SE525113C2 - Metod och anordning för kontinuerlig blandning av två flöden - Google Patents

Metod och anordning för kontinuerlig blandning av två flöden

Info

Publication number
SE525113C2
SE525113C2 SE0301028A SE0301028A SE525113C2 SE 525113 C2 SE525113 C2 SE 525113C2 SE 0301028 A SE0301028 A SE 0301028A SE 0301028 A SE0301028 A SE 0301028A SE 525113 C2 SE525113 C2 SE 525113C2
Authority
SE
Sweden
Prior art keywords
flow
connection
flows
conical part
pipe
Prior art date
Application number
SE0301028A
Other languages
English (en)
Other versions
SE0301028L (sv
SE0301028D0 (sv
Inventor
Eric Lundgren
Bengt Palm
Original Assignee
Tetra Laval Holdings & Finance
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tetra Laval Holdings & Finance filed Critical Tetra Laval Holdings & Finance
Priority to SE0301028A priority Critical patent/SE525113C2/sv
Publication of SE0301028D0 publication Critical patent/SE0301028D0/sv
Priority to AT04726694T priority patent/ATE376876T1/de
Priority to DK04726694T priority patent/DK1620196T3/da
Priority to PCT/SE2004/000567 priority patent/WO2004089522A1/en
Priority to CN2004800091433A priority patent/CN1767890B/zh
Priority to ES04726694T priority patent/ES2294492T3/es
Priority to US10/551,950 priority patent/US7985019B2/en
Priority to BRPI0409094-2A priority patent/BRPI0409094B1/pt
Priority to DE602004009783T priority patent/DE602004009783T2/de
Priority to EP04726694A priority patent/EP1620196B1/en
Publication of SE0301028L publication Critical patent/SE0301028L/sv
Publication of SE525113C2 publication Critical patent/SE525113C2/sv

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01FMIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F23/00Mixing according to the phases to be mixed, e.g. dispersing or emulsifying
    • B01F23/40Mixing liquids with liquids; Emulsifying
    • B01F23/45Mixing liquids with liquids; Emulsifying using flow mixing
    • B01F23/451Mixing liquids with liquids; Emulsifying using flow mixing by injecting one liquid into another
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01FMIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F25/00Flow mixers; Mixers for falling materials, e.g. solid particles
    • B01F25/20Jet mixers, i.e. mixers using high-speed fluid streams
    • B01F25/23Mixing by intersecting jets
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01FMIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F2101/00Mixing characterised by the nature of the mixed materials or by the application field
    • B01F2101/06Mixing of food ingredients
    • B01F2101/14Mixing of ingredients for non-alcoholic beverages; Dissolving sugar in water
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01FMIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F2215/00Auxiliary or complementary information in relation with mixing
    • B01F2215/04Technical information in relation with mixing
    • B01F2215/0413Numerical information
    • B01F2215/0418Geometrical information
    • B01F2215/0431Numerical size values, e.g. diameter of a hole or conduit, area, volume, length, width, or ratios thereof
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01FMIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F23/00Mixing according to the phases to be mixed, e.g. dispersing or emulsifying
    • B01F23/40Mixing liquids with liquids; Emulsifying

