SU772984A1 - Газова смесь дл очистки кварцевых изделий - Google Patents

Газова смесь дл очистки кварцевых изделий Download PDF

Info

Publication number
SU772984A1
SU772984A1 SU792752117A SU2752117A SU772984A1 SU 772984 A1 SU772984 A1 SU 772984A1 SU 792752117 A SU792752117 A SU 792752117A SU 2752117 A SU2752117 A SU 2752117A SU 772984 A1 SU772984 A1 SU 772984A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
gas mixture
trichlorethylene
quartz
products
gas
Prior art date
Application number
SU792752117A
Other languages
English (en)
Inventor
Валентина Захаровна Петрова
Нина Александровна Ханова
Ирина Всеволодовна Филатова
Петр Ефимович Кандыба
Валерий Семенович Яснов
Original Assignee
Московский институт электронной техники
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Московский институт электронной техники filed Critical Московский институт электронной техники
Priority to SU792752117A priority Critical patent/SU772984A1/ru
Application granted granted Critical
Publication of SU772984A1 publication Critical patent/SU772984A1/ru

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C23/00Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments
    • C03C23/0075Cleaning of glass

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)

Description

Изобретение относится к газовой очистке поверхности кварцевых изделий, применяемых в производстве полупроводниковых приборов для прове- _ дения технологических процессов ’ диффузии, окисления и т.п.
Известна газовая смесь для очистки кварцевых изделий, содержащая хлористый водород, пары воды и инерт-._ ный газ [1J .
Однако она не обеспечивает достаточную очистку кварцевых труб.
Наиболее близкой по составу к предлагаемой является газовая смесь, включающая дихлорметан и инертный 15 газ И .
Однако она лишь частично кристаллизует поверхность кварцевых труб.
Цель изобретения — повышение jq кристаллизационной стойкости кварцевых изделий. · .
Это достигается тем, что газовая смесь дополнительно содержит кислород, а в качестве хлорсодержащего 25 газа содержит трихлорэтилен при следующем соотношении компонентов,мол.%:
Инертный газ Аг 0,03-3,4 .
Кислород 94,7-99,6
Трихлорэтилен С2НСЦ 0,02-1,9 jq
Активной частью данной очищающей газовой смеси являются продукты окисления трихлорэтилена (смесь хлористого водорода и хлора), которые получаются в рабочей зоне кварцевой трубы при 1150°С согласно реакции
С2НСЦ + 02 -»2С02+ НСИ + С121.
Нижний предел по концентрации трихлорэтилена в газовой смеси определяется тем, что концентрация НС I и С12, образующихся при окислении трихлорэтилена, должна быть достаточной для эффективного процесса очистки кварцевой трубы; повышение концентрации трихлорэтилена (выше 1,9 мол.%) нецелесообразно, поскольку оно не приводит и дальнейшему повышению качества очистки и связано с известными технологическими трудностями.при работе с хлорующими агентами и продуктами их распада (процесс коррозии вытяжной вентиляции и т.д.). Используемый в газовой смеси кислород выполняет роль не только окислителя, но и разбавителя активной части газовой смеси, поэтому он берется в количествах, превышающих необходимую концентрацию, для проведения реакции окисления трихлорэтилена. Концентрация инертного газа (аргона) ограничивается с одной стороны необходимостью внесения паров трихлорэтилена в зону реакции окисления, с другой — достаточностью для эвакуации продуктов реакции.
С целью повышения качества операции и процента выхода годных изделий при использовании кварцевых камер (труб) для проведения технологических операций при выполнении интегральных схем (ИС), Например операций окисления, внутреннюю поверхность камеры требуется очищать от загрязняющих примесей (различных металлов, окислов щелочных металлов, остатков продуктов реакции при диффузии, если камера использовалась для проведения операций’ диффузии в полупроводниковые пластины и т.д.).
Для этого реакционную кварцевую камеру или часть ее (рабочую зону) нагревают до 1150°С. Затем во входное отверстие камеры подают поток газовой смеси, состоящий из трихлорэтилена, кислорода и аргона в отношении, мол.%: C^HCI^ 0,98; 029б,1; Аг 2,92. Общий расход газовой смеси 83 л/ч,; в течение 60 мин ее пропускают через реакционную камеру. При проведении процесса очистки выход из реакционной камеры соединяется с вентилляционной системой.
Для получения указанной газовой смеси и подачи ее в реакционную камеру применяют дозатор гомогенной газовой смеси, заливая в резервуар дозатора трихлорэтилен марки осч или чда и,используя аргон и кисло род.
Пример 1. При использовании газовой смеси, содержащей, мол.%:
Трихлорэтилен1,9
Кислород94,7
Аргон3,4
Общий расход газовой смеси — 83 л/ч, время прохождения через реакционную камеру 40 мин.
Пример 2. При использовании газовой смеси, содержащей, мол. %: 0,98 96,10 2,92
Трихлорэтилен Кислород Аргон общий расход газовой смеси — 83 л/ч,· время прохождения через реакционную камеру 50 мин.
ПримерЗ. При использовании смеси, содержащей, мол.%:
Трихлорэтилен0,02
Кислород99,6
Аргон0,03, общий расход газовой смеси — 83 л/ч, время прохождения через реакционную камеру 60 мин.
Во всех случаях при проведении процессов очистки происходит травление кварцевого стекла с удалением за грязияющих примесей и отмечается повышение кристаллизационной стойкости труб.
В качестве инертного газа может быть использован азот, при этом его концентрация при аналогичных технологических операциях остается та20 кой же.
Использование предлагаемой газовой смеси позволило улучшить чистоту кварцевых реакционных камер, повысить кристаллизационную стойкость 75 труб и, следовательно, увеличить их долговечность, улучшить качество технологической операции окисления и процент выхода годных изделий.

