SE448000B - Elektrolyselektrod samt anvendning av densamma - Google Patents

Elektrolyselektrod samt anvendning av densamma

Info

Publication number
SE448000B
SE448000B SE8203139A SE8203139A SE448000B SE 448000 B SE448000 B SE 448000B SE 8203139 A SE8203139 A SE 8203139A SE 8203139 A SE8203139 A SE 8203139A SE 448000 B SE448000 B SE 448000B
Authority
SE
Sweden
Prior art keywords
electrode
electrolysis
titanium
oxide
coating
Prior art date
Application number
SE8203139A
Other languages
English (en)
Other versions
SE8203139L (sv
Inventor
H Asano
T Shimamune
H Nitta
Original Assignee
Permelec Electrode Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Permelec Electrode Ltd filed Critical Permelec Electrode Ltd
Publication of SE8203139L publication Critical patent/SE8203139L/sv
Publication of SE448000B publication Critical patent/SE448000B/sv

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25CPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC PRODUCTION, RECOVERY OR REFINING OF METALS; APPARATUS THEREFOR
    • C25C7/00Constructional parts, or assemblies thereof, of cells; Servicing or operating of cells
    • C25C7/02Electrodes; Connections thereof
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25BELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
    • C25B11/00Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25BELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
    • C25B11/00Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for
    • C25B11/04Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for characterised by the material
    • C25B11/051Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier
    • C25B11/073Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the electrocatalyst material
    • C25B11/091Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the electrocatalyst material consisting of at least one catalytic element and at least one catalytic compound; consisting of two or more catalytic elements or catalytic compounds
    • C25B11/093Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the electrocatalyst material consisting of at least one catalytic element and at least one catalytic compound; consisting of two or more catalytic elements or catalytic compounds at least one noble metal or noble metal oxide and at least one non-noble metal oxide

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electrodes For Compound Or Non-Metal Manufacture (AREA)