Description

riva: 10 15 20 25 30 35 (Il 2 Ytterligare två likartade metoder finns beskrivna i de båda patentskrifterna SE 508 137 och SE 0103591-4. Dessa metoder är helt kontinuerliga och innebär att ett mindre flöde förs in i ett större flöde på ett sådant sätt att de båda flödena är motriktade. Dessa metoder ger en god inblandning, men för vissa applikationer ställs högre krav, som exempelvis blandning av juicekoncentrat med fibrer, där fibrer riskerar att fastna i trånga delar av anordningarna. En del applikationer har också extremt höga hygienkrav som skall tillgodoses samtidigt som man önskar åstadkomma en så bra blandning som möjligt.
Ett ändamål med föreliggande uppfinning är att åstadkomma en metod och en anordning där man kan blanda juicekoncentrat med fibrer, utan risk att fibrer fastnar någonstans i anordningen.
Ett ytterligare ändamål är att åstadkomma en anordning som ger bättre diskmöjlighet än andra anordningar och där man således kan ställa högre krav på hygienen.
Dessa och andra ändamål har enligt uppfinningen uppnåtts genom att metoden av den inledningsvis beskrivna typen, getts kännetecknen av att det första flödet strypes och delas i flera delflöden precis innan blandningen.
Dessa och andra ändamål har också enligt uppfinningen uppnåtts genom att anordningen av den inledningsvis beskrivna typen, getts kännetecknen av att den första anslutningen för det första flödet är försedd med en konisk strypning i vilken är upptaget ett antal hål.
Föredragna utförlngsformer av uppfinningen har vidare getts de av underkraven framgående kännetecknen.
En föredragen utföringsform av uppfinningen kommer nu närmare att beskrivas med hänvisning till bifogade ritningar, vilka: Fig. 1 visar, delvis i sektion, en sidovy av anordningen Fig. 2 visar en genomskärning av anordningen.
Ritningarna visar endast de för förståelsen av uppfinningen väsentliga detaljerna och anordningens inplacering i en anläggning, vilken är välkänd för fackmannen, är utelämnad.
Flitningarna visar en anordning 1, vilken kan användas för att blanda två flöden, ett första, större flöde 2 och ett andra, mindre flöde 3. Det första flödet 2 kan exempelvis utgöras av vatten och det andra flödet 3 kan vara en fruktjuice med eller utan fibrer. Flödena 2, 3 visas i Fig. 1 medelst pilar.
Anordningen 1 innefattar ett T-rör 4 som placeras på det ställe i en anläggning, där man önskar blanda två flöden. T-röret 4 kan utgöras av ett standard T-rör som är modifierat för att kunna användas såsom en blandare. Ett sådant T-rör 4 kan i princip sägas utgöras av en rörbit 5 med en anslutning i lirar 10 15 20 25 30 35 . . - ; en 52* 113 -~ 3 vardera ände, en första 6 och en andra 7. Den första 6 och den andra 7 anslutningen är således anordnade 180° i förhållande till varandra. På rörbiten 5 är fastsvetsat ytterligare en rörbit 8, 90° mot den första rörbiten 5. Också den fastsvetsade rörbiten 8 har i sin ände en anslutning 9, som utgör T-rörets 4 tredje anslutning.
Den första anslutningen 6 på T-röret 4 utgör ett inlopp 20 för det första, större flödet 2. Den rörledning (ej i bild) som leder in flödet 2 till anslutningen 6 har samma diameter som rörbiten 5 i T-röret 4. l den första anslutningen 6 finns placerad en konisk del 10, så placerad i anslutningen 6 att den utgör en strypning för flödet 2. Den koniska delen 10 hari sin största ände 14, en rak del 11 i vilken är upptaget ett antal hål 12. Alternativt saknar den koniska delen 10 en rak del 11, så att hälen 12 är upptagna direkt i den koniska delens 10 största ände 14.
Hålen 12 är jämnt placerade utmed den koniska delens 10 omkrets och har en diameter av 2-5 mm. Hålens 12 antal kan vara 5-15 stycken, beroende pä deras diameter.
Den andra anslutningen 7 på T-röret 4 utgör ett inlopp 21 för det andra, mindre flödet 3. Det andra, mindre flödet 3 kommer in till anordningen 1 ien rörledning 13 som har en mindre diameter än rörbiten 5 i T-röret 4. Rörledningen 13 för det mindre flödet 3 passerar anslutningen 7 rakt genom en del av rörbiten 5 och avslutas strax innan den når fram till den koniska delens 10 mindre ände 15. Avståndet mellan den koniska delens 10 mindre ände 15 och rörledningens 13 ände 16 är 0-10 mm.
En del 17 av rörbiten 5 som befinner sig mellan rörbiten 8 och den andra anslutningen 7 är starkt förkortad i förhållande till en del 18 av rörbiten 5 som befinner sig mellan rörbiten 8 och den första anslutningen 6, såsom framgår av Fig. 1. Anslutningen 7 är tätad mot T-röret 4 med en mjuk tätning 23 som kläms mellan rörbiten 5 i T-röret 4 och anslutningen 7. Genom att den mjuka tätningen 23 kläms, så sväller den ut mot rörbitens 5 inre och bildar en mjukt rundad yta mot flödena 2, 3 i anordningen 1.
Den tredje anslutningen 9 på T-röret 4 utgör tillsammans med rörbiten 8 ett utlopp 22 för ett flöde 19 som består av de blandade flödena 2 och 3.
Anordningens 1 utlopp 22 är således placerat 90° i förhållande till de båda inloppen 20, 21.
Såsom visas i Fig. 2 så bör rörledningens 13 diameter väljas så att den inte är mer än 60 % av rörbitens 5 diameter. Om man väljer rostfria standardrör, som normalt används inom mejeriindustrin, motsvarar detta en diameter ø38 mm för rörledningen 13 och en diameter ø51 mm för rörbiten 5. Den minsta änden 15 på den koniska delen 10 skall på motsvarande sätt ha en diameter som utgör ca z>|np 10 15 20 25 30 35 - Q - - .o 5:21" 113 4 50 % av rörledningens 13 diameter. Motsvarande diameter i standardrör blir då ø25 mm för den koniska delens 10 minsta ände 15. Även andra diametrar och mått kan förekomma, beroende på applikation.
Genom inloppet 20 kommer det första, större flödet 2 in till anordningen 1, där flödet 2 direkt delas upp i ett centralt flöde som passerar den koniska delen 10 och därvid strypes, så att hastigheten på flödet 2 ökar. Resterande flöde passerar i ett antal mindre flöden genom hålen 12 som är upptagna i den koniska delen 10.
Flödet 2 möter det andra, mindre flödet 3 som kommer in i anordningen 1 genom rörledningen 13. De båda motriktade flödena 2, 3 träffar samman på ett ringspaltliknande sätt, samtidigt som de smà flödena från hålen 12 hjälper till att blanda om de båda flödena 2, 3. Flödena från hålen 12 hjälper också till att spola iväg eventuella fibrer sà att de inte fastnar i anordningen 1.
Efter det att de båda flödena 2, 3 sammanträffat och en första blandning sker, fortsätter de båda flödena tillsammans in i utrymmet 24 mellan rörledningen 13 och rörbiten 5. Där tvingas de strax att ändra riktning, varvid den slutliga blandningen sker och det sammanblandade flödet 19 fortsätter ut genom rörbiten 8 och utloppet 22 för vidare transport genom anläggningen (ej visat i bild), bl. a. till refraktometer och till vidare behandling av produkten.
Eftersom delen 17 av rörbiten 5 är förkortad och att tätningen 23 bildar en mjuk övergång mellan rörbiten 5 och anslutningen 7, finns det ingenstans på flödets 19 väg ut från anordningen 1, där fibrer kan fastna. Anordningen 1 blir därför enklare att diska än tidigare kända anordningar för blandning, vilket medför att man kan ställa högre krav på hygienen för anordningen 1. Vid disk medverkar också hålen 12 i den koniska delen 10 till att man lättare kan spola iväg produktrester.
Som framgått av ovanstående beskrivning, åstadkommes med föreliggande uppfinning en anordning som enkelt och effektivt kan blanda flöden som innehåller fibrer, utan att fibrer fastnar i anordningen. Genom anordningens utformning får man blandare som lättare kan diskas och som därmed klarar högre hygienkrav.

Claims (6)

10 15 20 25 30 35 U" l reas "l __S ___\ (f. o | v ø u. PATENTKRAV
1. Metod för att kontinuerligt blanda tvà flöden, vilka utgöres av ett första, större flöde (2) och ett andra mindre flöde (3) där det andra flödet (3) införes i det första flödet (2) i en riktning motsatt det första flödet (2) samt att de blandade flödena (19) bringas att ändra riktning direkt efter inblandningen, kännetecknad därav att det första flödet (2) delas i ett centralt flöde som strypes och resterande flöde delas i ett antal mindre flöden, varefter det delade första flödet (2) möter det andra flödet (3).
2. Anordning (1) för att kontinuerligt blanda tvà flöden, vilka flöden utgöres av ett första, större flöde (2) och ett andra, mindre flöde (3), anordningen (1) innefattar ett T-rör (4) där en första anslutning (6) utgör ett inlopp (20) för det första flödet (2) och en andra anslutning (7), 180° mot den första (6), utgör ett inlopp (21) för det andra flödet (3), vilket andra flöde (3) förs in i det första flödet (2) genom en rörledning (13) inuti T-röret (4), samt att en tredje anslutning (9), 90° mot de båda andra anslutningarna (6,7), utgör ett utlopp (22) för de blandade flödena (19), kännetecknad därav att den första anslutningen (6) för det första flödet (2) är försedd med en konlsk del (10), så anordnad att den koniska delen (10) har sin största ände (14) vid T-rörets första anslutning (6) och sin minsta ände (15) inuti T-röret (4), samt att det i den koniska delens (10) största ände (14) är upptaget ett antal hål (12), jämnt fördelade utmed den koniska delens (10) omkrets.
3. Anordning (1) i enlighet med patentkravet 2, kännetecknad därav att den koniska delens (10) minsta ände (15) har en diameter som är ca 50 % av rörledningens (13) diameter.
4. Anordning (1) i enlighet med patentkravet 3, kännetecknad därav att den koniska delens (10) minsta ände (15) och rörledningens (13) ände (16) befinner sig 0-10 mm från varandra.
5. Anordning (1) i enlighet med nàgot av patentkraven 2-4, kännetecknad därav att den koniska delen (10) har i sin största ände (14) en rak del (11), vari hålen (12) är upptagna. (ri i J» (fi -..å t. d Q | o u nu
6. Anordning (1) i enlighet med något av patentkraven 2-5, kännetecknad därav att hålen (12) är 5-15 stycken, med vardera en diameter av 2-5 mm.
SE0301028A 2003-04-08 2003-04-08 Metod och anordning för kontinuerlig blandning av två flöden SE525113C2 (sv)

