TW200416301A - Method of producing metal member with enhanced corrosion resistance by salt bath nitriding - Google Patents

Method of producing metal member with enhanced corrosion resistance by salt bath nitriding Download PDF

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Hiroshi Eiraku
Yutaka Sawano
Tetsuya Yamamura
Kuniji Yashiro
Fumihide Nakamura
Motohiro Tenmaya
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Parker Netsushori Kogyo Kk
Nihon Parkerizing
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Description

200416301 五、發明說明(1) 【發明所屬之技術領域】 本發明係有關於一種藉鹽浴氮化處理來增強金屬元件 之耐飯力的方法,且藉氮化使此金屬具有高耐磨力與抗金 屬疲勞力。 【先前技術】 鹽洛氮化處理常被用於改善材料的特性,如金屬对磨 力與抗金屬疲勞力,特別是用在鐵與鋼中,鹽浴氮化處理 是藉在材料表面形成氮化層與氮擴散層而達成此效用。鹽 浴氮化處理不只是用在純鋼上,也可用於鋼合金,如不銹 鋼、以鎳為主的合金(也稱為超合金)與其相似物。 藉由上述方式所形成的氮化層與氮擴散層具有增強金 屬元件表面硬度的功能,同時增強金屬元件的耐磨力與抗 金屬疲勞力,且保護金屬元件免受腐餘性而產生損失。當 只需一般程度的耐蝕力時,一般的鹽浴氮化處理就已足 夠;但當耐蝕力有需達某一有效程度時,就需要更進一步 地處理,如硬鉻電被,此硬鉻電鑛就是增強表面硬度的一 種技術。為了藉氮化而增進上述之金屬对餘力,有許多發 明已揭露(請參閱日本專利JP 56- 33473 A、JP 60-211062 A 、jp 〇5-263214 A 、JP 05-195194 A 、JP 07-62522 A 、與jp 07-224388 A )。 為使耐蝕力進,步改善,氮化處理與氧化浴處理結合 的方式也曾被提出(請參閱日本專利JP 56-33473 A與JP 07-224388 A),立經鹽噴灑測試(salt spraying test ),顯示經結合此雨方式的處理後,金屬之耐蝕力與經硬
2204-5738-PF(Nl).ptd 第7頁 200416301 五、發明說明(2) 鉻電鍍技術處理之結果相當,甚至更佳;然而,經鹽浴氮 化與氧化浴兩方式結合的處理後,金屬的耐蝕力變化太 大’故在許多情況下會避免使用。為克服此缺點,會在氮 化與氧化浴處理結合的方式後,再將處理過的產品浸入蠟 中或塗上一聚合物(請參閱日本專利Jp 〇5一195194 A與JP 〇5-263214 A ) 〇 藉由汉壞或塗聚合物之處理方式可同時達成耐蝕力的 改善與,定(改善再現性),同時因氧化物層被蠟或聚合 物所覆蓋,使其摩擦係數減小,進而改善了耐磨力。此兩 種方式可改善材料的特性,如同時改善耐磨力與抗金屬疲 勞力,改善抗钱力與再現性。 、但此結合浸蠟或塗聚合物的步驟,基於某些因素而無 法立即被接受,如成本與生產力等因素。 、—因此本發明提供一種在金屬元件最外層形成氧化物層 並經氮化處理的方法,此氧化物層具有絕佳的阻隔性質, 特別是應用在以鐵為主的元件中;將鐵元件於鹽浴氮化處 理後,可成功地增進其耐蝕性,且結果優於硬鉻電鍍技 術,而且可改善材料的性質,如耐磨力與抗金屬疲勞力。 此外,一專利申請案與此發明相關(日本專利申請案號 200 1 -36 1 544,目前為JP 20 02-226 963 A)。 別是將一以鐵為主的金屬元件浸入一融解鹽浴中,此鹽浴 包含陽離子Li+、Na+、K+與陰離子CN0-、c〇32-,且此鹽浴的 氧化力隨鹼金屬氫氧化合物、水分與濕氣的增加而增強, 上述方法的特色在於在一金屬元件表面形成一氮化層,特
