TW200415444A - Radiation-sensitive resin composition - Google Patents

Radiation-sensitive resin composition Download PDF

Info

Publication number
TW200415444A
TW200415444A TW092129933A TW92129933A TW200415444A TW 200415444 A TW200415444 A TW 200415444A TW 092129933 A TW092129933 A TW 092129933A TW 92129933 A TW92129933 A TW 92129933A TW 200415444 A TW200415444 A TW 200415444A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
acid
group
ester
radiation
compound
Prior art date
Application number
TW092129933A
Other languages
English (en)
Other versions
TWI317460B (zh
Inventor
Yukio Nishimura
Hiroyuki Ishii
Isao Nishimura
Eiichi Kobayashi
Original Assignee
Jsr Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Jsr Corp filed Critical Jsr Corp
Publication of TW200415444A publication Critical patent/TW200415444A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI317460B publication Critical patent/TWI317460B/zh

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/039Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/039Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists
    • G03F7/0392Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists the macromolecular compound being present in a chemically amplified positive photoresist composition
    • G03F7/0397Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists the macromolecular compound being present in a chemically amplified positive photoresist composition the macromolecular compound having an alicyclic moiety in a side chain
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/0046Photosensitive materials with perfluoro compounds, e.g. for dry lithography
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/114Initiator containing

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)

