。 於一較佳實施例,本發明係有關於如下化學式之2H-苯并三唑化合物
或A23係如下化學式之基
X53, X54, X55, X56? X57, x58? x59? X^〇? X615 Χ625 Χ635 χ64^ χ65^ 10 X66及X67彼此個別係Η,氟,CN,CrC24烧基,C5-Cl2環烷基, C7_C25芳烷基,C!-C24全氟烷基,C^Cu全氟芳基,特別是五 氟本基,Ci-C24鹵烧基,可選擇性以一或多個c广c8燒基成 CVC8烷氧基取代之cvClG芳基;CrC24烷氧基,Ci_C24烷基 硫基,-NR25R26, -CONR25R26,或-COOR27,或 24 200524463
魏相鄰之二 χ'χ42,八、χ'χ45, χ46, χ47, χ48, χ49,妙 X51,X52, X53, χ54 X55 Χ56 5 ,, ,Χ58,Χ59,Χ60,χ61,χ62,χ63 X64, χ65, X66及X67基係 Ί、、、〕〇 取代基X'W3 χ44 46基’其中’較佳地’ 5? ’ ’ ’ Χ ’ X46, X47, X48, X49 Χ5。χ51 X52,ΧΆ χ55 56 57 ,’ Χ, C c 者係氟,-NR R26, Crc24烷基, 10 :规基,C7_C25芳燒基,Ci々嫌 是五氣苯基,或一基,或
X80 χ81 χ82 χ83 χ87 X8'
X7V χ7\ /χ79 χ8\ /89 84 ’ X
X“X/b X 或 15 x,χ69, χ7δ,χ79, X88及X89彼此個別係crc24烷基,特別是 25 200524463
CrCu烷基,可以一或二個氧原子間斷, ^70 v72 ^vr73 ^74 ^75 v77 ·ντ80 ^81 λ^γ82 v^3 v^4 -/Sl. ^ ^jk. ^ -/V. ^ -/V. ^ ^Sl. ^ -/V. ^ -/V. ^ ^ -*V. ^ -/V. ^ -/Sk* ^ -/A. ^ -/¾.. y X85, X86及X87彼此個別係H,CN,CVC24烷基,可選擇性以一 或多個CrC8烷基或CrC8烷氧基取代之C6-C10芳基;C〗-C24 5 烷氧基,crc24 烷基硫基,-nr25r26,-conr25r26, 或-COOR27, E2係-S-,-0-,或-NR25’-,其中,R25’係Q-Cm烷基,或C6-C1(^ 基, A21,A22及A24彼此個別係氫,鹵素,特別是氟,CrC24烷基, 10 G-C24全氟烷基,C6-C144氟芳基,特別是五氟苯基,C5-C12 環烷基,C7-C25芳烷基,CrCw鹵烷基,可選擇性以一或多個 crc8烷基或crc8烷氧基取代之c6-c18芳 基;-NR25R26, -CONR25R26,或-COOR27,或c2-c1()雜芳基,特別 15 是化學式 22 23 11
之基 18, A11,A13, A14, A15, A16, A17,及A1S彼此個別係H,CN,CrC24 烷基,〇5-〇12環烷基,c7-c25芳烷基,crc24全氟烷基,c6-c14 全氟芳基,特別是五氟苯基,Crc24i烷基,crc24烷氧基, Q-C24 烷基硫基,c6-c18 芳基,_nr25r26,_conr25r26, 20 或-COOR27,或C2-C10雜芳基,其中, R25及R26彼此個別係H,C6-C18芳基,C7-C18芳烷基,或CrC24 烷基,R27係CrC24烷基,且 26 200524463 γ3係如下化學式之基
5 R42係氫,或CrC24烷基, A11,
或-COOR27, 27 200524463 E1 係-S-,-Ο-或-NR25’-,其中,R25’係Q-Cm烷基,或C6-C1(^ 基, R11G係H,CN,Q-Cm烷基,C!-C24烷氧基,CrC24烷基硫 基,-NR25R26, -CONR25R26,或-COOR27,或 或、Θ之基, R42及R43係化學式'' R44係氫,或CrC24烷基, R45係氫,或CrC24烷基, R68及R69彼此個別係CVCm烷基,特別SCrC12烷基,可以一 或二個氧原子間斷, 10 R7G,R71,R72, R73, R74, R75, R76, R90, R91,R92,及R93彼此個別 係H,CN,CrC24烷基,C6-C1()芳基,CrC24烷氧基,C「C24烷 基硫基,-NR25R26, -CONR25R26,或-COOR27, R25及R26彼此個別係H,C6-C18芳基,C7-C18芳烷基,或CrC24 烷基,且R27係CrC24烷基。 15 於一較佳實施例,本發明係有關於如下化學式之2H- 苯并三嗤化合物
28 200524463
其中,A52及A43係如下化學式之基
宜中,χ41 χ42 χ43 χ44 χ45 χ46 χ47 χ48 χ49 χ5。χ51 X52 5 v53 v54 v55 v56 v57 v58 v59 v60 V61 v62 v63 v64 v65 -/V. ^ -/V. ^ ^ ^ -/V. ^ ^ -/V. ^ -/V. ^ ^ ^ ^ -/V. ^ -/m- ^ X66及X67彼此個別係H,氟,CN,CrC24烷基,05名12環烷基, C7-C25芳烷基,CrC24全氟烷基,C6-C14*氟芳基,特別是五 氟苯基,或G-C24鹵烷基,C6-C10芳基,可選擇性以一或多個 Q-Cs烷基或CrC8烷氧基取代; 10 crc24 烷氧基,crc24 烷基硫基,-nr25r26,-conr25r26, 或-COOR27,或 彼此相鄰之二X41,X42, X43, X44, X45, X46, X47, X48, X49, X50, vr51 \r53 -vr54 -^-55 ^56 7 ·γτ5 8 ^59 ^60 ^r61 ^62 -vr63 -/V ^ -/Jk. ^ -iV. ^ -ZV. ^ -/V. ^ ^ -/JL. ^ -/iL. ^ -ZlL. ^ -ZlL ^ -/V. ^ -/V. ^ ^ X64, X65, X66及X67基係、^或、^^基,其中,較佳地, 15 取代基X41,X42, X43, X44, X45, X46, X47, X48, X49, X50, x5\ v52 v53 v54 v55 v56 v57 v58 v59 v60 V61 v62 v63 v64 ^ -/V ^ -/^V ^ -/V ^ -/V ^ -/V. ^ -/V ^ ^ ^ -/x. ^ ^ -/a- ^ 5 X65,X66及X67之至少一者係氟,-NR25R26,crc24烷基, 29 200524463 cvc—烷基,c7-c25芳烷基,Ci_c24全就烧基,C6_c“全氟 芳基,特別是五氟苯基,或CrC24鹵烷基,或A43或A52係如 之基
X 74 X X72 X76 X
個別係CrC24烷基,特別是Ci-Cu烷基,可以一或二個氧原子 間斷, X70, X71, X72, X73, X74, Χ765 Χ77^ Χ805 Χ81^ χ82? χ83^ χ8^ 10 X85, X86及Χδ7彼此個別係Η,CN,CrC24烧基,CVC!。芳基, Crc24烷氧基,CrC24烷基硫基,-NR25R26,-C〇NR25R26 或-COOR27, E2係-S-,-0-,或-NR25’-, A41,A42及A44彼此個別係氫,鹵素,Cl_C24烧基,Ci_C2々 I5氟烧基,C6_Ch全氟芳基,特別是五氟苯基,c5-C12環烧基, C7-C25芳烧基,Crc24鹵烧基,c6-C18芳 基,-NR25R26, -CONR25R26,或-COOR27,或c2-c10雜芳基,特別 30 200524463 ΛΝ^τ rC^ 是化學式Vo或\=Λ 之基,或 Α51,Α'Α54, ΑΆ Α57, Α58,,及,彼此個別係 Η,說, CN,CrC24烧基,CrC24:^氧基,Ci_C24烧基硫基,C5_Ci2環烷 基,CVC25芳烷基,CrC24全氟烷基,c6_Ci4全氟芳基,特別 是五氟苯基,crc24鹵烷基,c6-C18芳 基,-nr25r26, _conr25r26,或_coor27,或c2_Ci❶雜芳基其 中,E1 係 0, s,或-NR25’-, R及R彼此個別係H,C6-C18芳基,(^〜芳烧基,或心^
N
烷基,或R25及R26—起形成五或六員之環,特別是g —N
—N 10 ,或 R27係Q-Cw烷基,且 Y1係如下化學式之基
31 200524463
° ,其中, 5 R6係CrC24烷氧基,或-0-C7-C25芳烷基,R7係H,或CrC24烷基, R9及R1G彼此個別係CrC24烷基,特別是C4-C12烷基,可以一或 二個氧原子間斷,且 R25’係CVCm烷基,或C6-C1()芳基。 於特別較佳實施例,2H-苯并三唑化合物係如下化學式 10 之化合物
,23 ,23
23 (Illd),
或 32 200524463
Λ ΔΟ Α (Illf),特別是 R (IIIc)’ 其中,R1G2係CrC24烷基,特別SC「C12烷基,特別是H,A23係 如下化學式之基 〇
33 200524463
,特別是R
r1°1,其中,R·及R1G1彼此個別係H,CrC24烷基, 特別是CrC12烷基,極特別係第三丁基,或
,其中,X' X' X,W4, X。及 X1 5 彼此個別係氟,crc24烷基,特別是crc12烷基,極特別係第 三丁基,c5-c12環烷基,特別是環己基,可選擇性以一或二個 <^-(:8烷基取代,或1-金剛烷基,crc24全氟烷基,特別是 CrC12*氟烷基,諸如,CF3, C6-C144氟芳基,特別是五氟苯 基,NR25R26,其中,R25及R26係C6_C14芳基,特別是苯基,可以 10 一或二個(^-0:24烷基取代,或R25及R26 —起形成五或六員之 雜環,特別是
特別佳之2H-苯并三唑化合物之例子係如下所示: 34 200524463
(A-l),
(A-2),
35 200524463
(A-8),
36 200524463
(A-ll),
(A-12),
(A-15), 37 200524463
(A-20), 38 200524463
(A-22),
於進一步之較佳實施例,本發明係有關如下化學式之 5 化合物
39 200524463
(IIIc),其中,每一分子之一A 23 23
5 於進一步之較佳實施例,本發明係有關於如下化學式 之化合物
N :N - Y3 N (IVb),或
其中, 1〇 Y3係如上所界定,或係~^A12,且 40 200524463
是苯基,1-萘基,2-蔡基,可選擇性以—或二個Ci_C8烷基或 crc8烷氧基取代。
Ph ph之基,則Y3較佳係化學式 若A12係如下化學式之基
之基。
10其中,X43,X52及X65彼此個別係氟,Cl_C24烷基,特別是 CrCu燒基,極特別係第三丁基,q-Q2環烷基,特別是環已 基,可選擇性以一或二個基取代,或1-金剛烷基, c】-C24全氟烷基,特別是c]_Ci2全氟烷基,諸如,CFs。 41 200524463 於進一步之較佳實施例,本發明係有關於化學式 IVa,IVb,或IVc之化合物,其中,A12係
N
A 12 或 ¥ ^ ,且Y3係 特別佳之2H_苯并三唑化合物之例子係如下所示
(B-4), (B-5), 42 200524463
::N分
(B-10),
43 200524463
於進一步之較佳實施例,本發明係有關於如下化學式 之化合物
(IIIc),或
其中,A23及A23’彼此個別係如下化學式之基 44 200524463
。A23及A23’較佳係具有相同意義。特別較佳之 2H-苯并三唑化合物之例子係如下所示:
45 200524463
(C-4),
於進一步之較佳實施例,本發明係有關於如下化學式 之化合物 46 200524463
中’ A53係CVC24烧基,特別是c4_Cl2烧基,特別是Η 下化學式之基 (lib),其 ,Y係如
此個別係CrC24烧基,特別是CVC!2烧基,可以一或二個氧原 10子間斷,且R25’係CrC24烷基,特別是C4_Cl2烷基。特別佳之 2H-苯并三σ坐化合物之例子係如下所示: 47 200524463
(D-3),
48 200524463
(D-10)。 於進一步之較佳實施例,本發明係有關於化學式Ia,Ib, A12 5
Ic,或Id之化合物,特別是丫 ,其中,A12係H,如 下化學式之基
X43係CrC24烷基,特別是CrC12烷基,Y3係化學式 49 ,70 200524463
之基,其中,R70係crc24烷基,特別是CrCw 烷氧基。特別佳之2H-苯并三唑化合物之例子係如下所示··
於,v之較佳實施例,本發明係有 關於化學式1〇之
其中,Y3係如下化學式 之
50 200524463
,其中,R9及R1G彼此個別係
Crew烧基,特別是C4_Ci2烷基,可以一或二個氧原子間臀。 特別佳之2H-笨并三唑化合物之例子係如下所示:
(F-1),
化學式Ilia,Illb及IIIc之2H-苯并三唑化合物,特別是 化合物A-1至A-12,較佳係作為宿主化合物,而化學式] IVb及IVc之2H-笨并三唑化合物,特別是化合物B-1至B、1() 及化學式IIa,IIb,IIc及lid之2H-苯并三唑化合物,特別是化 10合物D-1至D-9,較佳係作為電致發光元件之發光層中之客 化合物。 若化學式Ilia,Illb及IIIC(=III)之2H-苯并三唑化合物作 為宿主化合物且化學式IVa,Ivb及Ivc(=iv),或化學式Ila,iib, lie及IId(=II)之2H-苯并三唑化合物作為客化合物,化學式 15 111之2H-苯并三唑化合物對化學式IV或II之2H-苯并三唑化 合物之重量比例一般係50:50至99.99:0.01,較佳係9〇:1〇至 51 200524463 99·99:0·(Η,更佳係95:5至99.9:0.1。 本發明之2Η-苯并三唑化合物可依據此項技藝已知方 法或相似者合成(見,例如,W003/105538)。 2Η-苯并三唑可藉由任何適合方法製造,例如,藉由芳 5香族硼化物及溴化物之縮合反應製造,一般係稱為”Suzuki 反應,其谷忍各種有機官能基存在,如Ν· Miyaua及A.