2204-5738-PF(Nl).ptd 第8頁 200416301 五、發明說明(3) 在"金屬元件表面形成一氮化層後,再於此氮化層上形 成一氧化層。 乂層^薄氧化層為一鋰鐵氧化層,其厚度為5〜5# m,此層^氧化層對環境中之腐蝕因子,如氣離子,具有優 良〇卩、、、巴功效,且可大幅地提升經氮化處理之金屬元件的 耐蝕力然而,此方法已揭露於日本專利J ρ 2 〇 〇 2 — 2 2 6 9 6 3 A,且被預期可如硬鉻電鍍般在表面硬化技術中具有大範 圍的應用,促使耐蝕力提高。 .談到不銹鋼,有許多方式,如鹽浴氮化、離子化 (ion itri ding )、氣相氮化與許多類似方式,都是在改 ίίί:硬度。然而,這些氮化處理方法會使不銹鋼表面 的保濩膜知傷,使原有之耐蝕力減低(請參閱日本專利几 20 0 1 -2 1 4256^ ;因此,硬鉻電鍍方式較適用於不錄鋼, 雖然此電鍍膜依然有附著力不佳等類似問題。 日本專利JP2002-226963A揭露一位於金屬最外層,且 具有良好黏著性與高耐蝕力的鋰鐵鉻氧化層,且此氧化 與不錄鋼的氮化表面並存;因此,此法被認為在表面曰 技術中將可取代硬鉻電鍍。 接下來請參閱第1A圖至第。第u圖與第1B 面圖,分別為利用一般方法,對純鋼與不鏽鋼作表^ ° 理;第2A圖與第2B圖分別為對純鋼與不鏽鋼利用日^ JP 2002-26963 A方法作表面處理的剖面圖。在這些寻利 中,包括氮擴散層1 (厚度為0.2至1„ )、化合物τ 稱為白層(white layers),成分為Fe2N,厚度為5曰〇〜也 2204-5738-PF(Nl).ptd 第9頁 200416301
,黑經鐵氧化層4 (厚度為0 5〜 ll (MjtAno 1 、 J 鼠擴散層 :為0.2〜lnim)、第一化合物層12 (也稱為白層 (te layers ),成分為Fe2N 與(:1^,厚度為ln 、 (bla;k la;e^1〇/;i^
CrNl^N ’厚度為20〜8〇 _ )與黑鐘鐵絡氧化層“(刀严、、 f 2 〜"m)。其中链鐵氧化層4與鐘鐵鉻氧化層14^
,利用日本專利打20 0 2-226963A方式所製作之非常薄 薄膜,但卻具有非常良好的阻隔效果,以對抗氣離子與、 似的腐蝕性環境因子,增進經氮化處理過的材料之耐蝕、 力。另外,圖示中化合物層2、12與13對純鋼與不銹鋼具 有高硬度與絕佳的耐磨力;分別形成於化合物層2與12 ^ 方的氮擴散層1與1 1為固態溶液層,此層所含的氮分別溶 於純鋼與不銹鋼中;由於溶解氮所產生的壓縮應力,使得 元件的抗金屬疲勞力大幅改善。 f 為了得到此一氮擴散層,元件需在至少3 0 〇 °c或更高 的溫度下進行氮化處理之冷卻(quench )步驟。日本專利 JP 20 0-226963A所揭露方法,於鹽浴氮化處理後依需要 在450〜6 50 °C下進行冷卻。經處理產品所殘留的應力會妨 礙r ’ (FeJ )在氮擴散層上的沉積。急速(post )氮化冷 卻可由下列三種方式擇一進行,冷卻方法端視目標材料性 質而定·· 鹽浴氮化一水冷卻—浸熱水—乾燥 鹽浴氮化—油冷卻—浸熱水—乾燥 鹽浴氮化—空氣冷卻—浸熱水-> 乾燥
200416301 五、發明說明(5) 其中以水冷卻的冷卻速率最高,且當抑制7,( F % N ) 在氮擴散層上的沉積相形重要時,即可選擇此冷卻方式; 另外,空氣冷卻的冷卻速率最低,且當抑制殘留應力相形 重要時,即可選擇此冷卻方式;油冷則是在冷卻速率與應 力抉擇下較平衡的作法。為了同時抑制殘留應力與7,沉 積,可在經4 0 0 °C左右水冷卻後再經空氣冷卻。 例如,一般溶鹽氮化浴的組成如下:重量百分比3 5 % 的CN0-、18% 的C032-、3· 5% 的Li+、18% 的Na+、22· 5% 的K+ 與
3%的CN-(以下稱鹽浴C )。另外,日本專利JP 2002 —26 9、63 A揭露一種溶鹽氮化浴方式,其成分如下··重量百分比丨 的CNO-、40%的⑶广、4%的Li+、18%的㈣、22· 5%的^與〇 0· 5%的CN—(以下稱鹽浴N ) 。 /、 為了使氧化物層與氮化物層並存,且此氧化物層形成 於最外層,日本專利JP 200_22696 3 A揭露了一種鹽浴方 以CN〇_為氰化物的形成來源,以降低不溶;鐵氧 化物的CN之用量。部分碳酸鹽與一般浴 相對低的溶解度。 κ艰〒具肩 異-:ί ΐ i化處理的產品再利用水冷卻使之冷卻,之移 般鹽浴包含大部分的氛化物,氛:
速地於水中被。η:經處理產品的溶鹽可* μ | /方式,比氰化物溶解度還低的碳酸越佔__ A tt 例,此溶鹽難以黏著在 =馱|佔大tt 全浸水以使之留存:ί :處的產°°上’因此’傾向不完 更之留存於經處理的產品,形成
200416301 五、發明說明(6) 複合結構的一部分,雖然在部分簡單結構中,此 _ ^ 一溶鹽可 快速地被水洗掉。/般而言,無溶鹽可黏著吱囟六 f 4 W存在經處 理的產物上,尤其疋溶鹽氮化浴中有副產物氰化物存在, 雖然只是微量,但此溶鹽依無法存在於此經處理的產口 ’ 上。 °口 在日本專利JP 2 0 02-22 69 63 Α所揭露使用之鹽浴組 合物中’因下列因素而減少氰酸鹽的用量,並以碳^酸 代之。用鋼在鹽浴的氮化來替代初生氮的固相擴散已Z習 知,其中擴散至鋼的初生氮為分解氰酸鹽所得Γ如下列化 學反應式(1)與(2)所示:
4McCN0 —^ 2MeCN + Μθ20〇3 + CO + 2N (1) 5MeCN0 -> 3MeCN + Me2C03 + C02 + 2N (2) 其中Me表示一價的驗金屬。 氰化物是由反應式(1)或(2 )所形成,其中反應式(2 ) 被認為是一有效組成,因為它經由下列反應式(3)氧化且 轉變成有效氰酸鹽,其中鹽浴氮化需經通氣(aerat 的標準步驟: 2MeCN + 02 2MeCN0 (3)
另外,當鹽浴氮化處理進行時,由反應式(1)或(2 )所 = 2鹽會不斷累積。在曰本專利JP 5 1 -50241 A的 物付二、則’虱酸鹽被滴入此處理而形成-鹼金屬氰化 越、、谷::…由於不需要的碳酸鹽不斷地累』,除非部分的 d除’否則難以不斷地提供驗金屬氰化物。在曰本 專㈣51,241請揭露的發明中,使此舊鹽不經抽取
方式是將鹽浴中 含氮的有機化合 ,碳酸鹽轉化成 + co2 + h2o 3 中的氰酸鹽濃度維持固定,此 物直:轉ί成匕:和一無用的碳酸鹽藉由- 安锝欠成有用的氰酸鹽。 尿素作為此含氮的有機化合物時 亂心皿可以下列方程式表示:
Me2CN3 + 2C0(NH2)2 一 2MeCN〇 + 2ΝΗ (4) ^ =^,述MeCN/MeCNO/Me/N3鹽浴組合被認為有其必然 十’也就是也包括以代替MeCN〇的還原反應。 【發明内容】 "
因此,本發明人等做過許多研究來找出曰本專利评 200 2-226 963 A所揭露之鹽浴用的潔淨方法。結果找到一 種具特殊組成的鹽浴的潔淨方式,其藉由熱水清洗可將趟 浴氮化處理的溶鹽溶解及排除,即使其產物之部分為錯^ 物也可行,此具特殊組成的鹽浴之潔淨方式尚可提高耐蝕 力的等級。上述發現將在之後描述。 利用上述兩種組成的溶鹽氮化,鹽浴Ν與鹽浴c,本發 明人等於預定的裝配架(jigs)上設置機械閥(engine va 1 ves )以進行處理。此機械閥經下列步驟處理:
驗性清洗—浸熱水—乾燥—預熱—臨浴s 卜 —水冷卻—浸熱水—乾燥 匕 經此處理的機械閥(engine valves)其上可能有_ 的殘留,而利用一般鹽浴(鹽浴C )處理過的機械閥上無 發現鹽的殘留,但利用日本專利JP 20 02-226 9 63 A所揭'露
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的鹽浴(鹽浴N )來處理機械閥,發現於閥頭 (valveheads )或其它處仍有一點鹽的殘留,這些鹽被發 現形成於閥柄(valve stems)的下半部,將這些經處理 ,的機械閥拉離鹽浴後,再經熱水浸泡,仍無法完全溶解 其上殘留的鹽。
狀著眼於设置機械閥的裝配架,在利用鹽浴c處理時, 在衣配条上亚無發現鹽的殘留;但利用鹽浴N處理時,直 =在裝配架上就發現了鹽的殘冑;然後,比較鹽浴N與 孤冷C在水中的溶解速率,將這些個別鹽浴的小部分鹽排 出,將它們冷卻成固體後,所形成的固體以酒石 (tartars)個別研磨,再利用篩孔+ 5〇—篩孔來做筛 選,然後收集成樣品,再用來做溶解速率測試。 一將上述鹽浴方式所製成的粉狀樣本各取出丨克,加入 5^宅升的水於50 t下以磁石攪拌,使粉末完全溶解,再測 ΐ個別鹽浴樣本。結果’鹽浴N樣本需要⑽秒才能完全溶 解,反之,鹽浴C樣本只需丨82秒溶解。由此結果可知,日 本專利JP 2002-226963 A之鹽浴方法在水中具有一非常低 的溶解度。日本專利JP 20 02_2269 63 A的鹽浴方方法比一 般孤’谷c具有更低的浸濕(r i nse)性質,此現象歸因於其 低的水溶性。 〃
作為其匕後漂洗(post - rinsing)的要素,以日本 利JP 2002-226963 A所揭露方法之鹽浴N的鹽殘留問題, 所黏附的鹽之固化的發生歸因於將處理過的產物從鹽浴中 取出轉換至下一步驟後,也就是水冷卻,其溫度的下降,
200416301 五、發明說明(9) 固化 士 =二以冰柱形式殘留於機械閥 的典型例子。 ^ ^ 並轉Ϊ : ί T企圖要縮短將處理過的產物由鹽浴中取出 制都岸避旁L冷部步驟的時間,而使殘餘的鹽固化的限 制,應避免。4 了減少生產成本與兼顧環保,減少溶踐在 、,里處理產物或在裝配架上的殘留皆必須被控制到越少越 好口此 足夠的滴乾時間(d r i p t i m e )可使鹽被去 除。 孤 合於日本專利JP 20〇2 —226923 A所揭露方法,鹽浴固 化點取決於鹽的不同鹽浴組成,且其固化未清楚發 生’ 而 般而吕在3 5 0〜4 3 0 〇C時其固化點下降;為了 克服此問題,本發明研究以一具有氮化鹽浴的鹽取代一隨 $步驟中具有較高水溶性溶鹽,研究中所提到的鹽是從附 著在經處理產物上所取下的。 因此發現以一包含驗金屬鎖酸鹽的溶鹽取代鹽可使 次濕性質有效地改善,其中鹼金屬硝酸鹽易溶於水且具有 ,溶點(固化溫度),且發現藉由利用包含鹼金屬硝酸鹽 /谷鹽的取代’經處理產物的耐蝕力大體上改善了;另外, 也發現CN離子存在於氮化鹽浴的鹽中’也就是可藉由鹼金 屬硝酸鹽來氧化分解與去除毒性,上述的鹽是從附著在經 處理產物上所取下的。 在本發明的觀點之一,就是提供一種藉由鹽浴氮化增 強耐蝕力之金屬元件的製造方法,此方法包括藉由浸沒該 金屬元件於一氮化鹽浴中,該氮化鹽浴包括Li+、Na+與κ+離