Description

200415444 Ο) 玖、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明乃輻射線感應樹脂組成物有關。更詳言之,本 發明係使用KrF準分子雷射、ArF準分子雷射等遠紫外光 、電子束等帶電粒子線、同步加速器輻射線等之X光一類的 各種輻射線進行微細加工上有用之做爲化學增幅型光阻適 用之輻射線感應樹脂組成物有關。 【先前技術】 製造集成電路元件所代表之微細加工之領域裡,爲獲得 更高集成度,最近必須採用能在0 · 2 0 μιη以下水平可以微細 加工之蝕刻技術。 然而,已往之蝕刻技術工程中,一般採用之線等之近紫 外光做爲輻射線,據說這種近紫外光極難達成〇 . 2 5 μιη以下 之微細加工。 所以,爲達成〇·20 μιη以下水平之微細加工,探討使用 波長更短之輻射線。這種短波長之輻射線之例舉如水銀燈 之明線光譜、準分子雷射所代表之遠紫外光、X光、電子束 等,其中,特別以KrF雷射(波長24 8nm),或ArF準分子雷 射(波長I 9 3 nm )受到注目。 適用於這種準分子雷射照射之輻射線感應樹脂組成物 已有很多報告,例如利用具有酸解離性官能基之成分以及 由輻射線之照射(下文中稱爲「曝光」)而能產酸之成分 (下文中稱爲「產酸劑」)所造成化學增幅效果之組成物 (2) (2)200415444 (下文中稱爲「化學增幅型輻射線感應樹脂組成物」)。 上述化學增幅型輻射線感應樹脂組成物之例舉如曰本 專利之特開昭59-45 439號公報所揭示之含具羧酸第三丁酯基 或苯酚第三丁基羧酸酯基之聚合物和產酸劑之組成物。該組 成物藉曝光所產生之酸之作用,聚合物中所存在之第三丁酯 基或第三丁基羧酸酯基解離,該聚合物含有由羧基或酚性羥 基所構成酸性基,而利用光阻被覆膜之曝光領域成爲易溶於 鹼性顯像液之現象而達成目的。 然而,已往之大多數之化學增幅型輻射線感應組成物 乃係以苯酚系樹脂爲基材者。含有這類樹脂時,使用遠紫 外光爲輻射線時,由於樹脂中之芳香族環而遠紫外光會被 吸收,所以曝光時之遠紫外光無法充分到達光阻被膜之下 層部位之缺點存在。因此,光阻被膜之上層部位曝光量較 多,下層部位較少,顯像後之光阻圖案上層部位較細,而 越到下層部位呈粗大台形狀,無法獲得充分之解像度等問 題存在。再加上顯像後之光阻圖案呈台形狀時,下一個工 程,也就是蝕刻或打入離子等時,無法達成所欲尺寸上之 精度,而造成問題。並且光阻圖案上部之形狀倘若不是長 方形,乾蝕刻所造光阻之消失速度變大,難於調控蝕刻條 件之問題發生。 另一方面,光阻圖案之形狀,可藉提高光阻被覆膜之 輻射線透過率而得以改善。例如由聚甲基丙烯酸甲醋所代 表之(甲基)丙;1¾酸系樹脂,對於遠紫外光的透明性高 因此,由輻射線透過率之觀點而言,乃係非常理想之樹脂. -6- (3) (3)200415444 例如日本專利之特開平4-22646 1號公報中揭示有使用甲基 丙烯酸酯系樹脂之化學增幅型輻射線感應樹脂組成物。然 而,該組成物在微細加工性能方面雖然優異,但是因爲不具 有芳香族環,所以有乾蝕刻耐性不良之缺點,在此情形下, 要進行高精度之飩刻加工就很困難,所以無法說是兼有對 於輻射線之透明性和乾蝕刻耐性兩種優點之樹脂組成物。 另外,由化學增幅型輻射線感應樹脂組成物所構成之 光阻,已知有不影響及對於輻射線之透明性,且能改善乾 蝕刻耐性之一種方法,乃係組成物中之樹脂成分以導入脂 肪族環替代芳香族環。例如日本專利之特開平7-23 45 1 1號公 報揭示有使用具有脂肪族環之(甲基)丙烯酸酯系樹脂之 化學增幅型輻射線感應樹脂組成物。 然而,該組成物中樹脂成分所具有之酸解離性官能基, 通常使用被已往之酸比較容易解離之基(例如四氫哌喃基 等縮醛系官能基)或被酸較難解離之基(例如第三丁酯基 、第三丁基羧酸酯基等之第三丁基系官能基)。具有前者 之酸解離性官能基之樹脂成分時,該光阻之基本物性,特別 是感應度或圖案形狀雖良好,但是做爲組成物之保存安定性 有缺點。又,具有後者之酸解離性官能基之樹脂成分時,相 反地,保存安定性雖良好。但是光阻之基本物性,特別是感 應度或圖案形狀有受損之缺點。另外,由於組成物中之樹 脂成分中導入有脂肪族環,所以樹脂本身之疏水性非常高, 對於基板之粘接性方面發生問題。 因此,對應於半導體元件之微細化傾向而硏究開發之觀 (4) (4)200415444 點而言,適用以遠紫外光所代表之短波長之輻射線有關化 學增幅型輻射線感應樹脂組成物中,已探討對於輻射線之 透明性高,且具有優異之光阻之基本物性有關新穎樹脂組成 物之硏發(例如可參考日本專利特開2002-72484號公報) 。然而,目前爲止,尙無充分滿足上述功能之樹脂成分被 硏發出來。 【發明內容】 本發明之目的在提供對於輻射線之透明性高,而且感 應性' 解像度、乾飩刻耐性、圖案形狀等做爲光阻之基本 物性優異,特別是顯像上缺點較少之輻射線感應樹脂組成 物。 本發明之內容如下: <1>含有[A]含有下列一般式(1-1 )所示重複單位(1] ),而鹼難溶性或不溶性,由於酸作用而成爲鹼易溶性之樹 脂,以及(B )輻射線感應產酸劑爲特徵之輻射線感應樹 脂組成物, (5)200415444
α-ΐ)
(式中,RIa示氫原子、甲基U4經嫁基、或全氟院 基、χ,χ2係各自獨自獨立示氫原子、氟原子、Cl〜C4烷基 、或1〜4氟烷基、/示0〜5之整數,n示0〜2之整數)。 <2〉如上述<1>項所記載之輻射線感應樹脂組成物,其 中該樹脂爲更含有下列一般式(^2)所示重複單位(1-2) R*lb \ (1-2) V^R1c Φ (式中,RIb示氫原子示或甲基,又,式中,各個Ric互爲各 自獨立示c4〜c2。之一價脂環式烴基或其衍生物,或直 鏈狀或岐鏈狀烷基,且能滿足下述(1 )或(2 )之條件, (1) Ric中,至少一個爲c4〜C2G之一價脂環式烴基, (2) 任意二個R1C互相結合,包括分別所結合之碳原子 形成C4〜C2G之二價脂環式烴基或其衍生物,其他之R!(:示 C4〜C2〇—價脂環式烴基或其衍生物,或直鏈狀或岐鏈 狀烷基。 200415444 < 3 >如上述< 2 >項所記載之輻射線感應樹脂組成物,其 中上述一般式(1-2 )中之C ( R】c ) 3係卜烷基-1-環烷基、 2-院基-2-金剛烷基、(卜烷基-卜金剛烷基)烷基、或( 1-烷基-1-降箔基)烷基。 <4>如上述<1>項所記載之輻射線感應樹脂組成物,其 中上述樹脂係不含內酯環者。 <5>如上述<4>項所記載之輻射線感應樹脂組成物,其 中以構成上述樹脂之總重複單位之合計爲1 〇 〇莫耳%時,上 述重複單位(1-1)之含率爲40〜90莫耳%。 <6>如上述<1>項所記載之輻射線感應樹脂組成物,其 中該樹脂爲再含有下述一般式(1-3)所示重複單位(1_3
(式中,Rlb示氫原子或甲基)。 <7>如上述<6>項所記載之輻射線感應樹脂組成物,其 中以構成上述樹脂之總重複單位之合計爲〗〇〇莫耳%時,上 述重複單位(1-1)之含率爲5〜25莫耳%。 <8>如上述<1>項所記載之輻射線感應樹脂組成物,其 中該樹脂爲再含有下列一般式()所示重複單位( -10- (7)200415444
(Μ) (式中,R】b示氫原子或甲基,Α示直鏈狀或岐鏈狀烷 基或伸烷基,或C4〜C2G之一價或二價脂環式烴基或其衍生 物,η示0〜2之整數。 (9 )如上述<1:>項所記載之輻射線感應樹脂組成物, 其中再含[C]酸擴散抑制劑。 本發明之輻射線感應樹脂組成物乃做爲能感應例如 KrF準分子雷射(波長爲248nm ) 、ArF準分子雷射(波長 爲1 93nm )等所代表遠紫外光之活性光線之化學增幅型光阻 甚爲有用。又,本發明之輻射線感應樹脂組成物對於輻射 線之透明性高、解像度高、感應度、圖案形狀、蝕刻耐性 優異之特性。又,本發明之輻射線感應樹脂組成物在蝕刻 後圖案之變動較少,特別是對於顯像液之溶解性良好,具有 不容易發生顯像缺陷之特徵,對於基板之粘接性和裾形狀也 良好。因此,本發明之輻射線感應樹脂組成物在今後更需 求微細化之集成電路元件之製造上極爲適用。 又,樹脂[A]含有重複單位(1-1 )和特定其他重複單 位時,可以更加提升光阻圖案之解像功能。 【實施方式】 本發明之實施形態更詳述如下。 -11 - (8) (8)200415444 下列說明中所使用多環型脂環式架構之名稱有關命名 依據如下所示。
上述(A )以雙環[2·2·1]庚烷、(Β )以四環 [6.2·1·13’6·02,7]十二烷、(C )以三環[5.2.1 ·02 2,6]癸烷、(D )以三環[4.2.1.〇3’7]壬烷分別命名之。下列說明中,皆依照 上述(Α)〜(D)之命名方法而記述。 (1 )樹脂[Α] 本發明之輻射線感應樹脂組成物中所含樹脂[Α],乃含 有上述一般式(1-1)所示重複單位(下文中稱爲重複單位 (1 -1 )」)之聚合物。 又,本發明有關之樹脂[Α]爲鹼不溶性或鹼難溶性,而 由酸之作用成爲鹼易溶性之樹脂。上述「鹼不溶性或鹼難 溶性」乃指含有樹脂[Α]之本發明之輻射線感應樹脂組成物 所形成之光阻被覆膜形成光阻圖案之際所採用鹼性顯像處 理條件下,替代該光阻被覆膜而使用僅由樹脂[Α]形成之被 覆膜施與顯像處理時,該被覆膜之初期膜厚之50%以上在顯 像處理後會殘存之性質。 -12 - 200415444 Ο) 構成上述重複單位(1-1)之取代基Rla示選擇自氫原 子、甲基、羥烷基和全氟烷基中之一種。例如 氫原子、甲基、乙基、單氟甲基、二氟甲基、三氟甲基、 羥甲基、2 -羥乙基等。其中以氫原子、甲基、三氟甲基、 羥甲基爲較佳。 構成上述重複單位(1-1)之1]和又2可互自獨立示氫 原子、每原子、Ci〜C4院基和C】〜C4氣院基中選擇之一種, 上述烷基之例舉如甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基 、2-甲基丙基、卜甲基丙基、第三丁基等。又,氟烷基之 例舉如單氟甲基、二氟甲基、三氟甲基、卜氟乙基、1, 2_ 二氟乙基、1,1, 2, 2 -四氟乙基等。上述之乂!以氫原子、氟 原子、甲基和三氟甲基爲較佳,上述之X2以氟原子和三氟 甲基爲較佳。又,上述Xl和上述X2之較佳組合以上述义!爲 S原子時,上述爲三氯甲基,又,上述X!爲氣原子時, 上述X2爲三氟甲基爲較佳。 又,上述一般式(Li)中之 < 示0〜5之整數,其中以 〇〜3爲較佳。又,n示〇〜2之整數,其中以0或1爲較佳。 具有上述取代基汉13、乂1和又2之重複單位(1-1)之單 體之例舉如下列一般式(π)所示化合物。 (10) 200415444 〇
(式中,Rla示Μ原子、甲基、C】〜C4經院基、或Cl〜C4全氣 院基、Χι和X2各自獨立示氯原子、氣原子、Cl〜C4院基、或 氟烷基、< 示0〜5之整數^示0〜2之整數)。 上述一般式(II)所示化合物,例如按照下列所示製 造方法而製成。 <;1>以5- ( 2, 2-雙三氟甲基-2-羥乙基)雙環[2·2·1]庚-2、 烯爲原料化合物,使用甲酸進行麥克爾加成反應而製得甲 酸-5-(2,2_雙三氟甲基-2-羥乙基)雙環[2.2.1]庚-2(3)、 基酯。(上述中「-2 ( 3 )-」乃指其結合位置可能屬2-位置 或3-位置之異構物,下文中皆同。) < 2 >其後,將〈1 >所得化合物用碳酸納等驗彳了加水分解 而得5_(2,2-雙三氟甲基_2-羥乙基)雙環[2.2.1]庚烷-2(3 ),。 <3 >其次,將<2>所得化合物以2當量之例如正丁基鋰反 應而蓋住兩個醇,在一當量之(甲基)丙烯酸之醯氯化物 -14 - (11) 200415444 和驗之存在下進行脫氯化氫反應,選擇性地僅將2 _位置和/ 或3-位置之醇加以(甲基)丙烯酸化,而具有重複單位( 卜1 )之化合物。 具有上述重複單位(κ )之單量體中,特別以下列 化合物爲最佳。
上述樹脂[A]中,可僅含有一種上述重複單位(]_;[) 也可以含有2種以上之上述重複單位(1 _])。 - 15- (12) 200415444 樹脂[A]可以僅由上述重複單位()而構成,也可 以由上述重複單位(b i )和其他重複單位而構成,但以 具有其他重複單位之共聚物爲較佳。當後者時,該其他重 複單位之種類並無特別限制,又,上述重複單位() 己里隨重複單位之種類等而不同,對於總重複單位計,通 常以含5〜90莫耳%爲宜,其中以1〇〜8〇莫耳%爲較佳,尤以 10〜60莫耳%爲更佳,最佳爲10〜50莫耳%。當上述重複單 位(1 -1 )含率未滿1 〇莫耳%時,光阻對溶劑之溶解性,對 於基板之粘貼性,光阻之顯像性等有降低傾向。相反地, 當超過90莫耳%時,光阻圖案之解像性有降低之傾向。 其他重複單位之例舉有下列一般式(ΠI )和(IV ) 所示重複單位。
(式中,R2示一價有機基,η示〇〜2之整數)。
(Ν) -16 - (13) (13)200415444 (上示,R3示氫原子、甲基,CrQ羥烷基、或Crh全氟 烷基、R4示一價有機基。) 構成上述一般式(III )所示重複單位(以下稱爲「重 複單位(2 )」)之一價有機基R2並無特限制限,例如下 列一般式(2-1 )〜(2-4 )所示有機基。
(2-1) (2-2) (2-3) (2-4) (有機基(2-1)中之X4DX2可各自獨立示氫原子、氟原子 、C!〜C4完基、或匕〜(:4氟烷基,η示0〜5之整數。有機基(2- 2)中之115示直鏈狀、岐鏈狀或環狀架構之2價有機基,該 時,X示氫原子、羥基、羧基、硝基、氰基或胺基、或無R5 基,該時,X示羧基或氰基。有機基(2-3)中之R6,各自 獨立示C4〜C2G—價脂環式烴基或其衍生物,或完基或 其衍生物。有機基(2-4 )中之R7示C1〜6烷基或其衍生物, C5〜10環烷基或其衍生物,C4〜C2。一價多環狀脂環式烴基或 其衍生物,或具有內酯環之基)。 上述重複單位(2 )中,當取代基R2爲上述有機基( 2-1 )時,乂!和X2爲烷基時,其具體例舉有甲基、乙基、正 丙基、異丙基、正丁基、2-甲基丙基、1-甲基丙基、第三 丁基等。又,X 1和x2爲氟烷基時之例舉如單氟甲基、二氟 -17 - (14) (14)200415444 甲基、三氟甲基、1-氟乙基、丨,八二氟乙基、丨,2,厂四 m乙基等。上述X]中以氫原子、氟原子、三氟甲基爲較佳 。上述X2中,以氫原子、氟原子、三氟甲基爲較佳。因此, 上述有機基(2-1 )中,在b位置和主鏈結合時,以羥甲基 、2 -羥甲基、3 -羥丙基、^氟-丨·羥甲基、丨,卜二氟·卜羥甲 基、1,2 -二氟_2 -羥甲基、丨,丨,2,2_四氟_2•羥甲基、2_三 氟甲基-2-經乙基、2, 2-雙三氟甲基-2-羥乙基爲較佳。 上述重複單位(2)中,取代基&2爲上述有機基(2_2 )時,構成上述取代基r22r5,當其存在時,有伸甲基和 伸乙基、正-伸丙基、異伸丙基、正-伸丁基、異伸丁基等 之伸院基;環戊院、環己烷、環庚烷、環辛烷等環烷基由 來之二價有機基;金剛烷由來之二價有機基;雙環[2.2.1;]庚 烷由來之二價有機基;四環[6.2.1.1.3,6.〇2,7]十二烷由來之 二價有機基等。其中以伸甲基、伸乙基、金剛烷由來之二 價有機基、雙環[2.2.1]庚烷由來之二價有機基爲較佳。 構成上述有機基(2-2 )之X有氫原子、羥基、羧基、 硝基、氰基、胺基等。其中以氫原子、羥基、硝基爲較佳 〇 又,上述有機基(2-2)中,當R5不存在時,上述X直 接成爲取代基R 2 ,其例如殘基、氰基。 因此,上述有機基(2-2 ),以結合於氧原子之殘基 而表示時,例如氫原子、羥甲基、2 -羥乙基、3 -羥丙基、 3-羥基金剛烷小基、5 ( 6 )-羥基雙環[2.2.1]庚-2-基、9 (10)-羥基四環[6.2.1.].3,6.02,7]十二碳-4-基、羧基、羧 -18- (15)200415444 甲基、2_羧乙基、 )-羧基雙環u [6.2· 1 · 1 ·3,6.〇2,7] + h氰丙基、3、氰_ 庚-2-基、9 ( 1〇 ) 等。 3 -羧丙基、3-羧基金剛烷-卜基、5 (6 •2.1]庚-2-基、9 ( 1〇 )-羧基四環 〜碳-4-基、氯基、氛甲基、2 -氨乙基、 金剛烷-卜基、5 ( 6 )-氰基雙環[2.2.1] 、氰基四環[6.2.1.1.3,6.〇2,7]十二碳-4-基 上述重複簞〆 # k ( 2 )中,取代基R2爲上述有機基(2-3 )時,再加以取件% X 基R6爲脂環式烴基時之例舉有環丁基、環 戊基、環己基 ' 擦 &庚基、環辛基等。又,其衍生物之例舉有 所結合之氫原子N ^ f以羥基;殘基;氧基(即=〇基);羥甲基、1-經乙基、2-經7发 &乙基、羥丙基、2-羥丙基、3-羥丙基、2-羥 了基' 丁基、羥丁基等Ci〜C4羥烷基;甲氧基、乙氧 基、正丙氧基、異丙氧基、正丁氧基、2_甲基丙氧基、1-9¾丙氧基 '第三丁氧基等c]〜匕烷氧基;氰基;氰甲基、2_ 氯乙基、3-氰两基、4-氰丁基等之c2〜5氰烷基等一種以上 取代之基等。該取代基中,以羥基、羧基、羥甲基、氰基 '氰甲基爲較佳。 又,取代基R6爲烷基之例舉如甲基、乙基、正丙基、 異丙基、正丁基、1-甲基丙基、2 -甲基丙基、第三丁基等 。該取代基中以甲基、乙基爲較佳。又,其衍生物之例舉 有所結合之氫原子以羥基;殘基;氧基(即=0基);羥甲基;1-羥乙基、2 -羥乙基、卜羥丙基、2 -羥丙基、3 -羥丙基、2 -羥 丁基、3-羥丁基、羥丁基等之(^〜04羥烷基;甲氧基、乙氧 基、正-丙氧基、異丙氧基、正丁氧基、2 -甲基丙氧基、]- (16) 200415444 甲基丙氧基、弟二丁氧基等之Cl〜C4院氧基;氯基;気甲基、 2-氰乙基、3-氰丙基、4-氰丁基等C2〜5氰烷基等之一種以上 所取代之基等。該取代基中,以經基、殘基、經甲基、氰 基、氰甲基爲較佳。 又,上述有機基(2-3)中之各取代基R6,其3個皆可 爲相同,或3個中有2個相同,或3個皆爲不同之基所構成。 上述3個中有2個相同,而殘餘之一個取代基R6爲脂環 式烴基時之有機基(2-3 )所示基如下:
(6-1)
(上述取代基(6-3 )和(6-4 )中,〇示0〜2之整數。) 又,上述有機基(2-3),其中2们取代基5^6得相互結 合,二者合倂成爲C4〜C2()二價脂環式煙基或其衍生物亦可 行。其例舉如下:
(6-5) (6-6) (6,7) (6-8) -20- (17) (17)200415444 (上述取代基(6-7 )和(6-8 )中,η示0〜2之整數)。 具有上述構造之基之例舉如雙環[2.2.1]庚烷、三環 [5.2.1.02,6]癸烷、四環[6.2.1.ΐ·3,6.〇2,7]十二碳等所構成基 等。 因此,上述有機基(2-3 )以結合於酯基之氧原子之 殘基-C ( R6 ) 3之形態而表示時,例如第三丁基、3 _甲基-丁基、2 -甲基-2-丁基、2 -乙基-2-丁基、3 -乙基-3-丁基 、3 -甲基-3-戊基等之三烷基甲基; 2·甲基金剛烷-2-基、2-甲基-3-羥基金剛烷-2-基、2_ 甲基-3-氰基金剛烷-2-基、2-乙基金剛烷-2-基、2-乙基 羥基金剛烷-2-基、2-乙基-3-氰基金剛烷基、8_甲基三 環[5.2.1.02,6]癸烷-8-基、8-甲基-4-羥基三環[5.21 〇2,6]癸 烷-8-基、8·甲基-4-氰基三環[5.2102,6]癸烷-8_基、8•乙基 三環[5.2·1·02,6]癸烷-8-基、8-乙基—羥基三環[5 2丨〇2,6]癸 院-8-基、8 -乙基-4-氣基二環[5.2.1.02,6]癸院基、卜甲基 環戊基、卜乙基環戊基、卜甲基環己基、乙基環己基、2-甲基環戊基、2-乙基環戊基、2-甲基雙環[2.21]庚_八基、厂 甲基-5 ( 6)經基雙環[2.2.1]庚-2 -基' 2 -甲基-5-氰基雙環 [2.2.1]庚-2-基、2-乙基雙環[2.2.1]庚基、2•乙基j ( 6) 羥基雙環[2·2.1]庚-2-基、2-乙基-5 ( 6),氰基雙環[2 21] 庚冬基、4_甲基-四環[6.2.1.1.3,6.〇2,7]十二碳4基、4_甲 基-^:^-經基四環化^“…^十二碳冰基^-甲 基-9 〇〇) ·氰基四環[6.2.U.U.0U]十二碳冰基、扣乙 基-四環[6·2·1·] Λ6.〇2,7]十二碳-4-基、扣乙基·9 ( ]〇 ) ·經 -21 > (18) (18)200415444 基四環[6·2.1.1·3,6·02,7]十二碳-4-基、4-乙基-9 ( 10)-氰 基四環[6.2.1.1.3’6.02’7]十二碳-4-基等之烷基環烷基; 1-環戊基-1-甲基乙基、卜環己基-1-甲基乙基、1-環 庚基-1-甲基乙基、1-雙環[2.2.1]庚-2-基-卜甲基乙基、1-三 環[5.2.1.02,6]癸-8-基-卜甲基乙基、卜四環[7.5.2.;1.0()’7]十二 碳-4-基-1-甲基乙基、1-金剛院-1-基-1-甲基乙基、1- (2 ( 3)-羥基環戊基)-卜甲基乙基、1- (3 (4)-羥基環己基 )-卜甲基乙基、1-(3(4)-羥基環庚基)-1-甲基乙基、 1- ( 5 ( 6 )-羥基雙環[2·2·1]庚-2-基)-卜甲基乙基、1- ( 4-羥基三環[5.2.1.02,6]癸-8-基)-卜甲基乙基、1-(9(10) -羥基四環[6.2.1.1.3,6.02,7]十二碳-4-基)-卜甲基乙基、1-( 3 -羥基金剛烷-卜基)-卜甲基乙基、1 - ( 2 ( 3 )-氰基環戊 基卜甲基乙基、1-(3(4)-氰基環己基)-1-甲基乙基 、1-(3(4)-氰基環庚基)-1-甲基乙基、1-(5(6)-氰 基雙環[2.2.1]庚-2-基)-卜甲基乙基、1-(4-氰基三環 [5·2·1.02,6]癸-8-基)-1-甲基乙基、1- ( 9 ( 10)-氰基四環 [6.2.1.1.3’6.02’7]十二碳-4-基)-1-甲基乙基、1-(3-氰基金 剛院基)-1-甲基乙基等之—院基環院基甲基; 1,1-二環戊基乙基、1,1-二環己基乙基、1,1-二環庚 基乙基、1, 1-二雙環[2·2·1]庚-2-基乙基、1, 1-二•三環 [5.2.1.02,6]癸-8-基乙基、1,卜二(四環[6.2.1.1.3,6.02,7]十 一碳-4 -基)乙基、1,1- 一金剛院-1-基乙基、1,1- — ( 2 ( 3 )-羥基環戊基)乙基、1,1 -雙(3 ( 4 )-羥基環己基) 乙基、],卜二(3(4)-羥基環庚基)乙基)、1,1-二(5 -22 - (19) 200415444 (6)-羥基雙環[2·2·1]庚-2-基)乙基、1,1-二(4-羥基三 環[5.2.1 ·02’6]癸-8-基)乙基、1,;[-二(9 ( 10 )-羥基四環 [6.2.1.1.3,6.02’7]十二碳-4-基)乙基、1,1-二(3-羥基金 剛烷-卜基)乙基;1,卜二(2(3)氰基環戊基)乙基、1, 1-二(3(4)氰基環己基)乙基、1,1-二(3(4)-氰基 環庚基)乙基、1, 1-二(5(6)-氰基雙環[2.2.1]庚-2-基
)乙基、1,1-二(4-氰基三環[5.2丄02,6]癸-8-基)乙基、 1,卜二(9(10)-氰基四環[6.2.1.1.3,6.02,7]十二碳-4-基) 乙基、1,卜二(3-氰基金剛烷-卜基)乙基等之烷基二環 烷基甲基; 上述所列舉之有機基中,以第三丁基、2-甲基-2-丙基 、2-甲基-2-丁基、2-乙基-2-丁基、3-乙基-3-丁基、2-甲 基金剛烷-2-基、2-甲基-3-羥基金剛烷-2-基、2-乙基金剛 烷_2_基、8-甲基三環[5·2·1.02’6]癸-8-基、8-乙基三環
[5.2.1.02.6] 癸-8-基、1-甲基環戊基、1-乙基環戊基、1-甲基 環己基 ' 卜乙基環己基、2-甲基雙環[2.2.1]庚-2-基、2-乙基 雙環[2.2.1]庚-2-基、4-甲基-四環[6.2.1.1.3’6.02,7]十二碳-4-基、4-乙基-四環[6.2.1.1.3’6.02’7]十二碳-4-基、1-環己 基-1-甲基乙基、1-雙環[2.2.1]庚-2-基-1-甲基乙基、1-三環 [5.2.1.02.6] 癸-8-基-1-甲基乙基、卜四環[6.2.1.1.3,6·02,7]十 二碳-4-基-卜甲基乙基、1-金剛烷-1-基-卜甲基乙基、1-( 2(3)-羥基環戊基)-1-甲基乙基、1-(3(4)-羥基環己 基)-1-甲基乙基、K(3 (4) ·羥基環庚基)-1-甲基乙基 、1 - ( 3 -羥基金剛烷-1 ·基)-甲基乙基、1,二環己基 -23- (20)200415444 乙基、1, 1-二雙環[2 2 [5.2.1.02,6]癸-8-基乙基、 U庚基乙基、1,1-二·三環 I 卜二(四環[6.2·1.1.3,6.02,7]十 二碳-4 -基)乙基、1】一企_户 ,1 一金剛基乙基爲較佳。 上述重複單位(2 ) φ 世1¾ ^ # 」中,田取代基R2爲上述有機基( 2 -4 )時,構成上述取代其R。^& π基R2 z取代基R7係烷基之具體例 舉如甲基、乙基、正丙基、異丙g、正丁基、2·甲基丙基 '1_甲基丙基 '正戊基、正己基等。該取代基中,以甲基 、乙基爲較佳。又,其衍生物有其所結合之氫原子以經基 旧基;氧基(即,=0基);經甲基、U乙基、2_經乙基、 1-羥丙基、2-羥丙基、3_羥丙基、2_羥丁基、%羥丁基、扣 羥丁基等之C^C4羥烷;甲氧基、乙氧基、正丙氧基、異丙 氧基、正丁氧基、2 -甲基丙氧基、卜甲基丙氧基、第三丁 氧基等之C!〜Cd完氧基;氰基;氰基甲基、2_氰基乙基、3-氰 基丙基、4_氰基丁基等之㈡〜5氰基烷基等之一種以上取代 而成之基等。 構成上述取代基R2之取代基R?爲環烷基時,其具鳍例 舉如環戊基、環己基、環庚基、環辛基等。該取代基中 以環戊基、環己基、環庚基和環辛基爲較佳,又,其衍生 物有其所結合的氫原子以羥基;羧基;氧基(即,=〇基);辦 甲基、卜經乙基、2 -經乙基、1-經丙基、2 -經丙基、3、殘汽 基、2-羥丁基、3-羥丁基、4-羥丁基等之C】〜C4羥烷基;申 氧基、乙氧基、正丙氧基、異丙氧基、正丁氧基、甲基 丙氧基' 1-甲基丙氧基、第三丁氧基等之Ci〜C4烷氧基;氣 碁;氰基甲基、2_氰基乙基、氰基丙基、4_氰基丁基等之 -24 - (21) 200415444 C 2〜5氰基烷基等之一種所取代之基等。 又,構成取代基R2之取代基R7爲多環狀脂環式烴基時, 其例舉如金剛烷、雙環[2.2.1]庚烷、7,7 -二甲基雙環 [2.2.1]庚烷、三環[5.2.1.02,6]癸烷、四環[6.2.1.1.3,6.02,7] 十二碳烷等之多環狀脂環式烴由來之基等。該取代基中, 以金剛烷、雙環[2.2,1]庚烷、7,7-二甲基雙環[2·2·1]庚烷 、三環[5 ·2.1 ·02,6]癸烷由來之基爲較佳。又,其衍生物有其 戶斤結合之氫原子以上述例舉之官能基等之一種以上取代之 基等。 又,構成上述取代基r2之取代基&7也可具有下列內酯 環之基。
/ ▽、 (7-3) (上述取代基(7」)中,取代基Rg示氫原子、Cl〜c5烷基 、1 氧基,Ζτρ;伸甲基、二甲基伸甲基、氧原子或 硫原子°上述取代基(7 - 2 )中,取代基R9示氫原子、 C】〜C5丨兀基、或Ci〜C5烷氧基。η示0〜2之整數。上述取代基 ()中,取代基Rl〇示氫原子、c】〜c5烷基、或C】〜05烷 氧基,V示伸田| 中基。又,m示0〜4之整數。) ^構成上述取代基(7 · 1 )之取代基R 8,構成上述取代 —(7 2 )之取代基R9和構成上述取代基(7 - 3 )之取代基 -25- (22) (22)200415444 R]〇所使用之院基之例舉如甲基、乙基、正丙基、異丙基 、正丁基、1-甲基丙基、2-甲基丙基、第三丁基、正戊基 等。又,構成上述取代基(7-1 )之取代基R8構成上述取 代基(7-2 )之取代基R9和構成取代基(7-3 )之取代基 所使用之烷氧基之例舉如甲氧基、乙氧基、正丙氧基 、異丙氧基、正丁氧基 '卜甲基丙氧基、2-甲基丙氧基、 第三丁氧基、正戊氧基等。 又,構成上述取代基(7-1 )之Z也可以不存在。又, 構成上述取代基(7-2 )之V也可以不存在。 因此,上述有機基(2-4)之較佳例舉以結合於酯基之 氧原子之殘基而表示時,例如甲基、乙基、正丙基、環戊 基、環己基、金剛烷-卜基、雙環[2.2.1]庚-2-基、7,7-二甲 基雙環[2·2.ι]庚-卜基、三環[s·2·1·02,6]癸基、四環 [6.2.1 ·1·3,6.02,7]十二碳-4-基等之烷基; 具有5-氧基-4-鸣基-三環[4.2.1.03’7]壬-2-基、9-甲氧基 羰基-5-氧基-4-哼基-三環[4.2.1.03’7]壬-2-基、7-氧基-6-口等 基-雙環[3.2.1.]辛-4-基、2-甲氧基羰基-7-氧基-6-Df基雙環 [3.2.1]辛-4-基、2-氧基四氫哌喃基、4-甲基-2-氧基四氫 哌喃-4-基、4 -乙基-2-氧基四氫哌喃_4_基、4 -丙基-2-氧基四 氯喊喃-4·基、5·氧基四氣呢喃基、2*· —甲基-5-氧基四 氫哌喃-3-基、4, 4-二甲基-5-氧基四氫哌喃基、2-氧基四 氯脈喃-3-基、4,4 - 一·甲基-2·氧基四氣卩底喃-3-基、5,5 - 一甲 基-2-氧基四氫卩jfx喃-3-基、2 -氧基四氫哌喃-3-基、5 -氧基四 氫哌喃-2 -基甲基、3 , 3 -二甲基-5 -氧基四氫哌喃-2 -基甲基、 _26- (23) 200415444 4,4-二甲基-5-氧基四氫呋喃-2-基甲基等之內酯環之基等。 具有重複單位(2 )之單體之例舉如下: 5-羥甲基雙環[2.2·1]庚烯、5- (2·羥乙基)雙壞 [2· 2· 1]庚-2-烯、5- ( 3-羥丙基)雙環[2.2.1]庚-2-烯、5- (
氟-1-羥甲基)雙環U.2.1]庚-2-烯、5_(1,1-二氟-1-羥甲基 )雙環[2.2.1]庚-2 -烯、5- ( 1,2 -二氟-2 -羥甲基)雙壞 [2·2」]庚烯、5· ( 1, 1,2,2-四氟_2_羥甲基)雙環[2.2.η 庚-2-燃、5- (2-三氟甲基-2-羥乙基)雙環[221]庚-2•烯、 5- ( 2,2-雙三氟甲基羥乙基)雙環[221]庚-2•烯、雙環 [2.2.1] 庚-2-烯、5-甲基雙環[2.2.1]庚_2_烯、5-乙基雙環 [2.2.1] 庚-2-烯、5-丁基雙環[2.21]庚_2_烯、5_己基雙環
[2.2.1] 庚-2-烯、5_辛基雙環[221]庚_2_烯'5_羥基雙環 [2.2·1]庚_2_烯、雙環[2.21]庚_2_烯羧酸(3_羥基金剛 欠兀-1-基)酯、雙環[2.2.1]庚-2-烯-5-羧酸(5 (0) _羥基雙 環[2.2.1]庚-2-基)酯、雙環[2 21]庚烯羧酸(9 ( μ ),基四環〇2,7]十二碳冰基)酯、雙環[2·2ι] 燒5 -殘、雙環[2.2 · 1 ]庚-2 -嫌_ 5 -乙酸、雙環[2.2 1 ] 庚烯乙烷羧酸、雙環[2 21]庚_2_烯丙酸、5_氰基雙 環[2·2·Π庚冬嫌、氰基甲基雙環[2.21]庚1燒、5_ (2· 氰基乙基)雙環[2·2.·_2,、5_(3_氰基丙基)雙環 [2·2·1]庚-2-烯。 一」邮 又艰L二厶1 ,羧酸(2_甲基·2_丙基)酯、雙環[2·2 ι]庚烯·丨 (2-甲基-2-丁基,2·乙基_2_ 丁基)醋、雙環[2·2ι]庚 -27· (24)200415444 5-羧酸(3-乙基-3-丁基 2-甲基金剛烷-2基)酯 基-3-羥基金剛烷-2-基) 2 -乙基金剛烷· 2 -基)醋、 基三環[5·2·1·02’6]癸-訌基 酯、雙远[2.2.1]庚_2-烯_5_羧酸( 雙環[2.2.1]庚燒殘酸(2 -甲 酯、雙環U.2.1]庚_2-烯羧酸( 雙環[2.2.1]庚烯羧酸(8 -甲 )酯、雙環[2.2.1]庚-2-烯羧酸 雙環[2.2.1]庚-2-烯- (8-乙基三環[5·2·1.〇2,6]癸-8-基)酯 5-殘酸(1-甲基環戊基)醋、雙環[2 2 im_m_ ( 1-乙基環戊基)酯、雙環[2 21]庚_2_烯_5_ 己基)醋、雙環咖]庚待5-隨(1_乙基環己:= 、雙瓌[2·2·1]庚-2-稀-5,酸(2·甲基雙環[2.21]庚‘2_基) 酯、雙環[2.2.1]庚-2务5•殘酸(2•乙基雙環[22.1浪士基 )醋 又環l2.2·1]庚-2-嫌-5-殘酸(4-甲基-四環 Μ·2·1·1· ·〇 ]十一碳基)酯、雙環[2.2.1]庚 -燃 _5· 羧酸(4-乙基-四環[6.2.1丄3,6〇2,7]十二碳1基)酯、雙環 [2.2‘1]庚-2-烯·%羧酸(卜環己基·卜甲基乙基)酯、雙環 [2 · 2 · 1 ]庚-2 -綠-5 -竣酸 1-雙環[2·2·1]庚-2-基-丨·甲基乙基) 酉曰、I環[2·2·1]庚嫌-5-錢酸(1-三環[5·2.1·〇2,6]癸基-1-甲基乙基)酯、雙環[2·21]庚·2•嫌·5_殘酸(卜四環 [6·2·1·1· ·0 ]十一碳基_卜甲基乙基)酯、雙環[2·21] 庚烯5-羧酸(丨-金剛烷·1-基·1_甲基乙基)酯、雙環 [2·2·1]庚-2-嫌-5·殘酸(1·(2(3) _經基環戊基)小甲基 乙基)酯雙環[2·2·1]庚·2-烯-5-羧酸(1- (3 (4)-羥基環 己基)-ι-甲基乙基)酯、雙環[2 21]庚_2-烯·5·羧酸(卜( 3 ( 4 )-羥基環庚基)_卜甲基乙基)酯、雙環[2·2.ι]庚-2_ -28- (25) 200415444 烯羧酸(K ( 3_羥基金剛烷-丨-基)基乙基,丨,丨_二 £哀己基乙基)酯、雙環卩丄:^庚。-烯羧酸(I丨·二雙環 [2·2.1]庚‘2-基乙基)酯、雙環[2.2.1;|庚_2_烯_5•羧酸(1,} 又一環[5·2·1.〇2,6]癸_8_基乙基)酯、雙環[2·2丨]庚·2_烯d 羊欠^(1,1-雙(四環[6.2.1.1.3’6.〇2,7]十二碳|基)乙基) 酉曰、雙環[2·2 ·1]庚-2鲁5-殘酸(1,1_二金剛烷小基乙基) 酯,