Suzuki於Chemical Reviews,第 95冊,第 457-2483 頁(1995)所 報導。 為製造相對應於化學式⑴之2H-苯并三唑,於Pd及三苯 10 基膦之催化作用下,2當量之化學式
之溴化物於2當量之相對應於化學式X11—A23之蝴化物或其 混合物反應,其中,X11彼此個別係_Β(〇Η)2, _Β(〇γι、或 _Β〔二 γ12 0 ’其中,υ11於每一情況個別係crCi〇烷基,且γ12 於每一情況個別係C2-C1G烷撐基,諸如,-CY13Y14-CY5Y6-, 15 或—CY7Y8-CY9Y10-CY15Y16-,其中,Υ5, γ6, Υ7, γ8 γ9 γ10 γ,Y4,Y15及Y16彼此個別係氫,或CrC1()烷基,特別 是-C(CH3)2C(CH3)2-,或-C(CH3)2CH2C(CH3)2-。反應典型上 係於約70 °c至120 °c且於芳香族烴溶劑(諸如,甲苯)中進 行。其它溶劑(諸如,二甲基甲醯胺及四氫呋喃)亦可單獨或 20與芳香族經混合使用。水性鹼(較佳係碳酸納或碳酸氫納) 係作為HBr清除劑。依反應物反應性而定,反應可費時2至 100小時。有機鹼(諸如,四烷基銨氫氧化物)及相轉移催化 52 200524463 片K堵如’ TBAB)可促進蝴之活性(見’例如,Leadbeater &
Marco; Angew. Chem· Int· Ed.,2003, 42, 1407及其内之參考 文獻)。 鹵素係氟,氯,溴、及碟。 5 Ci-C24烷基係分枝或未分枝之基,諸如,甲基,乙基,丙 基,異丙基,正丁基,第二丁基,異丁基,第三丁基,2-乙基 丁基,正戊基,異戊基,K甲基戊基,1,3-二甲基丁基,正己 基’ 1_甲基己基,正庚基,異庚基,U,3,3-四甲基丁基,1-甲 基庚基,3-曱基庚基,正丁基,2•乙基己基,Μ)三甲基己 1〇基,1,1,3,3-四甲基戊基,壬基,癸基,十一烧基,i甲基十 —燒基,十二燒基’ U,3,3,5,5_六甲基己基,十三炫基,十 ^基’十Μ基’十Μ基,十七炫基,十人烧基,二十 烷基或二十二烷基。 CVC24全氟烷基係分枝或未分枝之基,諸如, 15 -CF3, -cf2cf3? -cf2cf pp ^F2CF3, -CF(CF3)2, -(CF2)3CF35 及-c(cf3)3。 "cvc24:^基係直鏈或分枝之烧氧基 ,例如,甲氧基, 20 乙氧基,正㈣基,異”基,正丁氧基,第二丁氧基,第 二丁氧基:錢基,異錢基或第三戊氧基,庚氧基,辛氧 土,異辛氧基,壬氧基,癸氧基,十一烧氧基,十二烧氧基, 十四烧氧基,十五烧氣其, 乳基,十六烷氧基,十七烷氧基及十八 燒氧基。 c2 c24烯基係直鏈或分枝之烯基,諸如,乙烯基,稀丙 基,甲基烯丙基,異丙烁其 ~基,2-丁烯基,3-丁烯基,異丁烯基, 53 200524463 正戊-2,4-二烯基,3-甲基-丁-2-烯基,正辛-2-烯基,正十二 -2-稀基,異十二婦基,正十二-2-稀基或正十八-4-稀基。 C2_24炔基係直鏈或分枝,且較佳係C2_8炔基,可未被取 代或被取代’諸如’乙快基,1-丙快-3-基,1-丁快-4-基,1-戍 5 快-5·基,2-甲基-3-丁快-2-基,1,4-戍二快-3-基,1,3-戊二快 -5-基,1-己快-6-基,順-3-甲基-2-戍沐-4-快-1-基,反-3-甲 基-2-戊烯-4-炔-1-基,1,3-己二炔-5-基,1-辛炔-8-基,1-壬炔 -9-基,1-癸炔-10-基,或1-二十四炔-24-基。 c4-c18環烷基,特別是c5-c12環烷基,較佳係c5-c12環烷 10 基或以一至三個crc4烷基取代之該環烷基,諸如,環戊 基,甲基環戊基,二曱基環戊基,環己基,甲基環己基,二 甲基環己基,三甲基環己基,第三丁基環己基,環庚基,環 辛基,環壬基,環癸基,環十二基,1-金剛烷基,或2-金剛烷 基。壞己基,1 -金剛烧基及壞戊基係隶佳。 15 以S,0,或NR25間斷之C4-C18環烷基之例子係哌啶基, °辰嗉基及嗎琳基。 芳基一般係c6-c3G芳基,較佳係c6-c24芳基,可選擇性被 取代,諸如,苯基,4-甲基苯基,4-甲氧基苯基,萘基,聯苯基, 2-芴基,菲基,蔥基,四醯基,五醯基,六醯基,三苯基或 20 四苯基;或以一至三個Ci-C4烧基取代之苯基’例如’鄰-,間 -或對-甲基苯基,2,3-二曱基苯基,2,4-二甲基苯基,2,5-二甲 基苯基,2,6-二甲基苯基,3,4-二甲基苯基,3,5-二甲基苯基, 2-甲基-6-乙基苯基,4-第三丁基苯基,2-乙基苯基或2,6-二 乙基苯基。 54 200524463 c7-c24芳烷基較佳係c7-c15芳烷基,可被取代,諸如, 苯甲基,2-苯甲基-2-丙基,β-苯乙基,α-甲基苯甲基,α,α-二 甲基苯甲基,CO -苯基-丁基,CD -苯基-辛基,CO -苯基-十二烧基; 或於苯基環上以一至三個Cl-C4烧基取代之苯基-Cl-C4烧 5 基,諸如,2-曱基苯甲基,3-甲基苯甲基,4-甲基苯甲基,2,4-二甲基苯甲基,2,6-二甲基苯甲基或4-第三丁基苯甲基或 3-甲基-5-(Γ,Γ,3’,3’-四甲基-丁基)-苯甲基。 雜芳基典型上係C2_C26雜芳基,即,具五至七個環原子 之環或縮合環系統,其中,氮,氧或硫係可能之雜原子,且 10 典型上係具至少六個共軛π-電子之具5至30個原子之不飽 和雜環基,諸如,噻吩基,苯并[b]噻吩基,二苯并[b,d]噻吩 基,噻蔥基,呋喃基,糠基,2H-吡喃基,苯并呋喃基,異苯 并呋喃基,二苯并呋喃基,苯氧基噻吩基,吡咯基,咪唑基, 坐基,0比0定基,二17比咬基,三σ秦基,。密σ定基,秦基,璉 15 嗔基,吲嗓嗉基,異吲嗓基,吲嗓基,吲σ坐基,嘌吟基,4 嗉基,醌醇基,異醌醇基,酞嗪基,萘啶基,醌噁啉基,醌 唑琳基,噌琳基,蝶啶基,咔唑基,咔琳基,苯并三唑基, 苯并噁唑基,菲啶基,吖啶基,咱啶基,菲咯啉基,吩嗉基, 異噻唑基,菲噻嗉基,異噁唑基,呋咱基或菲噁唑基,其可 20 未經取代或經取代。 c6-c18環烷氧基係,例如,環戊氧基,環己氧基,環庚 氧基或環辛氧基,或以一至三個crc4烷基取代之該環烷氧 基,例如,甲基環戊氧基,二甲基環戊氧基,甲基環己氧基, 二甲基環己氧基,三曱基環己氧基,或第三丁基環己氧基。 55 200524463 c6-c24芳氧基典型上係苯氧基或以一至三個匕-匕烷基 取代之苯氧基,諸如,鄰-,間-或對-甲基苯氧基,2,3-二甲 基苯氧基,2,4-二甲基苯氧基,2,5-二甲基苯氧基,2,6-二甲 基苯氧基,3,4-二甲基苯氧基,3,5-二甲基苯氧基,2-甲基-6-5 乙基苯氧基,4-第三丁基苯氧基,2-苯氧基或2,6-二乙基苯 氧基。
c6-c24芳烷氧基典型上係苯基-crc9烷氧基,諸如,苯 甲氧基,ct-甲基苯甲氧,α,α-二曱基苯甲基氧或2-苯基乙氧 基。 10 crc24烷基硫基係直鏈或分枝之烷基硫基,諸如,甲基 硫基,乙基硫基,丙基硫基,異丙基硫基,正丁基硫基,異 丁基硫基,戊基硫基,異戊基硫基,己基硫基,庚基硫基, 辛基硫基,癸基硫基,十四烧基硫基,十六烧基疏基或十八 烧基硫基。 15 藉由R9及R1G與R25及R26形成之五或六員環之例子個別
係具有3至5個碳原子之雜環烷或雜環烯,其係具有一另外 之選自氮 氧及硫之雜原子,例如,
或
其可為雙環系統之一部份,例如
56 200524463
上述基之可能取代基係Crc8烷基,羥基,巯基,crc8 炫4氧基’ CrCs燒基硫基,i素,鹵基-Q-Cs烷基,氰基,醛 基’酮’羧基,酯基,氨基甲醯基,胺基,硝基或矽烷基。 ώ燒基 辭忍指以鹵素部份或全部取代上述烧基之 基諸如,二氟甲基等。“醛基,酮基,酯基,氨基甲醯基 及胺基,,等辭包含以CrC24烧基,C4-Cl8環燒基,c6_c30芳基, 7 C24芳烷基或雜環基取代者,其中,院基,環烷基,芳基, 芳烷基及雜環基可為未被取代或被取代。“矽烷基”一辭意 W指化學式-SlRi〇V,〇7之基,其中,Rl' rtRl〇7彼此 個別係CrC8烧基,特別是C!-C4縣,cvc24芳基或cvc12 芳烷基,諸如,三甲基矽烷基。 若取代基,諸如,R6及R7,於一基中發生多於一次, 則其於每一次發生可為不同。 士上所述,上述基可以E取代及/或,若要的話,以d 間斷。間斷當然僅可能於含有至少2個彼此藉由單鍵連接之 石厌原子之基之情況;CVCh芳基未被間斷;經間斷之芳基烷 基或烷基芳基於烷基部份含有D單元。一或多個E取代及/ 或以一或多個D單元間斷之Crc24烷基係,例如, 20 ,其中,RX係H4CrCi〇烷基或C2-Ci〇烷醯 基(例如 ’ CO-CH(C2H5)C4H9),CH2-CH(0Ry,)-CH2-0-Ry,其 57 200524463 中,RySCrC24烷基,C5-C12環烷基,苯基,C7-C15苯基烷 基,且Ry’包含與Ry相同之定義或係HiCVCs烧撐-COO-Rz, 例如,CH2COORz CH(CH3)COORz,C(CH3)2COORz,其中, Rz係H,CrC24烷基,(CI^CI^COm-RX,且Rx包含如上所示之 5 定義;ch2ch2-o-co-ch=ch2; ch2ch(oh)ch2-〇-co_c(ch3)=ch2。 本發明之發射藍光之2H-苯并三唑發射低於約520 nm 之光’例如,約380 nm及約520 nm之間。例如,本發明發 射藍光之2H-苯并三唑具有約(〇·ΐ4,〇.〇8)之NTSC座標,其 10中,第一座標係約0.12及約0.16之間,且第二座標係約〇〇5 及約0.10之間。 本發明之化學式I,II,III,或IV之化合物亦作為非發射 藍光之化合物者,例如,其亦可作為注射電子洞、運送電 子洞及注射電子或運送電子之材料。本發明之有機電致發 15光元件具有重大工業價值,因為其可適於壁上型電視機之 平板顯示器、平發光元件、影印機或印表機之光源、液晶 顯示器或計算計之光源、顯示訊號板及訊號光。 本發明材料可用於有機電致發光元件、電子攝影受光 器、光電轉換器、太陽能電池及圖像感應器之領域。 20 為獲得具適當Tg,或玻璃轉移溫度,之本發明有機層, 有利係本發明2H-苯并三唾具有大於約150°C之炫點,例 如,大於約200〇C,例如,大於約25〇。(:,例如,大於約3〇〇〇c。 本發明之電致發光元件可如此項技藝所知設作其它設 計,例如,US-B-5,518,824, 6,280,859, 5,629,389, 5,486,406, 58 200524463 5,104,740及5,116,708案中所述者,其等之相關揭示内容在 此被併入以供參考。 本發明係有關於位於陽極及陰極間且藉由電能作用發 光之具有化學式I之2H-苯并三哇之電致發光元。 5 最近之有機電致發光元件之典型構造係·· ⑴陽極/運送電子洞之層/運送電子之層/陰極,其中, 化學式I之2H-苯并三嗤係作為運送正電子洞之化合物(其被 用以形成發光層及運送電子洞之層),或作為運送電子之化 合物(其被用以形成發光層及運送電子之層), 10 (ii)陽極/運送電子洞之層/發光層/運送電子之層/陰 極,其中’化學式⑴化苯并三唾形成發光層,而料: 是否於此結構中展現運送正電子洞或電子之性質, ㈣陽極/注射電子洞之層/運送電子洞之層/發光層/運 送電子之層/陰極, 15 (1V)陽極/運送電子洞之層/發光層/抑制正電子洞之層/ 運送電子之層/陰極, ⑺陽極/注射電子洞之層/運送電子洞之層/發光層/抑 制正電子洞之層/運送電子之層/陰極, (vi)陽極/發光層/運送電子之層/陰極, 2〇 ⑽陽極7發光層/抑制正電子洞之層/運送電子之層/陰 極, (V111)含單獨之發光材料或發光材料與運送電子洞之 層、阻絕電子狀層及/或運送t子之層料之I 一者之 混合物之單一層,及 59 200524463 ()()至(vii)所述之多層結構,其中,發光層係(池) 中界定之單層。 