Priority Applications (10)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SE0301028A SE525113C2 (sv) 2003-04-08 2003-04-08 Metod och anordning för kontinuerlig blandning av två flöden
EP04726694A EP1620196B1 (en) 2003-04-08 2004-04-08 A method and an apparatus for the continuous mixing of two flows
CN2004800091433A CN1767890B (zh) 2003-04-08 2004-04-08 一种连续混合两种流体的方法和装置
DK04726694T DK1620196T3 (da) 2003-04-08 2004-04-08 Fremgangsmåde og apparat til kontinuerlig blanding af to strömninger
PCT/SE2004/000567 WO2004089522A1 (en) 2003-04-08 2004-04-08 A method and an apparatus for the continuous mixing of two flows
AT04726694T ATE376876T1 (de) 2003-04-08 2004-04-08 Verfahren und vorrichtung zum kontinuierlichen mischen zweier ströme
ES04726694T ES2294492T3 (es) 2003-04-08 2004-04-08 Un metodo y un aparato para el mezclado continuo de dos flujos.
US10/551,950 US7985019B2 (en) 2003-04-08 2004-04-08 Method and an apparatus for the continous mixing of two flows
BRPI0409094-2A BRPI0409094B1 (pt) 2003-04-08 2004-04-08 método e aparelho para misturar continuamente dois fluxos.
DE602004009783T DE602004009783T2 (de) 2003-04-08 2004-04-08 Verfahren und vorrichtung zum kontinuierlichen mischen zweier ströme

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SE0301028A SE525113C2 (sv) 2003-04-08 2003-04-08 Metod och anordning för kontinuerlig blandning av två flöden

Publications (3)

Publication Number Publication Date
SE0301028D0 SE0301028D0 (sv) 2003-04-08
SE0301028L SE0301028L (sv) 2004-10-09
SE525113C2 true SE525113C2 (sv) 2004-11-30

Family

ID=20290964

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SE0301028A SE525113C2 (sv) 2003-04-08 2003-04-08 Metod och anordning för kontinuerlig blandning av två flöden

Country Status (10)

Country Link
US (1) US7985019B2 (sv)
EP (1) EP1620196B1 (sv)
CN (1) CN1767890B (sv)
AT (1) ATE376876T1 (sv)
BR (1) BRPI0409094B1 (sv)
DE (1) DE602004009783T2 (sv)
DK (1) DK1620196T3 (sv)
ES (1) ES2294492T3 (sv)
SE (1) SE525113C2 (sv)
WO (1) WO2004089522A1 (sv)