又環[2·2·1]庚_2_烯_5·羧酸甲酯、雙環[2.2.1]庚-2•烯·5· 羧酸乙酯、雙環[2·21]庚_2·烯_5_羧酸正丙酯、雙環[22 ^ 庚烯巧-羧酸環戊酯、雙環[2.2.Π庚-2-烯_5_羧酸環己酯、 雙環[2·2·1]庚-2-烯-5-羧酸(金剛烷-卜基)酯、雙環[2 2 ” 庚-2-烯羧酸(雙環[2.21]庚-2·基)酯 '雙環[2·2ι]庚·)_ 稀I殘酸(7, 7·二甲基雙環庚小基)酯、雙環 [2.2.1]庚-2-烯_5-羧酸(三環[5.2.1〇2,6]癸_8-基)酯、雙= [2·2·1]庚-2-烯-5-羧酸(四環[6.2.1.! 3,6 〇2,7 • ·υ j卞一碳-4-基 )酯;
雙環[2.2.U庚-2-烯·5·羧酸(5·氧基冰卩f基_三環 [4.2丄〇3’勺壬_2_基)醋、雙環[2.2,1]庚1烯_5.殘酸(二= 氧基羯基-5-氧基-4-聘基-三環[mo3,7]壬_2_基)醋、雙環 口琴基·雙環[3·2·1]辛基 (2 -甲氧基鑛基-h氧基_ [2·2·1]庚-2-烯-5-羧酸(7-氧基-6-)酯、雙環[2·2·Ι]庚-2-烯-5-羧酸 6,基-雙環基)醋、雙環[2·2.•μ」·殘酸 (2-氧基四氫哌喃基)酯、雙環烯羧酸^ 4·甲基-2-氧基四氫哌喃基)酯、雙環[221]庚-2-烯羧 -29- (26) (26)200415444 酸(4-乙基-2-氧基四氫哌喃-4-基)酯、雙環[2.2.1]庚-2-烯-5-羧酸(4-丙基-2-氧基四氫哌喃-基)酯、雙環[2.2.1] 庚-2-烯-5-羧酸(5-氧基四氫呋喃-3-基)酯、雙環[2.2.1] 庚-2-烯-5-羧酸(2,2-二甲基-5-氧基四氫呋喃-3-基)酯、 雙環[2.2.1]庚-2-烯-5-羧酸(4,4-二甲基-5-氧基四氫呋喃-3-基)酯、雙環[2·2·1]庚-2-烯-5-羧酸(2-氧基四氫呋喃-3-基)酯、雙環[2.2。1]庚-2-烯-5-羧酸(4, 4-二甲基-2-氧基四 氫呋喃-3-基)酯、雙環[2.2.1]庚-2-烯-5-羧酸(5,5-二甲 基-2-氧基四氫呋喃-3-基)酯、雙環[2.2.1]庚-2-烯-5-羧酸 (2-氧基四氫呋喃-3-基)酯、雙環[2 ·2·1]庚-2-烯-5-羧酸( 5-氧基四氫呋喃-2-基甲基)酯、雙環[2.2.1]庚-2-烯-5-羧酸 (3,3-二甲基-5-氧基四氫呋喃-2-基甲基)酯、雙環[2.2.1] 庚-2-烯-5-羧酸(4, 4-二甲基-5-氧基四氫呋喃-2-基甲基) 酯、9-羥基甲基四環[6.2.1.1.3,6.02,7]十二碳-4-烯、9-(2-羥乙基)四環[6·2·1.1·3’6.02’7]十二碳-4-烯、9- (3-羥丙基 )四環[6.2.1.1.3,6.02,7]十二碳-4-烯、9-(1-氟-1-羥甲基) 四環[6.2.1.1.3,6.02’7]十二碳-4-烯、9-(1,1-二氟-1-羥甲基 )四環[6.2.1·1.3,6.02,7]十二碳-4-烯、9- ( 1,2-二氟-2-羥甲 基)四環[6·2·1·1·3,6·02’7]十二碳-4-烯、9- ( 1,1,2,2-四 氟-2-羥甲基)四環[6.2.1.1.3’6.02’7]十二碳-4-烯、9-(2-三 氟甲基-2-羥乙基)四環[6.2.1.1.3,6.02,7]十二碳-4-烯'9-( 2, 2-雙三氟甲基-2-羥乙基)四環[6·2. 1 · 1 .3,6.02’7]十二碳-4-綠, 四環[6.2.1.]Λ6·02,7]十二碳-4 -烯、9-甲基四環 -30- (27) 200415444 [6.2.1.1.3.6.02.7] 十二碳-4-烯、9-乙基四環[6.2.1.1.3,6.02,7] 十二碳-4-烯、9-丁 基四環[6.2.1.1.3,6·02,7]十二碳-4-烯、9-己基四環[6.2.1.1.3,6.02,7]十二碳-4 -烯、9 -辛基四環 [6.2.1.1.3.6.02.7] 十二碳-4-烯、9-羥基四環[6.2.1.1.3,6.02,7] 十二碳-4-烯、四環[6.2.1.1.3,6.02,7]十二碳-4-烯-9-羧酸(
3- 羥基金剛烷-卜基)酯、四環[6.2.1.13’6.02’7]十二碳-4-烯-9 -羧酸(5 ( 6)羥基雙環[2.2.1]庚-2-基)酯、四環 [6.2。1.1.3,6.02,7]十二碳-4-烯-9-羧酸(9(10)-羥基,四環 [6.2„1.1.3,6.02,7]十二碳-4-基)酯、四環[6.2.1.1.3,6.02,7] 十二碳-4-烯-9-羧酸、四環[6.2.1.1.3,6·02,7]十二碳-4-烯-9-乙酸、四環[6·2.1.1.3’6.02’7]十二碳-4-烯-9-乙烷羧酸、四 環[6.2·1·1.3’ό·02,7]十二碳-4-烯-9-丙酸、9-氰基甲基四環 [6.2.1·1·3,6.02,7]十二碳-4 -烯、9- (2 -氰基乙基)四環 [6.2.1.1.3’6.02,7]十二碳-4-烯、9-(3-氰基丙基)四環 [6.2.1.1.3’6.02’7]十二碳-4-燃。
四環[6.2.1.1.3’6.02,7]十二碳-4-烯-9-羧酸第三丁酯、 四環[6。2.1.1.3,6.02,7]十二碳-4-烯-9-羧酸(2-甲基-2-丁基, 2-乙基-2-丁基)酯、四環[6·2·1·1·3,6·02,7]十二碳-4-烯-9-羧酸(3-乙基-3-丁基)酯、四環[6.2.1.1.3,6.02,7]十二碳- 4- 烯-9-羧酸 (2-甲基金剛烷-2-基)酯、四環 [6.2.1.1.3’6.02s7]十二碳-4-烯-9-羧酸(2-甲基-3-羥基金剛 烷-2-基)酯、四環[6.2·1.1·3,6.02,7]十二碳-4-烯-9-羧酸( 乙基金剛烷-2-基)酯、四環[6.2.1.1.3’6·02,7]十二碳-扣 烯-9 -羧酸(8 -甲基三環[5·2. 1.02'·6]癸-8 -基)酯、四環 -21 - (28) (28)200415444 [6·2.1·1.3,6·02,7]十二碳-4-烯-9-羧酸(8-乙基三環 [5.2.1.02,6]癸-8-基)酯、四環[6.2.1.1.3,6.02,7]十二碳-4-烯-9-羧酸(1-甲基環戊基)酯、四環[6.2.1.1.3,6.02’7]十二 碳-4-烯-9-羧酸 (1-乙基環戊基)酯、四環 [6·2.1.1·3,6·02,7]十二碳-4-烯-9-羧酸(卜甲基環己基)酯 、四環[6.2.1.1.3’6.02’7]十二碳-4-烯-9-羧酸(1-乙基環己 基)酯、四環[6.2.1·1.3’6·02’7]十二碳-4-烯-9-羧酸(2-甲 基雙環[2.2.1]庚-2-基)酯、四環[6.2.1.1.3,6.02,7]十二碳-4-烯-9-羧酸(2-乙基雙環[2.2.1]庚-2-基)酯、四環 [6.2。1.1.3,6·02,7]十二碳-4 -烯-9-羧酸(4-甲基-四環 [6.2.1.1.3.6.02.7] 十二碳-4-基)酯、四環[6.2.1.1.3,6.02,7] 十二碳-4-烯-9-羧酸(4-乙基-四環[6·2.1·1·3,6· 02,7]十二 碳-4-基)酯、四環[6·2·1·1·3,6.02,7]十二碳-4-烯-9-羧酸( 卜環己基-1-甲基乙基)酯、四環[6·2·1.I.3,6.02,7]十二碳-4-烯-9-羧酸(卜雙環[2.2.1]庚-2-基-卜甲基乙基)酯、四環 [6.2.1.1.3.6.02.7] 十二碳-4-烯-9-羧酸(1-三環[5.2.1.02,6] 癸-8-基-卜甲基乙基)酯、四環[6.2.1.1.3,6.02,7]十二碳-4-烯-9-羧酸(1-四環[6.2.1.1.3,6.02,7]十二碳-4-基-1-甲基乙 基)酯、四環[6.2.1.1.3,6.02,7]十二碳-4-烯-9-羧酸(1-金 剛烷-1-基-1-甲基乙基)酯、四環[6.2.1.1.3,6.02,7]十二碳-4-烯-9-羧酸(1-(2(3)-羥基環戊基)-1-甲基乙基)酯 、四環[6.2.1.I·3’6.02,7]十二碳-4-烯-9-羧酸(1- (3 (4)-羥基環己基)·1-甲基乙基)酯、四環[6.2.1.1.3’6.02,7]十 二碳-4-烯-9-羧酸(1-3(4)-羥基環庚基)-1-甲基乙基) -32 - (29) (29)200415444 酯、四環[6.2.1.I·3,6.02,7]十二碳-4-烯-9-羧酸(1-(3-羥 基金剛烷-1-基)-1-甲基乙基酯、四環[6.2.1.1.3,6.02,7]十 二碳-4-烯-9-羧酸(1, 1-雙環己基乙基)酯、四環 [6·2.1.1.3,6.02,7]十二碳-4-烯-9-羧酸 1, 1-二雙環[2.2.1]庚-2-基乙基)酯、四環[6.2.1.1.3,6·02,7]十二碳-4-烯-9-羧酸 (1,卜雙三環[5.2。1.02,6]癸-8-基乙基)酯、四環 [6.2.1.1.3,6.02,7]十二碳-4 -烯-9 -羧酸(1,1-雙(四環 [6.2.11·3’6·02 = 7]十二碳-4-基)乙基)酯、四環 [6.2.1丄3’6.02’7]十二碳-4-烯-9-羧酸(1,1-二金剛烷-1-基 乙基)酯, 四環[6.2.1.1.3,6.02,7]十二碳-4-烯-9-羧酸甲酯、四環 [6.2.1.1.3’6.02’7]十二碳-4-烯-9-羧酸乙酯、雙環[2.2.1]庚-2-烯-5-羧酸正丙酯、四環[6·2·l·l.3,6·02,7]十二碳-4-烯-9-羧酸環戊酯、四環[6·2.1·l·3’6·02’7]十二碳-4-烯-9-羧酸環 己酯、四環[6.2.1.I·3’6.02’7]十二碳-4-烯-9-羧酸、(金剛 烷-1-基)酯、四環[6.2.1.1.3,6.02,7]十二碳-4-烯-9-羧酸( 雙環[2.2.1]庚-2-基)酯、四環[6.2.1.1.3,6.02,7]十二碳-4-烯-9-羧酸(7,7-二甲基雙環[2·2.1]庚-1-基)酯、四環 [6.2.1.1.3,6.02,7]十二碳-4-烯-9-羧酸(三環[5.2.1.02,6]癸-8-基)酯、四環[6·2·1·1·3’6·02’7]十二碳-4-烯-9-羧酸(四 環[6.2.1.1.3,6.02,7]十二碳-4-基)酯; 四環[6.2. 1.1 Λ6·02,7]十二碳-4-烯-9-羧酸(5-氧基- 4-鳄基-三環[4.2.1.03,7]壬-2-基)酯、四環[6.2.1.1.3,6.02,7]十 一碳-4 -細-9-殘酸(9 -甲氧基類基-5-氧基-4-吗基-二環 -33- (30) (30)200415444 [4.2.1.03,7]壬,八基)酯、四環[6.2.1.1.3,6.02,7]十二碳-4-烯-9-羧酸(7-氧基- 6-Df基-雙環[3·2·1]辛-4-基)酯、四環 [6.2,1·1·3,6.02,7]十二碳-4-烯-9-羧酸(2-甲氧基羰基-7-氧 基-6-哼基-雙環[3.2.1]辛-4-基)酯、四環[6.2.1.1.3,6.02,7] 十二碳-4-烯-9-羧酸(2-氧基四氫哌喃-4-基)酯、四環 [6.2」·1·3,6·02,7]十二碳-4-烯-9-羧酸(4-甲基-2-氧基四氫 哌喃-4-基)酯、四環[6.2.1.1.3’6.02’7]十二碳-4-烯-9-羧酸 (4_乙基_2_氧基四氫哌喃-4-基)酯、四環 [6.2·1·1·3,6·02,7]十二碳-4-烯-9-羧酸(4-丙基-2-氧基四氫 哌喃-4-基)酯、四環[6.2.1.1.3’6.02’7]十二碳-4-烯-9-羧酸 (5-氧基四氫哌喃-3-基)酯、四環[6.2.1.1.3,6·02,7]十二 碳-4-烯-9-羧酸(2, 2-二甲基-5-氧基四氫呋喃-3-基)酯、 四環[6.2.1.1.3,6.02,7]十二碳-4-烯-9-羧酸(4,4-二甲基-5-氧基四氫呋喃-3-基)酯、四環[6.2.1.1.3,6.02,7]十二碳-4-烯-9-羧酸 (2-氧基四氫呋喃-3-基)酯、四環 [6·2·1·1·3,6.02,7]十二碳-4-烯-9-羧酸(4, 4-二甲基-2-氧基 四氫呋喃-3-基)酯、四環[6·2.1.I·3’6.02,7]十二碳-4-烯-9-羧酸(5, 5 -二甲基-2-氧基四氫呋喃-3-基)酯、四環 [6.2.1.1.3’6·02’7]十二碳-4-烯-9-羧酸(2-氧基四氫呋喃- 3-基)酯、四環[6.2.1.1.3’6.02’7]十二碳-4-烯-9-羧酸(5-氧 基四氫呋喃-2-基甲基)酯、四環[6.2.1.1.3,6.02,7]十二碳- 4- 烯-9-羧酸(3,3-二甲基-5-氧基四氫呋喃-2-基甲基)酯 、四環[6.2.1.1.3,6.02,7]十二碳-4-烯-9-羧酸(4,4-二甲基- 5- 氧基四氫呋喃-2-基甲基)酯等。 (31) 200415444 構成上述一般式(IV)所示重複單位(下文中,稱爲 「重複單位(3 )」)之取代基R3,例如上述重複單位(1 )中做爲取代基Ri所舉例示。 又,構成上述重複單位(3 )之取代基R4,例如下列 有機基。
X 尸 11 (4-1)
(4-3) (有機基(4-1)中之Rn示直鏈狀、岐鏈狀或環狀架構之 二價有機基,該情況下,X示氫原子、羥基、羧基、硝基 、氰基或胺基,或Ru可不存在,該情況下,X示羧基或氰 基。有機基(4-2 )中之r】2各自獨立示C4〜C2G脂環式烴基 或其衍生物,或〇^〜(:4烷基或其衍生物。有機基(心3 )中 之Rls示C1〜6烷基或其衍生物,或C5〜10環烷基或其衍生物, C4〜Cm多環狀脂環式烴基或其衍生物,或具有內酯環之基。 ) 上述有機基(4])中之取代基Rn和上述有機基(2-2 )中之R5所示例舉相同。該Rl]特別以可形成上述一般式( 1-0所示重複單位(1-4)之A,即,直鏈狀或岐鏈狀 院基或伸烷基(伸甲基、伸乙基、伸丙基等),或C4〜C20 一價或二價脂環式烴基或其衍生物爲較佳。 -35- (32) (32)200415444 上述有機基(4-2)中之取代基和上述有機基(2-3 )中之取代基R 6所示例舉相同。該取代基R 1 2特別以可形成 上述一般式(1-2 )所示重複單位(1β2 )之取代基,即, Ric爲較佳。上述一般式(1-2)中之各個R】c可各自獨立示 C4〜Cm—價脂環式烴基或其衍生物,或(^〜匕直鏈狀或岐鏈 狀院基,且(1),Ric中至少一個示c4〜c2〇—價脂環式烴, 或(2 )任意2個R1C互相結合,各個包括所結合碳原子形 成C4〜C2〇二價脂環式烴環或其衍生物,其他R]c示c4〜c20 — 價脂環狀烴或其衍生物,或C】〜c4直鏈狀或岐鏈狀烷基。 Ri2爲前述Ric,且爲上述(1)或(2)之構造爲較佳。又, 上述一般式(卜2)中之C(Rlc) 3以^烷基-丨_環院基、2-院基-2 -金剛院基、(卜烷基-1 -金剛烷基)烷基、或(^ 烷基-卜降萡基)烷基爲較佳。 當樹脂[A]含有重複單位(1-1)和重複單位(ι_2) 時,其含有比率並無特限制,但以構成樹脂[A]之總重複 單位之合計爲1〇〇莫耳%計,重複單位(1-1 )含率以40〜90 莫耳%爲宜,其中以40〜80莫耳%爲較佳,尤以60〜80莫耳% 爲更佳。當該重複單位(1-1 )之含率未滿4 0莫耳%時,顯 像性降低,容易發生顯像缺失之傾向。相反地,超過90莫 耳%時,做爲光阻之解像功能有下降傾向。更進而言之, 含有多量重複單位(1-1 )時,樹脂[A]以不含由來於內酯 架構之官能基爲較佳。如果含有多量重複單位(1 - 1 )而 樹脂[A]再具有由來於內酯架構之官能基時,對於溶劑之 光阻之溶解性降低,同時圖案有容易膨潤之傾向。 -36- (33) (33)200415444 又,上述有機基(4-3 )中之取代基可和上述有機 基(2-4 )中做爲取代基R7之例舉者相同。該取代基3以 能形成上述一般式(I - 3 )所示重複單位(1 -3 )之由來於 內酯架構之官能基爲最佳。 當樹脂[A]含有重複單位(1-1),重複單位(1-2)和 重複單位(1 - 3 )時,即,樹脂[A]含有由來於內酯架構之 官能基時,其含有比率雖無特別限制,但是重複單位(1 -〇含量以較之不含有由來於內酯架構之官能基時少量爲 較宜。具體言之,以構成樹脂[A]之總重複單位之合計爲 1 〇 〇莫耳%時,重複單位(b i )含率宜在5〜2 5莫耳%,其 中以5〜20莫耳%爲更佳。當該重複單位(1-1)含率未滿5 莫耳。/。時,光阻之解像功能有下降之傾向。相反.地,超過 2 5莫耳%時,圖案有容易膨潤、容易損毀之傾向。 可造成重複單位(3)之單體之例舉如下: (甲基)丙烯酸羥甲酯、卜(甲基)丙烯酸羥甲酯 、甲基)丙烯酸-3-羥丙酯、卜(甲基)丙烯酸-1-氟· 卜經甲酯、1-(甲基)丙烯酸,卜二氟-b羥甲酯、〗·( 甲基)丙烯酸-1,2-二氟-2-羥甲酯、1-(甲基)丙烯酸-1, I 2,2 -四氟-2-羥甲酯、1-(甲基)丙烯酸-2-三氟甲基- 2-淫乙醋、1-(甲基)丙烯酸-2, 2-雙三氟甲基-2-羥乙酯, (甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸· 3 -羥基金剛烷-卜 基醋、(甲基)丙烯酸_5 ( 6)-羥基雙環[2.2.1]庚-2-基酯 、(甲基)丙烯酸-9 ( 10)-羥基四環[6·2.1·ΐΛ6·〇2,7]十 二碳-4-基酯' (甲基)丙烯酸羧甲酯、(甲基)丙烯酸- (34) (34)200415444 2- 羧乙酯、(甲基)丙烯酸-3-羧丙酯、(甲基)丙烯酸- 3- 羧基金剛烷-1-基酯、(甲基)丙烯酸-5 (6)-羧基雙環 [2.2.1]庚-2-基酯、(甲基)丙烯酸-9 (10)-羧基四環 [6.2.1.1.3’6。02,7]十二碳-4-基酯、(甲基)丙烯酸氰基甲 酯、卜(甲基)丙烯酸2-氰基乙酯、1-(甲基)丙烯酸- 3-氰基丙酯、(甲基)丙烯酸-3-氰基金剛烷-1-基酯、(甲 基)丙烯酸- 5(6)-氰基雙環[2.2.1]庚-2-基酯、(甲基) 丙烯酸- 9(10)-氰基四環[6·2·1·1·3,6·02,7]十二碳-4-基酯, (甲基)丙烯酸-第三丁酯、(甲基)丙烯酸-2-甲基-2-丙酯、(甲基)丙烯酸-2-甲基-2-丁酯、(甲基)丙烯 酸-2-乙基-2-丁酯、(甲基)丙烯酸-3-乙基-3-丁酯、(甲 基)丙烯酸-2-甲基金剛烷-2-基酯、(甲基)丙烯酸-2-甲 基-3-羥基金剛烷基酯、(甲基)丙烯酸-2-乙基金剛 烷-2-基酯、(甲基)丙烯酸-8-甲基三環[5.2.1· 02,6]癸- 8-基酯、(甲基)丙烯酸-8-乙基三環[5.2.1. 02,6]癸-8-基酯、 (曱基)丙烯酸-1-甲基環戊酯、(甲基)丙烯酸-1-乙基 環戊酯、(甲基)丙烯酸-1-甲基環己酯、(甲基)丙烯 酸-卜乙基環己酯、(甲基)丙烯酸-2-甲基雙環[2.2.1]庚-2-基酯、(甲基)丙烯酸-2-乙基雙環[2· 2.1]庚-2-基酯、( 甲基)丙烯酸-4-甲基-四環[6.2.1.1.3,6.02,7]十二碳-4-基酯 、(甲基)丙烯酸-4-乙基-四環[6.2.1.1.3,6.02,7]十二碳-4· 基酯、(甲基)丙烯酸-1-環己基-1-甲基乙酯、(甲基) 丙烯酸-1-雙環[2.2.1]庚-2-基-卜甲基乙酯、(甲基)丙烯 酸-]-三環[5.2.1.02,6]癸-8-基-1-甲基乙酯、(甲基)丙烯 (35) (35)200415444 酸-1-四環[6.2.1.1.3,6·02,7]十二碳-4-基-卜甲基乙酯、(甲 基)丙烯酸-卜金剛烷-卜基-卜甲基乙酯、(甲基)丙烯 酸-1-(2(3)-羥基環戊基)-1-甲基乙酯、(甲基)丙烯 酸-1-(3(4)-羥基環己基卜甲基乙酯、(甲基)丙烯 酸-1-(3 (4)-羥基環庚基)-1-甲基乙酯、(甲基)丙烯 酸-1 - ( 3 -羥基金剛烷-1 -基)-1-甲基乙酯、(甲基)丙烯 酸-1,1-二環己基乙酯、1, 1-二雙環[2。2.1]庚-2-基乙酯、 (甲基)丙烯酸-1,卜二·三環[5.2.1 ·02’6]癸-8-基乙酯、( 甲基)丙烯酸-1,卜二(四環[6.2.1.1.3’6.02,7]十二碳-4-基 )乙酯、(甲基)丙烯酸-1,卜二金剛烷-卜基乙酯, (甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基 )丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸環戊酯、(甲基)丙烯 酸環己酯、(甲基)丙烯酸金剛烷-1 -基酯、(甲基)丙 烯酸雙環[2.2.1]庚-2-基酯、(甲基)丙烯酸-7,7-二甲基 雙環[2.2.1]庚-1-基酯、(甲基)丙烯酸三環[5·2.1.02,6]癸-8-基酯、(甲基)丙烯酸四環[6.2·l.l·3,6·02,7]十二碳-4-基 酯; (甲基)丙烯酸-5-氧基-4-哼基-三環[4.2.1.03’7]壬- 2-基酯、(甲基)丙烯酸-9-甲氧基羰基-5-氧基-4-鳄基-三環 [4.2.1.03’7]壬-2-基酯、(甲基)丙烯酸-7-氧基-6-鸣基-雙 環[3.2.1]辛-4-基酯、(甲基)丙烯酸-2-甲氧基羰基-7-氧 基-6-Pf基-雙環[3.2.1]辛-4-基酯、(甲基)丙烯酸-4 -甲 基-2-氧基四氫哌喃-4-基酯、(甲基)丙烯酸-4-乙基-2-氧 基四氫哌喃-4-基酯、(甲基)丙烯酸-4-丙基-2-氧基四氫 -39- (36) (36)200415444 酿喃-心基酷、(甲基)丙烯酸-5-氧基四氫呋喃-3-基酯、 (甲基)两烯酸-2,2-二甲基5_氧基四氫呋喃_3_基酯、( 甲基)丙嫌酸**4,4·二甲基-5-氧基四氫呋喃-3-基酯、(甲 基)丙嫌酸氧基四氫呋喃_3_基酯、(甲基)丙烯酸' 〇 一甲基氧基四氫呋喃-3-基酯、(甲基)丙烯酸5,5- 一甲基氧基四氫呋喃基酯、(甲基)丙烯酸-2-氧基 四氨咲喃基酯、(甲基)丙烯酸氧基四氫呋喃基 甲酉曰(甲基)丙嫌酸-3,3 -二甲基-5-氧基四氫咲喃-2-基 甲酯等。 上述做爲重複單位(2 )和(3 )所舉例之重複單位, 可在上述樹脂[Α]中僅含有一種,或含有2種以上。 又,上述重複單位(2 )和/或(3 )之含量之合計, 隨重複單位(2 )和/或(3 )之種類而不同,但是對於總 重複單位計,通常以8 0莫耳%以下爲宜,其中以7 0莫耳% 以下爲較佳,尤以60莫耳〇/。以下爲更佳。該情況下,當上 述重複單位(2 )和/或(3 )之含量之合計量超過80莫耳% 時,光阻之貼附性或顯像功能降低,同時降低顯像缺失之 效果也有降低之傾向。又,樹脂[Α]具有由來於內酯架構 之官能基時,上述重複單位(2)和/或(3)之含量之合 計以較多爲佳,宜在7 0莫耳%以上,尤以8 0莫耳%以上爲 更佳,更多之含量也無妨。 構成上述樹脂[Α]之單體單位,尙可例舉由下列單體 形成之單體單位等。 例如乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、丁酸乙烯酯等之乙烯 -40- (37) (37)200415444 酯類; (甲基)丙烯腈、α -氯丙烯腈、丁烯腈、馬來醯腈、 富馬腈、中康腈、檸康腈、依康腈等不飽和腈化合物; (甲基)丙烯醯胺、Ν,Ν-二甲基(甲基)丙稀醯胺 、丁烯醯胺、馬來醯胺、富馬醯胺、中康醯胺、檸康醯胺 、依康醯胺等不飽和醯胺化合物; Ν-乙烯基ε -己內醯胺、Ν·乙烯吡咯烷酮、乙烯吡啶、 乙烯咪唑等其他之含氮乙烯化合物; 丁烯酸 '馬來酸、馬來酸酐、富馬酸、依康酸、依康酸 酐、檸康酸、檸康酸酐、中康酸等不飽和羧酸(酐)類;等 之單官能性單體,或 甲二醇二(甲基)丙烯酸酯、乙二醇二(甲基)丙烯 酸酯、丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基 )丙烯酸酯、2,5-二甲基-2,5-己二醇二(甲基)丙烯酸酯 ' 1, 8-辛二醇二(甲基)丙烯酸酯、1, 9-壬二醇二(甲基 )丙烯酸酯、1, 4-雙(2-羥丙基)苯二(甲基)丙烯酸酯 、1,3-雙(2-羥丙基)苯二(甲基)丙烯酸酯、〗,2-金剛 烷二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,3-金剛烷二醇二(甲基) 丙烯酸酯、1, 4-金剛烷二醇二(甲基)丙烯酸酯、三環癸 基二羥甲基二(甲基)丙烯酸酯等之多官能性單體等。 上述重複單位可僅含1種,或含2種以上均行。 又,上述重複單位之含量對於總重複單位計,通常在 2〇莫耳%以下,其中以10莫耳%以下爲較佳。 本發明有關樹脂[Α]之例舉如具有下列單體單位者,但 (38)200415444 是單體單位之構成順序或含有比率並無特別限制。
-42 - (39) 200415444
F3C^F3
ο ο Ο
R ί7、 F3C^F3
ο^° ο^° ο^°
ΌΗ -43 - (40)200415444
-44 - 200415444
(上述所有化學式中,R】示氫原子、甲基、羥基院基 、或C!〜C4全氟烷基,R示甲基或乙基)。 · 本發明有關樹脂[A]依據凝膠滲透層析法(GPC )所測 得聚苯乙烯換算之重量平均分子量(下文中稱爲「Mw」), 通常在1,000〜300,000,其中以2,000〜200,000爲較佳,尤以 3,000〜10〇5〇〇〇爲最佳。當Mw未滿1,000時,做爲光阻之耐熱 1'生有* @低傾向,相反地,當Mw超過300,000時,做爲光阻之 顯像性有降低傾向。 又’上述Mw和錯GPC法同時求得之數平均分子量(下 &牛1 ’稱爲「Μη」)之比率(Mw /Μη )通常爲1〜5,其中以 •45- (42) (42)200415444 1〜3爲較佳。 本發明之輻射線感應樹脂組成物中所使用樹脂[A],可 單獨一種或2種以上調配而使用。 樹脂[A]之製造,例如將可造成各重複單體之單體之混 合物,藉過氧化氫類、二烷基過氧化物類、二醯基過氧化 物類、偶氮基化合物等自由基聚合引發劑,隨必要再於鏈轉 移劑之存在下,於適當溶劑中聚合反應而製成之。 上述聚合反應所使用溶劑,例如正戊烷、正己烷、正 庚烷、正辛烷、正壬烷、正癸烷等烷類;環己烷、環庚烷、 環辛烷、十氫萘、降萡烷等環烷類;苯、甲苯、二甲苯、乙 苯、異丙苯等芳香族烴類;氯丁烷類、溴己烷類、二氯乙烷 類、伸己基二溴、氯苯等鹵化烴類;乙酸乙酯、乙酸正丁酯 、乙酸異丁酯、丙酸甲酯、丙二醇單甲醚乙酸酯等之飽和羧 酸酯類;7 -丁內酯等之烷內酯類;四氫呋喃、二甲氧基乙烷 類、二乙氧基乙烷類等之醚類;2-丁酮、2-庚酮、甲基異丁 酮等之烷基酮類;環己酮等之環烷基酮類;2-丙醇、丙二醇單 甲醚等醇類。上述溶劑可單獨一種或2種以上混合使用。 又,上述聚合反應之溫度通常爲40〜120 °C,其中以 5〇〜100 °C爲較佳,反應時間通常爲1〜48小時,其中以1〜24 小時爲較佳。 本發明有關之樹脂[A]以高純度者爲佳,不僅鹵元素、 金屬等不純物含量要少,所殘留單體或低聚物成分在既定値 以下,例如依據HPLC分析在0.1質量%以下等爲較佳。藉此, 含有樹脂[A]之本發明之輻射線感應樹脂組成物所得光阻可 (43) (43)200415444 改善其感應度、解像度、製程安定性、圖案形狀等,同時也 能提供沒有液中夾雜物或感應度之經時性變化之光阻。 又,按照上述製法所得樹脂[A]之精製方法如下。除去 金屬等不純物之方法,例如使用仄塔電位濾器吸附聚合溶 液中之金屬之方法,用草酸、磺酸等酸性水溶液洗淨聚合溶 液使金屬藉螫合狀態而去除之方法等可供採用。又,將殘留 之單體或低聚物成分降低到規定値以下而去除之方法有利用 水洗或調配適當溶劑而去除殘留之單體或低聚物之液液萃取 法,萃取去除特定分子量以下之超濾等溶液狀態下之精製方 法,聚合溶液藉滴加在難溶性溶劑中使樹脂在難溶性溶劑 中凝固而去除殘留之單體等之再沈澱方法,濾除之樹脂漿 液難溶性溶液洗淨等在固態狀態下之精製方法等可供使用 。又,上述方法可調配而採用。 (2 )輻射線感應性產酸劑[B ] 本發明之輻射線感應樹脂組成物中所含有之輻射線感 應性產酸劑[B ](下文中稱爲產酸劑[B])乃藉可視光線、 紫外光、遠紫外光、電子束、X光等輻射線之曝光而能產 酸之物質。 上述產酸劑[B]藉曝光所產生酸之作用,使存在於樹 脂[A ]中之院基金剛院基、第三丁基、四氫_喃基等之酸 解離性基解離。其結果,光阻被覆膜之曝光部分成爲易溶 於鹼顯像液,而形成正片光阻圖案。上述產酸劑[B]由母 核部分和所產之酸部分而構成。 -47- (44) 200415444 所產之酸部分 所產之酸,例如磺酸化合物、竣酸化合物、亞酿胺化 合物等。具體言之,例如下列一般式(v )〜(IX )所示化 合物等。
Rf Rf Ra---
SO3H (V)
Rf Rf (上式中,1^示氫原子、氟原子、〇〜〇2。烷基、氟烷 基、C3〜C20環狀烴基、或C3-C20環狀氟烴基,該瓌狀烴基和 該環狀氟烴基可具有取代基。Rf示氟原子或三氟甲基。)
Rf
Rb——SO3H (VI)
Rf (上式中,Rb示氫原子、匕〜(:2。烷基、c3〜C2。環狀烴基、或 c3〜c2〇環狀氟烴基,該環狀烴基和環狀氟烴基可具有取代基 。Rf示氟原子或三氟甲基,Rf’示氫原子、氟原子、甲基或三 氟甲基)°
Rs—SO3H (V") (上式中,以不匚1〜C2G院基、或C3〜C2G環狀烴基、該環狀 -48 - (45) (45)200415444 烴基可具有取代基。)
Rc-COOH (VIII) (上式中,rc示氫原子、Ci〜C2。院基、CrCao氟院基、C3~C2。 環狀烴基、或C3〜C20環狀氟烴基,該環狀烴基和該環狀氯煙 S可具有取代基。) Η