予式I之2H-苯并二唾原則上可用於任何有機層,諸 如,運送電子洞之層、發光層,或運送電子之層’但較佳 係作為發光層巾之發料料,性作輕主《組份。 10 15 本發明之發光化合物於固態展現強的勞光,且具有優 異之經施加電場之發光特性。再者,本發日狀發光化合物 於自金屬電極注射電子洞及觀好_優異的;且於自 f電極注射電子及運送電子係優異的。其被有效作為發 材抖,且可與其它運送電子洞之材料、其它運送電子之 材料或其它摻雜劑結合使用。 如本發明之2H-苯并三唾形成均一薄膜。因此,發光層可 早獨由本發明之2H-笨并三唑形成。 另外,發光層於需要時含有已知發光材料、已知摻雜 劑、已知之運送電子洞之材料或已知之注射電子之材料。 於有機電致發光元件,n由猝滅造成亮度及壽命之減少可 藉由使其以多層結卿成㈣免。發光㈣、摻雜劑、、、主 射電子狀㈣及科電仅㈣可輯f齡使用。再 者’換_可改良發光亮度及發光效率,且可達成紅、綠 或藍光之發射。再者’注射電子洞之區域、發光層及注射 電子之區域之每—射具有至少H結構。於此情況 之注射電子洞之區域,電子洞自電極注射所達之層係稱為” 注射電子狀層”’且接收來自⑽電子社層之電子洞且 將電子洞運送至發光層之層係稱為"運送電子洞之層,,。於 20 200524463 注射電子之區域,電子自 ώ /射所達之層係稱為"注射電 子之層轉收來自注射電子之層之電子且將 發光層之層係稱為”運送電子之芦" ' ^ 5 10 20 之能階及熱阻性絲有機^人9/此等層係依諸如材料 選擇及使用。、電極之黏著性等因子而 上乂用於發光層之發光材 枓或掺雜劑包含,例如,苗 ^ 秦,非,芘,并四苯,暈苯,篇, 4光素,北,酉太亦 蓋^ f — ,〃北,哌嗪酮,酞哌嗉酮,萘哌嗉酮,二 本基丁二烯,四苯基丁-橋 —、, 埽,香显素,噁二唑,醛連氮,雙 乙烯,乙稀基恩,二胺基吟唾,口比喃,嘆咕喃,聚次甲基, 部花菁,味唾螯合之類氧化合物,心丫啶酮,紅癸烯,及用 於染料雷射或增亮之螢光染料。 科°惡姆,雙苯乙烯,㈣,環n㈣金屬錯合物, 胺基奎琳至屬錯合物,苯并嗜琳金屬錯合物,亞胺,二苯基 、本發明之2H·料三錢上述可用於發光層之化合物 可以任何混合_使用以形成發光層。即,本發明之2H_ 笨并三唾可提供用以形成發光層之主要組份,或可為另一 主要材料之摻雜材料’其係依上述化合物與本發明 之2H- 苯并二唑之混合而定。良好結果係於,例如,當DpVBi (4,4,_ 雙-(2,2·二苯基-1·乙稀基)聯苯)作為宿主化合物且化合物 A-1至A-12作為客化合物時達成。 薄膜型之電致發光元件一般係基本上由一對電極及至 > 一位於其間之運送電荷之層所組成。一般,二運送電荷 之層、運送電子洞之層(鄰接陽極)及運送電子之層(鄰接陰 61 200524463 極)存在。其間之任一者含有-依其作為運送電子洞或運送電 子之材料之性質而定-無機或有機之螢光物質作為發光材 料。亦普遍地,發光材料係作為運送電子洞之層及運送電 子之層間之額外層。於上述元件結構中,注射電子洞之屏 5 可建構於陽極及運送電子洞之層間,及/或抑制正電子洞之 層可建構於發光層及運送電子之層間,以使發光層之運電 子洞及電子之數量達最大,而於電荷再結合及強烈發光達 成大的效率。 此等元件可以數種方式製造。一般真空蒸發被用於此 10製造。較佳地,有機層係以上述順序層合於維持於室溫之 可購得的銦-錫·氧化物(“IT0,,)玻璃基材上,其係作為上述 結構中之陽極。膜厚度較佳係丨至⑺…⑻nm之範圍,更佳 係1至5,〇〇〇nm,更佳係1至1〇〇〇11111,更佳係丨至5⑼ 陰極金屬,諸如,Mg/Ag合金,二元之Ll_AUtLlF_A1系統, 15具5〇_2〇〇nm範圍之厚度,被層合於有機層之頂部上。沈積 期間之真空較佳係少於〇.1333 pa (1χ 1〇-3托耳),更佳係少 於 1·333χ 10_3 Pa (1χ 1〇-5托耳),更佳係少於ι 333χ (ΐχ ur6托耳)。 作為陽極,擁有高功函數之一般陽極材料,諸如,如 20金,銀,銅,氣銦,鐵,辞,錫,鉻,鈦,飢,始,鎳,錯, 氧鎢等之金屬,諸如鎮/銅,錤/銀,鎮/銘,銘/銦等之金屬 ^金,,諸如Si,Ge,GaAs等之半導體,諸如姻务氧化物 (〇 ),ZnO等之金屬氧化物,諸如CuI等之金屬化合物, 再者諸如聚乙炔,聚苯胺,聚嘍吩,聚吼。各,聚對苯撐 62 200524463 等之導電性聚合物,較佳係Ι1Ό ’最佳係於作為基材之玻璃 上之ΙΤΟ,可被使用。 於此等電極材料,金屬、金屬合金、金屬氧化物及金 屬化合物可藉由,例如,噴濺方法轉變成電極。於使用金 5屬或金屬合金作為電極材料之情況,電極亦可藉由真空沈 積方法形成。於使用金屬或金屬合金作為形成電極之材料 之情況,電極可再者藉由化學電鍍方法形成(見,例如,電 化子手冊(Handbook of Electrochemistry),第 383-387 頁,
Mazuren,1985)。於使用導電聚合物之情況,電極可藉由陽 10極氧化聚合方法於事先供以導電性塗層之基材上形成膜而 形成。欲於基材上形成之電極的厚度不限於特定數值,但 §基材被作為發光板時,電極厚度較佳係1 nm至300 nm之 範圍内,較佳係5至200 nm之範圍内,以確保透明性。 於一較佳實施例,ITO被用於基材上,其具有10 nm 15 (100入)至1 μ (10000 A)範圍之ITO膜厚度,較佳係20 nm (200人)至500麵(5000人)。一般,1丁〇膜之片電阻係於不 夕於1 ΟΟΩ/cm之範圍選擇’較佳係不多於5〇Q/cm2。 此專%極可購自日本製造商,諸如,Geomatech有限公 司、Sanyo Vacuum有限公司、Nippon Sheet Glass有限公司。 20 作為基材,導電性或電絕緣性之材料可被使用。於使 用導電性基材之情況’發光層或運送正電子洞之層係於其 上直接形成,而於使用電絕緣性基材之情況,電極先於其 上形成,然後,發光層或運送正電子洞之層被疊加。 基材可為透明、半透明或不透明。但是,於使用基材 63 200524463 作為指示面之情況,基材需為透明或半透明。 透明性電絕緣基材係,例如,無機化合物,諸如,坡 璃、石英等,有機聚合化合物,諸如,聚乙烯、聚內稀、 聚甲基丙烯酸甲酯、聚丙烯腈、聚酯、聚碳酸酯、聚氯乙 5烯、聚乙烯基醇、聚乙酸乙烯酯等。此基材之每一者可藉 由依據如上所述方法使其供以一電極而轉換成透明之導電 性基材。 半透明電絕緣基材之例子係無機化合物,諸如,氧化 鋁、ysz (以釔安定之氧化錘)等,有機聚合化合物,諸如, 10聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯、環氧樹脂等。此等基材之每 一者可藉由依據上述方法之一使其供以一電極而轉換成半 透明導電性基材。 不透明導電性基材之例子係金屬,諸如,鋁、銦、鐵、 錄、鋅、錫、鉻、鈦、銅、銀、金、鉑#,各種經電鍍之 15金屬,金屬合金,諸如,青銅、不鏽鋼等,半導體,諸如, Si,Ge,GaAs等,導電性聚合物,諸如,聚苯胺、聚噻吩' 聚吡咯、聚乙炔、聚對苯撐等。 基材可藉由使如上所列基材材料之一形成所欲尺寸而 獲得。較佳地’基材具有平順表面。即使,若其具有粗槪 2〇 表面,其不會造成實際使用之任何問題,只要其具有具不 少於20um之曲度之圓不平坦度。至於基材厚度,並無限制, 只要確保足夠之機械強度。 作為陰極,擁有低功函數之一般陰極材料,諸如,心 金屬、驗土金屬、弟13族元素、銀及銅及兑等之人金戈 64 200524463 合物,諸如,鈉、鋰、鉀、鈣、氟化鋰(LiF)、鈉-鉀合金、 鎮、鎮-銀合金、鎮-銅合金、鎮合金、鎭-銦合金、I呂、 鋁-氧化鋁合金、鋁-鋰合金、銦、鈣及EP-A 499,011案中列 示之材料,諸如,導電性聚合物,例如,聚σ比洛、聚σ塞吩、 5 聚苯胺、聚乙炔等,較佳地,Mg/Ag合金、LiF_Al或Li-Al 組成物可被使用。 於一較佳實施例,鎂_銀合金或鎂及銀之混合物,或鋰 -鋁合金、氟化鋰-鋁合金或鋰及鋁之混合物可以1〇 (1〇〇 人)至l(m (10000人)範圍之膜厚度使用,較佳係20 nm(2〇〇人) 10 至500 nm(5000 A)。 此等陰極可藉由上述之已知真空沈積技術沈積於前述 之運送電子之層上。 於本發明之一較佳實施例,發光層可用於運送電子洞 之層及運送電子之層間。一般,發光層係藉由於運送電子 15 層之層上形成薄膜而製得。 作為形成該膜薄之方法,其具有,例如,真空沈積方 法、自旋塗覆方法、鑄造方法、Langmuir-Blodgett (“LB”) 方法等。於此等方法中,真空沈積方法、自旋塗覆方法及 鑄造方法以操作簡易性及費用而言係特別佳。 2〇 於使用組成物藉由真空沈積方法形成薄膜之情況,真 空沈積進行之條件一般係強烈地依化合物之性質、形狀及 結晶態而定。但是,最佳條件一般係如下所示:加熱舟之 溫度:100至400°C;基材溫度:-100至350°c;壓力:ι·33χ1〇4 Pa(lxl02托耳)至 1.33xl〇-4Pa(lxl〇_6托耳),及沈積速率:i 65 200524463 pm至 6 nm/秒。 於有機電致發光元件,發光層厚度係決定其發先性質 之因素之一。例如,若發光層不足夠厚,短路係相當汽單 地於夾置此發光層之二電極間發生,因此,未獲得電致發 5光之發射。另一方面,若發光層太厚,大的電勢降發生於 發光層内,因為其高電阻之故,因此,電致發光發射之臨 界電壓增加。因此,有機發光層厚度係受限於5 至5 u(m 之範圍,較佳係10 nm至500 nm之範圍。 於藉由使用自旋塗覆方法及鑄造方法、喷墨印刷方法 10形成發光層之情況,塗覆可使用藉由使組成物以0.0001至 90重量%之濃度溶於適當有機溶劑(諸如,笨、曱苯、二曱 苯、四氫吱喃、甲基四氫吱喃、N,N_二甲基甲醢胺、二氯 曱垸二甲基亞料)而製得之紐實行,溶液—般係黏稠 性,使其不再能形成平順且均質之膜。另—方面,若濃度 15少於〇.〇〇〇1重量%,形成膜之效率太低而不具經濟性。因 此,組成物之較佳濃度係〇.〇1至8〇重量%之範圍内。 &於使用上述自旋塗覆或鑄造方法之情況,可藉由添加 聚合物黏合劑至用以形成發光層之溶液而進一步改良形成 層之均質性及機械強度。實際上,任何聚合物黏合劑可被 2〇使用,只要其能溶於溶解組成物之溶劑中。此等聚合物黏 合劑之例子係聚碳酸醋、聚乙烯基醇、聚丙稀酸甲醋、聚 :基丙烯酸甲酯、聚酯、聚乙酸乙烯酯、環氧樹脂等。但 f ’,組絲合_合似組錢之固體含量超過99重量 岭液之机動性—般太低,而不能形成具優異均質性之 66 200524463 發光層。另一方面,若組成物之含量大量地小於聚合物黏 合劑,此層之電阻性極大,因此,不能發光,除非對其施 加高電壓。因此,聚合物黏合劑對組成物之較佳比例係於 10:1至1:50(以重量計)之範圍内選擇,且溶液内二組份所組 5成之固體含量較佳係0·〇1至80重量%之範圍内,且更佳係 0.1至60重量%之範園内° 作為運送電子洞之層,已知之有機運送電子洞之化合 物,諸如,聚乙烯基咔唑
10 J· Amer· Chem. Soc· 90 (1968) 3925 中揭示之tpd化合物:
其中,Qi及Q2每一者代表氫原子或曱基; J· Appl. Phys· 65(9) (1989) 3610中揭示之化合物:
15 以笑為主之化合物 67 200524463 〇-ch=ch-^q> 其中,T及Τι代表有機基; 以腙為主之化合物 •Ν 八中,Rx,Ry及Rz代表有機基, 等可被使用。 10 作為運送正電子洞之材料之化合物不限於如上列 化合物。具運送正電子洞性f之任何化合物可作為運送: 電子洞之㈣,諸如,三峻衍生物,。惡二唾衍生物,咪唾衍 生物,聚芳基貌衍生物,t坐琳衍生物,β比唾琳綱衍生物, 苯二胺衍生物,芳基胺衍生物,以絲取狀查爾嗣衍生 物,噁唑衍生物,芪基葱衍生物,苟酮衍生物,腙衍生物, 芪衍生物,苯胺衍生物之共聚物,pED〇T(聚(3,4_乙撐二氧_ 嘍吩))及其衍生物,導電性寡聚物,特別是嚷吩寡聚物,卟 啉化合物,芳香族三級胺化合物,芪基胺化合物等。 15 示之 特別地,芳香族三級胺化合物,諸如,N,N,N,,N,_四苯 基-4,4’-二胺基聯苯,N,N,-二苯基-N,N,-雙(3-甲基苯基)-4,4’-二胺基聯苯(TTD),2,2,-雙(二對甲苯基胺基苯基)丙 烷,1,1’·雙(4-二-甲苯基胺基苯基)-4-苯基環己烷,雙(4-二 甲基胺基-2-甲基苯基)苯基甲烷,雙(4-二-對-甲苯基胺基苯 基)苯基·甲烷,N,N’-二苯基-N,N’-二(4-甲氧基苯基)-4,4’-二 胺基聯苯,N,N,N’,N,-四苯基-4,4,-二胺基二苯基醚,4,4’-雙 (二苯基胺基)四苯,N,N,N-三(對-甲苯基)胺,4-(二-對-甲苯 68 20 200524463 基胺基)-4’-[4-(二-對-申苯基胺基)芪基]芪,4-N,N-二苯基 胺基-(2-二苯基乙細基)苯,3 -甲氧基-4’-N,N-二苯基胺基氏, N-苯基咔唑等,被使用。 再者,US-B-5,061,569案揭示之4,4’-雙[N-(l-萘基)-N-5 苯基胺基]聯苯及EP-A 508,562案揭示之化合物,其中,三 個三苯基胺單元結合至氮原子,諸如,4,4’,4’’-三[1^(3-甲 基苯基)-N-苯基胺基]二苯基胺’可被使用。 運送正電子洞之層可藉由於陽極上製造含有至少一運 送正電子洞之材料之有機膜而形成。運送正電子洞之層可 10 藉由真空沈積方法、自旋塗覆方法、鑄造方法、喷墨印刷 方法、LB方法等形成。此等方法中,真空沈積方法、自旋 塗覆方法及鑄造方法以輕易性及費用而言係較佳。 於使用真空沈積方法之情況中,沈積之條件可以相同 於對於形成發光層所述者(見上述)之方式中選擇。若欲形成 15 包含多於一運送正電子洞材料之運送正電子洞之層,共同 蒸發方法可使用所欲化合物而使用。 於藉由自旋塗覆方法或鑄造方法形成運送正電子洞之 層之情況,此層可於對於形成發光層所述之條件(見上述) 下形成。 20 如於形成發光層之情況般,更平順且更均質之運送正 電子洞之層可藉由使用含有黏合劑及至少一運送正電子洞 之材料之溶液而形成。使用此一溶液之塗覆可以相同於對 發光層所述之方式實施。任何聚合物黏合劑可被使用,只 要可溶於溶解至少一運送正電子洞之材料之溶劑中。適當 69 200524463 聚合物黏合劑之例子與適當及較佳之濃度係於上述描述發 光層之形成時。 運送正電子洞之層的厚度較佳係於〇·5至1〇〇〇 nm之範 圍選擇,較佳係1至100 nm,更佳係2至50 nm。 5 作為注射電子洞之材料,已知之有機運送電子洞之化 合物,諸如,無金屬之酞菁(H2PC)、銅-酜菁(Cu_pc)及其衍 生物(例如,JP64-7635案中所述者)可被使用。再者,某些 上述疋義作為運送電子洞之材料之芳香族胺,其具有比運 送電子洞之層更低之離子化電勢,可被使用。 1〇 注射電子洞之層可藉由於陽極及運送電子洞之層間製 造含有至少一注射電子洞之材料之有機膜而形成。注射電 子洞之層可藉由真空沈積方法、自旋塗覆方法、鑄造方法、 LB方法等形成。此層之厚度較佳係5 ηηι至5um,且更佳係 10 nm至 1〇〇 nm 〇 15 運送電子之材料,例如,金屬錯合物化合物或含氮之 五員衍生物,需具有高的注射電子效率(自陰極)及高的電子 移動性。下列材料可被例示作為運送電子之材料:羥基 喳啉酸鋰,雙(8-羥基喳啉酸)鋅,雙(8_羥基喳啉酸)銅,雙 (8-羥基喳啉酸)錳,三(8-羥基喳啉酸)鎵,三(8-羥基喳啉酸 20基)鋁(ΙΠ)及其等之衍生物,諸如,三(2-甲基-8-羥基喳啉酸) 鋁,雙(10-羥基苯并[h]喳啉酸基)鈹(11)及其衍生物,雙(1〇_ 羥基苯并[h]喳啉酸)鋅,雙(2_甲基喳啉酸)氯鎵,鎵雙(2_ 甲基-8-喳啉酸鹽)(鄰-甲酚鹽),鋁雙(2_甲基_8_喳啉酸 鹽)(1-萘紛鹽),叙雙(2-甲基-8^奎淋酸鹽)(2-萘紛鹽),鎵雙 7〇 200524463 (2-曱基-8-4啉酸鹽)(酚鹽),雙(鄰-(2-苯并噁唑基)(酚)鋅, 雙(鄰-(2-苯并噻唑基)酚)鋅,及雙(鄰-(2-苯并三唑基)酚) 鋅;噁二唑衍生物,諸如,2-(4-二苯基)-5-(4-第三丁基苯 基)-1,3,4-噁二唑及2,5-雙(1-萘基)-1,3,4-噁二唑及其二聚物 5 系統,諸如,1,4-雙[2-(5-苯基噁二唑基)]苯,1,4-雙[2-(5-苯 基噁二唑基)-4-第三丁基苯],2,5-雙(1-苯基)-1,3,4-噁二唑, 2-(4’-第三丁基苯基)_5-(4”_ 二苯基)1,3,4-噁二唑,1,3-雙(4-第三丁基苯基-1,3,4)噁二唑基)二苯撐及1,3-雙(4-第三丁基 苯基-1,3,4-噁二唑基)苯撐,噁唑衍生物,二噁唑衍生物, 10 噻唑衍生物,噻二唑衍生物,三唑衍生物,諸如,2,5-雙(1-苯基)-1,3,4-噁唑,1,4-雙(2-(4-曱基-5-苯基噁唑基)苯,2,5-雙(1-苯基)-1,3,4-噻唑,2-(4’-第三丁基苯基)-5-(4”_二苯 基)-1,3,4-噻二唑,2,5-雙(1-萘基)-1,3,4-噻二唑,1,4-雙[2-(5-苯基噻唑基)]苯,2-(4’-第三丁基苯基)-5-(4”-二苯基)-1,3,4-15 三唑,或2,5-雙(1-萘基)-1,3,4-三唑及1,4-雙[2-(5-苯基三唑 基)]苯,香豆素衍生物,咪唑吡啶衍生物,菲啉衍生物或茈 四羧酸衍生物,如Appl. Phys. Lett· 48 (2) (1986) 183所揭 示。 運送電子之層可藉由於運送電子洞之層上或於發光層 20 上製造含有至少一運送電子之材料之有機膜而形成。運送 電子之層可藉由真空沈積方法、自旋塗覆方法、鑄造方法、 LB方法等形成。 較佳係用於抑制正電子洞之層之抑制正電子洞之材料 具有高的自運送電子之層至發光層之注射/運送電子之效 71 200524463 率’且亦具有比發光層更高之離子電勢,以避免自發光層 流掉正電子洞,以避免發光效率下降。 作為抑制正電子洞之材料,已知材料,諸如
,Balq,TAZ 及菲啉衍生物,例如,浴銅靈(bath〇cupr〇me)(Bcp),可被 使用:
BCP Balq TAZ 10 15 ^抑制正電子洞之層可藉由於運送電子之層及發光層間 裝k 3有至4 -抑制正電子洞之材料之有機膜而製得。抑 制正電子洞之層可藉由真空沈積方法、自旋塗覆方法、禱 造方法、喷墨印刷方法、LB方法等形成。此層之厚度較佳 係於5 _至2㈣之範圍内選擇,且更佳係於1〇 至刚 之範圍内。 如於形成發光層或運送正電子洞之層之情況 ,較平順 及更均貝之運送電子之層可藉由使用含有黏合劑及至少一 運运電子之材料之溶液形成。 運G電子之層的厚度較佳係於Q 5至丨_⑽之範圍選 擇,較佳係1至lOOnrn,更佳係2jL5〇nm。 择注射電子洞之材料可藉由併納受電子材料而使敏應性 増加,且注射電子之㈣可藉由併納供電子㈣而使敏感 性增加。 72 20 200524463 本發明之有機電致發光元件中,除本發明之發光性2H-苯并三唾材料外,發光層可另外含有其它發光材料、其它 摻雜劑、其它注射電子洞之材料,及其它注射電子之材料 之至少一者。為改良本發明之有機電致發光元件之對溫 5度、濕度及周圍壓力之安定性,保護層可於此元件之表面 上形成,或此元件整體可以矽酮油等密封。 用於陰極之導電性材料係適當地選自具有小於4eV功 函數者。導電性材料包含鎮,妈,錫,錯,欽,紀,鐘,釕, 猛,鋁及此等之合金,但導電性材料不應限於此。合金之 10 例子包含鎮/銀,錢/姻,鐘/紹,但合金不應限於此。陽極及 陰極之每一者可依所需具有由二層或更多層形成之層結 構。 為了有機電致發光元件之有效發光,至少一電極所欲 地於此元件之發光波長區域係具充分透明性。再者,基材 15所欲地亦係透明。透明電極係自上述導電性材料藉由沈積 方法或賤方法使預定透光率被獲得而製得。發光表面側 上之電極具有,例如,至少10%之透光率。基材未特別限 制,只要其具有適當之機械及熱強度且具透明性。例如, 其係選自玻璃基材及透明樹脂基材,諸如,聚乙烯基材,聚 20對苯二甲酸乙二酯基材,聚醚颯基材,及聚丙烯基材。 於本發明之有機電致發光元件,每一層可由乾燥膜形 成方法(諸如,直空沈積方法、喷濺方法、電漿方法及離子 電鍍方法)’及濕膜形成方法(諸如,自旋塗覆方法、浸、主方 法及流動塗覆方法)之任—者形成。每—層之厚度未特別限 73 200524463 制,但每一層需具有適當 地’需要高電壓來達成;定二當層厚度太大時,無效率 層易具有小孔等,如此八n層厚度太小時’此 時獲得。每-層之厚度係,,份之發光亮度難以於施加電場 例如,約lOrnn至約〇又2帅例如,約5nm至約1〇陶之範圍, 於濕膜形成方法,用以形 散於適當溶劑(諸如,乙醇4所欲層之材料被溶解或分 10 15 薄膜自此溶液或分散液形成:7^夫°南及二,且 良膜形成性及避免任何層不限於上述溶劑。為改 ui ^ 產生小孔,上述之用於形成層 狀物之溶液或分散液可含有適當樹脂及適當添加劑。可使 用之樹脂包含絕物旨,諸如1苯乙烯,聚她旨,聚芳 基化物,《,聚酿胺’聚胺基曱酸醋,聚讽,聚甲基丙稀 酸甲醋,$丙烯酸甲醋及纖維素,此等之共聚物,光導性 樹月曰’諸如H乙稀糾錢聚雜,及導電性聚合物, 諸如’ 吩及聚翁^ ±述添加劑包含抗氧化劑、紫外 線吸收劑及塑化劑。 田本發明之發光性苯并三唑材料用於有機電致發光元 件之發光層時,有機電致發光元件可改良有機電致發光元 件之特性,諸如,發光效率及最大發光亮度。再者,本發 2〇明之有機電致發光元件對熱及電流具顯著安定性,且於低 趨動電壓時產生可用之發光亮度。傳統裝置之問題性惡化 會被顯著減少。 【實施方式】 下列實施例係例示本發明。於此等實施例及整份說明 74 200524463 書,發光材料一辭係意指本發明之2H-苯并三坐化合物。 實施例1
a) 4-溴苯胺(58.14毫莫耳)係溶於使用174毫莫耳HC1之 5 200毫升之水中。混合物冷卻至0°C,且於30毫升水中之亞 硝酸鈉(58.1毫莫耳)於30分鐘期間滴入。45分鐘後,重氮鍇 鹽經由套管添加至於〇°C之於300毫升乙醇内之1-胺基-溴 萘(58.14毫莫耳)之混合物。2小時後,於1〇〇毫升水中之碳 酸鈉(80·2毫莫耳)被滴入,產生7之pH值。另外3〇分鐘後, 10紅色沈澱物被過濾並以水清洗(2x300毫升)。棕紅色固體於 1〇〇毫升甲醇内磨碎隔夜,過濾並乾燥。產物於真空中乾燥 產生艷紅色固體(產率:91%)。NMR (ppm,(CD3)2SO): 8·59 (d,1H),8.12 (s,1H),8·07 (d,1H),8.04 (d,2H),7·82 (d, 即,7.76 (d,2H),7.70 (t,1H)。