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子作為陽離子組成與CN0-與CO3-離子作為陰離、 形成一氮化層於該金屬元件表面,且同時形 ’ u 沒氮化層之取外層,且藉由添加增強氧化力物質二, 化力,該增強氧化力物質係擇自於鹼金屬氫氧化物匕士: 水(bound water )、自由水與濕氣所組成之族群中^口 在該氮化鹽洛後進行-浸沒步^,此步驟包 屬元:Γ鹽取代清潔鹽浴中1 一取代清潔鹽浴包含=金 =後,特定組成之清潔鹽浴 溶化成為可能,且藉由一隨 屬元件之溶鹽減少甚至此溶 再者,利用一特定組成來製 的程度更加改善。
承上所述,在鹽浴氮化處 氮化處理被引用,它可使完全 後的清洗步驟,使經處理的金 鹽部份為錯合物型態也可行; 備此取代清潔鹽浴,使耐钱力 再者,利用一溶鹽的鹽取代處理可使經處理產品的耐 蝕力大幅改善,此溶鹽的鹽取代處理包含一鹼金屬硝酸 鹽;再者,CN-離子存於氮化鹽浴的鹽中、附著在經處理產 上的鹽會被去除,藉由鹼金屬硝酸鹽,c N離子會被氧化 分解以去除毒性;再者,所有的氰化物都不會存在於任一 處理線的熱水清洗,因此,在其中和處理後,熱水清洗可 被採用。
【實施方式】 本發明接下來將描述更詳細的較佳實施例。本發明進 一步地改善日本專利JP 200 2 —2269 63 A,發明的詳細方法 已於上描述’具體的例子將在隨後敘述。如上所述,既使
經一產品的處理後,揭露 方法說明鹽浴的鹽依缺殘本專利JP 2002-226963 A的 包含高水溶性鹽之臨;也=附著在經處理的產品上,一種 氮化的產品來取代:有古^於隨後描述。本發明以塗覆此 也可帶來其它顯著:良以性的殘留鹽’此外’本發明 如於取代清潔鹽浴中, 酸鈉、石肖酸鉀與石肖酸鐘,此=用驗金屬錢鹽可包含石肖 些驗金屬石肖酸鹽可單獨地使^本發明的主要特徵,雖然這 三個鹽之三系、统,其溶!選擇兩個鹽之雙系統至 潔鹽浴可被應用在低溫範圍;於::使用2鹽,使取代清 的堂挥y相η卢裡、田由 中’此外’此雙系統或三系統
的選擇在相同處理溫度下’會使得滴乾需 因此’可降低在下步驟中所要去除的鹽的更: 單-驗金屬确酸鹽依然可用作一取代清潔鹽上 用複數個鹼金屬硝酸鹽更為有利。 -、、、° 口使 本發明也發現附著在經處理產品之氮化鹽的浸濕 (rinse )性:與耐一餘力可藉由添加一鹼金屬氫氧化物與 鹼金屬亞硝s文·^之一或兩者而增強;鹼金屬氫氧化物勹 括氫氧化鈉、氫氧化鉀與氫氧化鋰;鹼金屬亞硝酸鹽= 括亞硕酸納、亞硝酸鉀與亞确酸鐘(單水)。 匕 在取代清潔鹽浴中加入鹼金屬氫氧化物,藉由驗 的溶解動作,可有效降低取代清潔鹽浴的溶 9 ”屬 ”,、、、6 ,且可、、定 且去除附著在經處理產物上的氮化鹽。在取代清潔趟 加入鹼金屬亞硝酸鹽,不但可使如鹼金屬氫羞I 2 了 /合中 地降低取代清潔鹽浴的溶點,也可增強取代、生、如 欢 、’月 鹽浴對利
2204-5738-PF(Nl).ptd 第17頁 200416301 五、發明說明(12) 用曰本專利JP2002-226963A所揭露方法之溶鹽氮化浴所 在最外層形成之一鋰鐵氧化物層的氧化力,使此經處理產 物的抗餘力大幅改善。
在取代清潔鹽浴中,結合添加鹼金屬氫氧化物與驗金 屬亞硝酸鹽,可大幅增加取代清潔鹽浴之清潔性質與經處 理產物的抗蝕力,因此,此為一令人滿意的實施例。為了 氮化鹽浴中的鹽之取代與清潔,與包含在此氮化鹽浴中的 鹽之CN-離子的氧化性分解,此取代清潔鹽浴最好在2〇〇 t 或更高溫度下實施,雖然此取代清潔鹽浴的處理可在鹽浴 之溶點(固化點)以上進行,然而,此取代清潔鹽浴的溫 度必須被控制在5 0 0 °C或更低,因為硝酸鹽在超過5 5 0 °C時 會分解。 另外,在鋼中所溶的氮濃度會根據溫度而有所不同, 為了得到一層可抗金屬疲勞力的氮擴散層(氮溶層),不 會造成溶氮的沉積,如y,( F e* N ),需要冷卻此經至少 3 0 0 °C或更高溫氮化處理的元件,因此,取代清潔鹽浴的 溫度最 好 在300 〜5 5 0 °C 〇 無 論 哪 個冷卻 方 法 被 利 用 9 本發 明 中 此取 代 清 潔的 步 驟都被 用 在 鹽浴氮 化 處 理 後 如 下所 示 • 鹽 浴 氮 化一 >取 代 的 清 潔 處 理 —水 冷 卻 —熱 水 清 洗— 乾 ( 燥< D 鹽 浴 氮 化一 一取 代 的 清 潔 處 理 —油 冷 卻 —熱 水 清 洗— 乾 燥< 鹽 浴 氮 化- 令取 代 的 清 潔 處 理 _^空 氣 冷 卻〜 熱 水 清洗 —>