Re-N—Re (IX) (上式中,Re示Rg-SCh-基或Rg-CO-基、Rg示上述Ra相同之 基。) 構成一般式(V )之取代基Ra,構成一般式(VI )之 取代基Rb,構成一般式(VII )之取代基Rs,構成一般式( VIII)之取代基Re,以及構成一般式(IX)之取代基Re中所 含取代基Rg分別示烷基時,該烷基可爲直鏈狀或岐鏈狀。 其具體例舉如甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、異丁 基、第二丁基、第三丁基、正戊基、正己基、正庚基、正辛 基、2-乙基己基、壬基、癸基、十二烷基等。 構成上述一般式(V )之取代基Ra,構成一般式(VIII )之取代基Rc以及構成一般式(IX)之取代基Re中所含Rg 分別示氟烷基時,該氟烷基可爲直鏈狀或岐鏈狀。其具體 例舉如三氟甲基、五氟乙基、七氟正丙基、七氟異丙基、九 氟正丁基、九氟異丁基、九氟第二丁基、九氟第三丁基、全 -49- (46) (46)200415444 氟正戊基、全氟正己基、全氟正庚基、全氟正辛基等。 構成上述一般式(V)之取代基Ra,構成一般式(VI) 之取代基Rb,構成一般式(VII)之取代基RS,構成一般式 (VIII)之取代基Rc以及構成一般式οχ)之取代基以中 所含取代基Rg分別示環狀烴基時,可爲脂環狀烴基,或含 方香環烴基。其具體例舉如環丙基、環丁基、環戊基、環庚 基、環辛基、苯基、甲苯基、二甲苯基、苯甲基、萘基等。 又,構成上述一般式(V )之取代基Ra,構成一般式(VI ) 之取代基Rb,構成一般式(VIII)之取代基RC以及構成一 般式(IX )之取代基Re中所含取代基Rg分別示環狀氟烴基 時,可爲脂環狀烴基,或含芳香環烴基。該環狀氟烴基, 例如結合於上述環狀烴基之氫原子之至少一個爲氟原子所 取代者。 上述環狀烴基和環狀氟烴基更含有取代基時,該取代 基之例舉如苯基、2-萘基、環烷基、雙環[2.2.1]庚-2-基、 四環[6.2.1.1.3,6.02,7]十二碳-4-基、金剛烷-1-基、樟腦基 和其取代衍生物等。 因此,上述一般式(V)所示酸之具體例舉如直鏈狀或岐 鏈狀之氟烷基磺酸類、2-位置具有脂環狀架構之2-脂環狀 架構取代基等。 直鏈狀或岐鏈狀之氟烷基磺酸類之例舉如三氟甲磺酸 、五氟乙磺酸、七氟正丙磺酸、九氟正丁磺酸、全氟正辛 磺酸、1,1, 2, 2-四氟正丙磺酸、1,1,2, 2-四氟正丁磺酸、 ],],2 , 2 -四氟正辛磺酸等。 -50- (47) (47)200415444 2-位置上具有脂環狀架構之2-脂環狀架構取代基之例 舉有1, 1, 2, 2-四氟乙磺酸類、卜三氟甲基-1, 2,2-三氟乙 磺酸類、2-三氟甲基-1, 1, 2-三氟乙磺酸類、1,2-雙三氟甲 基-1,2-二氟乙磺酸類、1,1-雙三氟甲基-2,2-二氟乙磺酸 類、2, 2-雙三氟甲基-1,卜二氟乙磺酸類等。 加之,2-位置具有脂環狀架構之1,1,2,2-四氟乙磺酸 類之具體例舉如2-環丁基-1, 1, 2, 2-四氟乙磺酸、2-環戊 基-1, 1,2,2-四氟乙磺酸、2-環己基-1, 1, 2,2-四氟乙磺 酸、2-苯基-1,1,2,2-四氟乙磺酸、2-(4-三氟甲基苯基 )-1,1,2, 2-四氟乙磺酸、2-(2,3-二氟苯基)-1,1, 2,2-四氟乙磺酸、2-(2, 4-二氟苯基)-1, 1, 2,2-四氟乙磺酸 、2- (2, 5-二氟苯基)-1, 1, 2, 2-四氟乙磺酸、2- (2, 6-二 氟苯基)-1, 1,2,2-四氟乙磺酸、2-(3, 4-二氟苯基)-1, 1,2, 2-四氟乙磺酸、2-(3, 5-二氟苯基)-1, 1, 2,2-四氟 乙磺酸、2-(3,6-二氟苯基)-1,1,2,2-四氟乙磺酸、2-( 2,3, 4, 5, 6-五氟苯基)-1,1, 2, 2-四氟乙磺酸、2-萘- l-基-1,1,2, 2-四氟乙磺酸、2-萘-2-基-1,1,2,2-四氟乙磺酸、 2-雙環[2.2·1]庚-2-基-1, 1,2, 2-四氟乙磺酸、2- ( 5-羥基雙 環[2.2.1]庚-2-基)-1, 1, 2, 2-四氟乙磺酸、2- ( 6-羥基雙環 [2 ·2·1]庚-2-基)-1,1,2, 2-四氟乙磺酸、2- (7,7-二甲基 雙環[2.2.1]庚_2_基)-1,1,2,2_四氟乙磺酸、2-(四環 [6.2.1.1.3,6.02,7]十二碳-4-基)-1,1,2,2-四氟乙磺酸、2-(9-羥基四環[6.2.1.1.3’6.02,7]十二碳-4-基)-1,1,2,2-四 氟乙磺酸、2- ( 10-羥基四環[6.2.1·ΐΛ6·02,7]十二碳-4-基 (48) (48)200415444 )-1 , 1,2,2 -四氟乙磺酸、2 -金剛烷-卜基-1,1,2,2 -四氟 乙磺酸、h (卜金剛烷基)-1, 1,2,2-四氟乙磺酸' 2-金剛 院-2 -基-1,1,2,2 -四氟乙磺酸、2 - ( 3 -經基金剛院-1 -基)· 1 , 1,2,2 -四氟乙磺酸、2 - ( 3 -羥基金剛烷-2 -基)-1 , 1 2 2-四氟乙磺酸等。 上述一般式(VI)所示酸之具體例舉如直鏈狀或岐鏈 狀氟烷基磺酸類,卜位置或2-位置具有脂環狀架構之脂環狀 架構取代基等。 直鏈狀或岐鏈狀之氟烷基磺酸類之例舉如1 -氟乙磺酸 、1-氟-正丙磺酸、1-氟-正丁磺酸、卜氟-正辛磺酸、1, 1-二 氟乙磺酸、1, 1-二氟-正丙磺酸、1,1-二氟-正丁磺酸、1,^ 二氟-正辛磺酸、1-三氟甲基-正丙磺酸、1-三氟甲基-正丁磺 酸、卜三氟甲基-正辛磺酸、1, 1-雙(三氟甲基)乙磺酸、 1,卜雙(三氟甲基)-正丙磺酸、1, 1-雙(三氟甲基)·正 丁磺酸、1,1-雙(三氟甲基)-正辛磺酸等。 卜位置或2-位置具有脂環狀架構之脂環狀架構取代基之 例舉有1,卜二氟甲磺酸類、1,1-二氟乙磺酸類、卜單氟甲磺 酸類、1-單氟乙磺酸類、^三氟甲基甲磺酸類、卜三氟甲基 乙磺酸類、1,1-雙三氟甲基甲磺酸類、1,卜雙三氟甲基乙 磺酸類等之脂環狀架構取代物等。 Μ立置具有脂環狀架構之1, 1-二氟甲磺酸類之具體例舉 如卜環丁基-1,卜二氟甲磺酸、1-環戊基-1,卜二氟甲磺酸、 1-環己基-1,卜二氟甲磺酸、卜苯基-1,1-二氟甲磺酸、卜( 三氟甲基苯基)-1,二氟甲磺酸、卜(2,3 -二氟苯基)- •52- (49) (49)200415444 1,1-二氟甲磺酸、卜(2, 4-二氟苯基)-1,1-二氟甲磺酸、 1- (2,5-二氟苯基)-1,卜二氟甲磺酸、卜(2, 6-二氟苯基 )-1, 1-二氟甲磺酸、1-(3,4-二氟苯基)-1,1-二氟甲磺酸 、1- (3,5-二氟苯基)-1, 1-二氟甲磺酸、1- (3, 6·二氟苯 基)-1,卜二氟甲磺酸、1-(2, 3,4, 5, 6-五氟苯基)-1,1-二氟甲磺酸、卜(萘-卜基)-1,1-二氟甲磺酸、1-(萘-2-基 )-1, 1-二氟甲磺酸、1-(2-雙環[2.2.1]庚基)-1,卜二氟甲 磺酸、卜(5-羥基-2-雙環[2·2· 1]庚基)-1,1-二氟甲磺酸、 1- (6-羥基-2-雙環[2.2.1]庚基)-1,1-二氟甲磺酸、1-(2-7, 7-二甲基雙環[2.2.1]庚基)-1,1-二氟甲磺酸、1-四環 [6·2·1·1·3,6·02,7]十二碳-4-基-1,卜二氟甲磺酸、1-(9-羥基 四環[6.2.1.1.3,6.02’7]十二碳-4-基)-1,1-二氟甲磺酸、1-( 10-羥基四環[6.2.1.1.3,6.02,7]十二碳_4-基)-1,1-二氟甲磺 酸、卜金剛烷-1-基-1,卜二氟甲磺酸、1-金剛烷-2-基-1, 1-二氟甲磺酸、卜(3-羥基金剛烷-1-基)-1, 1-二氟甲磺酸、 卜(3-羥基金剛烷-2-基)-1,卜二氟甲磺酸等。 又,2-位置具有脂環狀架構之1, 1-二氟乙磺酸類之例舉 如2-環丁基-1,卜二氟乙磺酸、2-環戊基-1, 1-二氟乙磺酸、 2- 環己基-1,卜二氟乙磺酸、2·苯基-1,1-二氟乙磺酸、2-( 三氟甲基苯基)-1, 1-二氟乙磺酸、2- (2,3-二氟苯基)- 1, 1-二氟乙磺酸、2· (2,4-二氟苯基)-1, 1-二氟乙磺酸、 2- (2,5-二氟苯基)-1,卜二氟乙磺酸、2- (2, 6-二氟苯基 )-1,卜二氟乙磺酸、2- (3, 4-二氟苯基)-1,卜二氟乙磺酸 、2- ( 3, 5-二氟苯基)-1,卜二氟乙磺酸、2- ( 3, 6-二氟苯 -53 - (50) (50)200415444 基)-1,1- 一 氟乙擴酸、2- (2,3,4, 5,6-五氟/苯基)-1, 二氟乙磺酸、2-(萘-1-基)-:[,^二氟乙磺酸、2-(萘-2、基 )-1,1-二氟乙磺酸、2- (2-雙環[2.2.1]庚基)-1,1-二氟乙 磺酸、2- ( 5-羥基-2-雙環[2.2.1]庚基)-1,卜二氟乙磺酸、 2-(6-羥基-2·雙環[2.2.1]庚基)-1,卜二氟乙磺酸、2-(2、 7,7-二甲基雙環[2.2.1]庚基)-1,卜二氟乙磺酸、2-四壤 [6·2·1·1·3,6·〇2,7]十二碳-4-基-1,1-二氟乙磺酸、2- ( 9-羥基 四環[6.2·1·1.3,6.〇2,7]十二碳-4-基)-1,卜二氟乙磺酸、 1〇-羥基四環[6.2.1.1.3,6.〇2,7]十二碳-4-基)-1,卜二氟乙石黃 酸、2-金剛烷-1-基1, 1-二氟乙磺酸、2-金剛烷-2-基-1,κ: 氟乙磺酸、2- ( 3-羥基金剛烷-1-基)-1,卜二氟乙磺酸、入 (3-羥基金剛烷-2-基)-1,卜二氟乙磺酸等。 上述一般式(VII)所示酸之具體例舉有直鏈狀、岐鍵 狀和環狀之烷磺酸類、芳香族磺酸類、10-樟腦磺酸、或取 代基Rs爲C3〜Cm環狀烴基或C3〜C2G環狀氟烴基,以及當上述 爲衍生物取代基時結合有S03Η基之酸等。 直鏈狀、岐鏈狀和環狀之烷磺酸類之例舉如甲磺酸、 乙磺酸、正丙磺酸、正丁磺酸、異丁磺酸' 第二丁磺酸、 第二丁磺酸、正戊磺酸、正己磺酸、正辛磺酸、環戊磺酸 、環己磺酸等。 又,芳香族磺酸類之例舉如苯磺酸、對-甲苯磺酸、苯 甲磺酸、α _萘磺酸、β _萘磺酸等。 上述〜般式(VIII )所示酸之具體例如乙酸、正丙酸 、丁酸、異丁酸、戊酸、異戊酸、己酸 '苯甲酸、水楊酸 (51) (51)200415444 、酞酸、對-酞酸、α-萘羧酸、々-萘羧酸、環丁羧酸、環 戊羧酸、環己羧酸' 1,卜環丁二元酸、1, 2-環丁二元酸、1, 1- 環戊二元酸、1,2-環戊二元酸、1,3-環戊二元酸、1,卜環 己二元酸、1, 2-環己二元酸、1,3-環己二元酸、1, 4-環己 二元酸、2-降萡烷酸、2,3-降萡烷二元酸、降萡基-2-乙酸 、卜金剛烷羧酸、1 -金剛烷乙酸、1,3 -金剛烷二元酸、1, 3 -金剛烷二乙酸、石膽酸、脫氧膽酸、鵝脫氧膽酸 '膽酸, 取代基Rc爲C3〜C2G環狀烴基或C3〜C2G環狀氟烴基,以及其衍 生物取代基時結合有-COOH基之酸等。 上述一般式(IX)所示酸之具體例如N, N-雙(三氟甲 磺醯基)亞胺酸、N,N-雙(五氟乙磺醯基)亞胺酸、N,N-雙(七氟-正磺醯基)亞胺酸、N,N-雙(九氟-正丁磺醯基 )亞胺酸、N, N-雙(全氟-正辛磺醯基)亞胺酸、N,N-雙 (1, 1,2,2-四氟-正丙磺醯基)亞胺酸、N,N-雙(1,1, 2, 2- 四氟-正丁磺醯基)亞胺酸、N, N-雙(1,1, 2, 2-四氟-正 辛磺醯基)亞胺酸、N-三氟甲磺醯基-N-五氟乙磺醯基亞胺 酸、N-三氟甲磺醯基-N-七氟-正丙磺醯基亞胺酸、N-三氟甲 磺醯基-N·九氟-正丁磺醯基亞胺酸、N-五氟乙磺醯基-N-七 氟-正丙磺醯基亞胺酸、N-五氟乙磺醯基-N-九氟-正丁磺醯 基亞胺酸、N-七氟·正丙磺醯基-N-九氟-正丁磺醯基亞胺酸, 取代基Re爲C3〜C2。環狀烴基或C3〜C2。環狀氟烴基,或其衍生 物取代基時結合以NH·基之酸等。 (52) (52)200415444 產生上述一般式(V )〜(ιχ )所示酸之母核部分有鐺 鹽化口物、硫酿亞肢化合物、碾化合物、磺酸酯化合物、二 磺醯基重氮基甲烷化合物、二磺醯基甲烷化合物、羥基磺酸 酯化合物、胼基磺酸酯化合物等。 上述做爲母核之鐵鹽化合物之例舉如碘鑰鹽、銃鹽( 包括四氫噻吩鎗鹽)、鱗鹽、重氮_鹽、吡啶鐵鹽等。 上述碘鐵鹽之例舉如二苯基碘鑰鹽、雙(4_第三丁基 苯基)碘_鹽、雙(對-甲苯醯)碘鑰鹽、雙(3, 二甲苯 基)_鏺鹽、4-甲氧基苯基·苯基碘鎗鹽、雙(4_氯苯基) 碘鐵鹽、雙(4-三氟甲基苯基)碘鑰鹽、伸聯苯基碘鎗鹽、 雙(2 -萘基)碘_鹽、2 -氯伸聯苯碘鑰鹽等。 ,上述銃鹽之例舉如三苯基銃鹽、4 -第三丁苯基·二苯 基銃鹽、4 -第三丁氧苯基•二苯基銃鹽、4_羥苯基·二苯基 毓鹽、二(4 -甲氧苯基)硫鹽、二(4 -甲氧苯基)·對-甲 苯醯基銃鹽、苯基·伸聯苯基銃鹽、(4 -苯基噻苯基). 二苯基毓鹽、4, 4’-雙(二苯基銃基苯基)硫離子基鹽等之 芳基銃鹽; 二環己基甲基銃鹽、二甲基環己基銃鹽、二環己基锍鹽 等之(環)烷基銃鹽; 環己基· 2 -氧基環己基 '甲基銃鹽、二環己基· 2 -氧基 環己基銃鹽、2 -氧基環己基二甲基疏鹽、雙環[2.2.1]庚-2-基·甲基· (2-氧基環己基)銃鹽、雙環[2.2.1]庚-2-基· 環己基· ( 2 -氧基環己基)銃鹽、1- ( 2 -萘·1-基-2-氧基乙 基)四氫噻吩鏠鹽、1-(2 -蔡-2-基-2-氧基乙基)四氫噻吩 -56 - (53) (53)200415444 _鹽、1- ( 2-氧基-正丁基)四氫噻吩_鹽等之2-氧基銃鹽; 卜(萘-1-基)二甲基銃鹽、1-(萘-1-基)二乙基毓鹽 、卜(4-氰基萘-1-基)二甲基銃鹽、卜(4_氰基萘-1-基) 二乙基銃鹽、1- ( 4-硝基蔡-卜基)二甲基銃鹽、1- ( 〇硝 基萘-1-基)二乙基鏑鹽、1-(4-甲基萘-1-基)二甲基銃鹽 、1-(4·甲基萘q-基)二乙基锍鹽、卜(扣羥基萘基) 四氫噻吩鑰鹽、1- (4·羥基蔡-1_基)二甲基銃鹽、卜(4-經基萘-1-基)二乙基銃鹽等之二烷基·萘-1-基銃鹽等。 上述芳基噻吩_鹽之例舉如1- ( 4-甲氧基萘-1-基)四 氫噻吩錄鹽、Κ(4-乙氧基萘-1-基)四氫噻吩_鹽、1-(4-正丁氧基萘-1-基)四氫噻吩鑰鹽、-甲氧基甲氧基萘-卜基)四氫噻吩鎰鹽、卜(4-乙氧.基甲氧基萘-1-基)四氫 _吩鐵鹽、l-[4- ( 1-甲氧基乙氧基)萘-^基)四氫噻吩鑰 鹽、1-[4- ( 2-甲氧基乙氧基)萘-^基)四氫噻吩_鹽、^ (4 -甲氧基叛基氧基萘-ΐ·基)四氫曝吩_鹽、-乙氧 基羰基氧基萘-1-基)四氫噻吩鑰鹽、^ (4-正丙氧基羰基 氧基萘-1-基)四氫噻吩_鹽、1- (4 -異丙氧基羰基氧基萘-卜基)四氫噻吩鑰鹽、1-(4-正丁氧基羰基氧基萘-1-基) 四氫噻吩鎗鹽、1-(4-第三丁氧基羰基氧基萘-丨-基)四氫 噻吩鑰鹽、1- [ 4 - ( 2 -四氫呋喃氧基)萘-1 _基]四氫噻吩鎗鹽 、:l-[4-(2-四氫哌喃氧基)萘-1-基;|四氫噻吩鑰鹽、 苯甲氧基蔡-1-基)四氫噻吩鑰鹽、4- (4_正丁氧基萘-1-基 )-4-含銃離子二環[5.2.1.02,6]癸烷鹽、(4_乙氧基萘-1-基 )-4-含毓離子二環[5.2.1.02:6]癸院鹽、1_[心雙環[2.2.]]庚- 200415444 2 -基)氧基萘-1·基]四氫噻吩鐵鹽、1-( 3,5 -二甲基·4 -經苯 基)四氫噻吩_鹽、1- (3,5-二甲基-4·乙氧基苯基)四氫 噻吩_鹽、1-(3,5-二甲基-4-丁氧基苯基)四氫噻吩_鹽 等。 上述硫醯亞胺化合物並無特別限制,例如下列一般式 (B 1 -1 )所不化合物。該化合物係由下列一般式(B 1 - 2 ) 所示母核部分和所產酸藉磺醯基氧基結合或酯結合而形成。
V Vj-O-X—R (B1 -1) (上式中,R乃上述一般式(V) 、 (VI) 、 (VII)、( VIII)和(IX)所示所產酸之架構,X示由來於所產酸之結 合基,Y示2價之有機基。)
(上式中,Y示2價有機基。)
上述一般式(B1-1 )中,例如所產酸爲磺酸時,X示磺 醯基;所產酸爲羧酸時,X示羰基。又,所產酸爲亞胺酸時,X -58- (55) 200415444 示N-R’(但是R’示含有磺醯基之有機基或含有羰基之有機 基。),R和R·依存所產酸之構造。 又,構成上述一般式(B1-1)和(Β1-2;)之可並無特 別限制,例如伸甲基、伸乙基、伸正丙基、伸異丙基、伸 正丁基、伸異丁基等之伸烷基;環戊基、環己基、環庚基、 環辛基、雙環[2·2·1]庚烷等之環烷或有機脂環構造由來之二 價之有機基等。 形成硫醯亞胺化合物之上述一般式(Β 1-2 )所示母核 部分之例舉如Ν -羥基琥珀醯亞胺、Ν-羥基二苯基馬來醯亞 胺、Ν-羥基雙環[2·2·1]庚-5-烯-2, 3-二羧基醯亞胺、Ν-羥 基-7-哼基雙環[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧基醯亞胺、Ν-羥基雙 環[2.2.1]庚-5,6-氧基2, 3-二羧基醯亞胺、.羥基萘基醯亞 胺、Ν-羥基酞醯亞胺等。 上述硕化合物之例舉如々-酮硕、万-磺醯基碾、或其 α ••重氮化合物等。 又,上述磺酸酯化合物之例舉如烷磺酸酯、鹵化烷磺 酸酯、芳基磺酸酯、亞胺基磺酸酯等。 上述二磺醯基重氮甲烷化合物並無特別限制,例如下 列一般式(Β )所示化合物。
(Β2) (上式中,R爲上述一般式(V) 、 (VI) 、 (VII) (56) 200415444 VIII)和(IX)所示所產酸之架構,x示所產酸由來之結合 基。 上述一般式(B2 )中,例如所產酸爲磺酸時,X示磺醯 基,所產酸爲羧酸時,X示羰基。又,所產酸爲亞胺酸時,X 示N-R’(但是R’示含有磺醯基之有機基或含有羰基之有機 基。),R和R1依存在所產酸之構造。 上述二磺醯基甲烷化合物雖無特別限制,例如下列一 般式(B 3 )所示化合物。
V R-X--X—R (B3)
W (上式中,R爲上述一般式(V) 、 (VI) 、 (VII)、(
VIII)和(IX)所示所產酸之架構,X示由來於所產酸之結 合基,V或W示芳基,或V和W互相聯結形成至少具有一個不 飽和結合之單環或多環構造,或V和W相互聯結形成下列一 般式(B4 )所示基。) 上述一般式(B 3 )中,例如所產酸爲磺酸時,X示磺 醯基,所產酸爲羧酸時,X示羰基。又,所產酸爲亞胺酸 時,X示N-R’(但是R’示含有磺醯基之有機基或含有羰基之 有機基。),R和R’依存在所產酸之構造。
V (B4) w/n -60 - (57) (57)200415444 (上式,V’和W’可爲相同或不同構造,複數存在之,可 爲相同或不同構造,示氫原子、鹵素原子、烷基、環烷基 、芳基或芳烷基,或結合在相同或不同碳原子之V,和W1相 互聯結而形成碳單環構造,k示2〜1 0之整數。) 上述羥基磺酸酯化合物並無特別限制,例如下列一般 式(B 5 )和一般式(B 6 )所示化合物。
Y
I NC—C^N—〇—X—R (B 5) (上式中,R爲上述一般式(V ) 、 ( VI ) 、 ( VII )、( VIII)和(IX)所示所產酸之架構,X示由來於所產酸之結 合基,Y示一價之有機基。) 上述一般式(B5 )中,例如所產酸爲磺酸時,X示磺醯 基,所產酸爲羧酸時,Χ示羰基。又,所產酸爲亞胺酸時,X 示N-R·(但是R·示含有磺醯基之有機基或含有羰基之有機基 。),R和R’依存在所產酸之構造。 構成上述一般式(Β5 )之Υ之例舉如甲基、乙基、正丙 基、苯基、甲苯磺醯基等。 Υ R —X-〇—N=C一C=N—〇一X~R (B6) (58) (58)200415444
(上式中,R各自獨立爲上述一般式(V ) 、(VI) 、( VII )、(VIII)和(IX )所示所產酸之構造,X示由來於所產 酸之結合基,Υ各自獨立示一價有機基。) 上述一般式(Β 6 )中,例如所產酸爲磺酸時,X示磺 醯基,所產酸爲羧酸時,X示羰基。又,所產酸爲亞胺酸時, X示N-R'(但是IT示含有磺醯基之有機基或含有羰基之有機 基。),R和V依存在所產酸之構造。 構成上述一般式(B6)之Y,例如甲基、乙基、正丙基 、苯基、甲苯磺醯基等。 上述胼基磺酸酯化合物之例舉如二(苯)磺醯基胼、 二(對-甲苯)磺醯基胼、二(三氟甲烷)磺醯基胼、二( 九氟-正丁烷)磺醯基胼、二(正丙烷)磺醯基胼、苯磺醯 基胼、對-甲苯磺醯基胼、三氟甲烷磺醯基胼、九氟-正丁烷 磺醯基胼、正丙烷磺醯基胼 '三氟甲烷磺醯基對-甲苯磺醯 基胼等。 <2-3>產酸劑[B]之例舉 就上述而言,由上述所產酸和上述母核所構成產酸劑 [B]之例舉有二苯基碘鐵三氟甲烷磺酸酯、二苯基碘鐵九氟一 正丁烷磺酸酯、二苯基碘鑰全氟-正辛磺酸酯、二苯基碘鑰 2-雙環[2.2.1]庚-2-基-1,1, 2,2-四氟乙烷磺酸酯、二苯基碘 鑰1,1,2, 2-四氟-2-(5(6)-羥基雙環[2.2.1]庚-2-基)乙 烷磺酸酯、二苯基碘鑰2-四環[6·2.1·l·3,6·02,7]十二碳-4-基-l,l,2,2-四氟乙院磺酸酯、二苯基碘鎰2-(9(10)-經基- -62- (59) 200415444 3-四環[6.2.1.1.3,6.〇2,7]十二烷-4-基)-1,1, 2,2-四氟乙烷 磺酸酯、二苯基碘鎰N, N-雙(三氟甲烷磺醯基)亞胺酸酯 、二苯基碘_N, N-雙(五氟乙烷磺醯基)亞胺酸酯、二苯 基碘_N,N-雙(七氟正丙烷磺醯基)亞胺酸酯、二苯基碘 鑰N,N-雙(九氟-正丁烷磺醯基)亞胺酸酯、二苯基碘鏺苯 磺酸酯、二苯基碘三氟苯磺酸酯、二苯基碘鎰2, 4-二氟 苯磺酸酯、二苯基碘鐵2,3,4,5,6-五氟苯磺酸酯、二苯基 碘_樟腦磺酸酯, 雙(4-第三丁基苯基)碘鏺三氟甲烷磺酸酯、雙(4-第 三丁基苯基)碘鑰九氟-正丁烷磺酸酯、雙(4-第三丁基苯 基)碘鏺全氟-正辛烷磺酸酯、雙(4-第三丁基苯基)碘鑰 2-雙環[2 ·2·1]庚-2-基-1,1,2,2-四氟乙烷磺酸酯、雙(4-第 三丁基苯基)碘錄1, 1,2,2-四氟-2-(5(6)-羥基雙環 [2.2.1]庚-2-基)乙烷磺酸酯、雙(4-第三丁基苯基)碘_ 2-四環[6.2.1.1.3,6.02,7]十二烷-4-基-1,1,2,2-四氟乙烷磺 酸酯、雙(4-第三丁基苯基)碘鑰2-(9(10)-羥基四環 [6·2.1·1·3,6.〇2,7]十二烷-4-基)-1,1,2,2-四氟乙烷磺酸酯 、雙(4 -第二丁基苯基)碘鐵Ν, Ν -雙(三氟甲院磺醯基) 亞胺酸酯雙(4-第三丁基苯基)碘鑰Ν,Ν-雙(五氟乙烷 磺醯基)亞胺酸酯、雙(4-第三丁基苯基)碘鐵Ν, Ν-雙( 七氟-正丙烷磺醯基)亞胺酸酯、雙(4 -第三丁基苯基)碘 鏠Ν, Ν-雙(九氟-正丁烷磺醯基)亞胺酸酯、雙(心第三丁 基苯基)碘鐵苯磺酸酯、雙(4-第三丁基苯基)碘_ 4_三氟 苯磺酸酯、雙(4_第三丁基苯基)碘鐵2,4 -二氟苯磺酸酯、 -63- (60) (60)200415444 雙(4-第三丁基苯基)碘鏠2, 3,4, 5,6-五氟苯磺酸酯、雙 (4 -第三丁基苯基)碘鑰樟腦磺酸酯, 三苯基銃三氧甲院磺酸醋、三苯基硫九氟-正丁垸磺酸 酯、三苯基銃全氟-正辛烷磺酸酯、三苯基銃2 -雙環[2.2.1] 庚-2-基-1,1, 2,2 -四氟乙烷磺酸酯、三苯基銃1,1,2, 2 -四 氟-2- ( 5 ( 6)-羥基雙環[2.2.1]庚-2-基)乙烷磺酸酯、三苯 基銃 2 -四環[6.2.1。1.3,6·02,7]十二碳-4 -基-1,1,2,2 -四氟乙 烷磺酸酯、三苯基銃2-(9 ( 10) •羥基四環 [6.2.1.1.3’6.02’7]十二烷-4-基)-1,1,2,2-四氟乙烷磺酸酯 、三苯基硫N,N -雙(三氟甲院磺醯基)亞胺酸酯、三苯基 毓N,N-雙(五氟乙烷磺醯基)亞胺酸酯、三苯基銃N,1雙 (七氟-正丙烷磺醯基)亞胺酸酯、三苯基銃N, N-雙(九 氣-正丁烷磺醯基)亞胺酸酯、三苯基銃苯磺酸醋、三苯基 硫4 -三氟苯磺酸酯、三苯基銃2,4 -二氟苯磺酸酯、三苯基硫 2,3,4,5,6 -五氟苯磺酸醋、三苯基硫樟腦磺酸酯, 雙環[2.2.1]庚-2-基•環己基· (2-氧基環己基)硫三 氟甲烷磺酸酯、雙環[2.2.1]庚-2-基·環己基· ( 2-氧基環 己基)銃九氟-正丁烷磺酸酯、雙環[2.2.1]庚基·環己基 • (2 -氧基環己基)銃全正辛院磺酸酯、雙環[2 2丨]庚 2-基·環己基· ( 2-氧基環己基)毓2-雙環[2·2·ΐ]庚_2-基 1,1,2,2-四氟乙烷磺酸酯、雙環[2·2·1;^-2_基·環己基. (2-氧基環己基)銃1,1,2,2-四氟j(5 (6)-經基雙環 [2.2.1]庚-2-基)乙烷磺酸酯、雙環基·環己基 • ( 2 -氧基環己基)硫 2 -四環[6.2.1.1.3,6 〇2,7·|_μ ___ • 」丁 —知:-4 -基- (61) (61)200415444 1,1,2,2 -四氟乙烷磺酸酯、雙環[221]庚-2_基·環己基· (氧基環己基)銃2· ( 9 ( 1〇 )-羥基四環 [6·2·1·1· ’6·〇2’7]十一烷基)q,丨,2,2•四氟乙烷磺酸酯 、雙環[2.2.1]庚-2-基·環己基· (2-氧基環己基)锍Ν, Ν_ 雙(三氟甲烷磺酸酯)亞胺酸酯、雙環[221]庚_2_基·環 己基· 氧基環己基)锍Ν,Ν -雙(五氟乙烷磺醯基)亞 胺酸酯、雙環[2.2.1]庚-2-基·環己基· ( 2_氧基環己基) 硫Ν,Ν -雙(七氟·正丙院磺醢基)亞胺酸酯、雙環[2.2.1] 庚-2 -基·環己基· (2 -氧基環己基)銃ν,Ν -雙(九氟-正 丁烷磺醯基)亞胺酸酯、雙環[2.2.1]庚-2-基·環己基·( 2-氧基環己基)毓苯磺酸酯、雙環[2.2.1]庚-2-基·環己基 • (2-氧基環己基)锍4-三氟苯磺酸酯、雙環[2.2.1]庚-2- 基·環己基· (2-氧基環己基)銃2,4-二氟苯磺酸酯、雙 環[2.2.1]庚-2-基.環己基· ( 2-氧基環己基)銃2, 3, 4,5, 6-五氟苯磺酸酯、雙環[2.2.1]庚-2-基·環己基· (2-氧基 環己基)銃樟腦磺酸酯, 1-(2-萘-1-基-2-氧基乙基)四氫噻吩鎗三氟甲烷磺酸 酯、1-(2 -萘-1-基-2-氧基乙基)四氫噻吩鑰九氟-正丁烷磺 酸酯、1- ( 2-萘-1-基-2·氧基乙基)四氫噻吩鎗全氟-正辛烷 磺酸酯、1-(2-萘-1-基-2-氧基乙基)四氫噻吩鐵2-雙環 [2.2.1]庚-2-基-1,1,2, 2-四氟乙烷磺酸酯、1-(2-萘-1-基-2-氧基乙基)四氫噻吩鏺四氟-2-(5(6)-羥基四 環[2.2.1]庚-2-基)乙烷磺酸酯、卜(2-萘-1-基-2-氧基乙基 )四氫噻吩_2-四環[6.2.1.1.3,6.02,7]十二烷-4-基-1,1,2 -65 - (62) (62)200415444 2-四氟乙烷磺酸酯、^(厂萘-卜基氧基乙基)四氫噻吩 鑰2-(8(9)_羥基四環[6.2.1.1.3,6.02,7]十二碳-4-基)-1, 1,2, 2 -四氟乙烷磺酸酯、1-基_2·氧基乙基)四氫 噻吩鏺N,N-雙(三氟甲烷磺醯基)亞胺酸酯、卜(2-萘-卜 基氧基乙基)四氫噻吩鏺N,N-雙(五氟乙烷磺醯基)亞 胺酸酯、1-(2-萘-1-基-2-氧基乙基)四氫噻吩_N,N-雙( 七氟-正丙烷磺醯基)亞胺酸酯、卜(2-萘-1-基-2-氧基乙基 )四氫噻吩鑛N,N-雙(九氟-正丁烷磺醯基)亞胺酸酯、卜 (2 -萘-1-基-2-氧基乙基)四氫噻吩鐵苯磺酸酯、1-(2 -萘-1-基-2-氧基乙基)四氫噻吩鎗4-三氟苯磺酸酯' 1-(2-萘- 1- 基-2-氧基乙基)四氫噻吩_ 2,4-二氟苯磺酸酯、卜(2-萘-1-基-2-氧基乙基)四氫噻吩鑰2,3,4,5,6-五贏苯磺酸 酯、1- ( 2-萘-卜基-2-氧基乙基)四氫噻吩_樟腦磺酸酯, 卜(4-羥基萘- l-基)四氫噻吩鐵三氟甲烷磺酸酯、二 苯基碘鐘九氟-正丁烷磺酸酯、1-(4 -羥基萘-1-基)四氫噻 吩鎗全氟-正辛烷磺酸酯、1- ( 4 -羥基萘-卜基)四氫噻吩鎗 2- 雙環[2.2.1 ]庚-2-基-1,1, 2,2-四氟乙烷磺酸酯、1- ( 4-羥 基萘-1-基)四氫噻吩鑰1,1,2, 2-四氟-2-(5 (6)-羥基雙 環[2.2.1]庚-2-基)乙烷磺酸酯、1-(4-羥基萘-1-基)四氫 噻吩_2-四環[6.2.1.1.3’6.02,7]十二烷-4-基-1,1,2,2-四氟 乙火兀礦酸醋、( 4 -經基蔡-1-基)四氯嘻吩錯2- ( 9 ( 10 )-羥基四環[6.2.1.1.3,6.02,7]十二烷-4-基)-1,1,2,2-四氟 乙烷磺酸酯、卜(4-羥基蔡-卜基)四氫噻吩_]^,N-雙(三 氟甲烷磺醯基)亞胺酸酯、1- ( C羥基萘-卜基)四氫噻吩 -66 - (63) (63)200415444 鐵N,N-雙(五氟乙烷磺醯基)亞胺酸酯、卜(4_羥基萘 基)四氫噻吩鎗N, N-雙(七氟-正丙烷磺醯基)亞胺酸酯 、卜(4-羥基萘-卜基)四氫噻吩鎗n, N-雙(九氟-正丁烷 磺醯基)亞胺酸酯、1- ( 4 -羥基萘-1 -基)四氫噻吩_苯磺 酸酉日、一本基碘^翁4·二氣甲院礦酸醋、1- ( 4 -淫基蔡-1-基 )四氫噻吩鐵2,4-二氟苯磺酸酯、卜(4-羥基萘-卜基)四 氫噻吩鏺2, 3, 4, 5, 6-五氟苯磺酸酯、1- ( 4-羥基萘-1-基) 四氫噻吩鑰樟腦磺酸酯, 1-(4 -正丁氧基萘-1-基)四氫噻吩鐵Η氟(甲院磺酸酯 、1-(4 -正丁氧基萘-卜基)四氫噻吩_九氟-正丁烷磺酸 酯、卜(4-正丁氧基萘-1-基)四氫噻吩鎗全氟-正辛烷磺 酸酯、1- ( 4-正丁氧基萘-1-基)四氫噻吩_ 2-雙環[2·2·1] 庚-2-基-1,1,2,2-四氟乙烷磺酸酯、1- (4-正丁氧基萘-1-基)四氫噻吩鑰1, 1, 2, 2-四氟-2- ( 5 ( 6 )羥基雙環[2.2.1] 庚-2-基)乙烷磺酸酯、1-(4-正丁氧基萘-1·基)四氫噻吩 四環[6·2·1.ιΛ6·02’7]十二烷-4-基-1、1,2,2-四氟乙烷 磺酸酯、1-(4-正丁氧基萘-卜基)四氫噻吩鑰2-四環 [6.2.1.1.3,6.02,7]十二烷-4-基-1,1, 2,2-四氟乙烷磺酸酯、 卜(4-正丁氧基萘-1-基)四氫噻吩鑰N, N-雙(三氟甲烷 磺醯基)亞胺酸酯、1-(4-正丁氧基萘-1-基)四氫噻吩鑰 N, N-雙(五氟乙烷磺醯基)亞胺酸酯、1-(4-正丁氧基 萘-1-基)四氫噻吩鑰N, N-雙(七氟-正丙烷磺醯基)亞胺 酸酯、1-(4-正丁氧基萘-1-基)四氫噻吩_1 N-雙(九 氟-正丁烷磺醯基)亞胺酸酯、卜(4-正丁氧基萘-1-基)四 -67- (64) (64)200415444 氫噻吩鑰苯磺酸酯、卜(4-正丁氧基萘-1-基)四氫噻吩鏺 4-三氟苯烷磺酸酯、卜(4-正丁氧基萘-1-基)四氫噻吩鑰 2,4-二氟苯磺酸酯、卜(4-正丁氧基萘-卜基)四氫噻吩鐵 2,3, 4, 5, 6-五氟苯磺酸酯、1-(4-正丁氧基萘-1-基)四 氫噻吩鑰樟腦磺酸酯, (4-正丁氧基萘-1-基)-4-含銃離子三環[5.2.1.02,6]癸 烷三氟甲烷磺酸酯、(4-正丁氧基蔡-1-基)-4-含毓離子三 環[5.2.1.02,6]癸烷九氟-正丁烷磺酸酯、(4-正丁氧基萘-1-基)-4-含毓離子三環[5.2.1.02’6]癸烷全氟-正辛烷磺酸酯、 (扣正丁氧基萘-1-基)-4-含銃離子三環[5.2.1.02’6]癸烷2-雙 環[2.2.1]庚-2-基-1, 1,2, 2-四氟乙烷磺酸酯、(4-正丁氧基 萘-1-基)-4-含毓離子三環[5.2.1.02’6]癸烷1,1,2, 2-四氟-2-(5 ( 6 )-羥基雙環[2·2·1]庚-2-基)乙烷磺酸酯、(‘正丁 氧基萘基)-4·含銃離子三環[5.2.1.02,6]癸烷2-四環 [6.2.1.1.3,6.02,7]十二碳-4-基-1,1,2,2-四氟乙烷磺酸酯、 (4-正丁氧基萘-1-基)_4-含毓離子三環[5.2.1.02,6]癸烷2· (9(10)-羥基四環[6丄1.1.3,6.02,7]十二烷-4-基)-1,1, 2,2 -四氟乙烷磺酸酯、(4-正丁氧基萘-卜基)-4-含銃離子 三環[5.2.1.02,6]癸烷Ν, Ν-雙(三氟甲烷磺醯基)亞胺酸酯 、(4-正丁氧基萘-1-基)-4-含銃離子三環[5.2.1.〇2’6]癸烷 Ν,Ν-雙(五氟乙烷磺醯基)亞胺酸酯、(4-正丁氧基萘-1-基)-4-含銃離子三環[5.2.1.02’6]癸烷Ν,Ν-雙(七氟-正丙烷 磺醯基)亞胺酸酯、([正丁氧基萘-卜基)'心含疏離子三 環[5.2.1.02,6]癸烷N, N-雙(九氟-正丁烷磺醯基)亞胺酸酯 -68- (65) (65)200415444 、二苯基碘鐵苯擴酸酯、(心正丁氧基萘-卜基)-4-含銃離 子三環[5.2.1.02,6]癸烷2, 4_二氟苯磺酸酯、(4-正丁氧基 萘-1-基)-4 -含硫離子三環[5.2.1.0 ]2,3,4,5,6 -五氯本磺 酸酯、(4· 丁氧基萘-卜基)含銃離子三環[5.2.1· 02,6]癸 烷樟腦磺酸酯, 1-( 3, 5-二甲基-4-羥苯基)四氫噻吩鎗三氟甲烷磺酸 酯、1-(3,5-二甲基-4-羥苯基)四氫噻吩鐵九氟·正丁烷磺 酸酯、1- ( 3, 5-二甲基-4-羥苯基)四氫噻吩鑰全氟-正辛烷 磺酸酯、1- ( 3,5-二甲基-[羥苯基)四氫噻吩_ 2-雙環 [2.2.1]庚-2-基-1,1,2, 2-四氟乙烷磺酸酯、1- ( 3, 5-二甲基-4-羥苯基)四氫噻吩鑰1,1,2, 2-四氟-2- ( 5 ( 6)-羥基雙環 [2 ·2·1]庚-2-基)乙烷磺酸酯、卜(3,5-二甲基-4-羥苯基) 四氫噻吩鎗2-四環[6.2.1 . 1 .3’6.〇2’7]十二烷-4-基-1, 1,2, 2-四 氟乙烷磺酸酯、卜(3, 5-二甲基-4-羥苯基)四氫噻吩_ 2-( 9(10)-羥基四環[6.2.1.1.3’6.〇2’7]十二碳-4.基)-1,1,2, 2-四氟乙烷磺酸.醋、卜(3,5-二甲基-4-羥苯基)四氫噻吩鎰 Ν,Ν-雙(三氟甲烷磺醯基)亞胺酸酯、1- ( 3, 5-二甲基-4-羥苯基)四氫噻吩鑰Ν,Ν-雙(五氟乙烷磺醯基)亞胺酸酯 、1- ( 3,5-二甲基-4-羥苯基)四氫噻吩鎗Ν,Ν-雙(七氟-正 丙烷磺醯基)亞胺酸酯、卜(3,5-二甲基-4-羥苯基)四氫 噻吩_Ν,Ν-雙(九氟-正丁烷磺醯基)亞胺酸酯、1- ( 3, 5_ 二甲基-4-羥苯基)四氫噻吩鑰苯磺酸酯、!- ( 3, 5-二甲基-4-羥苯基)四氫噻吩鏺4-三氟苯磺酸酯、1- ( 3,5 _二甲基-4· 羥苯基)四氫噻吩鎗2,4-二氟苯磺酸酯、1- ( 3,5.二甲基. •69- (66) (66)200415444 4- 羥苯基)四氫噻吩鎗2, 3, 4,5,6-五氟苯磺酸酯、1-(3, 5- 二甲基-4-羥苯基)四氫噻吩鑰樟腦磺酸酯, 1- ( 3, 5-二甲基-4-丁氧基苯基)四氫噻吩鎗三氟甲烷 磺酸酯、1- (3, 5-二甲基-4-丁氧基苯基)四氫噻吩_九氟-正丁烷磺酸酯、1- (3, 5-二甲基-4-丁氧基苯基)四氫噻吩 _全氟-正辛烷磺酸酯、〗·( 3, 5-二甲基-4-丁氧基苯基)四 氫噻吩鑰2-雙環[2.2.1]庚-2-基-1,1,2, 2-四氟乙烷磺酸酯、 卜(3, 5-二甲基-4-丁氧基苯基)四氫噻吩鏺1,1, 2, 2-四氟-2- ( 5 ( 6 )-羥基雙環[2.2.1]庚-2-基)乙烷磺酸酯、1- ( 3, 5-二甲基-4- 丁氧基苯基)四氫噻吩鑰2-四環 [6.2·1·1·3’6.02’7]十二烷-肛基·丨,丨,2, 2-四氟乙烷磺酸酯、ΙΟ, 5-二甲基 ·4·丁氧基苯基) 四氫噻吩_ 2-(9(10) -羥基 四環[6.2.1.1.3,6.〇2’7]十二烷-4-基)-1,1,2,2-四氟乙烷磺 酸酯、卜(3, 5-二甲基-4-丁氧基苯基)四氫噻吩錫N,N-雙 (三氟甲烷磺醯基)亞胺酸酯、卜(3, 5-二甲基-4-丁氧基 苯基)四氫噻吩_ N,N-雙(五氟乙烷磺醯基)亞胺酸酯、 1- ( 3,5-二甲基-4-丁氧基苯基)四氫噻吩鑰N, N-雙(七氟-正丙烷磺醯基)亞胺酸酯、1- (3, 5-二甲基-4-丁氧基苯基 )四氫噻吩鑰N,N-雙(九氫-正丁烷磺醯基)亞胺酸酯、卜 (3, 5-二甲基-4-丁氧基苯基)四氫墙吩鑰苯磺酸酯、1- ( 3, 5-二甲基-心丁氧基苯基)四氫噻吩鑰4-三氟苯磺酸酯、1-( 3, 5-二甲基-4-丁氧基苯基)四氫噻吩_2,4-二氟苯磺酸酯 、1-(3, 5-二甲基-4-丁氧基苯基)四氫噻吩鎰2,3,4,5,6· 五氟苯磺酸酯、1- (3,5-二甲基-4-丁氧基苯基)四氫噻吩 -70- (67) 200415444 _樟腦磺酸酯, N-(三氟甲烷磺醯氧基)琥珀醯亞胺、(九氟-正丁 烷磺醯氧基)琥珀醯亞胺、Ν-(全氟-正辛烷磺醯氧基)琥 珀醯亞胺、Ν- (2-雙環[2.2·1]庚-2-基-1, 1,2, 2-四氟乙烷 石黃醯氧基)號拍醯亞胺、N-(l, 1,2, 2 -四氟- 2-(5(6) -羥基雙環[2·2·1]庚-2-基)-乙烷磺醯氧基)琥珀醯亞胺、N_ (2-四環[6丄1.1.3,6.02,7]十二碳-4-基)_1,1,252-四氟乙 烷磺醯氧基)琥珀醯亞胺、1(2-(9(10)-羥基四環 [6.2.1.1.3’6.02,7]十二烷-4-基)-1,1,2,2-四氟乙烷磺醯氧 基)琥珀醯亞胺、N-(苯磺醯氧基)琥珀醯亞胺、N_ ( 4_ 三氟甲基苯磺醯氧基)琥珀醯亞胺、N-( 2,4-二氟苯磺醯 氧基)琥拍醯亞胺、N- (2, 3, 4,5,6-五氟苯磺醯氧基)琥 拍醯亞胺、N-(樟腦磺醯氧基)琥珀醯亞胺、& (三氟甲 烷磺醯氧基)雙環[2.2.1]庚-5-烯_2,3 -二羧基亞胺、N-(九 氟-正丁烷磺醯氧基)雙環[2.2.1;|庚-5-烯-2,二羧基亞胺、