b)步驟a)之產物(49·37毫莫耳)及乙酸銅(π)(〇·49毫莫耳) 被置於具授拌棒之25G毫升燒㈣。250毫升之第三戊基醇 被外加’且混合物加熱至80°C。第三丁基過氧化氫(98.7毫 升)被緩慢添加,且反應以TLC監測。燒瓿冷卻至室溫,且 75 200524463 產物被過;慮。以第二戊基醇清洗並妨真空中移除揮發物 質、,,產^淡標色固體。產物於3〇毫升甲醇中磨碎隔夜,過 濾並乾燥’產生灰白色固體(產率:77%)。1h丽以❻脾, CDCW 8·47 (m,1H),8.2〇 (d,1H),8 〇8 (d,2h),8 〇i (s,’ 5 1Η),7·58 (m,2Η),7·49 (d,2Η)。 C)鎂車削物(68.7毫莫耳)於氬氣下乾燥授拌丨小時。32 毫升之乙醚被添加,其後添加2滴二漠乙燒。於2〇毫升乙鱗 及25毫升THF内之4-溴-4,-第三丁基聯苯(施咖,s等 1〇 人,J.Org.Chem· 1995, 60, 2411)(34.6毫莫耳)κΗ、時期間 滴入。混合物於37°C迴流2小時。於個別之燒瓶,三異丙基 硼酸鹽(41毫莫耳)及30毫升THF於氬氣下冷卻至_78。〇。上 述格里那(Grignard)試劑經由套管添加,且反應於-78qC授拌 1小時。燒瓶被加溫至室溫,並另外攪拌1小時。混合物被 15倒入含有HC1/水之燒瓶内,並攪拌2小時。灰棕色產物被過 濾並以水清洗。於真空中移除揮發性物質產生灰白色固體 (產率:64%^Tm= 192〇C. hNMR&pmJCDASO): 7.80(d, 2H),7.55 (二重疊二重峰,4H),7·41 (d,2H),1.25 (s, 9H)。
(A-l) 76 200524463 d)步驟b)之產物(〇·94毫莫耳)、步驟c)之產物(2·83毫莫 耳)、四(二苯基膦)把(8.6 μηι〇ι)及ι〇毫升ν,Ν-二甲基乙醯 胺被置於100¾升燒瓶内,並以氬氣淨化2小時。四乙基銨 氫氧化物(20% ’於水中)被置於5〇毫升燒瓶内,並以氬氣淨 5化2小時。然後,2·0毫升鹼溶液(2.8毫莫耳)於氬氣下添加至 第一燒瓶。混合物隔夜加熱至1〇〇cC&冷卻。TLC顯示一點 (己烷:乙酸乙酯,1:1)。20毫升水被添加,且產物經由過 渡移除。以20毫升水清洗,其後以2〇毫升甲醇清洗,並於 真空中乾燥,產生褐色固體(產率:87%)。產物其後使用區 10 域性昇華而純化。MS (EI): 662 (M+1)。 實施例2
(A-8) 實施例lb)之產物(2.48毫莫耳)、9,9-二甲基芴-2-硼酸 (EP-A-1238981,7.44毫莫耳)、四(三苯基膦)鈀(22umol),及 15 25毫升N,N-二甲基乙醯胺被置於100毫升燒瓶内,並以氬氣 淨化2小時。四乙基銨氫氧化物(20%,於水中)被置於5〇毫 升燒瓶内並以氬氣淨化2小時。然後,5.3毫升鹼溶液(7.5毫 莫耳)於氩氣下添加至第一燒瓶。混合物隔夜加熱至100°C 並冷卻。50毫升水被添加,且產物經由過濾移除。以100毫 20 升水清洗,其後以30毫升甲醇清洗,並於真空中乾燥,產 生褐色固體(產率:90%)。產物其後使用區域性昇華純化。 77 200524463 MS (EI): 630 (M+l) 〇 實施例3
(B-2) 5-胺基-2-苯基-2H-苯并三哇(Kehrmann等人,Chem 5 Ber. 1892,25,899.)(23.8¾莫耳)及碳酸钟(52.3毫莫耳)被置 於具50毫升DMF及攪拌棒之250毫升燒瓶内。攪拌時,丨,^ 二溴戊烷(26.2毫莫耳)經由注射器添加。混合物加熱至 100°C持續25小時。燒瓶被冷卻且產物使用水:二氯甲烧萃 取。以水清洗並萃取,其後於真空中移除揮發性物質,產 10生暗黃綠色固體。此材料使用19:1之己烷··乙酸乙酯進行 色邊分析(產率:55%)。Tm = 143。〇 1H NMR (ppm,CDC13): 8·3〇 (d,2H),7.78 (d,1H),7.54 (m,2H),7.45 (t,1H),7.30 (d, 2H),7.13 (s,1H),3 26 (m,4H),1.80 (m,4H),1.67 (m, 2H)。此材料於曱苯中具有458 nm之發射,其係相對應 15 於CIE (0.139, 〇·ιΐ6)之色點。 實施例4
a)溴苯基肼氯化氫(0.231莫耳)、丨-氯^冷二硝基苯 (0.115莫耳)及乙酸鈉三水合物(〇 346莫耳)被置於1公升反 20應ϋ内。200毫升乙醇被添加,且混合物加熱迴流6小時。 混合物冷卻至室温,且產物藉由過濾移除。材料以曱醇、 78 200524463 水清洗,然後,再次以甲醇清洗。揮發性物質於真空中移 除產生淡棕色固體(產率·· 54°/〇)。Tm = 201。〇 1H NMR (ppm, CDC13): 8.94 (d,1H),8.30 (重疊d及dd,3H),8·07 (d,1H), 7.74 (d,2H)。
b)實施例4a之產物(46.69毫莫耳)及200毫升乙醇被置 於350毫升反應器。Raney鎳(8毫升之70%淤漿)被添加。肼 水合物(0.226莫耳)於12小時一份份地添加並劇烈欖拌。於 室溫另外5小時後,產物被過渡並以曱醇清洗。材料於2〇〇 10毫升水中形成淤漿,且120毫升之濃的氫氯酸(1.44莫耳)被 緩f支添加。授拌20小時後,產物被過滤並以水清洗。以甲 醇清洗並於真空移除揮發性物質,產生褐色固體(產率: 67%)。1H NMR (ppm,OS(CD3)2): 8.19 (d,2H),7·97 (d,1H), 7·83 (d,2Η),7.45 (d,1Η),7·28 (dd,1Η)。
c)實施例4b之產物(15.4毫莫耳)及碳酸鉀(46.5毫莫耳) 被置於具60毫升DMF之250毫升燒瓶内。攪拌時,1,5-二溴 戍院(19.8毫莫耳)經由注射器添加。混合物加熱至1〇〇。(:持 續2小時。另外之丨,5-二溴戊烷(7.4毫莫耳)經由注射器添 20加加熱持績20小時。產物使用二氯甲烧-水萃取,且以水 清洗。產物於矽石上乾燥,且使用19:1之己烷:乙酸乙酯進 79 200524463 行色譜分析。材料以黃色固體隔離(產率:46%)。 NMR(ppm,CDC13): 8.18 (d,2H),7.75 (d,1H),7.65 (d,2H) 7.30 (d,1H),7.08 (s,1H),3.25 (m,4H),1.79 (m,4H),1·65 (m,2H)。
d)步驟4c)之產物(4.20毫莫耳)、4-聯苯基硼酸(2·83毫莫 耳)、四(三苯基膦)!巴(35毫莫耳)及25毫升Ν,Ν-二甲基乙酿 胺被置於1〇〇毫升燒瓶,並以氬氣淨化2小時。四乙基銨氳 氧化物(20%,於水中)被置於5〇毫升燒甑内,並以氬氣淨化 10 2小時。然後’ 4.6毫升之驗溶液(6.5毫莫耳)於氬氣下添加至 第一燒瓶。混合物隔夜加熱至l〇〇cC並冷卻。TLC顯示二點 (己烷:乙酸乙酯,1:1)。20毫升之水被添加,且產物經由過 濾移除。以水(20毫升)清洗,其後以甲醇(2〇毫升)清洗,並 於真空中乾燥,產生黃色固體(產率:85%)。Tm = 213〇c。 15產物其後使用區域性昇華而純化。MS (EI): 431 (M+1)。 實施例5
a) 2-溴-4,[二第三 THF,且溶液冷卻至-75°C 二丁基聯苯(34.8毫莫耳)被溶於 〇C。正丁基鐘(1.6莫耳/升溶液,41.7 80 200524463 宅莫耳)於10分鐘期間添加至此溶液。混合物於—乃。c擾拌^ 小時。於此反應混合物,於THF内中2-異丙氧基_4,4,5,5_四 甲基-1,3,2-一嚼烧(69.5毫莫耳)於15分鐘期間於一75°C時 滴入。燒槪加溫至室溫並撥拌2小時。混合物倒入η2〇内並 5以乙酸乙酯萃取。有機層於MgS〇4乾燥,且藉由蒸發濃縮。 以己烷及己烷/乙酸乙酯(10/1)作為洗提液使粗製產物進行 管柱色譜分析產生白色固體(產率:741%)。1H NMR (ppm, CDC13): 7·50 (d,1H),7·47 (dd,1H),7·34 (d,2H),7·27 (d, 1H),7.17 (d,2H),3.28 (s,12H),1.23,(s,9H),1.06 (s,9H)。
b)實施例5b之產物(5·1毫莫耳)、2-(4,4,-二第三丁基聯 苯基-2-基)-4,4,5,5-四甲基-1,3,2-二噁硼烷(12.7毫莫耳)、四 (三苯基膦)把(0.25毫莫耳)、四乙基銨氳氧化物(2〇%,於水 中,15.3毫莫耳)及60毫升之Ν,Ν·二甲基乙醯胺被置於2〇〇 15毫升之燒瓶内。混合物於H〇Qc攪拌隔夜並冷卻。混合物被 倒入H2〇内並以乙酸乙酯萃取。有機層於MgS〇4乾燥並藉由 蒸發》辰縮。以己烧作為洗k液使粗製產物進行管柱色譜分 析產生微綠之黑色固體(產率:63.5%)。產物其後使用區域 性昇華而純化。1HNMR(ppm,CDC13): 8.60 (d,1H),8.20 (d, 20 2H),7·31_7·62 (m,12H),7.25 (d,2H),7_09 (d,2H),7.03 (d, 81 200524463 2H),6.99 (d, 2H),1.40 (d,18H),1.26 (s,9H),1.11 (s,9H)。 實施例6 Βχς:导 b a) 4-溴苯基肼HC1(0.39莫耳),&Na〇Ac 3 h2〇(〇 59莫 5耳)被置於具550毫升Et〇H之1·5公升燒瓶内。攪拌時,丨-氟 -4-溴-2-硝基苯(〇·20莫耳)被添加(藉由傾倒)。淤漿變成些微 橙色。混合物加熱迴流隔夜(20小時)。冷卻至室溫後,混合 物被過濾並以EtOH清洗。未於燒結玻璃上真空,水被添加 並撥拌而溶解NaCl及NaF。施加真空並此方法被重複。以 10 相同方式以MeOH擾拌兩次並施加真空,產生淡黃色結晶固 體。揮發性物質於真空中移除(產率:93 4 %)。
Br
Br b)實施例6 a之產物(0 · 11莫耳)及亞硫酸氫鈉(ο · 11莫耳) 被置於具200毫升DMF之250毫升之三頸圓氣圈。攪拌時, 15 反應混合物加熱至11〇 °C隔夜。冷卻至室溫後,混合物被 倒入300毫升冰水内,然後,沈澱物被過濾,並以丨〇〇〇毫升 之水及500毫升EtOH清洗。揮發性物質於真空中移除,產 生些微灰棕色之粉末。(產率:93.4 %) NMR (ppm? CDC13): 8.21 (dd? 2H) 5 8.09 (d? 1H)? 20 7.79 (dd,1H),7·67 (dd,2H),7.49 (dd,1H)。 82 200524463
C)實施例6b之產物(4·24毫莫耳)、咔唑(8.92毫莫耳)、 Cul (9.34毫莫耳)、碳酸鉀(9·34毫莫耳)及30毫升N,N-二甲基 乙醯胺被置於100毫升燒瓶内。混合物於170°C攪拌隔夜並 5 冷卻。Cul藉由過濾移除,然後,混合物被倒入H20内,且 產生之固體藉由過濾獲得。固體以H2〇,EtOH清洗,且於減 壓下乾燥。以己烷作為洗提液使粗製產物進行管柱色譜分 析,產生黃色固體(產率:24.7%)。4 NMR (ppm,CDC13): 8.66 (dd,2H),8.19 (m,6H),7.83 (dd,2H),7.67 (dd,1H), 10 7·52 (dd,4H),7.46 (td,4H),7.34 (td,4H)。 應用實施例1(元件) 下列元件結構被製造:ITO/CuPC/NPD/化合物 A-1/TPBI/LiF/Al,其中,ITO係銦錫氧化物,CuPC係酞菁 銅,NPD係4,4’-雙-(卜萘基-苯基胺基)聯苯,且TPBI係1,3,5-15 三-(N-苯基-苯并咪唑-2-基)苯。使用此元件結構,2200 cd/m2之最大亮度被觀察到,且具0.67cd/A之最大效率,且 於450nm具發射λ最大值。 應用實施例2(元件) 下列元件結構被製造:ITO/CuPC/NPD/化合物 20 A-8/TPBI/LiF/Al。使用此元件結構,3400 cd/m2之最大亮 度被觀察到,且具〇·83 cd/A之最大效率觀,且於467 nm具 83 200524463 發射λ最*值。 應用實施例3(元件) 下列元件結構被製造:ITO/CuPC/NPD/化合物Α-1+化 合物Β-2(2·3重量%)/TPBI/LiF/Al。使用此元件結構,68〇〇 5 cd/m2之最大亮度被觀察到,且具1.6 cd/A之最大效率,且 於CIE (0.148, 0.122)發射。 應用實施例4(元件) 下列元件結構被製造:ITO/CuPC/NPD/化合物A-1+化 口物Β-1(1·6重量%)/TPBI/LiF/Al。使用此元件結構,7600 10 cd/m2之最大亮度被觀察到,且具1.6 cd/A之最大效率,且 於CIE (0.161,0.131)發射。 應用實施例5(元件) 下列元件結構被製造:ITO/CuPC/TCTA/化合物 A-13/TPBI/LiF/A卜其中,ITO係銦錫氧化物,CuPC係酞菁 15 酮,TCTA係4,4’,4’’-三-(N-咔唑基)三苯基胺,且TPBI係 1,3,5-三-(N·苯基-苯并咪唑-2-基)苯。使用此元件結構,146 cd/m2之亮度被觀察到,且於12V具有0.37 cd/A之效率,且 於440nm具發射Ua值。 應用實施例6(元件) 20 下列元件結構被製造:ITO/CuPC/TCTA/化合物A-13+ 化合物匕9(1.6重量% )/TPBI/LiF/A卜使用此元件結構,114 cd/m2之亮度被觀察到,且於12V具0.53 cd/A之效率,且於 440 nm具發射λ最大值。 應用實施例7(元件) 84 200524463 下列元件結構被製造:ITO/CuPC/TCTA/化合物A-13+ 化合物D-8(l .7重量%)/TPBI/LiF/Al。使用此元件結構, 161cd/m2之亮度被觀察到,且於12V具0.57 cd/A之效率, 且於437nm具發射λ最大值。