Description

448 ÛÛÛ 2 genom att anodöverspänningen gradvis ökar och, i extrema fall, blir det på grund av passivering av anoden omöjligt att fort- sätta elektrolysen. Passivering av anoden antages orsakad huvudsakligen av bildningen av i mindre grad ledande titan- oxider härrörande från oxidering av titansubstratet med syre, som friges från den metalloxid som per se är belagd på substratet, eller genom penetrering av syre eller elektrolyt genom elektrodbeläggningen. Eftersom dessutom dessa i mindre grad ledande oxider bildas i gränsytan mellan substratet och elektrodbeläggningen, försämras vidhäftningen av elektrod- beläggningen till substratet, vilket medför att elektrod- beläggningen skalas av och slutligen förstöring av elektroden.
Elektrolysprocesser vid vilka syre bildas vid anoden eller vid vilka syre bildas vid anoden såsom sidoreaktion inne- fattar elektrolys med användning av ett svavelsyrabad, ett salpetersyrabad, ett alkalibad eller liknande, elektrolytisk utvinning av krom, koppar, zink och liknande, elektropläte- ring, elektrolys av utspädda saltlösningar, havsvatten, salt- syra eller liknande samt elektrolys för framställning av klorat. Alla dessa är industriellt betydelsefulla.
Vid dessa tillämpningar uppträder emellertid allvarliga problem, såsom nämnts ovan, vid användning av metallelektro- der.
För att övervinna dessa problem anges i den amerikanska patentskriften 3 775 284 ett förfarande för att åstadkomma ett spärrskikt innefattande en platina-iridiumlegering och oxider av kobolt, mangan, palladium, bly och platina mellan ett elektriskt ledande substrat och en elektrodbeläggning för att härigenom förhindra passivering av elektroder på grund av penetrering av syre. ' Spärrskiktet förhindrar diffusion och penetrering av syre under elektrolys i viss utsträckning. De ämnen som bildar spärrskiktet är emellertid elektrokemiskt aktiva och reagerar med elektrolyt som genomtränger elektrodbeläggningen och fi? 448 ÛÛÛ T_~"' 3 '°"w" I fbildar elektrolysprodukter, såsom gas på ytan av spärrskiktet; LBï1dningen av dessa elektrolysprodukter ger upphov till '"n I ytterligare problem genom att vidhäftningen av elektrodbelägg- ningen försämras genom den fysikaliska och kemiska verkan av produkter och elektrodbeläggningen kan skalas av och falla av.
Vidare kan tillräcklig beständighet icke erhållas.
Dessutom anges i den amerikanska patentskriften 3 773 555 en elektrod, i vilken ett substrat är belagt med ett skikt av oxid av titan eller liknande och ett skikt av platinagrupp- metall eller oxid därav laminerat på varandra. Denna elekt- rod lider emellertid även av olägenheten att när den användes vid syregenererande elektrolys uppträder passivering.
Ett ändamål med uppfinningen är att åstadkomma en elektrod, som har icke-passiverande egenskaper särskilt lämpade för användning vid elektrolys, varvid generering av syre upp- träder, och som har tillräcklig beständighet.
; Ett annat ändamål med uppfinningen är att åstadkomma ett f förfarande för framställning av sådana elektroder. _ Uppfinningen avser sålunda: (1) En elektrolyselektrod med hög beständighet för använd- ning vid elektrolys, varvid generering av syre uppträder, vilken innefattar (a) ett elektrodsubstrat av titan eller en titanbaserad legering och (b) en elektrodbeläggning av en platinagruppmetalloxid eller en blandoxid av en platinagrupp- metalloxid och en oxid av anodiskt oxidfilmbildande metall, ett mellanskikt (c) bestående av Ta205, Nb2O5 eller en bland- _ oxid av Ta O och Nb O anbringat mellan elektrodsubstratet 2 5 2 5 (a) och elektrodbeläggningen (b). Elektroden kännetecknas av att mellanskiktet (c) har en tjocklek, beräknad såsom metall, av 0,001 till 2 g/m2. (2) Användning av elektrolyselektroden vid elektrolys, 448 ÛÛÛ _ Ä _-_.,____ varvid generering av syre vid anoden uppträder. : I det följande är alla mängduppgifter, såsom tjockleken av metalloxider och andra metallföreningar, uttryckta i termer avseende mängden av beräknad metall, som förefinnes i dessa.
Mellanskiktet (c), som åstadkommes mellan elektrodsubstratet (a) och elektrodbeläggningen (b), är korrosionsbeständigt och elektrokemiskt inaktivt. Huvudfunktionen av mellanskiktet (c) är att skydda det titanbaserade elektrodsubstratet och förhindra passivering av elektroden och det verkar även till att förbättra vidhäftningen mellan elektrodsubstratet (a) och» elektrodbeläggningen (b). Enligt uppfinningen kan därför ' elektrolyselektroder erhållas med hög varaktighet, som är tillräcklig för användning vid elektrolys för framställning av syre eller vid elektrolys varvid bildning av syre uppträder såsom sidoreaktion, även om det tidigare ansetts svårt att tillverka sådana elektrolyselektroder.
Elektrodsubstratet är utfört av titan eller en titanbaserad legering. Metalliskt titan eller titanbaserade legeringar, t.ex. mi-Ta-mb, Ti-Pa, Ti-Ta, Ti-mb, Ti-zr, Ti-wa-zr, Ti-mo-Ni, etc., är lämpliga, vilka tidigare använts i konventionella elektrodsubstrat. Elektrodsubstratet kan ha godtycklig lämp- lig form, exempelvis formen av en skiva, en porös platta, en stång eller ett nät. lfiellanskiktet med en elektriskt ledande oxid av Ta 05 och/- 2 eller Nb2O5 är belagt på elektrodsubstratet till en tjocklek av 0,001 till 2 g/m2.