Families Citing this family (229)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SE525113C2 (sv) * 2003-04-08 2004-11-30 Tetra Laval Holdings & Finance Metod och anordning för kontinuerlig blandning av två flöden
US9394608B2 (en) 2009-04-06 2016-07-19 Asm America, Inc. Semiconductor processing reactor and components thereof
US8322632B2 (en) * 2009-07-14 2012-12-04 Walter Bradley P Internal mixing spray gun
CN202289892U (zh) * 2010-12-23 2012-07-04 北京市食品研究所 混合器
US20130023129A1 (en) 2011-07-20 2013-01-24 Asm America, Inc. Pressure transmitter for a semiconductor processing environment
US10714315B2 (en) 2012-10-12 2020-07-14 Asm Ip Holdings B.V. Semiconductor reaction chamber showerhead
US20160376700A1 (en) 2013-02-01 2016-12-29 Asm Ip Holding B.V. System for treatment of deposition reactor
US11015245B2 (en) 2014-03-19 2021-05-25 Asm Ip Holding B.V. Gas-phase reactor and system having exhaust plenum and components thereof
US10858737B2 (en) 2014-07-28 2020-12-08 Asm Ip Holding B.V. Showerhead assembly and components thereof
US10941490B2 (en) 2014-10-07 2021-03-09 Asm Ip Holding B.V. Multiple temperature range susceptor, assembly, reactor and system including the susceptor, and methods of using the same
US10276355B2 (en) 2015-03-12 2019-04-30 Asm Ip Holding B.V. Multi-zone reactor, system including the reactor, and method of using the same
US10458018B2 (en) 2015-06-26 2019-10-29 Asm Ip Holding B.V. Structures including metal carbide material, devices including the structures, and methods of forming same
US10211308B2 (en) 2015-10-21 2019-02-19 Asm Ip Holding B.V. NbMC layers
US10322384B2 (en) * 2015-11-09 2019-06-18 Asm Ip Holding B.V. Counter flow mixer for process chamber
US11139308B2 (en) 2015-12-29 2021-10-05 Asm Ip Holding B.V. Atomic layer deposition of III-V compounds to form V-NAND devices
US10529554B2 (en) 2016-02-19 2020-01-07 Asm Ip Holding B.V. Method for forming silicon nitride film selectively on sidewalls or flat surfaces of trenches
US10190213B2 (en) 2016-04-21 2019-01-29 Asm Ip Holding B.V. Deposition of metal borides
US10367080B2 (en) 2016-05-02 2019-07-30 Asm Ip Holding B.V. Method of forming a germanium oxynitride film
US11453943B2 (en) 2016-05-25 2022-09-27 Asm Ip Holding B.V. Method for forming carbon-containing silicon/metal oxide or nitride film by ALD using silicon precursor and hydrocarbon precursor
US9859151B1 (en) 2016-07-08 2018-01-02 Asm Ip Holding B.V. Selective film deposition method to form air gaps
US10612137B2 (en) 2016-07-08 2020-04-07 Asm Ip Holdings B.V. Organic reactants for atomic layer deposition
US9887082B1 (en) 2016-07-28 2018-02-06 Asm Ip Holding B.V. Method and apparatus for filling a gap
US9812320B1 (en) 2016-07-28 2017-11-07 Asm Ip Holding B.V. Method and apparatus for filling a gap
KR102532607B1 (ko) 2016-07-28 2023-05-15 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 가공 장치 및 그 동작 방법
US10643826B2 (en) 2016-10-26 2020-05-05 Asm Ip Holdings B.V. Methods for thermally calibrating reaction chambers
US11532757B2 (en) 2016-10-27 2022-12-20 Asm Ip Holding B.V. Deposition of charge trapping layers
US10714350B2 (en) 2016-11-01 2020-07-14 ASM IP Holdings, B.V. Methods for forming a transition metal niobium nitride film on a substrate by atomic layer deposition and related semiconductor device structures
KR102546317B1 (ko) 2016-11-15 2023-06-21 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기체 공급 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치
KR20180068582A (ko) 2016-12-14 2018-06-22 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치
US11581186B2 (en) 2016-12-15 2023-02-14 Asm Ip Holding B.V. Sequential infiltration synthesis apparatus
US11447861B2 (en) 2016-12-15 2022-09-20 Asm Ip Holding B.V. Sequential infiltration synthesis apparatus and a method of forming a patterned structure
KR20180070971A (ko) 2016-12-19 2018-06-27 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치
US10269558B2 (en) 2016-12-22 2019-04-23 Asm Ip Holding B.V. Method of forming a structure on a substrate
US10867788B2 (en) 2016-12-28 2020-12-15 Asm Ip Holding B.V. Method of forming a structure on a substrate
US11390950B2 (en) 2017-01-10 2022-07-19 Asm Ip Holding B.V. Reactor system and method to reduce residue buildup during a film deposition process
US10468261B2 (en) 2017-02-15 2019-11-05 Asm Ip Holding B.V. Methods for forming a metallic film on a substrate by cyclical deposition and related semiconductor device structures
US10529563B2 (en) 2017-03-29 2020-01-07 Asm Ip Holdings B.V. Method for forming doped metal oxide films on a substrate by cyclical deposition and related semiconductor device structures
KR102457289B1 (ko) 2017-04-25 2022-10-21 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 박막 증착 방법 및 반도체 장치의 제조 방법
US10770286B2 (en) 2017-05-08 2020-09-08 Asm Ip Holdings B.V. Methods for selectively forming a silicon nitride film on a substrate and related semiconductor device structures
US10892156B2 (en) 2017-05-08 2021-01-12 Asm Ip Holding B.V. Methods for forming a silicon nitride film on a substrate and related semiconductor device structures
US10886123B2 (en) 2017-06-02 2021-01-05 Asm Ip Holding B.V. Methods for forming low temperature semiconductor layers and related semiconductor device structures
US11306395B2 (en) 2017-06-28 2022-04-19 Asm Ip Holding B.V. Methods for depositing a transition metal nitride film on a substrate by atomic layer deposition and related deposition apparatus
KR20190009245A (ko) 2017-07-18 2019-01-28 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 반도체 소자 구조물 형성 방법 및 관련된 반도체 소자 구조물
US11374112B2 (en) 2017-07-19 2022-06-28 Asm Ip Holding B.V. Method for depositing a group IV semiconductor and related semiconductor device structures
US10541333B2 (en) 2017-07-19 2020-01-21 Asm Ip Holding B.V. Method for depositing a group IV semiconductor and related semiconductor device structures
US11018002B2 (en) 2017-07-19 2021-05-25 Asm Ip Holding B.V. Method for selectively depositing a Group IV semiconductor and related semiconductor device structures
US10590535B2 (en) 2017-07-26 2020-03-17 Asm Ip Holdings B.V. Chemical treatment, deposition and/or infiltration apparatus and method for using the same
US10770336B2 (en) 2017-08-08 2020-09-08 Asm Ip Holding B.V. Substrate lift mechanism and reactor including same
US10692741B2 (en) 2017-08-08 2020-06-23 Asm Ip Holdings B.V. Radiation shield
US11139191B2 (en) 2017-08-09 2021-10-05 Asm Ip Holding B.V. Storage apparatus for storing cassettes for substrates and processing apparatus equipped therewith
US11769682B2 (en) 2017-08-09 2023-09-26 Asm Ip Holding B.V. Storage apparatus for storing cassettes for substrates and processing apparatus equipped therewith
US11830730B2 (en) 2017-08-29 2023-11-28 Asm Ip Holding B.V. Layer forming method and apparatus
KR102491945B1 (ko) 2017-08-30 2023-01-26 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치
US11056344B2 (en) 2017-08-30 2021-07-06 Asm Ip Holding B.V. Layer forming method
US11295980B2 (en) 2017-08-30 2022-04-05 Asm Ip Holding B.V. Methods for depositing a molybdenum metal film over a dielectric surface of a substrate by a cyclical deposition process and related semiconductor device structures
KR102630301B1 (ko) 2017-09-21 2024-01-29 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 침투성 재료의 순차 침투 합성 방법 처리 및 이를 이용하여 형성된 구조물 및 장치
US10844484B2 (en) 2017-09-22 2020-11-24 Asm Ip Holding B.V. Apparatus for dispensing a vapor phase reactant to a reaction chamber and related methods
US10658205B2 (en) 2017-09-28 2020-05-19 Asm Ip Holdings B.V. Chemical dispensing apparatus and methods for dispensing a chemical to a reaction chamber
US10403504B2 (en) 2017-10-05 2019-09-03 Asm Ip Holding B.V. Method for selectively depositing a metallic film on a substrate
US10923344B2 (en) 2017-10-30 2021-02-16 Asm Ip Holding B.V. Methods for forming a semiconductor structure and related semiconductor structures
US10910262B2 (en) 2017-11-16 2021-02-02 Asm Ip Holding B.V. Method of selectively depositing a capping layer structure on a semiconductor device structure
US11022879B2 (en) 2017-11-24 2021-06-01 Asm Ip Holding B.V. Method of forming an enhanced unexposed photoresist layer
JP7214724B2 (ja) 2017-11-27 2023-01-30 エーエスエム アイピー ホールディング ビー.ブイ. バッチ炉で利用されるウェハカセットを収納するための収納装置
US11639811B2 (en) 2017-11-27 2023-05-02 Asm Ip Holding B.V. Apparatus including a clean mini environment
US10872771B2 (en) 2018-01-16 2020-12-22 Asm Ip Holding B. V. Method for depositing a material film on a substrate within a reaction chamber by a cyclical deposition process and related device structures
TW202325889A (zh) 2018-01-19 2023-07-01 荷蘭商Asm 智慧財產控股公司 沈積方法
US11482412B2 (en) 2018-01-19 2022-10-25 Asm Ip Holding B.V. Method for depositing a gap-fill layer by plasma-assisted deposition
US11018047B2 (en) 2018-01-25 2021-05-25 Asm Ip Holding B.V. Hybrid lift pin
USD880437S1 (en) 2018-02-01 2020-04-07 Asm Ip Holding B.V. Gas supply plate for semiconductor manufacturing apparatus
US11081345B2 (en) 2018-02-06 2021-08-03 Asm Ip Holding B.V. Method of post-deposition treatment for silicon oxide film
CN111699278B (zh) 2018-02-14 2023-05-16 Asm Ip私人控股有限公司 通过循环沉积工艺在衬底上沉积含钌膜的方法
