SU678035A1 - Газова смесь дл очистки кварцевых изделий - Google Patents
Газова смесь дл очистки кварцевых изделийInfo
- Publication number
- SU678035A1 SU678035A1 SU772484364A SU2484364A SU678035A1 SU 678035 A1 SU678035 A1 SU 678035A1 SU 772484364 A SU772484364 A SU 772484364A SU 2484364 A SU2484364 A SU 2484364A SU 678035 A1 SU678035 A1 SU 678035A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- gas mixture
- cleaning
- quartz
- gas
- vapor
- Prior art date
Links
Landscapes
- Drying Of Semiconductors (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Description
Изобретение относитс к области парогазовой очистки поверхности кварцевых изделий преимущественно, к очистке поверхности кварцевых реакционных камер и приспособлений.
Область применени , предпочтитель- но, производство полупроводниковых прн; боров и интегральных схем, в которых широко используютс кварцевые реакционные камеры и издели дл проведени технологических процессов диффузии, окислени , пиролитическогр осаждени слоев и . т. п. При этом требуетс Очищать поверхность реакционных камер, содержащую , касс правило, загр зн ющие примеси различного происхождени .(металлы и их окислы, органические соединени ), а остатки пр1одуктов реакции процессов (например, ejO И j ВОз боросиликатное стекло Фо Форосиликатное стекло и т. п.).
Известна газова смесь, включающа фторсодержащий очиститель и инертный ra3-«ocHtenb iT,
Описываема фторсодержаща газова смесь обладает значительной химической активностью при Нормальных услови х и малых концентраци х очистител . Пр щесс такой очистки вл етс jэкзотермическим. этом не исключено резкое возрастание скорости взаимодействи очистител с загр зн ющими примес ми и поверхностью издели .
В св зи с этим трудно воспроизводимо управл ть прсадессом и качеством очистки в плане избирательного удалени загр зн ющих примесей, остатков реагентов, а также обеспечить требуемую глубину (степень ) очистки, не наруша самой поверхности издели . Нар ду с вы С:окой активностью , фторсодержащие парогазовые смеси вл ютс токсичными веществами.
Наиболее близкой к предложенному изобретению вл етс газова смесь, включающа хлор, хлористый водород или их смесь JL.
Данна газова смесь не обеспечивает достаточную очистку кварцевых изделий.
3 Цель изобретени -. улучшение качест ва очистки. Это достигаетс тем, что газова смесь дл очистки кварцевых из делий, включающа хлористый воДород, аополнительно содержит пары воды и ин тный газ при следующем соотношении ко понентов в мол.%: Хлористый водород 7,5-33 Пары воды 33-46 Инертный газ34-46,5 , Активной частью очищающей газовой смеси вл етс хлористый воДород и пары воды. С целью расширени диапазона воздействи и повьпиени активности процесса очистки повышаетс концент раци хлористого водорода, вйод тС пары воды. Кроме того, продукты взаимодействи с газовой смесью Ьл юТс летучими, что улучшает степень и качество очистки. В роли разбавител активной части парогазовой смеси дл транспортировки и эвакуации продуктов реакции используетс инертный газ (ар гон, азот и т. п.). По концентрации НСб газовой смеси верхний предел ограничи ваетс предельной растворимостью НС€ в Н20 и составл ет практичеюки около 65 вес.%. 1ижний предел по концентрации НСЕ в парогазовой смеси опрюдел етс тем, что при относительней увеличен ии концентрааии паров воды (N20 вьпие 75 вес.%, а ИСС. ниже 25 вес.%) увеличиваетс йеро тнсх:ть окислительных про цессов загр зн ющих примесей, образовани окисных пленок, затрудн етс процесс отравливани стеклообразуюших примесей. Концентраци инертного газа в потоке парогазовой сМаси по отношению к активной части должна быть до статочной дл эвакуации продуктов реакции ,, Примеры реализации изобретени . При использовании реакционных квар цевых камер дл операций диффузии бора в кремниевые пластины, требуетс рчщдвть внутреннюю поверхность камеры от :загр зншэщвх прнмесей, различных мет8Г Л , остатков lipoayxTcxg рёак&вв при диффузии (BjO jHjBO боросилшсйт нов стекло и т. п.), Ш этого реакционную квархевую камеру или часть ее - рабочую зону . .L«.iL k«rf4wbr i b«wm« f 1 с / йагревают до температуры ИБО С Jfc 5CrC. Затем во входное отверстие реакционной , камеры подают поток парогазовой . смеси, росто«пцей из зслористого водоро