%Uppfinningen är, såsom beskrives utförligt i det följande, I u baserad på iakttagelsen att anordnandet av ett sådant tunt mellanskikt mellan elektrodsubstratet och elektrodbeläggningen för första gången gör det möjligt att erhålla elektroder med tillräcklig beständighet, som kan användas praktiskt såsom janoder för användning vid elektrolys varvid bildning av syre Éuppträder. (-9 448 ÛÛÛ s Mängden av den elektriskt ledande oxiden av tantal och/eller niob, som är påförd såsom beläggning, dvs. tjockleken av mellanskiktet, är mycket väsentligt och måste ligga inom området 0,001 till 2 g/m2. När tjockleken av mellanskiktet är under 0,001 g/m2, kan i det närmaste icke någon effekt beroende på närvaron av mellanskiktet observeras. När â andra sidan tjockleken är över 2 g/m2, exempelvis inom det konventionella området 5,6 till 35 g/m2 såsom beskrives exem- pelvis i den amerikanska patentskriften 3 773 555, är ventil- metalloxidskiktet per se passiverat, vilket medför passive- ring av elektroden, och effekten av uppfinningen erhålles icke i tillräcklig grad.
Det har bekräftats att Ta2O5, Nb2O5 och en blandoxid därav är lämpliga såsom ämnen som bildar mellanskiktet för uppnâende av ändamålen enligt uppfinningen och dessa ger mycket goda effekter. Det bör observeras att mellanskiktet innefattar huvudsakligen en elektriskt ledande oxid av tantal och/eller niob, som icke är stökiometrisk eller har gitterdefekter, även om det anges ovan att Ta205, Nb2O5 och en blandoxid kan användas såsom mellanskiktbildande ämnen.
En föredragen metod för bildning av mellanskiktet är en termisk sönderdelningsmetod, vid vilken en lösning innehål- lande salter av de i det föregående angivna metallerna be- lägges på substratet och upphettas till bildning av oxiderna av dessa. Lämpliga salter av tantal och niob som kan använ- das vid detta förfarande innefattar kloriderna av dessa och organiska metallföreningar av dessa, såsom butyltantalat och butylniobat. Konventionella påföringsbetingelser för lös- ningarna kan användas följt av upphettning, företrädesvis till ca 350 till 700°C i en syrehaltig atmosfär. Givetvis kan godtycklig annan metod användas så länge som en tät beläggning av den elektriskt ledande oxiden bildas.
Ett elektrokemiskt aktivt elektrodbeläggningsskikt âstadkommes därefter på mellanskiktet, som är belagt på elektrodsubstra- tet. Ämnen som kan användas vid framställningen av sådana 4,48 000 6 elektrodbeläggningsskikt innefattar företrädesvis metall- oxider med mycket goda elektrokemiska egenskaper, varaktighet och liknande. Lämpliga metalloxider kan väljas beroende på elektrolysen, för vilken elektroden användes. Det har visat sig att ämnen som är särskilt lämpade för användning vid elektrolys som åtföljes-av bildning av syre är en eller fler oxider av platinagruppmetaller eller blandade oxider av platinagruppmetaller och ventilmetaller. Typiska exempel är iridiumoxider, iridiumoxider-ruteniumoxider, iridiumoxider- -titanoxider, iridiumoxider-tantaloxider, ruteniumoxider- -titanoxider, iridiumoxider-ruteniumoxider-tantaloxider, ruteniumoxider-iridiumoxider-titanoxider och liknande. t) a) Metoden för bildning av elektrodbeläggningen är icke av kri- tisk betydelse och olika kända metoder, såsom en termisk I sönderdelningsmetod, en elektrokemisk oxidationsmetod och en pulversintringsmetod kan användas, exempelvis såsom beskrives i de amerikanska patentskrifterna 3 632 498, 3 711 385, 3 773 555, 3 775 284, etc. I synnerhet en termisk sönderdel- ningsmetod såsom den i detalj beskrivna i de amerikanska patentskrifterna 3 632 498 och 3 7ll 385 är lämplig. Tjock- leken är icke av kritisk betydelse och är vanligen ca 0,1 till 20 pm, speciellt l till 5,um.
Det är icke teoretiskt klarlagt, varför de ovan beskrivna mycket goda effekterna kan erhållas genom âstadkommande av mellanskiktet som innefattar den elektriskt ledande metall- oxiden av ventilmetall med en valens av 5 mellan det titan- baserade elektrodsubstratet och elektrodbeläggningen, som innefattar metalloxiden med en tjocklek av 0,001 till 2 g/m2.
Det antages emellertid att effekterna av uppfinningen erhål- les av följande skäl.
Såsom beskrivits i det föregående orsakas passivering av en m) elektrod framställd med användning av exempelvis titan såsom substrat huvudsakligen genom bildning av i mindre grad elekt- riskt ledande titanoxid Ti02 på ytan av titansubstratet genom oxidation av titan. šr 448 ÛÛÛ 7 Det första kravet för att förhindra passivering är att mini- mera bildningen av titanoxiden genom åstadkommande av en spärrskiktsbeläggning.
Framställningen av elektroder innefattar emellertid vanligen såsom steg beredning av en elektrodbeläggning genom upphett- ning i en syrehaltig atmosfär till hög temperatur. Titanoxid bildas sålunda i större eller mindre utsträckning på ytan av titansubstratet. När elektroden användes exempelvis såsom anod i en vattenlösning, sättes anodsubstratet under krävande oxiderande betingelser och en elektrolyt passerar genom hålen i elektrodbeläggningen, etc. Vidare kan den oxideras av det syre som förefinnes i anodbeläggningen som innefattar metall- oxiden. Under alla omständigheter är det mycket svårt att fullständigt förhindra bildningen av titanoxid.
Det andra kravet är sålunda att säkerställa att den elektriska ledningsförmågan hos den titanoxid, som oundvikligen bildas, bibehålles med lämpliga medel. Åstadkommandet av mellanskiktet med en tjocklek av 0,001 till 2 g/m2 enligt uppfinningen tillåter i full utsträckning att man uppfyller det första och det andra kravet för förhindrande av passivering. Beläggningen av mellanskiktet innefattande den täta ventilmetalloxiden skyddar sålunda substratet mot oxidering och minimerar bildningen av titanoxiden. Dessutom omvandlas den titanoxid som bildas under tillverkning och användning av elektroden till halvledare genom diffusion av ventilmetall med en valens av 5 Mes+) från det mellanskikts- bildande ämnet i Ti02-kristallgittret eller ersättande av ventilmetall i Ti02-kristallgittret. Sålunda erhålles till- räcklig ledningsförmåga.