US10896820B2 (en) 2018-02-14 2021-01-19 Asm Ip Holding B.V. Method for depositing a ruthenium-containing film on a substrate by a cyclical deposition process
KR102636427B1 (ko) 2018-02-20 2024-02-13 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 방법 및 장치
US10975470B2 (en) 2018-02-23 2021-04-13 Asm Ip Holding B.V. Apparatus for detecting or monitoring for a chemical precursor in a high temperature environment
US11473195B2 (en) 2018-03-01 2022-10-18 Asm Ip Holding B.V. Semiconductor processing apparatus and a method for processing a substrate
US11629406B2 (en) 2018-03-09 2023-04-18 Asm Ip Holding B.V. Semiconductor processing apparatus comprising one or more pyrometers for measuring a temperature of a substrate during transfer of the substrate
US11114283B2 (en) 2018-03-16 2021-09-07 Asm Ip Holding B.V. Reactor, system including the reactor, and methods of manufacturing and using same
KR102646467B1 (ko) 2018-03-27 2024-03-11 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 상에 전극을 형성하는 방법 및 전극을 포함하는 반도체 소자 구조
US11088002B2 (en) 2018-03-29 2021-08-10 Asm Ip Holding B.V. Substrate rack and a substrate processing system and method
US11230766B2 (en) 2018-03-29 2022-01-25 Asm Ip Holding B.V. Substrate processing apparatus and method
KR102501472B1 (ko) 2018-03-30 2023-02-20 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 방법
TW202344708A (zh) 2018-05-08 2023-11-16 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 藉由循環沉積製程於基板上沉積氧化物膜之方法及相關裝置結構
TW202349473A (zh) 2018-05-11 2023-12-16 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 用於基板上形成摻雜金屬碳化物薄膜之方法及相關半導體元件結構
KR102596988B1 (ko) 2018-05-28 2023-10-31 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 방법 및 그에 의해 제조된 장치
US11270899B2 (en) 2018-06-04 2022-03-08 Asm Ip Holding B.V. Wafer handling chamber with moisture reduction
US11718913B2 (en) 2018-06-04 2023-08-08 Asm Ip Holding B.V. Gas distribution system and reactor system including same
US11286562B2 (en) 2018-06-08 2022-03-29 Asm Ip Holding B.V. Gas-phase chemical reactor and method of using same
KR102568797B1 (ko) 2018-06-21 2023-08-21 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 시스템
US10797133B2 (en) 2018-06-21 2020-10-06 Asm Ip Holding B.V. Method for depositing a phosphorus doped silicon arsenide film and related semiconductor device structures
CN112292478A (zh) 2018-06-27 2021-01-29 Asm Ip私人控股有限公司 用于形成含金属的材料的循环沉积方法及包含含金属的材料的膜和结构
KR20210027265A (ko) 2018-06-27 2021-03-10 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 금속 함유 재료를 형성하기 위한 주기적 증착 방법 및 금속 함유 재료를 포함하는 막 및 구조체
KR20200002519A (ko) 2018-06-29 2020-01-08 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 박막 증착 방법 및 반도체 장치의 제조 방법
US10612136B2 (en) 2018-06-29 2020-04-07 ASM IP Holding, B.V. Temperature-controlled flange and reactor system including same
US10755922B2 (en) 2018-07-03 2020-08-25 Asm Ip Holding B.V. Method for depositing silicon-free carbon-containing film as gap-fill layer by pulse plasma-assisted deposition
US10388513B1 (en) 2018-07-03 2019-08-20 Asm Ip Holding B.V. Method for depositing silicon-free carbon-containing film as gap-fill layer by pulse plasma-assisted deposition
US11053591B2 (en) 2018-08-06 2021-07-06 Asm Ip Holding B.V. Multi-port gas injection system and reactor system including same
US10883175B2 (en) 2018-08-09 2021-01-05 Asm Ip Holding B.V. Vertical furnace for processing substrates and a liner for use therein
US11430674B2 (en) 2018-08-22 2022-08-30 Asm Ip Holding B.V. Sensor array, apparatus for dispensing a vapor phase reactant to a reaction chamber and related methods
KR20200030162A (ko) 2018-09-11 2020-03-20 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 박막 증착 방법
US11024523B2 (en) 2018-09-11 2021-06-01 Asm Ip Holding B.V. Substrate processing apparatus and method
US11049751B2 (en) 2018-09-14 2021-06-29 Asm Ip Holding B.V. Cassette supply system to store and handle cassettes and processing apparatus equipped therewith
CN110970344A (zh) 2018-10-01 2020-04-07 Asm Ip控股有限公司 衬底保持设备、包含所述设备的系统及其使用方法
US11232963B2 (en) 2018-10-03 2022-01-25 Asm Ip Holding B.V. Substrate processing apparatus and method
KR102592699B1 (ko) 2018-10-08 2023-10-23 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 지지 유닛 및 이를 포함하는 박막 증착 장치와 기판 처리 장치
KR102605121B1 (ko) 2018-10-19 2023-11-23 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법
KR102546322B1 (ko) 2018-10-19 2023-06-21 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법
USD948463S1 (en) 2018-10-24 2022-04-12 Asm Ip Holding B.V. Susceptor for semiconductor substrate supporting apparatus
US11087997B2 (en) 2018-10-31 2021-08-10 Asm Ip Holding B.V. Substrate processing apparatus for processing substrates
KR20200051105A (ko) 2018-11-02 2020-05-13 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 지지 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치
US11572620B2 (en) 2018-11-06 2023-02-07 Asm Ip Holding B.V. Methods for selectively depositing an amorphous silicon film on a substrate
US11031242B2 (en) 2018-11-07 2021-06-08 Asm Ip Holding B.V. Methods for depositing a boron doped silicon germanium film
US10818758B2 (en) 2018-11-16 2020-10-27 Asm Ip Holding B.V. Methods for forming a metal silicate film on a substrate in a reaction chamber and related semiconductor device structures
US10847366B2 (en) 2018-11-16 2020-11-24 Asm Ip Holding B.V. Methods for depositing a transition metal chalcogenide film on a substrate by a cyclical deposition process
US11217444B2 (en) 2018-11-30 2022-01-04 Asm Ip Holding B.V. Method for forming an ultraviolet radiation responsive metal oxide-containing film
KR102636428B1 (ko) 2018-12-04 2024-02-13 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치를 세정하는 방법
US11158513B2 (en) 2018-12-13 2021-10-26 Asm Ip Holding B.V. Methods for forming a rhenium-containing film on a substrate by a cyclical deposition process and related semiconductor device structures
TW202037745A (zh) 2018-12-14 2020-10-16 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 形成裝置結構之方法、其所形成之結構及施行其之系統
TWI819180B (zh) 2019-01-17 2023-10-21 荷蘭商Asm 智慧財產控股公司 藉由循環沈積製程於基板上形成含過渡金屬膜之方法
KR20200091543A (ko) 2019-01-22 2020-07-31 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치
CN111524788B (zh) 2019-02-01 2023-11-24 Asm Ip私人控股有限公司 氧化硅的拓扑选择性膜形成的方法
US11482533B2 (en) 2019-02-20 2022-10-25 Asm Ip Holding B.V. Apparatus and methods for plug fill deposition in 3-D NAND applications
KR102638425B1 (ko) 2019-02-20 2024-02-21 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 표면 내에 형성된 오목부를 충진하기 위한 방법 및 장치
TW202104632A (zh) 2019-02-20 2021-02-01 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 用來填充形成於基材表面內之凹部的循環沉積方法及設備
KR102626263B1 (ko) 2019-02-20 2024-01-16 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 처리 단계를 포함하는 주기적 증착 방법 및 이를 위한 장치
TW202100794A (zh) 2019-02-22 2021-01-01 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 基材處理設備及處理基材之方法
KR20200108242A (ko) 2019-03-08 2020-09-17 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 실리콘 질화물 층을 선택적으로 증착하는 방법, 및 선택적으로 증착된 실리콘 질화물 층을 포함하는 구조체
KR20200108248A (ko) 2019-03-08 2020-09-17 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. SiOCN 층을 포함한 구조체 및 이의 형성 방법
KR20200108243A (ko) 2019-03-08 2020-09-17 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. SiOC 층을 포함한 구조체 및 이의 형성 방법
JP2020167398A (ja) 2019-03-28 2020-10-08 エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー ドアオープナーおよびドアオープナーが提供される基材処理装置
KR20200116855A (ko) 2019-04-01 2020-10-13 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 반도체 소자를 제조하는 방법
KR20200123380A (ko) 2019-04-19 2020-10-29 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 층 형성 방법 및 장치
KR20200125453A (ko) 2019-04-24 2020-11-04 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기상 반응기 시스템 및 이를 사용하는 방법
KR20200130118A (ko) 2019-05-07 2020-11-18 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 비정질 탄소 중합체 막을 개질하는 방법
KR20200130121A (ko) 2019-05-07 2020-11-18 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 딥 튜브가 있는 화학물질 공급원 용기
KR20200130652A (ko) 2019-05-10 2020-11-19 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 표면 상에 재료를 증착하는 방법 및 본 방법에 따라 형성된 구조
JP2020188255A (ja) 2019-05-16 2020-11-19 エーエスエム アイピー ホールディング ビー.ブイ. ウェハボートハンドリング装置、縦型バッチ炉および方法
USD975665S1 (en) 2019-05-17 2023-01-17 Asm Ip Holding B.V. Susceptor shaft
USD947913S1 (en) 2019-05-17 2022-04-05 Asm Ip Holding B.V. Susceptor shaft
USD935572S1 (en) 2019-05-24 2021-11-09 Asm Ip Holding B.V. Gas channel plate
USD922229S1 (en) 2019-06-05 2021-06-15 Asm Ip Holding B.V. Device for controlling a temperature of a gas supply unit
KR20200141002A (ko) 2019-06-06 2020-12-17 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 배기 가스 분석을 포함한 기상 반응기 시스템을 사용하는 방법
KR20200143254A (ko) 2019-06-11 2020-12-23 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 개질 가스를 사용하여 전자 구조를 형성하는 방법, 상기 방법을 수행하기 위한 시스템, 및 상기 방법을 사용하여 형성되는 구조
USD944946S1 (en) 2019-06-14 2022-03-01 Asm Ip Holding B.V. Shower plate
USD931978S1 (en) 2019-06-27 2021-09-28 Asm Ip Holding B.V. Showerhead vacuum transport
KR20210005515A (ko) 2019-07-03 2021-01-14 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치용 온도 제어 조립체 및 이를 사용하는 방법