【圖式簡單說明】 (無) 【主要元件符號說明】 (無) 85
Claims (1)
- 200524463 十、申請專利範圍: 1.一種2H-苯并三唑化合物,其係如下之化學气5 Y1係二價連接基,且 Y3.crC25烷基,特別是(^<4烷基,芳基或雜芳基,可選 擇性被取代,特別是Q-c%芳基,或C2_C26雜芳基,可選= 性被取代,(5χΝ:Ν— Ν 彼此個別係如下化學式之基A21? A22? a235 a24? au5 α12? α135 α14? α155 α165 α17αα18^λ 個別係Η,鹵素,特別是氟,羥基,crc24烷基,以Ε取代及/ 86 200524463 5 10 或以D間斷之Ci-C24烷基,Q-C24全氟烷基,c6-CH全氟芳基, 特別是五氟苯基,c5-c12環烷基,以G取代及/或以S-,_〇_, 或-NR25-間斷之c5_Ciyf 烷基,_nr25r26, C「C24烷基硫 基,-PR R,Cs-C,2環烷氧基,以g取代之c^-C!2環烷氧基, C6-C24芳基,以G取代之c6_C24芳基,Ci_C24烧基,C5_Ci2環烧 基,c7-c2d燒基,Ci_C24全氟烧基,C6_Ci4全氟芳基,特別 是五氣苯基,或Cl_C24_烧基;C2-C2Q雜芳基,以G取代之 c2-c2G雜芳基,氟,Cl_C24燒基,C5_Ci2環烧基,芳烧基, α24全敦烧基,C6_Ci4全氣芳基,特別是五氟笨基,或 Cl-C24函烧基;C2-C24稀基,C2_C24炔基,Ci_C24院氧基,以E 取代及/或以D間斷之Μ4烧氧基,Μ。芳烧基,以彿 代之C7-C25技基,C7_c25芳烧氧基,以G取代 氧基,或-CO-R28,或 25H' 之基,或 ,32 Λ 33 A"及Α23或Α"及Α23係μ μ 二彼此鄰近之A11,A12, 14, 15 Λ31 3… ,A,Α,Α17 及Α18基係15 及A彼此個別顧,南素,㈣,w基,以£取代及/ 3間斷之㈣炫基,V贱%全氣芳基, 特別疋25五氟苯基,㈣2觀基,以G取代及/或以s_, _〇_, 或-NR -間斷之p p ^ ⑽之炫基,c5_Ci2環燒氧基,以G取代之 87 20 200524463 C5-C12環烷氧基,c6-c24芳基,以G取代之c6-c24芳基,C2-C20 雜芳基,以G取代之C2-C2〇雜芳基,c2-c24稀基,c2-c24炔基, Ci-C24烷氧基,以E取代及/或以D間斷之crC24烷氧基, C7-C25芳烧基,以G取代之C7-C25芳烧基,c7-C25芳烧氧基, 5 以G取代之C7_C25芳烷氧基,或-CO_R28,其中,較佳地,取 代基A21,A22, A23, A24, A11,A12, A13, A14, A15, A16, A17及Α1δ 之至少一者係以氟取代之C0-C24芳基,crc24烷基,〇5-(:12環 烷基,eve:25芳烷基,eve:24全氟烷基,c6-c14全氟芳基,特 別疋五氟笨基,或CVC24鹵烧基;或CyC26雜芳基,特別是 10 硫基苯基,吡咯基,呋喃基,苯并噁唑基,或苯并噻唑基, 其係以氟取代,CVC24烷基,CVC!2環烷基,c7-C25芳烷基, C!-C24全氟烷基,C6-CM全氟芳基,特別是五氟苯基,或 Cl-C24鹵烧基,或如下化學式之基 .,70 _ w73 、·ΊΊ …76其中,X70, X71,X ,Χ77,Χδ〇,Χ81,Χ82,χ83, ,x/J,x74,x75,x X,X,X,及X87彼此個別係或以D間斷,Ci_C24全氟 88 200524463 烷基,c6-c14全氟芳基,特別是五氟苯基,c5-c12環烷基,以 G取代及/或以S-,-Ο-或-NR25-間斷之C5-C12環烷基, -NR25R26, Cl_C24烷基硫基,_PR32 r32, C5_Cl2環烷氧基,以G 取代之C5-C12環烷氧基,C6-C24芳基,以G取代之C6-C24芳基, 5 CVC24烷基,05-€:12環烷基,C7-C25芳烷基,CVC24全氟烷基, 〇6<14全氟芳基,特別是五氟苯基,或crc24鹵烷基;c2-c20 雜芳基,以G取代之C2-C2〇雜芳基,氟,CrC24烷基,C5-C12 環烷基,C7-C25芳烷基,CVC24全氟烷基,c6-c14全氟芳基, 特別是五氟苯基,或烷基;c2-c24烯基,c2-c24炔基, 10 CrC24烷氧基,以E取代及/或以D間斷之CrC24烷氧基, c7-c25芳烷基,以G取代之C7-C25芳烷基,C7-C25芳烷氧基, 以G取代之C7-C25芳烷氧基,或-CO-R28,或 彼此鄰近之二X70, X71,X72, X73, X74, X75, X76, x77,x80, X81,a90 I .91 、、、产^八92 X82,X83,X84,X85,X86,及X87基係 Α93 或 A9,A97 15 之基,其中,A90, A91,A92, A93, A94, A95, A96及A97彼此個另Ij 係H,齒素,特別是氟,羥基,CrC24烷基,以E取代及/或以 D間斷之CrC24烷基,CrC24全氟烷基,C6-C14全氟芳基,特 別是五氟苯基,C5-C12環烷基,以G取代及/或以S-,-0-,或 -NR25-間斷之05<12環烷基,€5-(:12環烷氧基,以G取代之 20 C5-C12環烷氧基,C6-C24芳基,以G取代之C6-C24芳基,C2-C20 雜芳基,以G取代之C2-C2〇雜芳基,C2-C24烯基,C2-C24炔基, CrC24烷氧基,以E取代及/或以D間斷之CrC24烷氧基, 89 200524463 C7-C25芳烷基,以G取代之C7-C25芳烷基,C7-C25芳烷氧基, 以G取代之C7-C25芳烷氧基,或-CO-R28, E2 係-CR23=CR24-,特別是—CX68X69-, E2’係-SiR30R31-; -POR32-;特別是-S-,-Ο-或-NR25’-,其中, 5 R25’係CVCm烷基,或C6-C1()芳基, X68, X69, X78, X79, X88及X89彼此個別係CrC18烷基,以E取 代及/或以D間斷之CrC24烷基,C6-C24芳基,以G取代之 C6-C24芳基,C2-C2G雜芳基,以G取代之C2-C2〇雜芳基,C2-C24 烯基,C2-C24炔基,CrC24烷氧基,以E取代及/或以D間斷之 10 CrC24烷氧基,或C7-C25芳烷基,或 X78及X79,及/或X88及X89形成環,特別是五或六員之環, 或 x68^x70, x69 ax7\ X77及X78及/或X84及X89係基, 15 D係-CO-; -COO-; -S-; -SO_; -S〇2-; -Ο-; -NR25-; -SiR3°R31-; -POR32-;-CR23=CR24-;或-OC-;且 E係-OR29; _SR29; -NR25R26; -COR28; -COOR27; -CONR25R26; -CN;-OCOOR27;或鹵素; G係E,或CrC24烷基,其中, 20 R23, R24, R25及R26彼此個別係H; C6-C18芳基;WCrC24烷基, *CrC24烷氧基取代之C6_C18芳基;CrC24烷基;或以-O-間 斷之CVCm烷基;或 90 200524463 R25及R26—起形成五或六員之環-Λ -A5 10 R27及R28彼此個別係H;c6-Cl8芳基;以Ci_C24烷基或CrC24 烧氧基取代之c6-c18芳基;Cl-c24烷基;或以-0-間斷之 C1-C24 烧基, R29係H; CVC18芳基;以CVC24烧基或CVCm炫氧基取代之 Q-Cu芳基;cvc24烷基;或以間斷之crC24烷基, R3G及R31彼此個別係Cl_c24烷基,C6_Cl8芳基,或以Crc24烷 基取代之C6-C18芳基,且 32 R係〇〗<24烷基,C6-Cl8芳基,或以Q-C24烷基取代之 C6-Ci8芳基。 2·如申請專利範圍第1項之2H-苯并三唑化合物,其中,取 代基A21,A22, A23, A24, A11,A12, A13, A14, A15, A' V7及八18 之至少一者,特別是Α12, Α21及/或A23,係如下化學式之基其中,X41,X42, X43, X44, X45, X46, X47, X48, X49, X5〇, χ51,χ52 x53? X54, Χ55? Χ56? χ575 χ585 Χ59? Χ60? Χ615 Χ625 χ64^ χ65 X66及X67彼此個別係Η,氟,_NR25R26, CrC24烧基,C5_Ci2環 91 200524463 烷f,q-C25芳烷基,Cl_C24全氟烷基,c6_Ci4全氟芳基,特 “五氟苯基,或C,-C24鹵烧基,選擇性以E取代及/或以D 間斷之ca絲,選擇性以E取代之Ci_C24烯基,選擇性 以G,代之C5_Ci2環烷基,選擇性以g取代之環烷氧 基’遠擇性以G取代之c6_Cl8芳基,選擇性以脉代及/或以 =^Cl-C24烧氧基,選擇性以G取代之C6_Ci8芳基氧,選 關斷之ΓΓ=8Γ糾基,她灿取代及/或以 性以G取代之c6_Cl8芳烧基,或 Μ雜方基’ h擇 10χ43, X65或X52係化學式 〜Ph,从, ,h 叩夕美, 彼此相鄰之二Χ41,χ42, χ43 44 之土 , Λ 9 χ46 ^47 48 v49 V50 X,A X53, X54, X55, χ56 X57 5 ’ ,,, ’ X,X 9, X,χ61,χ62, χ63, Λ90 .A91 \90 Λ9415 χ64,Χ65,Χ66 及 X67 基係 A-或人 91 a97 A' A92, A' A W.及八97 基’其中,’, ci-c24燒基,m取代自素,輕基, 氟燒基,C6_Cl4全氟芳基,特別是五氟苯其成基,CA全 以〇取代及/或以S-,_〇_,或姆土,環院基, 4义2環垸氧基,以G取代之c5、c =斷之匕必2環烧基, 以G取代之C6_C24芳基,c2_C2〇雜基,C6-C24芳基, 芳基,c2-c24稀基,c2-c24炔基,Ci:’;lG取代之雜 1 24烷氧基,以E取代及/ 92 20 200524463 或以D間斷之crC24院氧基,C7-C25芳烧基,以G取代之 C7-C25^烧基,c7-C25芳烧氧基,以E取代之C7-C25芳烧氧基, 或-CO-R28,其中,r25, R26及R28,D,£及〇係如申請專利範 圍第2項所界定,且較佳地,取代基χ41,X42,X43 X44 X45 5 Χ46? X47, X489 X49? X509 x52? X^35 X54? X55? X565 χ57? χ58? x59, x6G,X61,X62, X63, x64, X65, X66及χ67 之至少一者係 氟,-nr25r' Cl_c24烧基,c5_Cl^烷基,C7_C25芳烷基, Ci-C24全氟烷基,C6_CM全氟芳基,特別是五氟苯基,或 C1-C24鹵烧基。 