Titan i Ti02-kristallen är fyrvärd, dvs. utgöres av Ti4+, och tillsats av Me5+ till TiO2-kristallen ökar dennas elektriska ledningsförmâga. Detta fenomen antages vara baserat på prin- cipen med reglerad valens och att ett delvis ersättande av metallen (valens n) i metalloxiden i kristallform med ett 448 ÛÛÛ 8 (n+l)-värt metallelement resulterar i bildning av en donator- nivå i kristallen och kristallen blir halvledare av n-typ.
Det har vidare visat sig att eftersom det mellanskiktsbildande ämnet är en ventilmetalloxid, som från början är en dålig ledare, bildas en icke-ledande metalloxid åtminstone i den centrala delen av de konventionella beläggningsmängderna, trots att ledningsförmåga bibehâlles i gränsytan mellan mellanskiktet och elektrodsubstratet eller elektrodbelägg- ningen genom atomär diffusion, stelnande, etc. och passive- ring härav fortskrider. Enligt uppfinningen är därför mellan- skiktet mycket tunnare än~konventionella skikt och härigenom löses problemet med passivering av mellanskiktet per se.
De mellanskiktsbildande ämnena'Ta205 och Nb205 har vidare god' vidhäftning till metalliskt titan och bildar lätt en fast lösning i kombination med TiO2 eller elektrodbeläggnings- bildande metalloxider, såsom IrO2, RuO2 och Ir02 + Ta205.
Detta antages öka den varaktiga vidhäftningen mellan elekt- rodsubstratet och elektrodbeläggningen och öka elektrodens varaktighet.
Uppfinningen beskrives utförligare under hänvisning till följande exempel men är icke begränsad av dessa.
Exempel l.
En i handeln tillgänglig plåt av titan med tjockleken 1,5 mm avfettades med aceton och etsades med en 20%-ig vattenlösning av saltsyra vid l05°C för framställning av ett titanelektrod- substrat. En 10%-ig vattenlösning av saltsyra och tantal- tetraklorid innehållande 10 g/l tantal belades på substratet, torkades och kalcinerades 10 minuter i muffelugn, som hölls vid 450°C för att ge ett mellanskikt innefattande 0,05 g/m2 av en tantaloxid på substratet.
En butanollösning innehållande 90 g/l iridiumklorid och 210 g/l titanklorid belades på mellanskiktet och kalcinerades 5,! 71 H41 “V4 448 ÛÛÛ 9 10 minuter i muffelugn, som hölls vid 500°C. Denna behand- ling upprepades tre gånger, så att man härigenom erhöll en elektrod med en elektrodbeläggning innefattande en blandoxid av iridium och titan.
Den på detta sätt framställda elektroden användes såsom anod i en elektrolyt innehållande 150 g/l svavelsyra vid 60°C.
Elektrolys genomfördes vid en strömtäthet av 100 A/dmz med användning av en grafitplatta såsom katod för påskyndad prov- ning av elektrodens beständighet. Elektroden kunde användas på ett stabilt sätt 65 timmar.
För jämförelse framställdes en elektrod (jämförelseelektrod l) på samma sätt som beskrives ovan med undantag av att mellan- skiktet icke påfördes och dessutom framställdes en elektrod (jämförelseelektrod 2) på samma sätt som beskrives ovan med undantag av att ett Ta205-skikt med en tjocklek av 5 g/m2 anordnades såsom mellanskikt. Dessa elektroder underkastades samma beständighetsprovning som beskrivits ovan. För jäm- förelseelektrod l uppträdde passivering inom 41 timmar och elektroden kunde icke användas vidare. Även för jämförelse- elektrod 2 uppträdde passivering inom 43 timmar och elektro- den kunde icke användas vidare.
Av de ovan angivna resultaten framgår att elektroden enligt uppfinningen har betydligt förbättrad beständighet mot passi- vering och förbättrad varaktighet samt kan användas kommer- siellt såsom anod för elektrolys, när bildning av syre upp- träder. _ Exempel 2.
Ett flertal elektroder framställdes på samma sätt som anges i exempel l med undantag av att elektrodsubstrat, mellanskikt och elektrodbeläggning varierades. Dessa elektroder enligt uppfinningen och jämförelseelektroder motsvarande var och en av elektroderna underkastades samma pâskyndade beständighets- provning som beskrives i exempel l. De erhållna resultaten visas i tabell I nedan. _! .omnom nmownz Hflfiß mowma >m Afiflmßwa aomww umnxwumn. wunmfifiwauwwfioz .m« .cwmnflcnflmmmø umflflnm mmbwnx Eom .wøwušo www Hmmflmufl mwa umvxflxmflmfiflmñ mon cwxwaxoofiv »Mm bn mmunmflcø wmä ummzflcnflmmmfi m amwonvxmfim Eom uuwm mäëmm wa mfiflwuwëmuu øonßxmfim cm Hm> m flmmñmxmmmflwnmwëmh am* .mwflnmwmm uxwxwGmHHwE »mmnfl »ua bm mmufimficfl wwä nwmfiflnfiflummø pmfifin QUHHEO CmWOHQMNHG ECM flßww MEENW WW .mfinflwämëßhun .UOHMMMHU CM H.m> 4 HUQEUNMUWHÜHDMEWÜ ÄH* “Ändå A e\m mv m N QNH -H m- .om"o>. mo~ma|~o~H .o.H. mo~«a fla m Aovnomwom. . 1 fiß oofl mo~ma|~ouH|~o=m .>o.o. mownz Qzm|mam|fla Q .~a\m ofi. N N m N Hv mv Hß Aowuow. onH| osm .mo.o. o ma nzmrmamffla m nu | md ßw .ow"o~. Nofiaawosm .wo.o. m*mo~nz|mø~«a fle N nu _ e\w M. nu N mofl NNH mo~ .om"o>_ mo~ms|~oHH .«oo.o. mo~nz fla H M Aumcwëv ~« H* cwmnflccfimmmfl fiwwcmflflwnuæmfiošn AwE\w .mmcmä umuuwnsm us AW m Hwmämxm 4 Hmmëmxm umwficm lafimuwâv Im cflcmmmfimmv xmmumm fmmfimunuamn |mmHmumwewn mnflømmwfiwnwouuxwflw ßxflxmnwflflwz Aumääflu. flwnwfi |m>flflmmcfl=unm>cm wcwuouuxwflm .H Hflmnmü fx 448 000 ll Det framgår av resultaten i tabell I, att användnings- livslängden hos elektroden med det tunna mellanskiktet pâfört enligt uppfinningen är ca 40 % till ca två gånger längre än användningslivslängden hos jämförelseelektroden utan mellan- skikt och jämförelseelektroden med mellanskikt med tjocklek utanför det område som anges enligt uppfinningen. Detta innebär att beständigheten hos elektroden enligt uppfinningen är kraftigt förbättrad. Dessa resultat visar sålunda att elektroden enligt uppfinningen är mycket bra såsom anod för användning vid elektrolys när bildning av syre uppträder.
Uppfinningen har i det föregående beskrivits i detalj under hänvisning till speciella utföringsformer, men det är uppen- bart för fackmannen att uppfinningen kan varieras på olika sätt utan att man avviker från uppfinningstanken.