JP2021015791A (ja) 2019-07-09 2021-02-12 エーエスエム アイピー ホールディング ビー.ブイ. 同軸導波管を用いたプラズマ装置、基板処理方法
CN112216646A (zh) 2019-07-10 2021-01-12 Asm Ip私人控股有限公司 基板支撑组件及包括其的基板处理装置
KR20210010307A (ko) 2019-07-16 2021-01-27 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치
KR20210010816A (ko) 2019-07-17 2021-01-28 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 라디칼 보조 점화 플라즈마 시스템 및 방법
KR20210010820A (ko) 2019-07-17 2021-01-28 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 실리콘 게르마늄 구조를 형성하는 방법
US11643724B2 (en) 2019-07-18 2023-05-09 Asm Ip Holding B.V. Method of forming structures using a neutral beam
CN112242296A (zh) 2019-07-19 2021-01-19 Asm Ip私人控股有限公司 形成拓扑受控的无定形碳聚合物膜的方法
TW202113936A (zh) 2019-07-29 2021-04-01 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 用於利用n型摻雜物及/或替代摻雜物選擇性沉積以達成高摻雜物併入之方法
CN112309900A (zh) 2019-07-30 2021-02-02 Asm Ip私人控股有限公司 基板处理设备
CN112309899A (zh) 2019-07-30 2021-02-02 Asm Ip私人控股有限公司 基板处理设备
US11227782B2 (en) 2019-07-31 2022-01-18 Asm Ip Holding B.V. Vertical batch furnace assembly
US11587814B2 (en) 2019-07-31 2023-02-21 Asm Ip Holding B.V. Vertical batch furnace assembly
US11587815B2 (en) 2019-07-31 2023-02-21 Asm Ip Holding B.V. Vertical batch furnace assembly
KR20210018759A (ko) 2019-08-05 2021-02-18 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 화학물질 공급원 용기를 위한 액체 레벨 센서
USD965044S1 (en) 2019-08-19 2022-09-27 Asm Ip Holding B.V. Susceptor shaft
USD965524S1 (en) 2019-08-19 2022-10-04 Asm Ip Holding B.V. Susceptor support
JP2021031769A (ja) 2019-08-21 2021-03-01 エーエスエム アイピー ホールディング ビー.ブイ. 成膜原料混合ガス生成装置及び成膜装置
USD949319S1 (en) 2019-08-22 2022-04-19 Asm Ip Holding B.V. Exhaust duct
USD979506S1 (en) 2019-08-22 2023-02-28 Asm Ip Holding B.V. Insulator
USD940837S1 (en) 2019-08-22 2022-01-11 Asm Ip Holding B.V. Electrode
USD930782S1 (en) 2019-08-22 2021-09-14 Asm Ip Holding B.V. Gas distributor
KR20210024423A (ko) 2019-08-22 2021-03-05 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 홀을 구비한 구조체를 형성하기 위한 방법
KR20210024420A (ko) 2019-08-23 2021-03-05 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 비스(디에틸아미노)실란을 사용하여 peald에 의해 개선된 품질을 갖는 실리콘 산화물 막을 증착하기 위한 방법
US11286558B2 (en) 2019-08-23 2022-03-29 Asm Ip Holding B.V. Methods for depositing a molybdenum nitride film on a surface of a substrate by a cyclical deposition process and related semiconductor device structures including a molybdenum nitride film
KR20210029090A (ko) 2019-09-04 2021-03-15 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 희생 캡핑 층을 이용한 선택적 증착 방법
KR20210029663A (ko) 2019-09-05 2021-03-16 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치
US11562901B2 (en) 2019-09-25 2023-01-24 Asm Ip Holding B.V. Substrate processing method
CN112593212B (zh) 2019-10-02 2023-12-22 Asm Ip私人控股有限公司 通过循环等离子体增强沉积工艺形成拓扑选择性氧化硅膜的方法
TW202129060A (zh) 2019-10-08 2021-08-01 荷蘭商Asm Ip控股公司 基板處理裝置、及基板處理方法
TW202115273A (zh) 2019-10-10 2021-04-16 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 形成光阻底層之方法及包括光阻底層之結構
KR20210045930A (ko) 2019-10-16 2021-04-27 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 실리콘 산화물의 토폴로지-선택적 막의 형성 방법
US11637014B2 (en) 2019-10-17 2023-04-25 Asm Ip Holding B.V. Methods for selective deposition of doped semiconductor material
KR20210047808A (ko) 2019-10-21 2021-04-30 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 막을 선택적으로 에칭하기 위한 장치 및 방법
US11646205B2 (en) 2019-10-29 2023-05-09 Asm Ip Holding B.V. Methods of selectively forming n-type doped material on a surface, systems for selectively forming n-type doped material, and structures formed using same
KR20210054983A (ko) 2019-11-05 2021-05-14 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 도핑된 반도체 층을 갖는 구조체 및 이를 형성하기 위한 방법 및 시스템
US11501968B2 (en) 2019-11-15 2022-11-15 Asm Ip Holding B.V. Method for providing a semiconductor device with silicon filled gaps
KR20210062561A (ko) 2019-11-20 2021-05-31 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판의 표면 상에 탄소 함유 물질을 증착하는 방법, 상기 방법을 사용하여 형성된 구조물, 및 상기 구조물을 형성하기 위한 시스템
CN112951697A (zh) 2019-11-26 2021-06-11 Asm Ip私人控股有限公司 基板处理设备
US11450529B2 (en) 2019-11-26 2022-09-20 Asm Ip Holding B.V. Methods for selectively forming a target film on a substrate comprising a first dielectric surface and a second metallic surface
CN112885692A (zh) 2019-11-29 2021-06-01 Asm Ip私人控股有限公司 基板处理设备
CN112885693A (zh) 2019-11-29 2021-06-01 Asm Ip私人控股有限公司 基板处理设备
JP2021090042A (ja) 2019-12-02 2021-06-10 エーエスエム アイピー ホールディング ビー.ブイ. 基板処理装置、基板処理方法
KR20210070898A (ko) 2019-12-04 2021-06-15 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치
CN112992667A (zh) 2019-12-17 2021-06-18 Asm Ip私人控股有限公司 形成氮化钒层的方法和包括氮化钒层的结构
US11527403B2 (en) 2019-12-19 2022-12-13 Asm Ip Holding B.V. Methods for filling a gap feature on a substrate surface and related semiconductor structures
KR20210095050A (ko) 2020-01-20 2021-07-30 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 박막 형성 방법 및 박막 표면 개질 방법
TW202130846A (zh) 2020-02-03 2021-08-16 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 形成包括釩或銦層的結構之方法
KR20210100010A (ko) 2020-02-04 2021-08-13 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 대형 물품의 투과율 측정을 위한 방법 및 장치
US11776846B2 (en) 2020-02-07 2023-10-03 Asm Ip Holding B.V. Methods for depositing gap filling fluids and related systems and devices
TW202146715A (zh) 2020-02-17 2021-12-16 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 用於生長磷摻雜矽層之方法及其系統
KR20210116249A (ko) 2020-03-11 2021-09-27 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 록아웃 태그아웃 어셈블리 및 시스템 그리고 이의 사용 방법
KR20210116240A (ko) 2020-03-11 2021-09-27 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 조절성 접합부를 갖는 기판 핸들링 장치
CN113394086A (zh) 2020-03-12 2021-09-14 Asm Ip私人控股有限公司 用于制造具有目标拓扑轮廓的层结构的方法
KR20210124042A (ko) 2020-04-02 2021-10-14 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 박막 형성 방법
TW202146689A (zh) 2020-04-03 2021-12-16 荷蘭商Asm Ip控股公司 阻障層形成方法及半導體裝置的製造方法
TW202145344A (zh) 2020-04-08 2021-12-01 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 用於選擇性蝕刻氧化矽膜之設備及方法
US11821078B2 (en) 2020-04-15 2023-11-21 Asm Ip Holding B.V. Method for forming precoat film and method for forming silicon-containing film
KR20210132600A (ko) 2020-04-24 2021-11-04 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 바나듐, 질소 및 추가 원소를 포함한 층을 증착하기 위한 방법 및 시스템
KR20210132576A (ko) 2020-04-24 2021-11-04 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 바나듐 나이트라이드 함유 층을 형성하는 방법 및 이를 포함하는 구조
TW202146831A (zh) 2020-04-24 2021-12-16 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 垂直批式熔爐總成、及用於冷卻垂直批式熔爐之方法
KR20210134226A (ko) 2020-04-29 2021-11-09 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 고체 소스 전구체 용기
KR20210134869A (ko) 2020-05-01 2021-11-11 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. Foup 핸들러를 이용한 foup의 빠른 교환
KR20210141379A (ko) 2020-05-13 2021-11-23 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 반응기 시스템용 레이저 정렬 고정구
KR20210143653A (ko) 2020-05-19 2021-11-29 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치
KR20210145078A (ko) 2020-05-21 2021-12-01 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 다수의 탄소 층을 포함한 구조체 및 이를 형성하고 사용하는 방법
TW202201602A (zh) 2020-05-29 2022-01-01 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 基板處理方法
TW202218133A (zh) 2020-06-24 2022-05-01 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 形成含矽層之方法
TW202217953A (zh) 2020-06-30 2022-05-01 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 基板處理方法
KR20220010438A (ko) 2020-07-17 2022-01-25 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 포토리소그래피에 사용하기 위한 구조체 및 방법
TW202204662A (zh) 2020-07-20 2022-02-01 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 用於沉積鉬層之方法及系統
US11725280B2 (en) 2020-08-26 2023-08-15 Asm Ip Holding B.V. Method for forming metal silicon oxide and metal silicon oxynitride layers
USD990534S1 (en) 2020-09-11 2023-06-27 Asm Ip Holding B.V. Weighted lift pin
USD1012873S1 (en) 2020-09-24 2024-01-30 Asm Ip Holding B.V. Electrode for semiconductor processing apparatus
TW202229613A (zh) 2020-10-14 2022-08-01 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 於階梯式結構上沉積材料的方法
TW202217037A (zh) 2020-10-22 2022-05-01 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 沉積釩金屬的方法、結構、裝置及沉積總成
TW202223136A (zh) 2020-10-28 2022-06-16 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 用於在基板上形成層之方法、及半導體處理系統
TW202235675A (zh) 2020-11-30 2022-09-16 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 注入器、及基板處理設備
US11946137B2 (en) 2020-12-16 2024-04-02 Asm Ip Holding B.V. Runout and wobble measurement fixtures
TW202231903A (zh) 2020-12-22 2022-08-16 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 過渡金屬沉積方法、過渡金屬層、用於沉積過渡金屬於基板上的沉積總成
USD980814S1 (en) 2021-05-11 2023-03-14 Asm Ip Holding B.V. Gas distributor for substrate processing apparatus
USD981973S1 (en) 2021-05-11 2023-03-28 Asm Ip Holding B.V. Reactor wall for substrate processing apparatus
USD1023959S1 (en) 2021-05-11 2024-04-23 Asm Ip Holding B.V. Electrode for substrate processing apparatus
USD980813S1 (en) 2021-05-11 2023-03-14 Asm Ip Holding B.V. Gas flow control plate for substrate processing apparatus
USD990441S1 (en) 2021-09-07 2023-06-27 Asm Ip Holding B.V. Gas flow control plate