3-二羧 氟乙烷磺醯氧基) 1,2, 2-四蕹乙烷磺醯 N- ( 1, 1, 2, 乙烷磺醯氧基 羧基亞胺、N- ( 2-四環 -1, 1,2,2-四氟乙烷磺醯氧 •1.,.0,]十二烷_4-基)_1,1,2,2-四 雙環[2.2.1卜5_烯_2, 3-二羧基亞胺、N_ ( -71 - (68) (68)200415444 苯磺醯氧基)雙環[2·2.1]庚- :5 -烯_2,3 -二羧基亞胺、N-(4-三氟甲基苯磺醯氧基)雙環[2.2.1]庚烯-2,%二羧基亞胺 、N-(2,4-二氟苯磺醯氧基)雙環[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧 基亞胺、Ν-(2,3, 4,5, 6-五氟甲基苯磺醯氧基)雙環 [2·2·1]庚-5-烯-2,3 -二羧基亞胺、Ν-(樟腦磺醯氧基)雙環 [2.2。1]庚-5-烯-2, 3-羧基亞胺, Ν-(三氟甲烷磺醯氧基)-7-卩琴基雙環[221]庚-5-烯' 二羧基亞胺、Ν-(九氟-正丁烷磺醯氧基)哼基雙環 [2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧基亞胺、Ν-(全氟_正辛烷磺醯氧 基)-7-Df基雙環[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧基亞胺、Ν- ( 2-雙 環[2·2·1]庚-2-基-1, 1,2,2-四氟乙烷磺醯氧基)·7_鸣基雙 環[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧基亞胺、Ν_ (丨,丨,2, 2·四氟 (5(6)-經基雙環[2.2.1]庚-2-基)乙烷磺醯氧基)-7_口琴 基雙環[2.2.1]庚-5 -烯-2,3 -二羧基亞胺、N- ( 2 -四環 [6.2.1.1.3’6.〇2’7]十二烷-4-基)-1,1,2,2_四氟乙烷磺醯氧 基)-7-卩f基雙環[2.2.1]庚-5-烯-2, 3-二羧基亞胺、(2- (9(10)-羥基四環[6.211.3,6〇2,7]十二烷_4_基)_1,1 2,2-四氟乙烷磺醯氧基)-7•鸣基雙環[2,21]庚_5·烯·2,、 一羧基亞胺、N-(苯磺醯氧基)哼基雙環[221]庚巧一 烯-2, 3-二羧基亞胺、N_ ( 4_三氟甲基苯磺醯氧基)_7_吗基 雙環[2·2·η庚m 3·:關亞胺、Ν· (2,4•二氟苯礦醒 氧基)-7-鳄基雙環[2·2·1]庚-5-烯-2, 3-二羧基亞胺' Ν_ ( 2, 3, 4,5,6-五氟苯磺醯氧基)_7·鳄基雙環[221]庚_5·烯 3-二羧基亞胺、Ν-(樟腦磺醯氧基)鳄基雙環[2.21]庚— -72 - (69) (69)200415444 5-烯-2, 3-二羧基亞胺等。 其中較佳者如下:二苯基碘_三氟甲烷磺酸酯、二苯 基碘鎗九氟-正丁烷磺酸酯、二苯基碘鑰全氟-正辛烷磺酸酯 、二苯基碘鐵2-雙環[2.2.1]庚-2-基-1,1,2, 2-四氟乙烷磺酸 酯、二苯基碘 _2-四環[6·2·1·1·3,6·02,7]十二烷-4-基-1,1,2, 2-四氟乙烷磺酸酯、二苯基碘_Ν,Ν-雙(九氟-正丁烷磺醯 基)亞胺酸酯、二苯基碘鑰樟腦磺酸酯、雙(4-第三丁基苯 基)_鐵三氟甲院磺酸酯、雙(4 -第三丁苯基)磺_九氟· 正丁烷磺酸酯、雙(4-第三丁基苯基)磺鑰全氟-正辛烷磺 酸酯、雙(4-第三丁基苯基)碘鑰2-雙環[2.2.1]庚-2-基-1, 1,2,2-四氟乙烷磺酸酯、雙(4-第三丁基苯基)碘_2-四 環[6.2.1.1.3’6.02,7]十二碳-4-基-1,1,2,2-四氟乙烷磺酸酯 、雙(4_第三丁基苯基)碘鑰Ν,Ν-雙(九氟-正丁烷磺醯基 )亞胺酸酯、雙(4·第三丁基苯基)碘_樟腦磺酸酯, 三苯基毓三氟甲烷磺酸酯、三苯基銃九氟-正丁烷磺酸 酯、三苯基銃全氟-正辛烷磺酸酯、三苯基銃2-雙環[2.2.1] 庚-2 -基-1,1,2,2-四氟乙烷磺酸酯、三苯基銃2 -四環 [6.2·1·1·3’6·02,7]十二烷-4-基-1,1, 2,2·四氟乙烷磺酸酯、 三苯基銃Ν,Ν-雙(九氟-正丁烷磺醯基)亞胺酸酯、三苯 基銃樟腦磺酸酯, 1-(4-正丁氧基萘-1-基)四氫噻吩鑰三氟甲烷磺酸酯、 卜(4-正丁氧基萘-1-基)四氫噻吩_九氟-正丁烷磺酸酯、 卜(4-正丁氧基萘-1_基)四氫噻吩鐺全氟-正辛烷磺酸酯、 1- ( 4-正丁氧基萘-卜基)四氫噻吩錫2-雙環[2.2.1]庚-2-基- (70) (70)200415444 1,1, 2,2 -四氟乙院磺酸醋、卜(4 -正丁氧基萘-卜基)四氫 噻吩鑰2-四環[6.2· 1·1.3,6·〇2,7]十二烷-4-基-1,1,2, 2-四氟乙 烷磺酸酯、1- ( 4-正丁氧基萘-1-基)四氫噻吩_ Ν, Ν-雙( 九氟-正丁烷磺醯基)亞胺酸酯、卜(4 -正丁氧基萘-1-基) 四氫噻吩鑰樟腦磺酸酯, 1-(3,5-二甲基-4-羥苯基)四氫噻吩_三氟甲烷磺酸 酯、卜(3,5-二甲基-4-羥苯基)四氫噻吩鎗九氟-正丁烷磺 酸酯、卜(3,5-二甲基-4-羥苯基)四氫噻吩鑰全氟-正辛烷 磺酸酯、1- ( 3,5-二甲基-4-羥苯基)四氫噻吩鑰2-雙環 [2·2· 1]庚-2-基-1,1, 2, 2-四氟乙烷磺酸酯、1- ( 3, 5-二甲基- 4- 羥苯基)四氫噻吩鏺2-四環[6·2.1·l·3,6·02,7]十二烷-4-基-l,l,2,2-四氟乙烷磺酸酯、卜(3,5-二甲基-4-羥苯基)四 氫噻吩鐵Ν,Ν-雙(九氟-正丁烷磺醯基)亞胺酸酯、1- (3, 5- 二甲基-4-羥苯基)四氫噻吩鐵樟腦磺酸酯, Ν-(三氟甲烷磺醯氧基)琥珀醯亞胺、Ν-(九氟-正丁 烷磺醯氧基)琥珀醯亞胺、Ν- ( 2-雙環[2.2.1]庚-2-基-1,1, 2,2 -四氟乙烷磺醯氧基)琥珀醯亞胺、Ν- (2 -四環 [6·2.1·1·3,6.〇2’7]十二烷-4-基-1,1, 2, 2-四氟乙烷磺醯氧基 )琥班醢亞胺' Ν -(樟腦磺醯氧基)號珀醯亞胺, Ν-(二每甲院磺醯氧基)雙環[2_2.1]庚-5·嫌-2, 3 -二殘 基亞胺、Ν-(九氟-正丁院擴酶氧基)雙環[2.2.1]庚-5-燦-2, 3 -二殘基亞胺、Ν-(全氟-正辛院磺酿氧基)雙環[2.2.1]庚_ 5 -燒-2,3 -二殘基亞胺、Ν· ( 2 -雙環[2·2·]]庚-2-基-1,1,2, 2 -四氟乙院擴醯氧基)雙環[2.2.1]庚.5 -燒-2 3 -二雜其亞胺 -74- (71) (71)200415444 、>^(2-四環[6.2.1.1.3,6.02’7]十二烷-4-基-1,1,2,2_四氟 乙烷磺醯氧基)雙環[2.2·1]庚-5-烯-2,3-二羧基亞胺、N-( 樟腦磺醯氧基)雙環[2.2.1]庚-5-烯-2, 3-二羧基亞胺等。 上述產酸劑[B]可單獨一種或調配2種以上使用。 本發明之輻射線感應樹脂組成物中之上述產酸劑[B]含 量,以上述樹脂[A]100質量份計,一般使用0.1〜20質量份, 其中以0.1〜1 5質量份爲較佳,尤以0 . 1〜1 0質量份爲更佳。 藉該範圍之使用量可充分確保做爲光阻之感應度和顯像性 。又,上述產酸劑[B]之含量未滿0.1質量份時,感應度和顯 像性有下降之傾向,相反地,超過1 0質量份時,對於輻射線 之透明性降低,有難獲得長方形之光阻圖案之傾向。 (3 )添加劑 本發明之輻射線感應樹脂組成物可含有各種添加劑。 其中,以調配能控制由曝光自產酸劑[B]產生之酸在光阻被 覆膜中之擴散現象,而具有在非曝光領域中抑制不必要之化 學反應用之酸擴散抑制劑[C]爲較佳。 上述酸擴散抑制劑以不會由於光阻圖案形成工程中之 曝光或加熱處理而其鹼性發生變化之含氮有機化合物爲較 佳。 上述含氮有機化合物並無特別限制,例如下列一般式 (X)所示化合物、第四級銨羥基化合物、含醯胺化合物、 尿素化合物、含氮雜環化合物等。 (72) (72) 200415444 R备Hr⑻ (上式中,各個R各自獨立示氫原子,具有取代基或無取代 基之直鏈狀、岐鏈狀或環狀院基,具有取代基或無取代^ 之芳基,或具有取代基或無取代基之芳烷基,X示二價;^ 機基,η不0〜2之整數。) 構成上述一般式(X )之取代基R具有官能基時,其例 舉有羥基等,該取代基可爲1種或2種以上結合而成。 寒 上述一般式(X )中,η示0時之化合物稱爲「含氮化合 物(a)」。又,η示1〜2時之化合物稱爲「含氮化合物(b ) 」。又,含有3個以上之氮原子之多胺化合物或聚合物稱爲 「含氮化合物(c )」。 上述含氮化合物(a )之例舉有正己胺、正庚胺、正辛 胺、正壬胺、正癸胺、環己胺等之單(環)烷胺類;二正丁 胺、二正戊胺、二正己胺、二正庚胺、二正辛胺、二正壬胺 、二正癸胺、二環己甲胺、二環己胺等之二(環)烷胺類; 馨 三乙胺、三正丙胺、三正丁胺、三正戊胺、三正己胺、三正 庚胺、三正辛胺、三正壬胺、三正癸胺、環己基二甲胺、二 環己基甲胺、三環己胺等之三(環)烷胺類;苯胺、N-甲基 苯胺、N,N-二甲基苯胺、2-甲基苯胺、3-甲基苯胺、4_甲基 苯胺、4-硝基苯胺、2, 6-二甲基苯胺、2, 6-二異丙基苯胺、 二苯基胺、三苯基胺、萘胺等之芳香族胺類。 上述含氮化合物(b )之例舉有乙烯二胺、N,N, N1, 四甲基乙烯二胺、N, N,N,,Ν’-四個(2-羥丙基)乙烯二 -76- (73) (73)200415444 胺、伸丁基二胺、1,3-雙[1- ( 胺苯基)甲基乙基]苯伸 丁基二胺、伸己基二胺、4,4,-二胺基二苯基甲烷、4, 4,-二 胺基二苯基醚、4,4’ -二胺基二苯甲酮、4,4,-二胺基二苯基 胺、2,2-雙(4-胺基苯基)丙烷、2_(3_胺基苯基)一 胺基苯基)丙烷、2- (4 -胺基苯基)-2- (3 -羥苯基)丙烷 、2- (4-胺基苯基)-2- (4-羥苯基)丙烷、1,4-雙[1-(4-胺基苯基)-1-甲基乙基]苯、1,3 -雙[1-(4 -胺基苯基)-1-甲基乙基]苯、雙(2-二甲基胺基乙基)醚、雙(2-二乙基 胺基乙基)醚等。 又,上述含氮化合物(c)之例舉如聚乙烯亞胺、聚丙 烯胺、2-二甲基胺基乙基丙烯醯胺之聚合物等。 上述一般式(X )所示化合物以外,可做爲酸擴散抑制 劑[c]使用之上述第四級銨羥基化合物之例舉有四甲基氫氧 化銨、四乙基氫氧化銨、四正丙基氫氧化銨、四正丁基氫氧 化銨等。 上述含醯胺基化合物之例舉如N-第三丁氧基羰基二正 辛胺、N-第三丁氧基羰基二正壬胺、N-第三丁氧基羰基二 正癸胺、N-第三丁氧基羰基二環己胺、N-第三丁氧基羰基-1-金剛烷胺、N-第三丁氧基羰基-N-甲基-1-金剛烷胺、N, N-二第三丁氧基羰基-1-金剛烷胺、N,N-二第三丁氧基羰 基-N-甲基-金剛烷胺、N-第三丁氧基羰基_4, 4’_二胺基二 苯基甲烷、N, N、二-第三丁氧基羰基伸己基二胺、Ν, Ν, Ν’, Ν’-四-第三丁氧基羰基伸己基二胺、Ν, Ν'二-第三丁氧基羰 基-1,7-二胺基庚烷、Ν, Ν’-二-第三丁氧基羰基8-二胺基 -77 - (74) (74)200415444 辛烷、Ν,Ν’-二-第三丁氧基羰基-1,9-二胺基壬烷' N, N、 二-第三丁氧基羰基-1, 10-二胺基癸烷、Ν,Ν’-二-第三丁氧 基羰基-1,12-二胺基十二烷、Ν,Ν,·二-第三丁氧基羰基-4, 4·-二胺基二苯基甲烷、Ν-第三丁氧基羰基苯駢咪唑、Ν-第 三丁氧基羰基-2-甲基苯駢咪唑、Ν-第三丁氧基羰基-2-苯基 苯駢咪唑等之含Ν-第三丁氧基羰基之胺化物;甲醯胺、N—甲 基甲醯胺、Ν,Ν-二甲基甲醯胺、乙醯胺、Ν-甲基乙醯胺、 Ν,Ν-二甲基乙醯胺、丙醯胺、苯甲醯胺、吡略烷酮、…甲 基吡咯烷酮等。 上述尿素化合物之例舉如尿素、甲基尿素、1, 1-二甲 基尿素、1,3-二甲基尿素、1,1, 3, 3-四甲基尿素、1, 3-二 苯基尿素、三正丁基尿素等。 上述含氮雜環化合物之例舉如咪Π坐、4 -甲基咪D坐、1-苯 甲基-2-甲基咪Π坐、4 -甲基-2-苯基咪D坐、苯駢咪d坐、2 -苯基 苯駢咪唑等之咪唑類;Dtt啶、2 _甲基吡啶、4 -甲吡D定、2 -乙基 吡啶、4 -乙基吡啶、2 -苯基吡啶、4 -苯基吡啶、2 -甲基-4 -苯 基吡啶、菸鹼、薛鹼酸、菸鹼醯胺、喹啉、4 -經基喹啉、8 -氧基喹啉、吖Π定等之吡啶類;六氫吡哄、1 - ( 2 -經乙基)六 氫吼啡等之六氫吡哄類之外、吡哄、吡d坐、塔啡、嗤Π若啉、 嘌呤、吡咯啶、六氫吡啶、3-N-六氫吡啶-1, 2-丙二醇、嗎 福啉、4-甲基嗎福啉、1,4-二甲基六氫吡哄' 〗,‘重氮基雙 環[2.2 · 2 ]辛烷等。 上述含氮有機化合物中,以含醯胺化合物、含氮雜環 化合物爲較佳。含醯胺化合物中以含第三丁氧基羰基胺化 (75) (75)200415444 物爲較佳。含氮雜環化合物以咪唑類爲較佳。又,上述含 氮有機化合物可單獨一種或調配2種以上而使用。 上述酸擴散抑制劑[C]之調配量,以上述樹脂[A]100質 量份計,一般使用0.001〜15質量份,其中以用0.01〜10質量 份爲較佳,尤以0.01〜5質量份爲更佳。藉上述範圍之調配量 可使所得輻射線感應樹脂組成物之貯藏安定性提升。又, 做爲光阻之解像度也會提升,同時可抑制自曝光到顯像處理 間之留置時間(PED )之變動所造成光阻圖案之線幅變化, 而獲得製程安定性極佳之組成物。 又,上述酸擴散抑制劑[C]之調配量超過1 5質量份時, 做爲光阻之感應度或曝光部分之顯像性有下降之傾向。相反 地,未滿0.001質量份時,隨製程條件,做爲光阻之圖案形 狀或尺寸安定性有下降之危險。 本發明之輻射線感應樹脂組成物中之樹脂[A],產酸 劑[B]和酸擴散抑制劑[C]之較佳調配比率如下。即,對於上 述樹脂[A]100質量份計,通常,上述產酸劑[B]爲0.1〜20質量 份,上述酸擴散抑制劑[C]爲0.001〜15質量份,其中以上述 產酸劑[B]爲0.1〜15質量份,上述酸擴散抑制劑[C]爲0.01〜10 質量份爲較佳,尤以上述產酸劑[B]爲0.1〜10質量份,上述 酸擴散抑制劑[C]爲0.01〜5質量份爲更佳。 本發明之輻射線感應樹脂組成物中,尙可添加有助改 善乾蝕刻耐性、圖案形狀、和基板間之粘接性等作用之添 加劑。該添加劑可含有酸解離性官能基者,也可以爲不含有 酸解離性官能基者。其具體例舉有金剛烷羧酸第三丁酯 - 79 - (76) (76)200415444 、1-金剛烷羧酸第三丁氧基羰基甲酯1-金剛烷羧酸^ -丁內 酯酯、1-1, 3-金剛烷二羧酸二第二丁酯、卜金剛烷乙酸第三 丁酯、1-金剛烷乙酸第三丁氧基羰基甲酯、1,3-金剛烷二 乙酸二第三丁酯、2, 5-二甲基-2, 5-雙(金剛烷羰基氧基) 己烷等之金剛烷衍生物類; 脫氧膽酸第三丁酯、脫氧膽酸第三丁氧基羰基甲酯、脫 氧膽酸2-乙氧基乙酯、脫氧膽酸2-環己氧基乙酯、脫氧膽酸 3-氧基環己酯、脫氧膽酸四氫哌喃、脫氧膽酸甲羥戊酸內酯 等之脫氧膽酸酯類; 石膽酸第三丁酯、石膽酸第三丁氧基羰基甲酯、石膽酸 2 -乙氧基乙醋、石膽酸2 -環己氧基乙酯、石膽酸3 -氧基環己 酯、石膽酸四氫哌喃、石膽酸甲羥戊酸內酯等之石膽酸酯類 己二酸二甲酯、己二酸二乙酯、己二酸二丙酯、己二酸 二正丁酯、己二酸二第三丁酯等之烷基羧酸酯類等。其中 以1 -金剛烷羧酸第三丁酯、1,3 -金剛烷二羧酸二第三丁酯 、1-金剛烷乙酸第三丁酯、2, 5-二甲基-2,5-二(金剛烷羰 基氧基)己烷、脫氧膽酸第三丁酯、脫氧膽酸第三丁氧基 羰基甲酯、石膽酸第三丁酯、石膽酸第三丁氧基幾基甲醋、 己二酸二正丁酯等爲較佳。又,上述可單獨一種或2種以上 調配使用。 上述添加劑之調配量乃對於上述樹脂[A ] 1 〇 〇質量份計, 通常使用50質量份以下,其中以1〜30質量份爲較佳。又, 上述添加劑之調配量超過5 0質量份時,做爲光阻之耐熱性 -80 - (77) (77)200415444 有降低之傾向 又,本發明之輻射線感應樹脂組成物中,也可調配改 善塗布性,顯像性等作用之界面活化劑。該界面活化劑可 使用陰離子系界面活化劑、陽離子系界面活化劑、非離子 系界面活化劑之任意種類,其中以使用非離子系界面活化 劑爲較佳。其具體例舉如聚氧化乙烯月桂基醚、聚氧化乙 烯硬脂基醚、聚氧化乙烯油基醚、聚氧化乙烯正辛苯基醚 、聚氧化乙烯正壬苯基醚、聚乙二醇二月桂酯、聚乙二醇 二硬脂醋等。除上述之外,商品名爲KP341 (日本信越化 學工業公司製品)、聚夫羅Νο·75、聚夫羅No.95(日本共 榮社化學公司製品)、愛夫托布EF301、EF303、EF352 ( 陶肯姆產業公司製品)、美加費克司F171、F173(大日本 油墨化學工業公司製品)、夫羅拉多FC430、FC431(住 友三Μ公司製品)、旭卡多AG710、撒夫隆S-382、SC-101 、SC-102、SC-103、SC-104、SC-105、SC-106 (旭玻璃公 司製品)等也可採用。上述界面活化劑可單獨一種或2種 以上調配使用。 又,上述界面活化劑之調配量,對於樹脂[Α]和產酸 劑[Β]之合計量100質量份計,通常在2質量份以下,其中 以0.001〜2質量份爲較佳。 又,本發明之輻射線感應樹脂組成物中,可調配具有 改良感應度等作用之增感劑。其例舉如咔唑類、二苯甲酮 類、紅色氧化鐵類、蒽類、酚類等。上述可單獨一種或2 種以上調配使用。 -81 - (78) 200415444 上述增感劑之調配量,對於樹脂[A] 100質量 常在50質量份以下,其中以1〜20質量份爲較佳。 本發明之輻射線感應樹脂組成物中可調配之 劑,例如防光暈劑、粘接助劑、保存安定化劑、 (4 )溶劑 本發明之輻射線感應樹脂組成物,可將樹f 酸劑[B]等溶解於溶劑而成。該溶劑之例舉如2-了 酮、3-甲基-2-丁酮、2-己酮、4-甲基-2-戊酮、3-酮、3, 3-二甲基-2-丁酮、2-庚酮、2-辛酮等之直 鏈狀之酮類; 環戊酮、3-甲基環戊酮、環己酮、2-甲基環 6-二甲基環己酮、異佛爾酮等之環狀酮類; 丙二醇單甲醚乙酸酯、丙二醇單乙醚乙酸酯 單正丙醚乙酸酯、丙二醇單異丙醚乙酸酯、丙二 醚乙酸酯、丙二醇單異丁醚乙酸酯、丙二醇單第 酸酯、丙二醇單第三丁醚乙酸酯等之丙二醇單烷 類; 2 -羥基丙酸甲酯、2 -羥基丙酸乙酯、2 -羥基 酯、2-羥基丙酸異丙酯、2-羥基丙酸正丁酯、2-異丁酯、2-羥基丙酸第二丁酯、2-羥基丙酸第三 2·羥基丙酸烷酯類; 3 -甲氧基丙酸甲酯、3 -甲氧基丙酸乙酯、3- 份計,通 其他添加 消泡劑等 I旨[A],產 '酮、2-戊 甲基-2-戊 鏈狀或岐 己酮、2, 、丙二醇 醇單正丁 二丁醚乙 醚乙酸酯 丙酸正丙 羥基丙酸 丁酯等之 乙氧基丙 -82 - (79) (79)200415444 酸甲酯、3 -乙氧基丙酸乙酯等之3 -烷氧基丙酸烷酯類; 正丙醇、異丙醇、正丁醇、第三丁醇、環己醇等之醇 類; 乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、乙二醇單正丙醚、乙 二醇單正丁醚、二乙二醇二甲醚、二乙二醇二乙醚、二乙 二醇二正丙醚、二乙二醇二正丁醚、乙二醇單甲醚乙酸酯 乙二醇單乙醚乙酸酯、乙二醇單正丙醚乙酸酯、丙二醇單 甲醚、丙二醇單乙醚、丙二醇單正丙醚等之烷二醇單烷醚 等; 甲苯、二甲苯等之芳香族系溶劑; 2-羥基-2-甲基丙酸乙酯、乙氧基乙酸乙酯、羥基乙酸 乙酯、厂羥基-3-甲基丁酸甲酯、3-甲氧基丁基乙酸酯、3-甲 基-3-甲氧基丁基乙酸酯、3-甲基-3-甲氧基丁基丙酸酯、3-甲基-3-甲氧基丁基丁酸酯、乙酸乙酯、乙酸正丙酯、乙酸 正丁酯、乙醯基乙酸甲酯、乙醯基乙酸乙酯、丙酮酸甲酯、 丙酮酸乙酯、N-甲基吡咯烷酮、N, N-二甲基甲醯胺、N, N-二甲基乙醯胺、苯甲基乙醚、二正己醚、二乙二醇單甲醚、 二乙二醇單乙醚、己酸、辛酸、1-辛酸、1-壬醇、苯甲醇、 乙酸苯甲酯、苯甲酸乙酯、草酸二乙酯、馬來酸二乙酯、 7-丁內酯、碳酸乙烯酯、碳酸丙烯酯等。 其中以直鏈狀或岐鏈狀之酮類、環狀酮類、丙二醇單 烷醚乙酸酯類、r -丁內酯爲較佳。又,上述溶劑可單獨一 種或2種以上調配使用。 -83- (80) (80)200415444 (5 )製造組成物 本發明之輻射線感應樹脂組成物,通常,將各組成分 按照總組成分之總固形物濃度成爲3〜5〇質量%,其中較佳以 成爲5〜25質量%狀溶解於溶劑後,例如以孔徑爲0·2 μιη程度 之濾器過濾而製成。 (6 )光阻圖案之形成方法 本發明之輻射線感應樹脂組成物做爲化學增幅型光阻 之用途特別有用。上述化學增幅型光阻中,藉曝光自產酸 劑[Β]所產生酸之作用,樹脂[Α]中之酸解離性基解離,產 生由羧基所代表之鹼可溶性官能基,其結果,光阻之曝光 部分對鹼性顯像液之溶解性升高,該曝光部分被鹼性顯像 液溶解而去除,可得正片型光阻圖案。 <6-1>光阻圖案之形成 使用本.發明之輻射線感應樹脂組成物形成光阻圖案之 際,藉旋轉塗布法、流塑塗布法、輥塗布法、噴霧塗布法等 之塗布方法,將本發明之組成物塗布在被覆有矽晶圓、氧 化鋁之晶圓等基板上而構成塗膜,必要時預先加熱處理(下 文中簡稱爲「ΡΒ」)後,曝光該塗膜而形成所欲光阻圖案 。該時所採用之輻射線種類,例如紫外光、KrF準分子雷射 (波長248nm) 、Ai:F準分子雷射(波長193nm) 、F2準分 子雷射(波長157nm) 、EUV (極紫外光,波長13nm等) 等遠紫外光、電子束等之荷電粒子線,同步加速輻射線等 -84 - (81) 200415444 之X光等。其中以遠紫外光、電子束爲較佳。又 等之曝光條件隨輻射線感應樹脂組成物之調配組 加劑種類等而選擇適當條件。 爲安定而形成高精密度之微細圖案,通常,曝 加熱處理(下文中簡稱爲「PEB」)。藉該PEB, 中之酸解離性官能基之解離反應得以順利進行。 熱條件隨輻射線感應樹脂組成物之調配組成而變 ,溫度爲30〜200 °C,其中以50〜170 °C爲較佳 0.1〜5分鐘,其中以0.2〜3分鐘爲較佳。 例如日本專利之特開昭59-9 3 448號公報中所 發揮本發明之輻射線感應樹脂組成物之最大潛在 使用之基板上可形成有機系或無機系之反射防止 防止環境大氣中所含鹼性不純物質等之影響,也 特開平5 - 1 8 8 5 9 8號公報等所揭示方法,在光阻被 置保護膜。 繼之,將曝光過之光阻被覆膜顯像而形成所 案。 < 6 - 2 >顯像 顯像所使用顯像液並無特別限制,例如溶解 鈉、氫氧化鉀、碳酸鈉、矽酸鈉、偏矽酸鈉、氨 、正丙胺、二乙胺、二正丙胺、三乙胺、甲基二乙 二甲胺、三乙醇胺、四甲基氫氧化銨、吡咯、六氫 鹼、1, 8·二吖雙環[5.4.0]-7-十一烷、1,5-二吖雙Ϊ ,曝光量 成,各添 光後施與 樹脂[A] PEB之加 動,通常 ,時間爲 揭示,爲 能力,所 膜。又爲 可以按照 覆膜上設 欲光阻圖 有氫氧化 水、乙胺 胺、乙基 吡啶、膽 1 [4.3.0]^ -85 - (82) (82)200415444 5 -壬烯等之鹼性化合物之至少一種之鹼性水溶液可供採用。 其中以四甲基氫氧化錢爲較佳。 又,上述鹼性水溶液中之鹼性化合物之濃度,通常在1 〇 質量%以下。該時,當該濃度超過1 〇質量%時,非曝光部分 也有溶解於顯像液之危險而不佳。 又,上述顯像液中也可添加有機溶劑。其例舉如丙酮 、甲基乙酮、甲基異丁酮、環戊酮、環己酮' 3-甲基環戊酮 、2,6-二甲基環己酮等之直鏈狀、岐鏈狀或環狀酮類;甲醇 、乙醇、正丙醇、異丙醇、正丁醇、第三丁醇、環戊醇、環 己醇、1, 4-己二醇、1,4-己二羥甲等之醇類;四氫呋喃、二 噁烷等之醚類;乙酸乙酯、乙酸正丁酯、乙酸異戊酯等之酯 類;甲苯、二甲苯等之芳香族烴類或苯酚、乙』青、.丙酮、二 甲基甲醯胺等。上述有機溶劑可單獨一種或2種以上調配使 用。 上述有機溶劑之調配量,對於調配有機溶劑前之顯像 液100質量份計,通常在100質量份以下,其中以0.01〜20質 量份爲較佳。當上述有機溶劑之調配量超過i 〇 〇質量份時, 顯像性會降低而顯光部分之顯像殘留部分有增多之危險。 上述顯像液中可添加適量之界面活化劑等。 又,使用驗性水溶液所構成顯像液顯像後,用水洗 浄而乾燥爲宜。 使用本發明之輻射線感應樹脂組成物所得光阻,按 照實施例所記載方法測得之感應度宜爲2〇7J /m2以下, 其中以2 6 0 J / m 2以下爲較佳,蝕刻耐性爲〇 · 8〜],其顯像 -86- (83) (83)200415444 缺失在10處以上爲宜。 【實施方式】 本發明之最佳實施途徑,舉下列實施例更具體說明如 下。但本發明不偶限在其範圍。實施例中所示「份」量, 倘若無特別說明,皆以重量爲基準計算。 1.各種測定方法 0 本實施例中所使用各種測定方法和評估方法如下。 (1 )樹脂[A]之重量平均分子量(Mw) 將東曹公司製品之GPC分離管(2支G2000HXL、1支 G3 00HXL、1支G4000HXL)聯結使用,以1.0ml /分鐘之流 速,洗提溶劑用四氫呋喃,分離管溫度在40 °C之條件下, 以單分散聚苯乙烯爲標準物質,藉凝膠滲透層析法(GPC) 而測定之。 參 (2 )輻射線透過率 藉旋轉塗布法塗布組成物於石英玻璃上,在保持於1 3 0 °C之加熱板上進行60秒鐘之PB處理而製成膜厚爲0.34 μπι之 光阻被覆膜。由該光阻被覆膜在波長193nm處之吸光度計算 輻射線透過率,做爲遠紫外光領域之透明性之尺度。 (3 )感應度 <1>實施例1〜14和比較例]之情形 -87 - (84) (84)200415444 使用晶圓表面形成有膜厚爲820 A之ARC25 ( Brewer Science公司製品)膜之矽晶圓(ARC25 )。組成物藉旋轉 塗布法塗布在基板上,加熱板上按照各表中條件進行PB而 形成膜厚爲0.34 μπι之光阻被覆膜上,使用尼康公司製品之 ArF準分子雷射曝光裝置(數値孔徑爲0.55),介掩模圖案 而曝光。然後,按照各表中所示條件進行PEB之後,使用 2· 3 8%濃度之四甲基氫氧化銨水溶液在25 t下顯像60秒鐘 、水洗、乾燥而形成正片型之光阻圖案。該時以將線寬0.1 6 μιη之線條和空間圖案(1 L 1 S )爲1比1之線寬而形成之曝光 量做爲最適曝光量,以該最適曝光量做爲感應度。 <2>實施例1 5〜28和比較例2之情形 使用晶圓表面上形成有770 Α之ARC29A (日產化學公 司製品)之被覆膜做爲基板。再藉旋轉塗布法塗布組成物 於基板上,在加熱板上按照各表中所示條件下進行PB而形 成之膜厚爲0.20 μιη之光阻被覆膜上,使用尼康公司製品之 全域縮小投影曝光裝置S 3 06C (數値孔徑爲0.75),介掩模 圖案曝光之。然後,按照各表中所示條件下進行ΡΕΒ之後, 藉2.38重量%濃度之四甲基氫氧化銨水溶液,在25 t下顯 像60秒鐘,經水洗、乾燥而形成正片型之光阻圖案。該時 以將線寬爲11 Onm之線條和空間圖案爲1比1之線寬而形成之 曝光量做爲最適曝光量,以該最適曝光量做爲感應度。 (4 )解像度 -88- (85) (85)200415444 以最適曝光量所解像之最小光阻圖案尺寸做爲其解像 度。 (5 )蝕刻耐性 藉旋轉塗布法將組成物塗布於矽晶圓上,經乾燥而形成 之膜厚爲0.5 μπι之光阻被覆膜上,使用PMT公司製品之乾蝕 刻裝置「Pinnacle 8000型」,以四氟甲院爲触刻用氣體, 氣體流量爲7 5 s c c m,壓力爲2.5rnTorr,輸出2 5 0 0 W之條件 下進行蝕刻。測定蝕刻速度,使用比較例1之組成物所得 被覆膜對於蝕刻速度之相對値,而評估相對蝕刻速度。蝕 刻速度愈小表示蝕刻耐性愈佳。 (6 )圖案形狀 將線寬爲〇 . 1 6 μπι之線條和空間圖案(1 L 1 S )之方形 狀剖面之下邊尺寸Lb和上邊尺寸La,以掃描型電子顯微鏡 測定之。以能滿足〇.85sLa /LbSl,且圖案形狀底擺未逸 散者評估爲圖案形狀「良好」,〇.85>La /Lb時,圖案形狀 評估爲「錐狀」。使用其他曝光裝置時,以線寬爲0.22 μιη之線條和空間之圖案判斷而評估之。 <2>實施例1 5〜28和比較例2之情形 以線寬爲1 1 〇nm ( 0.1 1 μπι )之線條和空間圖案有關測 定之外,皆按照實施例1〜】4和比較例1之情形相同方法判 斷而評估之。 -89- (86) (86)200415444 (7 )顯像缺失 使用光學顯像鏡觀察有無顯像缺失之方法,以及使 用K. L. A. Tencol公司製品之KLA缺失檢查裝置之下述方 法評估之。 依照陣列方法觀察,重疊印象比較和像素單位,就所 產生差距所取出之分群和非分群之缺失總數加以檢查之。 缺失總數之檢查以能查出〇.15mm以上之缺失爲基準設定 該裝置之感應度而進行,評估時以使用上述KLA缺失檢查 裝置之方法中,測定每片晶圓之缺失總數之1 2 %。 2.樹脂[A]之製法 (合成例1 ) 將下列構造式(S-2 )所示之丙烯酸-1-甲基環戊酯( 18.40g,30mol% )和下列構造式(S-3 )所示化合物( 5 5.09g,40mol%)溶解於 2-丁酮( 73.4 8 g)中,再加入二 甲基偶氮基雙異丁酯(7.32g)溶解而成爲單體溶液,放 入滴加漏斗以爲準備。然後,5 0 0ml容積之三頸燒瓶中,放 入下列構造式(S-1)所示化合物( 2 6.5 2g,30mol%)和2-丁酮(26.5 2g),以氮氣淸洗30分鐘。氮氣淸洗之後,反 應溶液在攪拌下保持於80 °C,從滴加漏斗以2小時時間滴 下上述單體溶液,再反應3小時。聚合反應結束後,用水 冷冷卻聚合反應液至3 〇艽以下。繼之,裝入聚合溶液於 ]000ml容量之分液漏斗中,再放入乙酸乙酯(2〇〇〇g)、 (87) 200415444 甲酲(1 5 0 g )、水(2 〇 〇 g )於分液漏斗中,攪拌$分鐘, 並錚置1小時。然後,取出下層之2 5 〇 g。下層之聚合溶液 用蒸餾器以丙二醇單甲醚乙酸酯溶液取代,而得3 9 %濃度 之聚合溶液(2 0 〇 g )。收率爲8 2 %。 所得樹脂之Mw爲7200,係化合物(sq )、化合物( S-2)和化合物(S-3)所構成重複單位之含有比率爲28」 /3 1.2 /3 9.7 ( mol% )之共聚物。所得樹脂做爲樹脂(A」
(合成例2 ) 溶解丙烯酸-2-甲基金剛烷-2-基酯(S- 5 ) ( 2 8.3 8 g, 3 0mol°/。)和上述化合物(S_ 3 ) ( 5 9.4 8 g,40m〇l% )在 2- 丁酮(87.87g)中,再加二甲基偶氮基雙異丁酸酯(791g )溶解而成單體溶液,放入滴加漏斗中以爲準備。然後, 50〇1^1容量之三頸燒瓶中,放入下列所示雙環[2.21]庚-2-烯(S-4 ) ( 1 12.13g,30mol% )以及 2-丁酮(12.13g ), 用氮氣淸洗3 0分鐘,之後反應溶液在攪拌下保持8 〇它, 由滴加漏斗以2小時時間滴下上述偏好之單體溶液,再反 應3小時。聚合反應結束後,藉水冷將聚合反應液冷卻至 3 0 °C以下,繼之,加入2 - 丁酮(2 0 0 g )而稀釋後,投入 (88) 200415444 甲醇(200 Og )中,使白色粉末析出。濾別之後,所得白 色粉末藉甲醇(4〇〇g)在漿料上重複洗淨2次。然後濾取, 在5 0 °C下乾燥1 7小時,而得白色粉末樹脂(7 5 g ),收率 爲 7 5 %。 所得樹脂之Mw爲6,900,係由化合物(S-4 )、化合物 (S - 5 )和化合物(S - 3 )所構成重複單位之含有比率爲 29.2 /3 0.4 /4 0.3 ( mol% )之共聚物。所得樹脂做爲樹脂(
(S-4)
(S-5) (合成例3 ) 溶解上述化合物(S - 2 ) ( 1 2.5 4 g,2 0 m ο 1 % )和上述化 合物(S-3 ) ( 42.2 5 g, 30mol%)和丙烯酸-3-羥基金剛烷一 1-基酯(S-6) (18.08g, 20mol%)於 2-丁酮( 72.88g)中, 再加入二甲基偶氮基雙異丁酸酯(7.49g)並溶解而成爲 單體溶液,備於滴加漏斗中。然後,5 0 0 ml容量之三頸燒瓶 中,放入上述化合物(S-l) (27.12g, 30mol°/〇)和2-丁酮 (27.12g),用氮氣淸洗30分鐘,之後,反應溶液在攪拌 下保持於8 0 °C,由滴加漏斗以2小時時間滴下單體溶液, 再加熱3小時。聚合反應結束後,藉水冷冷卻聚合反應液 至30 °C以下。然後,將聚合溶液放入iOOOmI容量之分液 -92 - (89) (89)200415444 漏斗中,再放入乙酸乙酯(200g)、甲醇(150g)、水( 2 0 0 g ),攪拌5分鐘後靜置1小時,之後,取出下層(2 5 0 g ),下層之聚合溶液用丙二醇單甲醚乙酸酯溶液藉蒸餾器 中取代,而得40%濃度之聚合溶液( 200g),收率爲80% 〇 所得樹脂之Mw爲64,000,係由化合物(S-1 )、化合 物(S-2)、化合物(S-3)和化合物(S-6)所構成重複單 位之含有比率爲27„8 /22·1 /30.0 /20.1 (mol%)之共聚物 。所得樹脂做爲樹脂(A-3 )。 (合成例4 ) 溶解以下所示化合物(S - 7 ) ( 6 5.2 7 g,5 5 m ο 1 % )和甲 基丙嫌5si-2·甲基金剛院-2-基酯(S-8) ( 34.73g, 45mol% )於丁 _ (20〇g)中,再加入二甲基偶氮基雙異丁酸酯( 3. 〇3g),並溶解而成爲單體溶液,備於滴加漏斗中,然後 ,放入2-丁酮(1〇〇g)之1〇〇〇1111容量之三頸燒瓶內部用氮 氣淸洗3 0分鐘。之後,反應溶液在攪拌下加熱至8 0 t , 由滴加漏斗以每分鐘2ml之速度滴下單體溶液,從開始滴 加後反應5小時。聚合反應結束後,藉水冷冷卻聚合溶液 主J 〇 C以下。繼之,投入甲醇(2 0 0 0 g )中,使白色粉末 -93 - (90) (90)200415444 析出。濾取之後,所得白色粉末藉甲醇(4 00g )在發料上 重複洗淨2次。繼之,濾取,在50 °C下乾燥17小時,而得 白色粉末樹脂(7 1 g )。收率爲7 1 %。 所得樹脂之M w爲1 1,2 0 0,係由化合物(S - 7 )和化合 物(S-8 )所構成重複單位之含有比率爲5 7.8 /4 2.2 ( mol% )之共聚物。所得樹脂做爲樹脂(A-4 )。
(合成例5 )- 溶解上述化合物(S-7 ) ( 63.94g,55mol%)和甲基丙 烯酸-2-乙基金剛烷-2-基酯(S-9 ) ( 36.06g, 45mol% )於2- 丁酮( 200g)中,再加入二甲基偶氮基雙異丁酸酯(2.97g ),並溶解而成單體溶液,備於滴加漏斗中。然後,放入有 2-丁酮(l〇〇g)之i〇〇〇mi容量之三頸燒瓶內用氮氣淸洗3〇分 鐘,之後,反應溶液在攪拌下加熱至80 °C,由滴加漏斗以 每分鐘2ml之速度滴加單體溶液。從開始滴下起反應5小時。 聚合反應結束後,藉水冷冷卻聚合溶液至30 t以下。然後, 投入甲醇(2000g )中,使白色粉末析出。濾取後,所得白 色粉末用甲醇(400g )在漿料上重複洗淨2次。繼之,濾取. > 94 - (91) (91)200415444 在50 °C下乾燥17小時,而得白色粉末樹脂(65g )。收率 爲 65%。 所得樹脂之Mw爲1 0,900,係由上述化合物(S-7 )和化 合物(S - 9 )所構成重複單位之含有比率爲5 9.9 /4 0 . 1 ( mol% )之共聚物,該樹脂做爲樹脂(a-5 )。