2204-5738-PF(Nl).ptd 第18頁 200416301
經 濃度約 理產物 成一相 氫化物 與自由 自由氰 水流進 高效能 毒性被 此 理過程 著在經 成氮氣 水冷卻 是在處 後,此 二浴氬化處理後,CN-離子在氮化晓 為0.5重量百分比,這裡所提::的^所含的 所取下的;除取代清潔鹽浴 二附者在經處 似的處理過程,在此處理流程裡,用以形 約yo〜20 0 ppm,順便一提―鐵 的全部 的氰化物並存於水冷卻洛中,雖 、·曰合物 化物的形式存於此氮化鹽浴中。當在::=以 :v驟的熱水清洗槽中,有關排出熱水槽·:的 ί;流出物’使鐵氛化物錯合物與自由的氣化:: 夕卜’在利用一包含鹼金屬石肖酸鹽之取 :’CN-離子包含於氮化鹽浴中的 處理產物上取出,且利用硝酸鹽使CN_離子氧::: t二氧化碳而完全去除毒性,因此,利用此過^ 浴中根本未測到氰化物,故氰化物根本不存在, 理線中的熱水清洗中被排出,因此,經〆 熱水清洗可被排出。 處里 藉由在冷卻後的熱水清洗或熱水清洗後的乾燥之後, 利用一浸泡或喷灑的方法,以水性樹脂塗覆,以大幅改善 此經處理產物的耐蝕力;上述水性樹脂具有„ 2 0〜3 0 0的° 酸價範圍,低於2 0的酸價可能無法有效地附著金屬基底 上,以致於無法得到有效的濕耐蝕力,另外,若酸^高於 300,則可能會導致太強的水敏感性,以致於防水性^降^ 、
200416301 五、發明說明(14^ ' "~' 低j使耐餘力降低;此水性樹脂的乾塗佈重最好在〇· 1〜5 g/m ’小β於〇· 1 g/ifl2的乾塗佈重會導致差的隔離效果,以 致無法得有效的耐蝕力,另外,大於5 g/m2的乾塗佈重會 使ί钱力改善的效果達飽和,產生不經濟的情形。 如第1 Β與2Β圖的說明,以本發明的氮化法形成一厚度 為〇 · 5 5 β m的黑氧化物層於表面修飾層的最外層,鐵基 f邛刀的^拋光層的應用很廣,如相機、0A設備、汽車部 ί辦公至豕具,尤其是在精緻的視覺印象還達不到處, Ϊ Ϊ ί ί ΐ層了; #由化學處理(化學變黑)將黑氧化物 ,"^ ’磁礦表面,但此單獨處理並無法達增進耐I虫 讎堅二搜吝Ϊ需要防鏽油或其它類似物來辅助,故對化學 又…、=產生產品應用範圍的限制。 & ^ ^本t月的氮化法,氧化層形成於鋼表面的最外 = = 在基底材料上具有良好黏著度且具匕 並無須再經任何特:K發明氣化處理的產物可被抛光, 黑膜可被亮拋光方式也不容易剝離,因此,此 存。 耐蝕力無大幅下降,同時其黑外觀依 鲁 【實施例】 本發明將在之# & i 然而’並μ矛述更詳細的實施例與卜匕較實施例, 【實施例1】 貫施例用以限定本發明
200416301 五、發明說明(15) 機械閥 engine valves —糾驻要加,··、 材料:SUH11 )被裝在預
疋的裝置木(JlgS) Λ ’再分別使用日本專利JP
2002-226923 A所揭露的氮化⑸與上述鹽浴N 氮化鹽浴,且分別利用如表1所; 成贼閥作 “士 * 所不之鹽浴B1〜B4對機妯日日 作清潔鹽浴。在一比較實施例中,無下列所述” 之取代清潔處理,於下列所述步冑(9)乾燥後 丄 :過的產物與裝配架的框架由目視判定是否有鹽的匕處 其上,以決定清洗效果。 %召於 鹽浴氮化處理過裎 (1 )驗金屬清洗清洗槽:,,ρκ — 5 i 9 〇,,(商品名,
Parker Netsushori Kogyo Κ· K 66 口 •的屋品) (2 )水清洗 處理條件 (3 )乾燥 處理條件 (4 )預熱 處理條件 (5 )鹽浴氮化處理 氮化鹽浴 處理條件 滴乾 空間上) (6 )取代的潔淨處理 濃度:4重量百分比 處理條件:7 0 °C * 1 0分鐘 40 °C*5分鐘 1 0 0 °C * 1 0 分鐘 40(TC*20 分鐘
鹽浴N &氮化 580 °C*30 分鐘 分鐘(懸掛在一鹽 $代的潔淨浴:請參閱表丄 处理條件:40(TC*15分鐘
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五、發明說明(16) 滴乾·· 2分鐘(懸掛在一取代的潔 淨浴空間上) (7 )水冷卻 (8 )熱水清潔 (9 )乾燥 處理條件:4 0 °C * 5分鐘 處理條件:5 0 °C * 1 0分鐘 處理條件:1 0 (TC * 1 0分鐘 表1