678035 да, паров воды и азота в мол рном процентном соотношении (НСС - 13,Н2О- 44, азот - 43). Общий расход парогазовой смеси устанавливают 250 грамм в час и пропускают его Через реакционную камеру в течение 2-х час. Затем камера продуваетс вторичным потоком азота в течение 1015мин . При проведении процесра очистки выход из реакционной камеры соедин етс с вентил ционной системой. Дл получени указанной парогазовой смеси иг подачи ее в реакционную камеру примен ют дозатор гомогейной парогазовой смеси, залива в резервуар д затора сол ную кислоту марки ОС Ч или ЧДА концентрации 36% - 38%вес.%, и использу азот ГОСТ 8474-72. При использований газовой смеси, состо щей в мол.%;.. Хлористый водород20 Пары воды40 л . Азот40 Общий расход газовой смеси устанавливают 28О-290 г/час, а дл получени газовой смеси используют сол ную кислоту 5О-ой концентрации. При проведении процесса очистки происходит глубокое травление кварцевого стекла с удалением загр зн ющих окислов щелочных металлов, талли , окислов бора, фосфора и т. п. Изобретение позволило улучшить чис-; тоту кварцевых реакционных камер и примен емой кварцевой оснастки, nohностью исключить из продесса очистки применение плавиковой кислоты, используемой ранее дл этих целей в значительных количествах, улучшить безопасность процесса очистки и исключить вопросы утилизации фторсодержащих отходов. Дополнительно , изсбретение позэоп{Мо применительно к высокотемператруным технологическим процессам, увеличить долговечность кварцевых реакционных камер, за счет исключени термоциклирсдаани кварка, неизбежного при оннстках, провод мых при нормальных температурных услови х. Изобретение цел(9сообразно использо вать в технологии изготовлени интегральных схем и пслупроводниксшых приборов , где кварцевые издели широко примен ютс в качестве реакционных камер, лодочек и т. п. и где требуетс высока степень очистки поверхности аппаратуры от загр знений. Изобретение может быть использовано также в 5 ., смежных област х в химической промышленности , например дл очистки кварце- Bbix ректификационных камер. Предварительные расчеты показывают, что годова экономическа эффективность от внедрени предложений на предпри тии состе п ет 300 тыс. руб. ; Ф о р мул а и 3 о б р е т е н и Газова смесь дл очистки кварцевых изделйй, включающа хлористый водород, о т л и чаю щ а с 5 тем, что, с 67 35 / -6. - мелью улучшени качес±ва очистки, она ,. дополнительно содержит пары воаы и инертный газ при следующем соотношении компонентов в мол.%: Хлористый водород7,5-33 Пары воды33-46 Инертный газ34-46,5 Источники информации, прин тые во внимание при экспертизе 1. Патент Великобритании № 1268377, кл. С 7 Е, 1972. 2. Маслов А. А. Технологи и конструкции Нолупроводнйковых приборов, М., Энерги , 197О, с. 53-54.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU772484364A SU678035A1 (ru) | 1977-05-10 | 1977-05-10 | Газова смесь дл очистки кварцевых изделий |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU772484364A SU678035A1 (ru) | 1977-05-10 | 1977-05-10 | Газова смесь дл очистки кварцевых изделий |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SU678035A1 true SU678035A1 (ru) | 1979-08-05 |
Family
ID=20708308
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU772484364A SU678035A1 (ru) | 1977-05-10 | 1977-05-10 | Газова смесь дл очистки кварцевых изделий |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
SU (1) | SU678035A1 (ru) |
-
1977
- 1977-05-10 SU SU772484364A patent/SU678035A1/ru active
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH0786260A (ja) | エッチング液の精製方法 | |
WO1982004434A1 (en) | Purification of silicon source materials | |
US4032621A (en) | Preparation of hydrogen fluoride with low levels of arsenic, iron and sulfite | |
US4668497A (en) | Process for purifying hydrogen fluoride | |
SU678035A1 (ru) | Газова смесь дл очистки кварцевых изделий | |
JPS63222011A (ja) | 多結晶シリコンの製造方法 | |
JP2009524524A (ja) | 固体から物質を除去する方法及びその用途 | |
US2736695A (en) | Process for preparing trichloroacetyl chloride | |
JPS6235807B2 (ru) | ||
JP2522830B2 (ja) | 半導体熱処理用石英ガラス材料及びその製造方法 | |
US4910009A (en) | Ultra high purity halides and their preparation | |
US5468459A (en) | Gas stream treatment method for removing per-fluorocarbons | |
JPH0253086B2 (ru) | ||
SU772984A1 (ru) | Газова смесь дл очистки кварцевых изделий | |
WO2019188030A1 (ja) | 基板処理用ガス、保管容器および基板処理方法 | |
JP2599855B2 (ja) | タンタルアルコキシドの精製方法 | |
JP2561616B2 (ja) | 有害成分の固体除去剤 | |
JPH0722127B2 (ja) | 反応・処理装置内の清浄化および反応・処理用気相物質の純化方法、および反応・処理装置 | |
KR100716806B1 (ko) | 건식 식각 방법 및 진공 처리 반응기 | |
JP2010147304A (ja) | エッチング液の再生方法 | |
JP4265939B2 (ja) | 窒素化合物の除去方法 | |
JP4203776B2 (ja) | 電子材料用洗浄液 | |
JPS62288109A (ja) | トリクロルシランの製造方法 | |
JPS6256446A (ja) | 2,2,2−トリフルオロエタノ−ルの精製方法 | |
Dicelio et al. | The kinetics of the photochemical reaction between trifluoromethylhypochlorite (CF3OCl) and 1, 1-dichloro-2, 2-difluoroethylene (CF2CCl2) |