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2821346A (en) * 1953-04-23 1958-01-28 Majac Inc Injector for impact pulverizer or the like
US4261521A (en) * 1980-03-13 1981-04-14 Ashbrook Clifford L Method and apparatus for reducing molecular agglomerate sizes in fluids
US4764283A (en) * 1985-04-24 1988-08-16 Ashbrook Clifford L Method and apparatus for treating cooling tower water
US4957626A (en) * 1985-04-24 1990-09-18 Quinetics Corporation Method and apparatus for treating water in beverage and ice machines
CN86206195U (zh) * 1986-08-20 1987-04-22 李修林 流体混合阀
JP2545226B2 (ja) * 1987-05-08 1996-10-16 ノードソン株式会社 液体の衝突式多段型混合吐出又は噴出方法とその装置
US5435913A (en) * 1994-04-14 1995-07-25 Ashbrook; Clifford L. Fluid treating apparatus
DE4418287C2 (de) * 1994-05-26 1996-04-11 Vogelpohl Alfons Prof Dr Ing Vorrichtung zum Mischen zweier Fluide
SE508137C2 (sv) 1996-12-19 1998-08-31 Tetra Laval Holdings & Finance Metod och anordning för kontinuerlig blandning av två flöden
AU7808800A (en) * 1999-10-20 2001-04-30 University Of Sheffield, The Fluidic mixer
US6649059B2 (en) * 2001-07-05 2003-11-18 Lancer Partnership, Ltd. Apparatus for treating fluids
SE525113C2 (sv) * 2003-04-08 2004-11-30 Tetra Laval Holdings & Finance Metod och anordning för kontinuerlig blandning av två flöden
WO2006019619A1 (en) * 2004-07-20 2006-02-23 Dow Global Technologies Inc. Tapered aperture multi-tee mixer
US7661872B2 (en) * 2007-12-28 2010-02-16 Ray Daniels Apparatus for mixing chemicals with a liquid carrier