取代的潔淨浴忐 浴編號 NaN03 KN43〇3 NaOH NaN02 B1 55 45 晒 B2 52 43 5 B3 55 45 B4 52 ---- 43 清洗性質的測定 根據目視的結果,利用本發明之取代潔淨浴B1到“ 處理的機械閥,在機械閥頭的任何部分都沒觀察到鹽 留;但在此機械閥被從氮化鹽浴取出後的滴乾階段, 柄低處部分分別出現冰柱狀的鹽,然而,這些鹽 木問
步驟中兀全洛解,且當機械閥被拉離水冷卻槽時,;此^ 就不會被觀察到;此外,在無使用取代清潔處理步驟二二 較實施射,機械閥的頭部依然被觀察到殘留的 冰柱狀殘留於閥柄較低部分上。 1 1以 在處理中用來設置機械閥的裝配架也以類似理由得
2204-5738-PF(Nl).ptd 第22頁 2U0416301 五、發明說明(17) 2無$ ^: m之取代清潔浴bi〜β4處理之裝配架上根 被ί臾引$ Γ、殘留,但在比較實施例中之裝配架上,鹽 被觀察到殘留於其上。 【實施例2】 spcr f 、見5〇随與長100 mm的鋼片(材料: 刀^ 於下列敘述之鹽浴氮化處理中,以在個別 = ί氮化層,且同時形成链鐵氧化物層於氮化 = 在取代的清潔處理步驟(6)中,分別 =ΐΛ牛 〜β4;本發明之比較實施例省略取 代的清潔處理步驟(6),其它步驟如上述處理過程。 〜鋼片藉由上述處理(包含比較實施例)各出現黑外 規’在光學顯微鏡裡’這些經處理產物的剖面被 抛光與被触刻,且這些個別的樣本被確認包含一且有= _厚度的鐵氮化物層(化合物㉟:白層)盥一於鐵:5 物層的最外層的約2,厚度的氧化物層(黑層)。’ 鹽浴氮化處理過裎 (1 )鹼金屬清洗清洗槽:” ΡΚ-5190”(商品名,
Parker Netsushori Kogyo Κ·Κ·的產品) 濃度:4重 處理條件 (2 ) 水清洗 處理條件 (3 ) 乾燥 處理條件 (4 ) 預熱 處理條件 (5 ) 鹽浴氮化處理 7 0 °C * 1 0 分鐘 40 °C*2分鐘 100 °C*5 分鐘 350 °C*20 分鐘
200416301 五、發明說明(18) 氮化鹽浴:鹽浴N 處理條件:580 °C*90分鐘 滴乾:1 0秒(懸掛在一鹽浴氮化 空間上) (6 )取代的潔淨處理 取代的潔淨浴:請參閱表1 處理條件:4 0 0 °C * 1 5分鐘 滴乾:1 0秒(懸掛在一取代的潔 淨浴空間上) (7)水冷卻 處理條件:40 °C *2分鐘 (8 )熱水清潔 處理條件:5(TC *2分鐘 (9 )乾燥 處理條件:1 0 0 °C * 1 0分鐘 為決定上述處理的鋼片耐蝕力,是利用J I S Z 2 3 7 1做 鹽喷麗(s 1 a t s p r a y )測試,其結果列於表2。
2204-5738-PF(Nl).ptd 第24頁 200416301
五、發明說明(19) 表2 财钱力測試結果 (鏽所需之形成 處理編號 利用的取代清潔浴處理 經處理的產物 鋼片(SPCC) 比較實施例 無利用 240小時 發明1 B1 408小時 發明2 B2 480小時 發明3 B3 504小時 發明4 B4 816小時
【實施例3】 直徑10 mm與長150 mm的冷拋光鋼條(材料:S2〇c) 分別被置於下列敘述處理至(9 )之鹽浴氮化處理中,以 在個別鋼條表面上形成氮化層,且同時形成鋰鐵氧化物層 於氮化層表面的最外層。在取代的清潔處理步驟(6 ) 中’分別使用表1中的鹽浴B1〜B4 ;在本發明之比較實施 例裡,除省略取代清潔處理步驟(6 )外,其它户理過程 如上所述。 a 〇
冷拋光鋼條藉由上述處理(包含比較實施 一黑外觀,在光學顯微鏡中,這些經處產物的 且蝕刻過的;這些個別樣本被確認包含一具I — 度的鐵氮化物層(化合物層:白層)盥 2 " μ]Ά «曰漕)興一為於鐵氮化物
2204-5738-PF(Nl).ptd 第25頁 五、發明說明(20) 最外層的約2 // m ώ: // >- β m ^度的虱化物層(黑層)。 抛光被用於太| Bg ^ r ^ ^ ^ 1 π / &月之、、、里處理過的產物上,且比較實施 表面粗糙度為Λ冷:光:條^ ,,Α, ^ ^ ^ 4U I “ Μ的以,利用上述處理(包括比較實 施例)之冷拋光條久g王目 φ 里外逾π妙/· + 黑外硯,且既使經過拋光,其 …卜存在;由於拋光的緣故,各氧化物層的厚度下 降約 0. 3 /zm。 鹽浴氮化處理過超 (1 )鹼金屬清洗清洗槽:,,PK-5190”(商品名,