Claims (7)

1. (2 448 000 s» PATENTKRAV 47) l.
2. Elektrolyselektrod med hög beständighet för använd- ning vid elektrolys, varvid generering av syre uppträder, vilken innefattar (a) ett elektrodsubstrat av titan eller en titanbaserad legering och (b) en elektrodbeläggning av en platinagruppmetalloxid eller en blandoxid av en platinagrupp- metalloxid och en oxid av anodiskt oxidfilmbíldande metall, ett mellanskikt (c) bestående av Ta2O5, Nb205 eller en bland- oxid av Ta2O5 och Nb2O5 anbringat mellan elektrodsubstratet (a) och elektrodbeläggningen (b), k ä n n e t e c k n a d därav, att mellanskiktet (c) har en tjocklek, beräknad såsom metall, av o,oo1 till 2 g/m*. 2L Elektrolyselektrod enligt patentkrav l, k ä n n e - t e c k n a d därav, att den titanbaserade legeringen är Ti-3Ta-3Nb.
3. Elektrolyselektrod enligt något av föregående patentkrav, k ä n n e t e c k n a d därav, att elektrod- beläggningen (b) består av IrO2.
4. Elektrolyselektrod enligt något av föregående patentkrav, k ä n n e t e c k n a d därav, att elektrod- beläggningen (b) består av en blandoxid av Ir02 och Ti02 eller en blandoxid av Ir02 och Ta205.
5. Elektrolyselektrod enligt patentkrav 1 eller 2, k ä n n e t e c k n a d därav, att elektrodbeläggningen (b) består av en blandoxid av RuO2 och Ti02 eller RuO2 och IrO2.
6. Elektrolyselektrod enligt patentkrav l eller 2, k ä n n e t e c k n a d därav, att elektrodbeläggningen (bL f består av en blandoxid av RuO2, IrO2 och Ta2O5 eller av RuO IrO2 och TiO2. 2! få'
7. Användning av en elektrolyselektrod enligt något av ¿_L 448 ÛÛÛ föregående patentkrav vid elektrolys, varvid generering av syre uppträder.
SE8203139A 1981-05-19 1982-05-18 Elektrolyselektrod samt anvendning av densamma SE448000B (sv)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP56074296A JPS6021232B2 (ja) 1981-05-19 1981-05-19 耐久性を有する電解用電極及びその製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
SE8203139L SE8203139L (sv) 1982-11-20
SE448000B true SE448000B (sv) 1987-01-12