Also Published As

Publication number Publication date
US20070153625A1 (en) 2007-07-05
EP1620196A1 (en) 2006-02-01
US7985019B2 (en) 2011-07-26
ES2294492T3 (es) 2008-04-01
BRPI0409094B1 (pt) 2012-08-21
BRPI0409094A (pt) 2006-04-11
WO2004089522A1 (en) 2004-10-21
DK1620196T3 (da) 2008-01-14
SE0301028L (sv) 2004-10-09
SE0301028D0 (sv) 2003-04-08
ATE376876T1 (de) 2007-11-15
DE602004009783D1 (de) 2007-12-13
EP1620196B1 (en) 2007-10-31
CN1767890A (zh) 2006-05-03
DE602004009783T2 (de) 2008-08-28
CN1767890B (zh) 2011-08-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
SE525113C2 (sv) Metod och anordning för kontinuerlig blandning av två flöden
US7954507B2 (en) Mixing eductor
CA2608983C (en) Improved chemical dispenser
US4616937A (en) Intermittent mixing apparatus
NO20063005L (no) Anordning og metodelaere for forbedret blanding av vaesker og torrstoff
SE508137C2 (sv) Metod och anordning för kontinuerlig blandning av två flöden
CN113457591A (zh) 一种微通道反应器
US20160368630A1 (en) System, device, and method for filling at least one balloon
EP1423183A1 (en) Method for mixing a liquid/liquid and/or gaseous media into a solution
JP4803064B2 (ja) フィールドフローフラクショネーション装置
SE423599B (sv) Hydrocyklonanordning
CN216093581U (zh) 一种微通道反应器
SE465406B (sv) Foerfarande foer blandning av medier med olika viskositet samt blandningsmunstycke foer genomfoerande av foerfarandet
JP6333097B2 (ja) 流路洗浄装置を備えたフィルタ洗浄設備
JP2004000878A (ja) 流体混合装置
CN208599511U (zh) 一种用于污水处理的无动力组合式混流器
JP2005074309A5 (sv)
JP2006167624A (ja) 混合装置
ATE407256T1 (de) Verfahren und vorrichtung zum vermischen von suspensionen
CN113399379B (zh) 清洗装置
RU2162008C1 (ru) Аппарат для мембранного концентрирования
SE469277B (sv) Vaetskebehaallare foer avlut fraan cellulosaindustrin
SE524521C2 (sv) Anordning för blandning av lösningar för åstadkommande av artificiellt sediment för efterbehandling av förorenade vattenmiljöer
EP0882495A1 (en) Fluid mixing
JP2023096475A (ja) 固液分離セルおよび固液分離セルの製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
NUG Patent has lapsed