(合成例6] 溶解以下所示化合物(S- 1 0 ) ( 6 7.72g,5 5m〇l%)和 上述化合物(S-8) ( 32.28g,45mol%)於 2 -丁酮(2〇〇g) 中,再加入一甲基偶氮基雙異丁酸酯(2.66g)並溶解而 成單體溶液,備於滴加漏斗中。然後,放入有2 _ 丁嗣( 100g)之1 000ml容量之三頸燒瓶內用氮氣淸洗3〇分鐘,之 後,反應溶 '液在擾彳半下加熱至8 0 。(:,由滴加漏斗以每分 鐘2ml速度滴下單體溶液。從滴加開始起反應5小時。聚合 反應結束後,藉水冷冷卻至30 。(:以下。繼之,投入甲& (2〇〇〇g)中,使白色粉末析出,濾取後,白色粉末用甲? 醇(400g)在獎料上重複洗淨2次。然後,濾取,在5〇 ^ 下乾燥1 7小時,而得白色粉末樹脂(6 8 g )。收率爲6 8 % 〇 所得樹脂之Mw爲η,900, 1由化合物(s_ I 〇 )和化合 (92) 200415444 物(S-8)所構成重複單位之含有比率爲59.9 /40.1 (mol% )之共聚物。該樹脂做爲樹脂(A-6 )。
(S -10)
(合成例7 ) 溶解上述化合物(S - 7 ) ( 3 7 · 6 9 g,2 5 m ο 1 % )和上述化 合物(S-8) ( 4 1.42g, 50mol%)以及甲基丙烯酸-3-羥基 金剛烷-卜基酯(S - 1 1 ) ( 2 0.8 9 g, 2 5 m ο 1 % )於 2 - 丁酮( 200g)中,再加入二甲基偶氮基異丁酸酯(3.25g)並溶 解而成爲單體溶液,備於滴加漏斗中。然後將放有2 - 丁酮 (l〇〇g)之容量爲1000ml之三頸燒瓶內以氮氣淸洗30分鐘 ,之後,反應溶液在攪拌下加熱至8 0 °C,由滴加漏斗以 每分鐘2ml之速度滴下單體溶液。從開始滴加起反應5小時 。聚合反應結束後,藉水冷冷卻至3 0 °C以下。繼之,投 入甲醇(2000g )中,使白色粉末析出。濾取後,所得白 色粉末用甲醇(400g)在漿料上重複洗淨2次。繼之,濾 取在5 0 °C下乾燥1 7小時,而得白色粉末樹脂(6 9 g ),收 率爲6 9 %。 -96 - (93) 200415444 所得樹脂之Mw爲9,20 0,係由化合物(S-7),化合物 (s_8 )和化合物(S-11 )所構成重複單位之含有比率爲 29·9 /45·1 /25·〇 ( mol% )之共聚物。該樹脂稱爲樹脂( A-7 ) 〇
(合成例8 ) 溶解上述化合物(S -1 0 ) ( 3 6 · 7 g,2 5 m ο 1 % )和上述化 合物(S-9 ) ( 42.8 4g, 5 0mol% )以及上述化合物(S-l 1 ) (20.38g,25m〇l%)於 2-丁酮( 200g)中,再加入二甲基 偶氮基異丁酸酯(3 · 1 8 g ),並溶解成爲單體溶液,備於 滴加漏斗中。然後,將裝有2 -丁酮(l〇〇g)之l〇〇〇ml容量 之三頸燒瓶內用氮氣淸洗3 0分鐘。之後,反應溶液在攪拌 下加熱至80 °C ,由滴加漏斗以每分鐘2ml之速度滴下單體 溶液。從開始滴加起反應5小時。聚合反應結束後,藉水 冷冷卻聚合溶液至30 °C以下。繼之,投入甲醇(2000 g ) 中,使白色粉末析出。濾取後,所得白色粉末用甲醇( 4 0〇g)在漿料上重複洗淨2次。然後,濾取在50 °C下乾燥 17小時,而得白色粉末樹脂(66g),收率爲66%。 所得樹脂之Mw爲9,400,係由化合物(S-10 ),上述 ^ 97 ^ (94) (94)200415444 化合物(S - 9 )以及上述化合物(s -1 1 )所構成重複單位 之含有比率係30.2 /44.2 25.4 (mol%)之共聚物。該樹脂 稱爲樹脂(A - 8 )。 (合成例9 ) 溶解上述化合物(S-7) (23.06g,16mol%)和上述化 合物(S- 8 ) ( 44.05 g,47mol% )以及下列化合物(s-1 2 ) ( 32.89g,37mol%)於 2 -丁酮(150g)中,再加入二甲基 偶氮基異丁酸酯(3。68g),並溶解成爲單體溶液,備於 滴加漏斗中。然後,將容有2-丁酮(l〇〇g)之500ml容量 之三頸燒瓶內用氮氣淸洗3 0分鐘。之後,反應溶液在攪拌 下加熱至80 °C,由滴加漏斗以每分鐘1.4ml之速度滴加單 體溶液。從滴加起反應5小時。聚合反應結束後,藉水冷 冷卻至3 0 °C以下。繼之,投入正庚烷(2 0 0 0 g )中,使白 色粉末析出。濾取後,所得白色粉末用正庚烷(4 0 0 g )在 漿料上重複洗淨2次。然後濾取,在6 0 °C下乾燥1 7小時, 而得白色粉末樹脂(8 5 · 5 g ),收率爲8 5 . 5 %。 所得樹脂之Mw爲12,〇〇〇,乃係由化合物(S-7 ),化 合物(S - 8 )和化合物(S -1 2 )所構成重複單位之含有比 率爲15.2 /44.7 /50.1 (m〇l。/。)之共聚物。該樹脂做爲樹脂 (A ‘ 9 ) 〇 -98- 200415444
(合成例1 〇 ) 溶解上述化合物(S-7 ) ( 22.70g, 16mol%)和上述化
合物(S-9) (36.18g, 37mol%)以及上述化合物(S-12)
(41.12g, 47mol%)於 2-丁酮(150g)中,再加入二甲基 偶氮基異丁酸酯(3.62g ),並溶解而成單體溶液,備於 滴加漏斗中。然後,將容有2 - 丁酮(1 〇 〇 g )之容量爲 5 0 0ml之三頸燒瓶中用氮氣淸洗30分鐘。之後,反應溶液 在攪拌下加熱至80 °C ,由滴加漏斗以每分鐘1.4ml之速度 滴下單體溶液。從滴加開始反應5小時。反應結束後,藉 水冷冷卻至3〇 °C以下。繼之,投入正庚烷(2 0 00g )中, 使白色粉末析出。濾取後,所得白色粉末用正庚烷(400g )在漿料上重複洗淨2次。繼之,濾取,在6 0 °C下乾燥1 7 小時,而得白色粉末樹脂(8 9.9 g ),收率爲8 9.9 %。 所得樹脂之Mw爲1 1,500,乃係由化合物(S-7 ),化 合物(S-9 )和化合物(S-12 )所構成重複單位之含有比 率爲1 5.2 /33 · 1 /5 1 .7 ( mol% )之共聚物。該樹脂稱做樹脂 (A-1〇)。 (合成例Π ) -99 - (96) (96)200415444 溶解上述化合物(s·7) (22.24g, 16mol%)和甲基丙 烯酸-1-金剛烷-卜基-1-甲基乙酯(S- 1 3 ) ( 3 7.4 6g? 37molD/。)以及上述化合物(S-12) ( 40.30g,47molD/〇)於 2 -丁酮(150g)中,再加入二甲基偶氮基異丁酸酯( 3 . 5 4 g ),溶解而成單體溶液,備於滴加漏斗中。然後,將 容有2-丁酮(100g)之5 00ml容量之三頸燒瓶中用氮氣淸 洗3 0分鐘。之後,反應溶液在攪拌下加熱至80°(:,由滴 加漏斗以每分鐘1.4 ml速度滴下單體溶液。從開始滴加起 反應5小時。聚合反應結束後,藉水冷冷卻至3 〇 °C以下。 繼之,投入正庚烷(2000g)中,使白色粉末析出。濾取 後,所得白色粉末用正庚院(400g)在發料上重複洗淨2 次。然後,濾取在6 0 °C下乾燥1 7小時,而得白色粉末樹 脂(9 7 · 1 g ),收率爲 9 7 . 1 %。 所得樹脂之M w爲1 8,〇 0 〇,係由化合物(s - 7 ),化合 物(S - 1 3 ),化合物(s _丨2 )所構成重複單位之含有比率 爲15.1 /35.3 /49.6 (mol%)之共聚物。該樹脂做爲樹脂( A- 1 1 )。 (S-13)
Jiy (合成例1 2 -100- (97) 200415444 溶解上述化口物(S、3) ( 23.09g,16mol°/。)和丙烯 酸-2-乙基金剛烷-2-基酯(S-l4) ( 36 13g,37m〇i%)以及 下示化合物(S-15 ) ( 4〇.78g,47m〇1% )於 2_丁酮(i5〇g )中,再加入一甲基偶氮基異丁酸酯(3.84g),並溶解 而成單體溶液,備於滴加漏斗中。然後,將容有2_丁 _ ( 100g)之500ml容量之三頸燒瓶中用氮氣淸洗3〇分鐘。之 後,反應溶液在攪拌下加熱至8 0 °C ,由滴加漏斗以每分 鐘1.4ml之速度滴下單體溶液,從滴加開始起反應5小時。 聚合反應結束後,藉水冷冷卻至3 〇 °C以下。繼之,投入 正庚烷(2 0 0 0 g )中,使白色粉末析出。濾取後,所得白 色粉末用正庚烷(400g)在漿料上重複洗淨2次。繼之, 爐取在6 0 °C下乾燥1 7小時,而得白色粉末樹脂(9 0.5 g ) 。收率爲9 0.5 %。 所得樹脂之Mw爲1 〇,6〇〇,係由化合物(S-3 ),化合 物(S - 1 4 ),化合物(S -1 5 )所構成重複單位之含有比率 爲15.0 /34.2 /50.8 (mol%)之共聚物。該樹脂做爲樹脂( A-1 2 )。
(S-15) (合成例1 3 ) -101- (98) (98)200415444 溶解上述化合物(S-3 ) ( 22.60g,l6m〇i% )和丙烯 酸-1-金剛院-1-基-1-甲基乙酯(S-16) ( 37.48g, 37m〇l% )以及上述化合物(S-l 5 ) ( 3 9.92g,47mol% )於2-丁酮 (150g)中,再加入二甲基偶氮基異丁酸酯(3.75g), 並溶解而成單體溶液,備於滴加漏斗中。然後,將容有2一 丁酮(100g)之500ml容量之三頸燒瓶中用氮氣淸洗3〇分 鐘。之後,反應溶液在攪拌下加熱至8 0 °C ,由滴加漏斗 以每分鐘1 · 4 m 1之速度滴下。從滴加開始起反應5小時。聚 合反應結束後,藉水冷冷卻至3 0 °C以下。然後,投入正 庚烷(2000g )中,使白色粉末析出。濾取後,所得白色 粉末用正庚烷(400g )在漿料上重複洗淨2次。繼之,濾 取在6 0 °C下乾燥1 7小時,而得白色粉末樹脂(9 5.5 g )。 收率爲9 5 · 5 %。 所得樹脂之Mw爲16,6〇〇,係由化合物(S-3 ),化合 物(S -1 6 )和化合物(S -1 5 )所構成重複單位之含有比率 爲1 4.8 /3 5.1 /5 0.1 ( mol% )之共聚物。該樹脂做爲樹脂( A-13 )。
(合成例Μ ) -102 - (99) (99)200415444 溶解上述化合物(S-10 ) ( 23.97g,25mol% )和上述 化合物(S- 8 ) ( 5 0.5 5 g,50mol% )以及上述化合物(S-l 1 )(25.49g, 25mol% )於 2-丁酮(200g )中,再加入二甲 基偶氮基異丁酸酯(3 . 9 7 g ),並溶解而成單體溶液,備 於滴加漏斗中。然後,將容有2 -丁酮(l〇〇g)之1000ml容 量之三頸燒瓶中用氮氣淸洗3 0分鐘。淸洗之後,攪拌下加 熱至80 °C ,由滴加漏斗以每分鐘2ml之速度滴下單體溶液 ,從開始滴加起反應5小時。聚合反應結束後,藉水冷冷 卻聚合溶液至30 °C以下。繼之,投入甲醇(2000g )中, 使白色粉末析出。濾取後,所得白色粉末用甲醇(400g) 在漿料上重複洗淨2次。繼之,濾取在50 °C下乾燥17小時 ,而得白色粉末樹脂7 4 g。收率爲7 4 %。 所得樹脂之Mw爲9,800,係由化合物(S-10 ),化合 物(S-8 )和化合物(S-11 )所構成重複單位之含有比率 爲29.2 /45.2 /25.6 ( mol%)之共聚物。該樹脂做爲樹脂( A- 1 4 ) 〇 (合成例1 5 ) 溶解上述化合物(S- 1 2 ) ( 23.97g,25mol%)和上述 化合物(S- 8 ) ( 5 0.5 5 g,50mol% )以及上述化合物(S-l 1 )( 25.49g,25mol%)於 2 -丁酮( 200g)中,再加入二甲 基偶氮基雙異丁酸酯(3.97g),並溶解而成單體溶液, 備於滴加漏斗中。然後,將容有2-丁酮(l〇〇g)之1000ml 谷量之二頸燒瓶中用氮氣淸洗3 0分鐘。之後,反應溶液在 - 103- (100) (100)200415444 攪拌下加熱至80 °C,由滴加漏斗以每分鐘2ml之速度滴下 單體溶液。從滴加開始起反應5小時。聚合反應結束後, 藉水冷冷卻聚合溶液至3 0 °C以下。繼之,投入甲醇( 2 0 0 0 g )中,使白色粉末析出。濾取後,所得白色粉末用 甲醇(4 0 0 g )在漿料上重複洗淨2次。然後,濾別,在5 0 。(:下乾燥1 7小時,而得白色粉末樹脂(7 4 g )。收率爲 7 4% 〇 所得樹脂之Mw爲9,800,係由化合物(S-12 ),化合 物(S - 8 ),化合物(S -1 1 )所構成重複單位之含有比率 爲2 9.2 /4 5.2 /2 5.6 ( mol% )之共聚物。該樹脂做爲樹脂( a - 1 ) 〇 (合成例1 6 ) 溶解上述化合物(s-7) (24.15g, 16mol%)和上述化 合物(S-12) ( 34.45g,37mol°/〇)以及下示化合物(s-17 )(4 1.4 1 g,47mol°/〇 )於 2-丁酮(200g )中,再加入二甲 基偶氮基異丁酸酯(3.86g),並溶解而成單體溶液,備 於滴加漏斗中。然後,容量爲50Oml之三頸燒瓶中放入2-丁 酮(l〇〇g)並用氮氣淸洗30分鐘。之後,攪拌下加熱至80 。(:,由滴加漏斗以2小時時間滴下單體溶液。從開始滴加 起反應6小時。聚合反應結束後,冷卻至3 〇 °C以下。然後 ,投入正己烷(200 0g )中,使白色粉末析出。濾取後, 所得白色固體用正己烷(40 0g )重複洗淨2次。濾取,在 6 0 °C下乾燥1 7小時,而得白色粉末樹脂(7 9 g )。收率爲 -104 · (101) 200415444 7 9%。 所得樹脂之M w爲1 2,6 0 0,係由化合物(s - 7 ), 物(S -1 2 )和化合物(S -1 7 )所構成重複單位之含有 爲1 5.6 /3 9.2 /4 5.2 ( m〇l% )。該樹脂做爲樹脂(A_ 化合 比率 15 )
(合成例1 7 ) 溶解上述化合物(S-7 ) ( 2 6.3 3 g,16mol%)和上 合物(S-12) ( 37.56g,37mol%)以及下示化合物( )(36.11g,47mol%)於 2 -丁酮( 200g)中,再加入 基偶氮基異丁酸酯(4.20g ),並溶解而成單體溶液 於滴加漏斗中。然後,容量爲500ml之三頸燒瓶中放入 酮(100g)再用氮氣淸洗30分鐘,攪拌下加熱至80 由滴加漏斗以2小時時間滴下單體溶液,從開始滴加 應6小時。聚合反應結束後,冷卻至3 0 °C以下。然後 入正己烷(2000g )中,使白色固體析出。濾取後, 白色固體用正己烷(4〇〇g)洗淨2次。濾取,在60 °C 燥1 7小時,而得白色粉末樹脂(7 1 g )。收率爲7 1 %。 所得樹脂之Mw爲〗2,1〇〇,係由化合物(S-7), -105^ 述化 S-18 二甲 ,備 2-丁 °C , 起反 ,投 所得 下乾 化合 (102) (102)200415444 物(S-12),化合物(S-18)所構成重複單位之含有比率 爲 1 5.1 /3 9.1 /4 5.8 ( mol% )。該樹脂做爲樹脂(A-1 6 )
(合成例1 8 ) 溶解上述化合物(S_ 7 ) ( 2 3.5 9g,16mol% )和上述化 合物(S- 1 2 ) ( 3 3.65 g, 37mol%)以及下示化合物(S-19 )(42.76g, 47mol% )於 2-丁酮(200g )中,再加入二甲 基偶氮基雙異丁酸酯(3.77g),並溶解而成單體溶液, 備於滴加漏斗中。然後,500ml之三頸燒瓶中放入2-丁酮( l〇〇g)再用氮氣淸洗30分鐘,攪拌下加熱至80 °C,由滴 加漏斗以2小時時間滴下單體溶液。從開始滴加起反應6小 時。聚合反應終了後,冷卻至3 0 t以下。然後,投入正 己院(20 〇〇g )中,使白色固體析出。濾取後,所得白色 固體用正己烷(4 0 0 g )洗淨2次。濾取,在6 0 °C下乾燥1 7 小時,而得白色粉末樹脂(7 3 g )。收率爲7 3 %。 所得樹脂之Mw爲1 1,800,係由化合物(S-7 ),化合 物(S-12 ),化合物(s-] 9 )所構成重複單位之含有比率 爲 14.9 /4 0.3 /4 4.8 ( mol% )。該樹脂做爲樹脂(A-1 7 ) -106- (103) (103)200415444
(合成例1 9 ) 溶解上述化合物(S-7 ) ( 82.1 8g, 70mol% )和下示化 合物(S-20) ( 17.82g, 3 0m〇l%)於 2-丁酮( 200g)中, 再加入偶氮基雙異丁腈(3.21g),並溶解而成單體溶液, 備於滴加漏斗中。然後,500ml之三頸燒瓶中放入2-丁酮( 1QQg),用氮氣淸洗30分鐘,攪拌下加熱至。〇,由滴 加漏斗使用2小時時間滴下單體溶液。從滴加開始起反應6 小時。聚合反應結束後,冷卻至3 Q C以下。然後 投入 正己院( 4000g)中,使白色固體析出。濾取後,所得白 色固體用正己烷(4 00g)洗淨2次。濾取,在6〇 t下乾燥 17小時,而得白色粉末樹脂(72g)。收率爲72%。 所得樹脂之Mw爲1 1,5〇〇,係由化合物(),化合 物(S-20 )所構成重複單位之含有比率爲69 5 /3 〇·5 ( mol% )之樹脂。該樹脂做爲樹脂(Α-18 )。 -107» 200415444
(合成例20) 溶解上述化合物(S-7) (73.41g, 60mol%)和上述化 合物(S-2 0 ) ( 1 8.5 7g, 30mol% )以及上述化合物(S-l 1 )(8.02g, lOmol% )於2-丁酮(200g )中,再加入偶氮基 雙異丁腈(3.35g),並溶解而成單體溶液,備於滴加漏 斗中。然後,500ml之三頸燒瓶中放入2-丁酮(100g)用氮 氣淸洗30分鐘,攪拌下加熱至80 °C,由滴加漏斗使用2 小時時間滴下單體溶液,從開始滴下起反應6小時。聚合 反應結束後,冷卻至3 0 °C以下。然後,投入正己烷( 4000g )中,使白色固體析出。濾取後,所得白色固體用 正己烷(4 0 0 g )洗淨2次。濾取,在6 0 t:下乾燥1 7小時, 而得白色粉末樹脂(77g )。收率爲77%。 所得樹脂之M w爲1 〇 , 9 0 0,係由化合物(S · 7 ),化合 物(S-20 )、化合物(s-i〗)所構成重複單位之含有比率 爲60.2 /29.5 /1 0.3 ( m〇l% )之樹脂。該樹脂做爲樹脂( A-19 ) ° (合成例2 1 ) 溶解上述化合物(S - 7 ) ( 7 3.8 1 g,60m ο 1 % )和上述化 -108- (105) (105)200415444 合物(S-20 ) ( 1 8.67 g,30mol% )以及下示化合物(S-21 )(7.52g,l〇m〇P/〇)於2-丁酮( 2 00g)中,再加入偶氮基 雙異丁腈(3.36g),並溶解而成單體溶液,備於滴加漏 斗中。然後,500ml之三頸燒瓶中放入2_丁酮(l〇〇g)用氮 氣清洗30分鐘,攪拌下加熱至go °c,由滴加漏斗使用2 小時時間滴下單體溶液。從開始滴加起反應6小時。聚合 反應結束後,冷卻至3 0 。(:以下。然後,投入正己烷( 4 0 00g )中,使白色固體析出。濾取後,所得白色固體用 正己烷(400g )洗淨2次。濾取,在60它下乾燥17小時, 而得白色粉末樹脂(6 4 g )。收率爲6 4 %。 所得樹脂之M w爲1 1,3 0 0,係由化合物(S - 7 ),化合 物(S-20 )、化合物(s_21 )所構成重複單位之含有比率 爲6 1.3 /3 0.9 /7.8 ( m〇l%)之樹脂。該樹脂做爲樹脂(A-20 ) 〇
ϋ (合成例2 2 ) 溶解上述化合物(S-7 ) ( 73.43 g, 60mol%)和上述化 合物(S-2 0 ) ( 1 8.5 7g,30mol% )以及下示化合物(S-22 -109、 (106) 200415444 )(7.99g,lOmol%)於2-丁酮(2〇〇g)中,再加入偶氮基 雙異丁腈(3.35g ),並溶解而成單體溶液,備於滴加漏 斗中。然後,500ml之三頸燒瓶中放入2_丁酮(100g)用氮 氣淸洗3 0分鐘,攪拌下加熱至8 0 °C,由滴加漏斗用2小時 時間滴下單體溶液,從開始滴加起反應6小時。聚合反應 結束後,冷卻至30 °C以下。然後,投入正己烷(4〇〇〇g ) 中,使白色固體析出。濾取後,所得白色固體用正己烷( 4 〇 0 g )洗淨2次。濾取,在6 〇 。(:下乾燥1 7小時,而得白色 粉末樹脂(6 7 g )。收率爲6 7 %。 所得樹脂之M w爲1 1,3 0 0,係由化合物(S - 7 ),化合 物(S-20 )、化合物(S-22 )所構成重複單位之含有比率 爲61.1 /30.6 /8.3 ( mol%)之樹脂。該樹脂做爲樹脂(a-21 ) 〇
(合成例23 ) 溶解上述化合物(S-7) ( 74.33g,60mol%)和下示化 (S-24 合物(S-23 ) ( l7.9 4g,30mol% )以及下示化合物 -110、 (107) 200415444 )(7.7 3g,lOrnol% )於 2-丁酮(200g )中,再加 雙異丁腈(1.15g),正十二烷硫醇(i.41g), 成單體溶液,備於滴加漏斗中。然後,500ml之三 放入2-丁酮(100g)用氮氣淸洗30分鐘,攪拌下 °C,由滴加漏斗使用2小時時間滴下單體溶液, 下起反應6小時。聚合反應結束後,冷卻至3 〇 °C 後,濃縮反應溶液至200g,移濃縮液至1 <之分| 加入甲醇(200g )和正己烷(l〇〇〇g)並混合之 分鐘後,取出下層液爲226g。該溶液中加入2-1 )和甲醇(150g),移至分液漏斗,用正己烷< 分液而洗淨。靜置30分鐘後,分離下層液,使用 換成丙二醇單甲醚乙酸酯溶液,收率爲75%。 所得樹脂之Mw爲1 0,900,係由化合物(S-7 物(S-23)、化合物(S-24)所構成重複單位之 爲60.1 /30.2 /9.7 (mol%)之樹脂。該樹脂做爲 22 ) 〇 入偶氮基 並溶解而 頸燒瓶中 加熱至8 0 從開始滴 以下。然 維漏斗中, 。靜置30 •烷(24g :1 000g ) 蒸餾器變 ),化合 含有比率 樹脂(A-
(合成例2 4 ) 和下示化 溶解上述化合物(S-7) ( 74.54g,60mol%) -111 - (108) 200415444 合物(S-25) ( 14.38g, 3〇mol%)以及上述化合物(S-24 )(8.09g,l〇mol%)於2-丁酮(200g)中,再加入偶氮基 異丁腈(1.19g),正十二烷硫醇(1.48g),並溶解而成 單體溶液,備於滴加漏斗中。然後,5 0 0 m 1之三頸燒瓶中放 入2 -丁酮(100g)用氮氣淸洗3〇分鐘,攪拌下加熱至80 °C,由滴加漏斗使用2小時時間滴下單體溶液。從開始滴 下起反應6小時。反應結束後,冷卻至3 0 °C以下。然後, 濃縮反應溶液爲200g,移至1 <之分離漏斗中,加入甲醇( 2 00g )和正己烷(l〇〇〇g )並混合之。靜置30分鐘後,取 出下層液爲21 2 3 g,該溶液中加入2-丁烷(7g )和甲醇( 150g),移至分液漏斗,使用正己烷(l〇〇〇g)分液洗淨 。靜置30分鐘後,取出下層,使用蒸餾器轉換成爲丙二醇 單甲醚乙酸酯溶液,收率爲7 5 %。 所得樹脂之M w爲1 〇,1 3 0 ,係由化合物(S - 7 ),化合 物(S-25 )、化合物(S-24 )所構成重複單位之含有比率 爲5 9.6 /3 0.8 /9.6 ( mol%)之樹脂。該樹脂做爲樹脂(Α-23 ) °
〇 (S-25) -112 - 1 .實施例1〜2 2和比較例1〜2 2 將上述所得樹脂(A1〜23 )和樹脂(a-1 ),下示產酸 (109) 200415444 劑[B],酸擴散抑制劑[C],添加劑[D]和溶劑[E],按照第1 表〜第5表所示調配比例調製成均一溶液後,用〇 · 2 μ m孔徑之 膜濾過濾而製成輻射線感應樹脂組成物。然後,按照上述 方法進行各項評估,其結果示於第1表至第5表。 •產酸劑[Β] Β-1: 1-(4-正丁氧基萘)四氫噻吩_九氟-正丁烷磺酸酯
Β-2 :三苯基銃九氟丁烷磺酸酯
Β-3:卜(4-正丁氧基萘)四氫噻吩鍚全氟辛烷磺酸 酯 B-4: 1-(4 -正丁氧基萘)四氫噻吩鑰2 -雙環[2·21] 庚-2 -基-1,1,2,2 -四氣乙院礦酸醋 Β-5 :雙(4-第三丁苯基)碘鑰九氟丁烷磺酸酯 Β-6: Ν-九氟丁磺醯氧基雙環[2·2·1;^-5-稀-2,%二殘 基亞胺 •酸擴散抑制劑[C] C-1 : 2-苯基苯駢咪唑 -113- (110)200415444 C-2: N-第三丁氧基羰基-2-苯基苯駢咪唑 C-3 : N-第三丁氧基羰基-4-羥基六氫吡啶 •添加劑[D] D-1 : 2, 5_二甲基-2, 5_二(金剛烷羰基氧基)己烷 •溶劑[E]
E-1丙二醇單甲醚乙酸酯 E-2 : r -丁內酯
-114 - (111)200415444 •W 〇 r-H 〇 600 0.34 ARC25 90秒 90秒 r-H 226 0.13 Os o Ο 良好 A-8 1 PQ ό ώ 130°C ! 110°C 卜 〇 rn 600 0.34 ARC25 90秒 90秒 〇 225 0.13 o ο 良好 A-7 r-H PQ ό T-H ώ 130°C 130°C Ό o rn 600 0.34 ARC25 90秒 90秒 (N cn (N 0.13 oo o ο 良好 A-6 r—* ώ (N ό ώ 130°C 130°C o 1—H to rn 600 0.34 ARC25 90秒 90秒 〇 236 0.13 o ο 良好 < r-H ώ ύ T-H ώ 130°C 110°C o r—t m 600 1_ 0.34 ARC25 ! 90秒 T-H 232 I ! 0.13 On ο 良好 寸 A-4 r—H ώ U V—( ώ 130°C 〇〇 ο m ,i cn o f—H rn 600 0.34 ARC25 90秒 90秒 (N m (N 0.13 OO 〇 ο 良好 A-3 l11· 4 ώ r—H ύ ώ 130°C 120°C (N o rn 600 0.34 ARC25 90秒 90秒 (N 248 0.13 OO 〇 ο 良好 A-2 ώ ύ r"H ώ 130°C 130°C O ψ H rn o 600 0.34 ARC25 90秒 90秒 r-H 242 0.13 ON 〇 ο 良好 T—H < ώ r—H ύ ώ 130°C 120°C 樹脂[A] 產酸劑[B] 酸擴散抑制劑 [C] 溶劑[Ε] 膜厚(mm) 基板 £ PEB 透過率(%) 感應度(J/m2) 解像度(μηι) 蝕刻耐性 顯像缺失(個) 形狀
-115- (112)200415444 (N 比較例 100 m 〇 600 寸 ro (N (J 90秒 90秒 〇 寸 cn f 1 i ο r—Η 暴 cd 1 PQ t-H 1 u 1 ω d < 130°C 130°C (N 〇 Γν 寸 100 m d 600 寸 cn CN 〇 90秒 90秒 -H m Ο A-14 ώ C-l r-H ώ 〇 < 130°C 100°C Cn (N o τ-Ή 賊 m 100 m 〇 600 寸 rn (N u 90秒 90秒 (N 寸 V m Ο & A-13 1 PQ C-l r-H 1 d < 130°C 100°C (N O Τ—Η (N 100 m d 600 寸 cn (N u 90秒 90秒 1 1 < 〇 m ,1 i ΟΝ 實施例 A-12 ▼-H 1 CQ r-H 1 u t—H 1 o Pi < 130°C 100°C (N 〇 Ο r-H 100 cn 〇 600 寸 (N 〇 90秒 90秒 (N (N m r-H CS H r-H 1 < H 1 CQ r-H 1 u r-H W o < 130°C 100°C (N o Ο ο 100 m o 600 寸 (N 〇 90秒 90秒 〇 m r-H ΟΝ Ife A-10 :B-l r-H 1 u r-H 1 PQ d Pi < 130°C 120°C m 〇 d 〇 ;100 d 600 寸 (N (J 90秒 90秒 <N o m r-H ΟΝ A-9 1 PQ C-l r-H 1 P-1 d < 130°C 120°C (N o ο 〇 樹脂[A] 產酸劑[B] 酸擴散抑制劑[C] 溶劑[E] 膜厚(mm) 基板 PQ Oh PEB 透過率(%) 感應度(J /m2) 解像度(μηι) 蝕刻耐性 顯像缺失(個) 形狀
-116- 200415444 實施例 ON 100 寸 0.334 850 (N 〇 ARC29A 90秒 90秒 290 o i—H ο 良好 oo r-H 1 < r-H 1 pq (N 1 r-H 1 u H ώ 105°C 105°C oo 100 寸 t—H 0.334 850 <N 〇 ARC29A 90秒 90秒 〇 285 C\ o ο 良好 卜 Η 1 < ί 1 i 1 CQ (N ώ T—H 1 U E-l 110°C 100°C 卜 1 loo 寸 0.334 850 (N 〇 ARC29A 90秒 90秒 o 250 On 〇 ο 良好 Α-16 1 PQ (N 1 PQ C-l r-H 1 PQ 130°C 130°C VO 100 寸 i-H 0.334 850 <N 〇 ARC29A 90秒 90秒 r—^ 265 o ο 良好 Α-15 r-H 1 PQ (N 1 CQ C-l 1 120°C 110°C ^Τ) 100 寸 0.334 850 (N 〇 ARC29A 90秒 90秒 (N 280 ON o ο 良好 Α-9 1 PQ <N 1 CQ C-l r— ώ 130°C 130°C 樹脂[Α] 產酸劑[B] 酸擴散抑制劑[c] 溶劑[E] 膜厚(μηι) 基板 Ph PEB 透過率(%) 感應度(J /m2) 解像度(nm) 蝕刻耐性 顯像缺失(個) 形狀
-117· 200415444
寸« 比較例 (N 100 寸 1 < 0.334 850 (N Ο ARC29A 90秒 90秒 O 275 100 O 526 良好 f Η I cd 1 PQ <N 1 PQ r-H 1 u r—H ώ 130°C 130°C 實施例 (N (N 100 寸 0.334 850 (N Ο ARC29A 90秒 90秒 m 265 o ο 良好 A-21 售 PQ (N 1 CQ t—H 1 u 1 ω 105°C 105°C T—H 100 寸 r—H 0.334 850 (N Ο ARC29A 90秒 90秒 (N 280 〇 ο 良好 A-20 τ-Η 1 B-2 C-l E-l 105°C 105°C r-H 100 寸 0.334 850 CM Ο ARC29A 90秒 90秒 265 o ο 良好 Os r—t 1 < r—Η 1 m CM 1 C-l f 1崎 1 ω 105°C 105°C 樹脂[A] 產酸劑[B] 酸擴散抑制劑[C] 溶劑[E] 膜厚(μηι) 基板 PEB 透過率(%) 感應度(J /m2) 解像度(nm) 蝕刻耐性 顯像缺失(個) 形狀 -118- 200415444 實施例 oo (N 100 (N (N 1 0.084 1 900 (N 〇 ARC29A 1 90 秒 1 | 90 秒 1 272 o C\ f-H ο 良好 A-23 B-5 B-6 m 1 〇 L_d-i… 1 ω 120°C 1 115°C I 100 (N (N 1 0.084 ^T) 900 (N d ARC29A 90秒 1 90 秒 1 卜 283 o ON 〇 r-H ο 良好 A-22 B-5 B-6 m 1 u L D-l」 T-H 1 ω 120°C 1 105°c I v〇 (N 100 寸 r-H 0.334 1 900 (N 〇 ARC29A 90秒 I 90 秒 1 309 o O r-H ο 良好 A-23 B-l (N 1 PQ C-2 1 r-H W 105°C 1 115°C I <N 100 寸 [ i 0.334 1 900 (N 〇 ARC29A 90秒 90秒 VO 314 o O T—H ο 良好 A-22 B-l B-2 1 i 1 C-2 1_ 1 1 w 105°C 105°c 〇 寸 r-H <N 0.715 1 900 (N 〇 ARC29A 1 90 秒 1 1 90 秒 1 H 306 o ON r-H r—^ ο 良好 A-9 A-16 r-H 1 B-2 | B-4 —I C-2 1 E-l 110°C 120°c (N 〇 0.374 1 850 (N d ARC29A 90秒 90秒 m 325 o O\ 〇 ο 良好 A-9 A-17 1 PQ i- C-2 1 1 w E-3 110°C 1 115°C I 樹脂[A] 產酸劑[B] 酸擴散抑制劑 [C] 添加劑p] 溶劑[E] 膜厚(μιη) 基板 PQ PEB 透過率(%) 感應度(J /m2) 解像度(μηι) 蝕刻耐性 顯像缺失(個) 形狀
-119- (116) (116)200415444 產業上之應用可行性 本發明之輻射線感應樹脂組成物,其解像度高,具有 優異之感應度、圖案形狀、蝕刻耐性,而蝕刻後之圖案之 變動少。又,本發明之輻射線感應樹脂組成物對於顯像液 之溶解性良好,具有不容易發生顯像缺失之特徵。再加以本 發明之輻射線感應樹脂組成物對於基板之粘接性和下擺形 狀也良好。所以,本發明之輻射線感應樹脂組成物,例如 可提供今後更需求微細化之集成電路元件之製造用途。
-120-