Claims (3)

  1. Изобретение относитс  к газовой очистке поверхности кварцевЕлх изделий , примен емых в производстве полупроводниковых приборов дл  проведени  технологических процессов диффузии, окислени  и т.п. Известна газова  смесь дл  очист ки кварцевых изделий, содержаща  хлористый водород. Пары .воды-И инер ный газ 1 . Однако она не обеспечивает доста точную очистку кварцевых труб. Наиболее близ.кой по составу к предлагаемой  вл етс  газова  смесь включающа  дихлорметан и инертный газ И . Однако она лишь частично кристал лизует поверхность к-варцевых труб. Цель изобретени  - повышение кристаллизационной стойкости кварце вых изделий. . Это достигаетс  тем, что газова  смесь дополнительно содержит кислород , а в качестве хлорсодержащего газа содержит, трихлорэтилен при сле дукндем соотношении компонентов,мол. Инертный газ Аг 0,03-3,4 . Кислород 0294,7-99,6 Трихлорэтилен 0,02-1,9 Активной частью данной очищающей газовой смеси  вл ютс  продукты окислени  трихлорэтилена (смесь хлористого водорода и хлора), которые получаютс  в рабочей зоне кварцевой трубы при согласно реакции e Hciiy + 0 - 2С02- - ней + eijl. Нижний предел по концентрации трихлорэтилена в газовой смеси определ етс  тем, что концентраци  HCI и С, образующихс  при окислении трихлорэтилена, должна быть достаточной дл  эффективного процесса очистки кварцевой трубы; повышение концентрации трихлорэтилена (вьш1в 1,9 мол.%) нецелесообразно, поскольку оно не приводит к дальнейшему повышению качества очистки и св зано с известными технологическими трудност ми,при работе с хлорующими агентами и продуктами их распада (процесс коррозии выт жной вентил ции и т.д.). Используемый в газовой смеси кислород выполн ет роль не только окислител , но и разбавител  активной части газовой смеси , поэтому он беретс  в количествах, превышающих необходимую концентрацию. Д.ПЯ проведени  реакции окислени  трихлорэтилена. концентраци  инертного газа (аргона) ограничиваетс  с одной стороны необходимостью внесени  паров трихлорэтилена в зону реакции окислени , с другой - достаточ ностью дл  эвакуации продуктов реакции . С целью повышени  качества операции и процента выхода годных изделий при использовании кварцевых камер (труб) дл  проведени  технологических операций при выполнении интеграл ных схем (КС), Например операций окислени , внутреннюю поверхность камеры требуетс  очищать от загр зн юпщх примесей (различных металлов окислов щелочных металлов остатков продуктов реакции при диффузии, есл камера использовалась дл  проведени  операций диффузии в полупроводниковые пластины и т.д.). Дл  этого реакционную кварцевую камеру или часть ее (рабочую зону) нагревают до . Затем во входное отверстие камеры подают поток газовой смеси, состо щий из трихлор этилена, кислорода и аргона в отношении , МОЛ.%: С, Of98; ОзЭб,; Аг 2,92. Общий расход газовой смеси 83 л/ч,1 в течение 60 мин ее пропуск ют через реакционную камеру. При проведении процесса очистки выход и реакционной камеры соедин етс  с вентилл ционной сисзтемой. Дл  получени  указанной газовой смеси и подачи ее в реакционную камеру примен ют дозатор гомогенной газовой смеси, залива  в резервуар дозатора трихлорэтилен марки осч или чда и,использу  аргон и кисло род. Пример 1. При использовани газовой смеси, содержащей, мол.%: Трихлорэтилен1,9 Кислород94,7 Аргон3,4 Общий расход газовой смеси - 83 л/ч врем  прохождени  через реакционную камеру 40 мин. При м е р
  2. 2. При использовании газовой смеси, содержащей, мол. %: Трихлорэтилен0,98 Кислород96,10 Аргон - 2,92 бщий расход газовой смеси - 83 л/ч,рем  прохождени  через реакционную амеру 50 мин. П р и м е р
  3. 3. При использовании меси, содержащей, мол.%г Трихлорэтилен0,02 Кислород99,6 Аргон0,03, общий расход газовой смеси - 83 л/ч, врем  прохождени  через реакционную камеру 60 мин. Во всех случа х при проведении процессов очистки происходит травление кварцевого стекла с удалением за гр зи ющих примесей и отмечаетс  повышение кристаллизационной стойкости труб. В качестве инертного газа может быть использован азот, при этом его концентраци  при аналогичных технологических операци х остаетс  такой же. Использование предлагаемой газовой смеси позволило улучшить чистоту кварцевых реакционных камер, повысить кристаллизационную стойкость труб и, следовательно, увеличить их долговечность, улучшить качество технологической операции окислени  и процент выхода годных изделий. Формула изобретени  Газова  смесь дл  очистки кварцевых изделий, включающа  хлорсодержащий и инертный газы, отличающ а   с   тем, что, с целью повышени  кристаллизационной стойкости кварцевых изделий, она дополнительно содержит кислород, а в качестве хлорсодержащего газа содержит трихлорэтилен при следующем соотношении компонентов , мол.%: Инертный газ 0,03-3,4 Кислород94,7-99,6 Трихлорэтилен . 0,02-1,9 Источники информации, прин тые во внимание при экспертизе 1.Авторское свидетельство СССР № 678035, кл. С 03 С 23/00, 1977. 2.патент Англии 1213900, кл. С 1 М, опублик. 1970.
SU792752117A 1979-04-12 1979-04-12 Газова смесь дл очистки кварцевых изделий SU772984A1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU792752117A SU772984A1 (ru) 1979-04-12 1979-04-12 Газова смесь дл очистки кварцевых изделий