Parker Netsushori Kogyo Κ·Κ·的產品) 濃度:4重量百分比 處理條件:70 t *10分鐘 (2 )水清洗 (3 )乾燥 U )預熱 (5 )鹽浴氮化處理 處理條件 處理條件 處理條件 氮化鹽浴 處理條件 40 °C*5分鐘 1 0 0 °C * 1 0 分鐘 40 0 °C*20 分鐘 鹽浴N 580 °C*30 分鐘 滴乾:2分鐘(懸掛在一鹽浴氮化 _ 空間上) (6 )取代的潔淨處理 取代的潔淨浴:請參閱表1 處理條件:4 0 0 °C * 1 5分鐘 滴乾:2分鐘(懸掛在一取代的潔
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淨浴空間上) (7 )水冷卻 處理條件:40 °C *5分鐘 (8 )熱水清潔 處理條件:5 0 °C * 1 0分鐘 (9 )乾燥 處理條件:1 0 0 °C * 1 0分鐘 (1 〇 )拋光經過一次 為决疋上述處理的冷拋光鋼條財姓力,是利用j ^ 237 1做鹽喷灑(siat spray )測試,其結果列於表3。 表3
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耐蝕力測試結果 之形成時間) 處理編號 利用的取代清 潔浴處理 經處理的產物 (冷拋光鋼條:S2〇C) 無拋光 有拋光 實施例 無利用 120小時 96小時 發明1 —---- B1 336小時 312小時 發明2 ------- B2 408小時 408小時 +邊明3 B3 432小時 408小時 —^明4 B4 744小時 720小時 【實施例4】 .厚度0· 8 mm、寬5〇 mm與長1〇〇匪的不鏽鋼片(材 料SUS3〇4 )分別被置於下列敘述處理之鹽浴氮化處理 中’以在個別不鑛鋼片表面上形成氮化層,且同時於氮化 第27頁 200416301 五、發明說明(22) 層表面最外層形成鋰鐵鉻 物層。 驟(6 )中,分2,丨& ^ % %代们α /糸處理步 如杏#你丨r ρ 使用表1中的鹽浴61〜B4 ;在本發明之比 乂貝& | t車父實施例1)中,除省略取代清潔處理牛砰 (6)外,其餘處理過程如上所述。處理步驟 利用一般氮化浴(鹽浴C )為一氮化 所述之類似過程處理一 8 ^孤冷再依下列 的不鑪銦片r “, ^ 見5〇隨與長100隨 罐V但不利用取代清潔處理。 被拋光盥被蝕刻兄裡,这些經處理的產物之剖面被觀察到 察到包括些被鹽浴N處理過的不鎊鋼片各被觀 以及-严产约主ς最外層且厚度約為3 m "的黑氧化物層, 物声上Γ_21;存m #的黑層(CrN + FeJ)位在此氧化 曰 予度約為l〇m#的白層(FeN + CrN'iAr/ 此黑層上;此外,由_、加所卢裡二+ W )位在 ^ ,, . ,η 由·^ /合C所處理的樣品被觀察到有一 度約為50 的黑層(CrN + Fe2N)盥一 ώ β f Fp Ν 4- r μ \ /、 乂子 &、、、勺為 1 〇 m // 的白層Ue2N + Cr2N )位於黑層上,然益 最外層表面被觀察到。 …' 鹽浴氮化處理過敍 p t (1M)鹼金K屬清洗清洗槽:,,pK-5190"(商品名,
Parker Netsushori Kogyo Κ·Κ·的產品) (2 )水清洗 (3 )乾燥 (4 )預熱 濃度:4重量百分比 處理條件:7(TC*l〇分鐘 處理條件 處理條件 處理條件 40 °C*2分鐘 100 °C*5 分鐘 35(TC*20 分鐘
200416301 五、發明說明(23) (5 )鹽浴氮化處理 實施例2 ) 氮化鹽浴:鹽浴N或鹽浴C (比較 處理條件:5 8 0 °C * 9 0分鐘 滴乾:1 0秒(懸掛在一鹽浴氮化 空間上) (6 取代的潔淨處理 取代的潔淨浴:請參閱表1 處理條件:4 0 0 °C * 1 5分鐘 滴乾:1 0秒(懸掛在一取代的潔 淨浴空間上) (7 )水冷卻 (8 )熱水清潔 (9 )乾燥 豢 處理條件:4 0 °C * 2分鐘 處理條件:50 °C *2分鐘 處理條件:1 0 0 °C * 1 0分鐘 為決定上述處理的不銹鋼片耐蝕力,是利用J I S Z 2 3 7 1做鹽喷灑(s 1 a t s p r a y )測試,其結果列於表4。
2204-5738-PF(Nl).ptd 第29頁 200416301 五、發明說明(24)
表4 耐蝕力測試結果 鏽生成時間
施例5 ------ 利用的取代清 潔浴處理 無利用 無利闬 厚度0.8 mra、寬50 mm與長100 _的鋼片(材料· SPCC)以表1中的取代清潔浴以處理,除步驟(8)"與‘(9 )間的步驟外’其餘過程與實施例2相似;將鐵片浸到一 稀釋之水性樹脂(商品名為HYTEC S-3121,由Toho Chemical Industry Co·所製造,酸價15〇 )中,在無揮發 情形時’其重量百分比為5 ’以形成一具有清潔塗層'為/ 7 g / m2之最外層;為測定此樣品之耐蝕力,利用j z s z 237 1來做鹽噴灑測試;為確認此清潔塗層的效用,以上述 相似方式’除省略浸入液體形成外’所得之樣品來做鹽喷 灑測試比較。