Claims (1)

  1. (1) 200415444 拾、申請專利範圍 1·一種輻射線感應樹脂組成物,其特徵爲含有:[A]含 有下列一般式(I -1 )所示重複單位(1 -1 ),而鹼難溶性或 不溶性,由於酸作用可成爲鹼易溶性之樹脂,以及(B )輻 射線感應產酸劑者,
    (M)
    (式中,RIa示氫原子、甲基、匕〜0:4羥烷基、或C!〜C4全氟烷 基、ΧΘΠ X2係各自獨立示氫原子、氟原子、C!〜C4烷基、或 Cl〜C4氟院基、< 示0~5之整數,η示〇〜2之整數)。 2.如申請專利範圍第1項之輻射線感應樹脂組成物,其 中該樹脂爲更含有下列一般式(1_2)所示重複單位(1-2),
    (1-2) (式中,Rlb示氫原子示或甲基,又,式中·各個RiC互爲各 -121 - (2) (2)200415444 自獨立示C4〜C2。之一價脂環式烴基或其衍生物,或Cl〜c4直 鏈狀或岐鏈狀烷基,且能滿足下述(1 )或(2 )之條件, (1) RlC中,至少一個爲C4〜C20之〜價脂環式烴基, (2) 任意二個R1C係互相結合,包括其分別所結合之碳 原子形成C 4〜C 2 〇之二價脂環式烴或其衍生物,其他之R ! c示 C4〜C2〇之一價脂環式烴基或其衍生物,或Cl〜C4直鏈狀或岐 鏈狀烷基。 3 ·如申請專利範圍第2項之輻射線感應樹脂組成物,其 中該一般式(卜2)中之C(R】c) 3係1-烷基-^環烷基、2· 院基-2 -金剛院基、(1 -院基-1 -金剛院基)院基、或(卜 烷基· 1 -降萡基)烷基。 4 ·如申請專利範圍第1項之輻射線感應樹脂組成物,其 中該樹脂係不含內酯環者。 5 ·如申請專利範圍第4項之輻射線感應樹脂組成物,其 中以構成上述樹脂之總重複單位之合計爲1 〇〇莫耳%時,該 重複單位(1“)之含率爲40〜90莫耳%。 6.如申請專利範圍第1項之輻射線感應樹脂組成物,其 中該樹脂爲再含有下述一般式(1-3 )所示重複單位(1-3 200415444
    (式中,Rlb示氫原子或甲基)。 7·如申請專利範圍第6項之輻射線感應樹脂組成物,其 中以構成上述樹脂之總重複單位之合計爲1 00莫耳%時,該 重複單位(1-1)之含率爲5〜25莫耳%。 8.如申請專利範圍第1項之輻射線感應樹脂組成物,其 中該樹脂爲再含有下列一般式(1-4 )所示重複單位(I-4
    (M) (式中,Rib示氫原子或甲基,A示直鏈狀或岐鏈狀烷 基或伸烷基,或C4〜C2G之一價或二價脂環式烴基或其衍生 物,η示0〜2之整數)° 9.如申請專利範圍第1項之輻射線感應樹脂組成物,其 中再含[C ]酸擴散抑制劑。 200415444 柒、(一)、本案指定之代表圖為:無 (二)、本代表圖之元件代表符號簡單說明:無
    捌、本案若有化學式時,請揭示最能顯示發明特徵的化學式: 無
    >4-
TW092129933A 2002-10-29 2003-10-28 Radiation-sensitive resin composition TW200415444A (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002315021 2002-10-29
JP2003192477 2003-07-04