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU792752117A SU772984A1 (ru) 1979-04-12 1979-04-12 Газова смесь дл очистки кварцевых изделий

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU772984A1 true SU772984A1 (ru) 1980-10-23

Family

ID=20821798

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU792752117A SU772984A1 (ru) 1979-04-12 1979-04-12 Газова смесь дл очистки кварцевых изделий

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU772984A1 (ru)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7615163B2 (en) * 2004-12-28 2009-11-10 Tokyo Electron Limited Film formation apparatus and method of using the same
RU2646262C1 (ru) * 2016-12-27 2018-03-02 федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский ядерный университет МИФИ" (НИЯУ МИФИ) Способ финишной планаризации поверхности оптической стеклокерамики

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7615163B2 (en) * 2004-12-28 2009-11-10 Tokyo Electron Limited Film formation apparatus and method of using the same
RU2646262C1 (ru) * 2016-12-27 2018-03-02 федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский ядерный университет МИФИ" (НИЯУ МИФИ) Способ финишной планаризации поверхности оптической стеклокерамики

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3072876B2 (ja) エッチング液の精製方法
US6231690B1 (en) Method of oxidizing inner surface of ferritic stainless pipe
SU772984A1 (ru) Газова смесь дл очистки кварцевых изделий
JPH085655B2 (ja) 多結晶シリコンの洗浄方法
WO2005092786A1 (ja) フッ化水素酸の精製法及び精製装置
KR100497884B1 (ko) 세정기체
TW460626B (en) A process for producing high-purity nitrogen trifluoride gas
US5328668A (en) Synthesis of semiconductor grade tungsten hexafluoride
JP5034322B2 (ja) ハロゲン化窒素の合成方法
US11447697B2 (en) Substrate processing gas, storage container, and substrate processing method
JPH0383833A (ja) 耐熱性の優れた合成石英ガラス部材
KR100432593B1 (ko) 삼불화 질소 가스의 정제 방법
JPH05271146A (ja) 廃棄酢酸の精製法
SU678035A1 (ru) Газова смесь дл очистки кварцевых изделий
JP2949207B2 (ja) シリコン処理廃液から硝酸を回収、再利用する方法
US2971819A (en) Process for improving the quality of sulfuric acid
CA2134653A1 (en) Improved synthesis of ioversol
US2274237A (en) Process for the removal of metallic magnesium from mixtures of beryllium and magnesium
JPH06115922A (ja) シリコン精製方法
JP2000144369A (ja) ステンレス鋼管内面の酸化処理方法
US3202481A (en) Purification of nitric acid
HU214749B (hu) Eljárás diklór-acetil-klorid előállítására
JP4265939B2 (ja) 窒素化合物の除去方法
KR20110069069A (ko) 3불화염소의 제해 방법
JP3986375B2 (ja) 四フッ化珪素の精製方法