10 3.如申請專利範圍第1項之2H-苯并三唑化合物,取代基A2! A22, A' A' An,An,am,Al5, Al6, a17及Al8之至少」 者,特別是A12及/或A23,係如下化學式之基其中,特別是 X,X69, X' X79, X88及X-彼此個別係Ci_C24烷基, CrC!2烧基,可以二或更多個氧原子間斷, 93 15 200524463 ^71 λ^τΙΊ ^t73 xr74 5 at76 v^7 ^80 -vr81 ^r82 ^83 ^ -/v ^ -Λ. ^ ^ -Λ. ^ -/V $ 入 $ 入,, ^ -Λ- 5 -Λ- 5 X85, X86及X87彼此個別係Η,CN,CVC24烷基,C6-C1()芳基, Q-C24烷氧基,c「c24烷基硫基,-nr25r26,-conr25r26, 或-COOR27,其中, 5 R25及R26彼此個別係H,C6-C18芳基,C7-C18芳烷基,或CrC24 烷基,且R27係CrC24烷基,或及R26—起形成五或六員之環,特別是 〇E2係-S-,-0-,或-NR25’-,其中,R25’ 係CVCm烷基,或C6-C10 10 芳基。 4.如申請專利範圍第1項之2H-苯并三唑化合物,其中, Y3係如下化學式之基94 200524463 R41? R42? R435 R44? R45? R46, R475 R48? R49, r^〇? R5i? r52? r53 r5\ r55? r569 r57? r58? r59, r6\ r6\ r6\ r635 R64^ r65^ r66 R675 R70? R71, R72? R73, Rj\ R755 R76? R775 r^〇? R815 r82^ r83 R84, R85, R86,及R87彼此個別係H,氟,(^-(^全氟烧基, 5 CVCh全氟芳基,特別是五氟苯基,_NR25R26,選擇性以£取 代及/或以D間斷之CrC24烷基,選擇性以E取代之Ci-C24烯 基,远擇性以G取代之CrC 12環烧基,選擇性以〇取代之 Q-C!2環烧氧基,選擇性以G取代之CpCu芳基,選擇性以e 取代及/或以D間斷之CVC24烧氧基,選擇性以g取代之 1〇 C6_Ci8芳基氧,選擇性以G取代之C7-C1S芳基烷氧基,選擇 性以E取代及/或以D間斷之Ci_C24烷基硫基,選擇性以g取 代之雜芳基,或選擇性以G取代之芳烷基,或15 彼此鄰近之二R' R42, r43, r44, r45, r46, r4' R' R' R,R,R,R54, r55, R56, R57, R58, R59, R60, R61,R62, R63, R64? R65? R66^ R67^ r7〇? R71? R72, R73? R74? R75? r-5 r-?rb〇5,A 95 R81,W,R- R85, R86,及r87基係 〜 之基,其中’ A' A' a92. A',,,,,及八97彼此個 別係H’ *素,4寺別是氟,-NR25R26, #至基,CVC24烧基,以E 95 20 200524463 取代及/或以D間斷之CrC24烧基,Ci_C24全氣广美 氟芳基,特別是五氟笨基,C5_Ci2環烧基,二二c〜全 s-,·0-,或-皿25_間斷之c5-c12環烧基,c5'環燒或以 取代之cvc,2環烷氧基c<r婪Α 70虱土,mg 孔基,c6-c24方基,以咏代 C2-C20雜芳基,以G取代c 万土, 取代之c2-c2。雜方基,cvc24稀基,C2_C24 炔基,㈣戒氧基,以E取代及/或_斷之烧氧基 C7_C25芳絲,以G取代之CA芳味%芳烧氧基,, 以G取代之C7-C25芳烷氧基,或-C〇-r28 10 15 及r89彼此個別係Ci_Ci8絲,以蹄 代及/或以D間斷之C广C24烧基,C6_C24芳基,以G取代之 €Λ4芳基,C2-C20雜芳基,以G取代之c2_C2〇雜芳基, 烯基,C2-C24炔基,Cl_c24烧氧基,以E取代及/或以D間斷之 Crc24烧氧基,或C7-C25芳烧基,或 R68及R69, R78及R79,及/或尺⑽及R89艰士、, ,HR及R形成%,特別是五或六員 之環,或 v90A 91 A R68及R70, R69及R' R”及!^及/或^及^係 基, d 係 _co_; _coo-; -ss -so-;_so2-;〇s _nr25; _siR3GR31_ POR32-; -CR23=CR24_ACeC-;且 .29· 〇τ>29. 'TX>25D26· E#.〇R-; -SR-; -NR-R-; -COR-; -C〇〇r27; .c〇nr25r26. -CN; -OCOOR27;或鹵素;,或Ci_C24炫基戽中,’ R' f,R”及0彼此個別係H; C6_Ci8芳基;以kb烧基 96 20 200524463 或crc24錄基取代之cvc18芳基;Ci_C4基;或以办間 斷之C1-C24烧基;或 R25及R26—起形成五或六員之環,特別是5 10 R27及R28彼此個別係H; C6_Ci8芳基;以kb烧基或kb 烧氧基取代之c6-c18芳基;Ci_C24烧基;或以办間斷之 crc24烷基, R係H,C6-C18芳基;j^crC24燒基或烧氧基取代之 c6-c18芳基;crc24烧基;或以·〇_間斷之CrC24烧基, R及R1彼此個別係CrC24烷基,c6_Ci8芳基,或以Ci_C24烷 基取代之C6-C18芳基,且 R係CrC24烷基,c6-C18芳基,或以CrC24烷基取代之 C6_Ci8方基,或 R43,或R52係如下化學式之基 -.68' ^,69'15 R68及R69’彼此個別係Cl_c24烷基,特別是Ci_Ci2烷基,其可 97 200524463 以一或二個氧原子間斷, R7。,,R71,,R72,,R73,,R' CrC24烷基,C6_ClG芳基, 基,-NR25’R26’,-CONR25,R26, R75及R76’彼此個別係H,CN, C1-C24烧氧基,C1-C24烧基硫 ,或-COOR27’, R及R26’彼此個別係H,c6_Ci8芳基,c7_Ci8芳烧基,或 CrC24院基,且R27’係匕^^燒基;且 E1’係-s-,或_nr25’_,其中,r2、Ci-C24烧基,或c6_Ci〇 方基。 5·如申請專利範圍第1項之2H-苯并三唑化合物,其中, 10 γ1較佳係如下之基98 20052446399 200524463111,112,113,114,115,116,117及118係1,2,或3,特別是1, E1 係-S-,-〇-,或-NR25,、其中,R25’ 係 Ci_C24烷基,或 c6-Cl〇芳 5 基, R6及R7彼此個別係H,鹵素,特別是,-NR25R26,羥基,Ci_c24 烷基,以E取代及/或以D間斷之Ci_C24烷基,Ci-C24全氟烷基, Q-Cm全氟芳基,特別是五氟苯基,C5-Ci2環烷基,以〇取代 及/或以s-,-〇-,或_取25_間斷之C5_Ci2環烧基,C5_Ci2環烷 10氧基,以G取代之C5-k環烧氧基,C6-C24芳基,⑽取代之 =-C24芳基,C2-C20雜芳基,以G取代之C2_C2〇雜芳基,C2_C24 烯基,C2-C24炔基,Cl_c24烧氧基,以E取代及/或以D間斷之 C1-C24烧氧基,C7-C\ t β 5方烷基,以G取代之C7-C25芳烷基, CVC25芳烧氧基以g取 〇取代之C7-C25$烷氧基,或-C〇_R28, /A R6’及R7’具Μ之意義,或—起形成、、 Q9 QO 丨 乂 χ A,及Α93彼此個別係η , 齒素,羥基,CrC24烧基,以£取 及/或以D間斷之CVC,、卜f广 24坑基,cvc24全氟烧基,c6-c14全氟 基,特別是五氟苯基Γ r f ^^ 土,Q-C丨2裱烷基,以G取代及/或以s 100 15 200524463 -0·,或-NR25-間斷之〇5-0:12環烷基,C5-C12環烷氧基,以G取 代之C5-C12環烷氧基,C6-C24芳基,以G取代之C6-C24芳基, C2-C2G雜芳基,以G取代之C2-C2G雜芳基,C2-C24烯基,C2-C24 炔基,CrC24烷氧基,以E取代及/或以D間斷之CrC24烷氧基, 5 C7-C25芳烷基,以G取代之C7-C25芳烷基,C7-C25ar烷氧基, 以E取代之C7-C25芳烷氧基,或-CO-R28, R8係CrC24烷基,以E取代及/或以D間斷之CVCm烷基, C6-C24芳基,或C7-C25芳烷基, R9及R1G彼此個別係CrC24烷基,以E取代及/或以D間斷之 10 CVC24烷基,C6-C24芳基,以G取代之C6-C24芳基,C2-C2〇雜芳 基,以G取代之C2-C2〇雜芳基,C2-C24烯基,C2-C24炔基, Q-Cm烷氧基,以E取代及/或以D間斷之Q-Cm烷氧基,或 C7-C25芳烷基,或 R9及R1G形成環,特別是五或六員之環, 15 R14及R15彼此個別係H,CrC24烷基,以E取代及/或以D間斷 2CrC24烷基,C6-C24芳基,以G取代之C6-C24芳基,C2-C20雜 芳基,或以G取代之C2-C2()雜芳基, D係-CO·,-COO-,-S·,-SO-,-S02_,-0_,-NR25-,-SiR30R31-, -POR32-,-CR23=CR24-,或《-, 20 G係E,或CrC24烷基,且 E係-OR29, -SR29, -NR25R26, -COR28, -COOR27, -CONR25R26, -CN,-OCOOR27,或鹵素,其中, R23, R24, R25及R26彼此個別係H,C6-C18芳基,以CVCm烷基 或CrC24烷氧基取代之C6-C18芳基,CrC24烷基,或以-O-間斷 101 200524463 之crc24烷基,或RD及RZ()—起形成五或六員環,特別是R27及R28彼此個別係H,C6-C18芳基,以CrC24烷基或CrC24 5 烧氧基取代之C6-C18芳基,Cl -C24烧基,或以-〇-間斷之C1-C24 烧基, R29係H,C6_C18芳基,以CVC24烷基,CVC24烷氧基取代之 c6-c18芳基,CVC24烷基,或以-0-間斷之CrC24烷基, R30及R31彼此個別係CVC24烷基,C6-C18芳基,或以CrC24烷 10 基取代之C6_Ci8芳基,且 R32係CVC24烷基,C6-C18芳基,或以CrC24烷基取代之C6-C18 芳基。 6.如申請專利範圍第1項之2H-苯并三唑化合物,其中,該 2H-苯并三唑化合物係如下化學式之化合物102 200524463或A23係如下化學式之基65 χ57 χ58 Μ62 Χ^χ66 ) J 甘中,χ41 χ42 χ43 χ44 χ45 χ46 χ47 χ48 χ49 χ5。χ51 χ52 r ^54 -χτ-5 5 ατ56 ·\γ57 8 ·χτ59 ατ60 λτ6 1 ^62 ^63 λτ64 -^65 ) 入 5入 ?人 5人 5人 ?人 5入 5人 5人 ?入 ?