2204-5738-PF(Nl).ptd 第30頁 200416301
五、發明說明(25) 表5 耐蝕力夠試結果 (鐵形成之所需時間) 處理編號 水性樹腊塗層 經處理產物 鋼月(SPCC) 發明1 無利用 408小時 發明2 利用HYTEC S-3121 1〇56小時 此應用專利申請範圍優先權,曰本專利申請 2002 - 2586 1 9已於2〇〇2年9月4號申請,請併入參考
C
第31頁 200416301 圖式簡單說明 第1 A為一剖面圖,用以說明藉由一般鹽浴氮化處理, 在純鋼上形成表面修飾層。 第1 B為一剖面圖,用以說明藉由日本專利JP 2 0 0 2 - 2 2 6 9 6 3 A所揭露之方法,在純鋼上形成表面修飾 層。 第2A與2B圖分別與第1A與1B圖類似,除了處理材料為 不銹鋼不同外。 【符號說明】
C 1、4、1 1〜氮擴散層 2〜化合物層 12〜第一化合物層 13〜第二化合物層 1 4〜黑鋰鐵鉻氧化層
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Claims (1)

  1. 200416301 六、申請專利範圍 1 · 一種藉由鹽浴氮化增強 法,包括藉由浸沒該金屬元件=之金屬元件製造方 浴包括Li+、Na+與K+離子作糸阻於一虱化鹽浴中,該氮化鹽 作為陰離子組成,以形成二::組严與CN0-與CO3-離子 同時形成-氧化層於該氮化層之金屬2件表面’且 氧化力物質來提升氧化力,^強氧曰力^由添加增強 八厘-",此从人 及、強乳化力物質係擇自於鹼 至屬II氧化物、、.口 5水(bound water )、自由水(卜“ water )與濕氣所組成之族群中,該方法更包括在該氮化 鹽浴之後進行一浸沒步驟,浸沒該金屬元件於一含有鹼金 屬硝酸鹽的取代清潔鹽浴中。 2 ·如申請專利範圍第1項所述之藉由鹽浴氮化增強而十 蝕力之金屬元件製造方法,其中該取代清潔鹽浴包含至少 一驗金屬硝酸鹽,該驗金屬硝酸鹽係擇自於硝酸納、硝酸 鉀與硝酸鋰所組成之族群中。 3 ·如申請專利範圍第1項所述之藉由鹽浴氮化增強耐 蝕力之金屬元件製造方法,其中該取代清潔鹽浴尚包含至 少一驗金屬氫氧化物,該驗金屬氫氧化物係擇自於氫氧化 鈉、氫氧化鉀與氫氧化鋰所組成之族群中。 4 ·如申請專利範圍第1項所述之藉由鹽浴氮化增強耐 蝕力之金屬元件製造方法,其中該取代清潔鹽浴尚包含至 少一鹼金屬亞硝酸鹽,該鹼金屬亞硝酸鹽係擇自於亞硝酸 鈉、亞硝酸鉀與亞硝酸鋰所組成之族群中。 5 ·如申請專利範圍第1項所述之藉由鹽浴氮化增強耐 蝕力之金屬元件製造方法,其中該取代清潔鹽浴尚包含至
    2204-5738-PF(Nl).ptd 第33頁 200416301 六、申請專利範圍 少一鹼金屬氫氧化物,該驗金屬氫氧化物係擇自於氫氧化 鈉、氫氧化鉀與氫氧化鋰所組成之族群中,與至少一鹼金 屬亞硝酸鹽,該鹼金屬亞硝酸费係擇自於亞硝酸鈉、亞硝 酸鉀與亞硝酸鋰所組成之族群中。 6 ·如申請專利範圍第1項所述之藉由鹽浴氮化增強耐 蝕力之金屬元件製造方法,其中該取代清潔鹽浴控制在 3 0 0〜5 5 0 °C的溫度間。 7·如申請專利範圍第1項所述之藉由鹽浴氮化增強耐 蝕力之金屬元件製造方法,在該氮化鹽浴中的浸沒步驟之 後,尚包含以一冷卻介質冷卻该金屬元件,該冷卻介質係 擇自於水、油與空氣所組成之族群中,且接著再利用熱水 清洗該金屬元件。 8 ·如申請專利範圍第7項所述之藉由鹽浴氮化增強耐 蝕力之金屬元件製造方法,在該以熱水清洗後,尚包人'、 一水性樹脂塗附該金屬元件。 3以 9 ·如申請專利範圍第8 蝕力之金屬元件製造方法 3 0 0之酸價。 項所述之藉由鹽浴氮化增強而于 其中該水性樹脂具有一2〇〜 π 丁明寻利摩已圍第 蚀力之金屬元件製造方法,复、之藉由鹽浴氮化增強你 〇· 1〜5g/m2的乾塗附重。,/、中該水性樹脂具有一固定$ 1 1 ·如申請專利範圍第7 蝕力之金屬元件製造方法,$所述之藉由鹽浴氮化増強而 何氰化物。 ,、中一由該清洗的流出物無$
    2204-5738-PF(Nl).ptd 200416301 六、申請專利範圍 1 2.如申請專利範圍第1項所述之藉由鹽浴氮化增強耐 餘力之金屬元件製造方法,尚包含部分地研磨一黑氧化物 層,以提供一明亮的黑色拋光,該黑氧化物層係為上述取 代清潔鹽浴浸沒步驟中形成於該金屬元件之最外層的氧化 物。
    2204-5738-PF(Nl).ptd 第35頁
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