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW200415444A true TW200415444A (en) 2004-08-16
TWI317460B TWI317460B (zh) 2009-11-21

Family

ID=32232647

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW098112730A TW200941143A (en) 2002-10-29 2003-10-28 Radiation-sensitive resin composition
TW092129933A TW200415444A (en) 2002-10-29 2003-10-28 Radiation-sensitive resin composition

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW098112730A TW200941143A (en) 2002-10-29 2003-10-28 Radiation-sensitive resin composition

Country Status (6)

Country Link
US (2) US7521169B2 (zh)
EP (1) EP1557718A4 (zh)
KR (2) KR100961317B1 (zh)
AU (1) AU2003280571A1 (zh)
TW (2) TW200941143A (zh)
WO (1) WO2004040376A1 (zh)

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4796792B2 (ja) * 2005-06-28 2011-10-19 富士フイルム株式会社 ポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法
JP4861767B2 (ja) 2005-07-26 2012-01-25 富士フイルム株式会社 ポジ型レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法
JP2007079552A (ja) * 2005-08-17 2007-03-29 Jsr Corp 感放射線性樹脂組成物
JP4979915B2 (ja) 2005-09-09 2012-07-18 東京応化工業株式会社 高分子化合物、ネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
TWI477909B (zh) 2006-01-24 2015-03-21 Fujifilm Corp 正型感光性組成物及使用它之圖案形成方法
EP1975705B1 (en) 2007-03-28 2016-04-27 FUJIFILM Corporation Positive resist composition and pattern-forming method
JP5673533B2 (ja) * 2009-07-02 2015-02-18 Jsr株式会社 感放射線性樹脂組成物
JP5077594B2 (ja) * 2010-01-26 2012-11-21 信越化学工業株式会社 ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法
WO2012121278A1 (ja) * 2011-03-08 2012-09-13 東京応化工業株式会社 レジストパターン形成方法、及びネガ型現像用レジスト組成物
JP5618958B2 (ja) 2011-09-22 2014-11-05 富士フイルム株式会社 パターン形成方法、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、電子デバイスの製造方法及び電子デバイス
WO2014171429A1 (ja) * 2013-04-17 2014-10-23 Jsr株式会社 半導体素子の製造方法及びイオン注入方法

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4491628A (en) 1982-08-23 1985-01-01 International Business Machines Corporation Positive- and negative-working resist compositions with acid generating photoinitiator and polymer with acid labile groups pendant from polymer backbone
JP2648805B2 (ja) 1990-04-24 1997-09-03 インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション 液体適用型の水性処理可能なホトレジスト組成物
JP3568599B2 (ja) 1993-12-28 2004-09-22 富士通株式会社 放射線感光材料及びパターン形成方法
US6403280B1 (en) * 1999-04-28 2002-06-11 Jsr Corporation Radiation sensitive resin composition
JP4277420B2 (ja) * 1999-10-18 2009-06-10 Jsr株式会社 感放射線性樹脂組成物
JP4838437B2 (ja) 2000-06-16 2011-12-14 Jsr株式会社 感放射線性樹脂組成物
JP2002182393A (ja) 2000-10-04 2002-06-26 Jsr Corp 感放射線性樹脂組成物
JP4441104B2 (ja) 2000-11-27 2010-03-31 東京応化工業株式会社 ポジ型レジスト組成物
JP4199914B2 (ja) 2000-11-29 2008-12-24 富士フイルム株式会社 ポジ型レジスト組成物
JP4210439B2 (ja) 2001-04-05 2009-01-21 富士フイルム株式会社 ポジ型フォトレジスト組成物
JP4083399B2 (ja) * 2001-07-24 2008-04-30 セントラル硝子株式会社 含フッ素重合性単量体およびそれを用いた高分子化合物
JP2003140349A (ja) 2001-11-05 2003-05-14 Fuji Photo Film Co Ltd ポジ型レジスト組成物
JP2003241386A (ja) 2001-12-13 2003-08-27 Fuji Photo Film Co Ltd ポジ型レジスト組成物
EP1319981B1 (en) 2001-12-13 2012-10-24 FUJIFILM Corporation Positive resist composition
EP1341038B1 (en) 2002-02-26 2012-10-24 FUJIFILM Corporation Photosensitive resin composition
JP4345326B2 (ja) * 2002-03-15 2009-10-14 Jsr株式会社 感放射線性樹脂組成物
JP2003345022A (ja) 2002-05-27 2003-12-03 Fuji Photo Film Co Ltd ポジ型レジスト組成物
US6939662B2 (en) * 2002-05-31 2005-09-06 Fuji Photo Film Co., Ltd. Positive-working resist composition
US6806026B2 (en) 2002-05-31 2004-10-19 International Business Machines Corporation Photoresist composition

Also Published As

Publication number Publication date
KR100961317B1 (ko) 2010-06-04
US20090148790A1 (en) 2009-06-11
KR20100010512A (ko) 2010-02-01
EP1557718A1 (en) 2005-07-27
AU2003280571A1 (en) 2004-05-25
US7638261B2 (en) 2009-12-29
WO2004040376B1 (ja) 2004-07-08
US7521169B2 (en) 2009-04-21
TW200941143A (en) 2009-10-01
US20060234153A1 (en) 2006-10-19
TWI317460B (zh) 2009-11-21
KR20050074509A (ko) 2005-07-18
EP1557718A4 (en) 2008-01-09
KR101011839B1 (ko) 2011-01-31
WO2004040376A1 (ja) 2004-05-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI490638B (zh) A sensitive radiation linear resin composition, a polymer used in the composition, and a compound used in the composition
JP5126182B2 (ja) 感放射線性樹脂組成物、それに用いる重合体およびそれに用いる化合物
JP4158825B2 (ja) 感放射線性樹脂組成物
JP3900135B2 (ja) 感放射線性樹脂組成物
TW201022839A (en) Radiation-sensitive resin composition, and resist pattern formation method
TW201044110A (en) Radiation-sensitive resin composition and polymer
TWI391409B (zh) Polymer and positive sensitive radiation linear resin composition
TW200916965A (en) Radiation-sensitive composition
TW201319026A (zh) 感放射線性樹脂組成物
TWI476212B (zh) Sensitive radiation linear resin composition, polymer and photoresist pattern formation method
KR20020062196A (ko) 감방사선성 수지 조성물
JP4655886B2 (ja) ポジ型感放射線性樹脂組成物
TW200415444A (en) Radiation-sensitive resin composition
TW200404855A (en) Radiation-sensitive resin composition
TWI310879B (zh)
KR20120033267A (ko) 감방사선성 수지 조성물, 중합체 및 화합물
TW200925778A (en) Radiation-sensitive composition
JP4076360B2 (ja) 感放射線性樹脂組成物
TWI493289B (zh) Sensitive radiation linear resin composition
JP3975790B2 (ja) 感放射線性樹脂組成物
JP2003173026A (ja) 感放射線性樹脂組成物
JP4265286B2 (ja) 感放射線性樹脂組成物
TWI351579B (zh)
JP3969135B2 (ja) 感放射線性樹脂組成物
JP2004176049A (ja) アクリル系共重合体および感放射線性樹脂組成物

Legal Events

Date Code Title Description
MK4A Expiration of patent term of an invention patent