入 5入 5入 f X66及X67彼此個別係H,氟,CN,CVC24烷基,05<12環烷基, C7-C25芳烷基,CrC24全氟烷基,C6-C14全氟芳基,特別是五 氟苯基,crc24鹵烷基,可選擇性以一或多個匕-心烷基或 crc8烷氧基取代之C6-C1G芳基;crc24烷氧基,crc24烷基 10 硫基,-NR25R26, -CONR25R26,或-COOR27,或 彼此相鄰之二X41,X42, X43, X44, X45, X46, X47, X48, X49, X50, \r51 -^52 -χ^53 ύ^54 γ55 ^56 ατ57 -ντ5 8 ατ59 ατ60 ατ6 1 -γ^62 ^-63 -iV. ^ -/ik. ^ -/a. ^ -/V. ^ -/V. ^ -/V. ^ -/V. ^ ucjl. ^ -/V. ^ -/V. ^ -/Sl. ^ ^ ^ χ64, χ65, χ66及χ67基係、/或、、^^基,其中,較佳地, 取代基X41,X42, X43, X44, X45, X46, X47, X48, X49, X5G,X51, ^ ^ ·\τ52 γ53 ύ"54 -γτ55 6 -^57 -^58 9 ^60 γ61 -γτ62 γ63 γ64 1· ) -/V ^ -ZV ^ -^V ^ -/V ^ ^ -ZV j -/V ^ -/V ^ -zV ^ -/V. ^ -/V j 入 > 入, X65,X66及X67之至少一者係氟,-NR25R26,CVC24烷基, C5-C12環烷基,C7-C25芳烷基,CrC24全氟烷基,C6-C14全氟 103 200524463 芳基,特別是五氟苯基,或CrC24i烷基,或A12及A23係如下 化學式之基X68, X69, X78, X79, X88及X89彼此個別係Cl_C24烧基,特別是 Ci-C12烧基,可以一或二個氧原子間斷, X70, X71, X72, X73, X74, X75, Χ76? χ775 Χ82? Χ83? χ84 X85, χδ1χ87彼此個別係Η,CN,CrC24烧基,可選擇性以_ 10 或多個CrC8烧基或CrQ烷氧基取代之c6_C1G芳基;CrC24 烧氧基,C1-C24 烧基硫基,-NR25R26,-CONR25R26 或-COOR27, E2係-S-, -0-,或-NR25’-,其中,R25、CrC24烷基,或C6_Ci〇芳 基, 15 A'A”及A24彼此個別係氫,鹵素,特別是ICVCm烧基, CVC24全氟烷基,CVCm全氟芳基,特別是五氟苯基,c5_Ci2 環烧基,CVC25芳烧基,C!-C24i|烧基,可選擇性以一或多個 Ci-Cg烧基或Ci-Cg燒氧基取代之c6-C18芳 104 200524463 基;-NR25R26, -CONR25R26 是化學式或-COOR27,或c2_c1()雜芳基,特別之基,或 A22及A23或A11及A23係化學式、、、〕或、、、二之其, 5A,A,A,A,A' A1'及A18彼此個別係H,CN,。广。24 烧基,c5-c4烧基,cvc25芳燒基,Ci-C24全氣烧基,C6_Ci4 全氟芳基,特別是五氟苯基,CrC24函烧基,c广C24烧氧基, C1-C24 烧基硫基,C6-C18 芳基,-nr^r26,_c〇NR25R26, 或_COOR274C2-C10雜芳基,其中, 10 R25及R26彼此個別係H,C6-Cls芳基,c7_Cl8芳烷基,或Ci_c24 烷基,R27係CrC24烷基,且 Y3係如下化學式之基15 r42係氫,或Crc24烷基,105 11· 2005244635 10 A11,A12,A13,及Α14’彼此個別係Η,cn,CVCm炫基,C「C24 烧氧基,CVC24 烧基硫基,-NR25R26,R ’ 或-COOR27, E 係-S-,或-NR25-,其中,R25’係Ci-C24烧基,成C6-Ci〇芳 基, R係H,CN,CVC24烷基,Cl-C24烷氧基,Crc24烷基硫 基,-NR 5R26, -CONR25R26,或 _CO〇R27,或 R42及R43係化學式、、或、、、=0之基 R44係氫,或CrC24烷基, r45係氫,或CrC24烧基, R及R彼此個別係。^:24烷基,特別是Cl_Ci2烷基,可以一 或二個氧原子間斷, 106 15 200524463 R' R71,R72, R73, R74, R75, R76, R' R9i, R92,AR93彼此個別 係H,CN,CVC24烧基,C6-C10芳基,CVC24院氧基,CVC24烧 基硫基,-NR25R26, -CONR25R26,或-COOR27, R25及R26彼此個別係H,C6-C18芳基,c7-c18芳烷基,或Cl_c24 5 烧基,且R27係CVC24烧基。 7 _如申δ青專利範圍弟1項之2H-苯弁三σ坐化合物,其中,該 2Η-苯并三。坐化合物係如下化學式之化合物 10其中,Α及Α43係如下化學式之基头甲,X'X'X43, χ44, χ45. ,八,八,入,入,入,入 ,X' χ52 x54657x55j χ56? χ57^ X58, χ595 χ605 χ61? χ62? χ635 χ^45 χ65 ’ X及χ彼此個別係Η,ICN’CVCw烧基,c5-c12環垸基 C7<:25方烷基,Cl_C24全氟烧基,CVC14全版芳基,特別是五 107 15 200524463 氟苯基,或crc24鹵烷基,c6-c10芳基,可選擇性以一或多個 crc8烷基或crc8烷氧基取代; CrC24烷氧基,CVC24烷基硫基,-nr25r26,-conr25r26, 或-COOR27,或 5 彼此相鄰之二X41,X42, X43, X44, X45, X46, X47, X48, X49, X50, 1 -\r52 ·\γ5 3 ·ντ5 5 ^τ56 -ν^57 -y-5 8 9 ^τ60 1 ^62 -ντ63 ^ , ^ ^ ^ -cik. ^ -cV. ^ -/λ. ^ ^ ^ ^ ^ -^ν ^ 或基,其中,較佳地 又64,又65,乂66及乂67基係、' 取代基X41,X42, X43, X44, X45, X46, X47, X48, X49, X5G,X51, v52 v53 v54 v55 v56 v57 v58 v59 v60 V61 v62 v63 v64 -^V. ^ -/a. ^ -/jl. ^ ^ -/¾. j ^ -/V. ^ ^ -ajl. ^ -/jk ^ -/V. ^ ^ , 10 X65,X66及X67之至少一者係氟,-NR25R26,crc24烷基, 〇5-〇12環烷基,〇7-0:25芳烷基,CVC24全氟烷基,c6-c14全氟 芳基,特別是五氟苯基,或CrC24鹵烷基,或A43或A52係如下 之基 15個別係CrC24烷基,特別是CrC12烷基,可以一或二個氧原子 108 200524463 間斷, v/i v/4 V0 V/O V7/ V54 ^ -iV ^ -/V 3 入 3 3 ^ 3 ,入,^ -/v , X85, X86及X87彼此個別係H,CN,CrC24烷基,C6-C1G芳基, CrC24烷氧基,CVC24烷基硫基,-NR25R26,-CONR25R26, 5 或-COOR27, E2係-S-,-0-,或-NR25’-, A41,A42及A44彼此個別係氫,鹵素,CrC24烷基,CVCm全 氟烷基,C6-C14全氟芳基,特別是五氟苯基,05-012環烷基, C7-C25芳烷基,CrC24鹵烷基,C6-C18芳 10 基,-NR25R26, -CONR25R26,或-COOR27,或c2-c1()雜芳基,特別A51,A53, A54, A55, A56, A57, A58, A59 及A60彼it匕個另系H,氟, CN,CrC24烷基,CrC24烷氧基,CrC24烷基硫基,C5-C12環烷 基,C7-C25芳烷基,CrC24全氟烷基,C6-C14全氟芳基,特別 15 是五氟苯基,CrC24鹵烷基,C6-C18芳 基,-NR25R26,-CONR25R26,或-COOR27,或 c2-c1()雜芳基,其 中,E1 係 0, S,或-NR25’-, R25及R26彼此個別係H,C6-C18芳基,C7-C18芳烷基,或CVCm烷基,或R25及R26—起形成五或六員之環,特別是 200524463R27係CVc24烷基,且 Y係如下化學式之基10 R6係C1-C24烧氧基,或_〇-C7-C25芳烷基,R7係Η,或cvc24烧基, R9及R1G彼此個別係Q-C24烷基,特別是C4_C12烧基,可以一或 二個氧原子間斷,且 110 200524463 R係cvb烧基,或c6-c1()芳基。 8·如申請專利範圍第1項之2H-苯并三唑化合物,其中,該 2Η-笨并三唑係如下化學式之化合物v23 x23 (Illb), ν232323 v2323 其中,Ρ102, (Illd), 23,23 (IHc) R SCrC24烷基,特別是cvc12烷基,特別是H,A23係 如下化學式之基 〇111 200524463,其中,X51, X52, X53, X63, X64, X65及 X66 112 200524463 彼此個別係氟,crc24烷基,特別是crc12烷基,極特別係第 三丁基,c5-c12環烷基,特別是環己基,可選擇性以一或二個 Q-Cs烷基取代,或1-金剛烷基,CrC24全氟烷基,特別是 Cr012全氟烷基,諸如,CF3, c6-c14全氟芳基,特別是五氟苯 5 基,NR25R26,其中,R25及R26係C6-C14芳基,特別是苯基,可以 一或二個(^<24烷基取代,或R25及R26 —起形成五或六員之一N 雜環,特別是 或如下化學式之化合物 10(IVb),或其中,Y3係如上所界定,或係 且113 200524463 ώ,ί 或ο ,其中,R25及R26係C6-C14芳基,特別 是苯基,1-萘基,2-萘基,可選擇性以一或二個CrC8烷基或 Q-Cs烷氧基取代,或 化學式IVa,IVb,或IVc之化合物,其中,A12係5 N,或N 且Y3係A 12 或 如下化學式之化合物 .2323, (Ilia),23, (Illb), .2323. (IIIc),或23, (Illd), 其中,A23及A23彼此個別係如下化學式之基114 10 200524463或化學式化學式Ia,Ib,Ic,或Id之化合物,特別θ A12,其中,A12係H,如下化學式之基燒氣基。 9·如申請專利範圍第8項之2H_笨并三唑化合物,复 10 竑、,- '、 该 —本开二。坐係如下化學式之化合物 115 200524463(_,極特別是係 飞(nb),其 中,A53係Cl-C24炫基,特別是kb烧基,特別是η,γΐ“ 下化學式之基此個別係<^<24烷基,特別是CpCu烷基,可以一或二個氧原 10 子間斷’且R25’係CVC24烧基,特別是c4-c12烧基。 10.—種電致發光元件,包含申請專利範圍第丨至9項中任一 116 200524463 項之2H-苯并三唑化合物。 11. 如申請專利範圍第10項之電致發光元件,其中,該電致 發光元件依序包含 (a)陽極 5 (b)注射電子洞之層及/或運送電子洞之層 (c) 發光層 (d) 選擇性之運送電子之層,及 (e) 陰極。 12. 如申請專利範圍第11項之電致發光元件,其中,該2H- 10 苯并三σ坐化合物形成該發光層。 13. —種申請專利範圍第1至9項中任一項之2Η-苯并三唑化 合物之用途,其係用於電子攝影受光器、光電轉換器、太 陽能電池、圖像感應器、染料雷射及電致發光元件。 200524463 七、指定代表圖: (一) 本案指定代表圖為:第( )圖。 (二) 本代表圖之元件符號簡單說明: (無) 八、本案若有化學式時,請揭示最能顯示發明特徵的化學式: (無) 4
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