Family

ID=13543027

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SE8203139A SE448000B (sv) 1981-05-19 1982-05-18 Elektrolyselektrod samt anvendning av densamma

Country Status (12)

Country Link
US (2) US4469581A (sv)
JP (1) JPS6021232B2 (sv)
KR (1) KR850001740B1 (sv)
CA (1) CA1204705A (sv)
DE (1) DE3219003A1 (sv)
FR (1) FR2506342B1 (sv)
GB (1) GB2099019B (sv)
IN (1) IN156379B (sv)
IT (1) IT1157202B (sv)
MY (1) MY8500880A (sv)
PH (1) PH17186A (sv)
SE (1) SE448000B (sv)

Families Citing this family (43)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6022074B2 (ja) * 1982-08-26 1985-05-30 ペルメレツク電極株式会社 耐久性を有する電解用電極及びその製造方法
JPS6022075B2 (ja) * 1983-01-31 1985-05-30 ペルメレック電極株式会社 耐久性を有する電解用電極及びその製造方法
FR2596776B1 (fr) * 1986-04-03 1988-06-03 Atochem Cathode pour electrolyse et un procede de fabrication de ladite cathode
JPS62189028U (sv) * 1986-05-22 1987-12-01
JPS63235493A (ja) * 1987-03-24 1988-09-30 Tdk Corp 酸素発生用電極及びその製造方法
DE3731285A1 (de) * 1987-09-17 1989-04-06 Conradty Metallelek Dimensionsstabile anode, verfahren zu deren herstellung und verwendung derselben
JPH01298189A (ja) * 1988-05-25 1989-12-01 Japan Carlit Co Ltd:The 電解用電極
JPH0660427B2 (ja) * 1988-05-31 1994-08-10 ティーディーケイ株式会社 酸素発生用電極及びその製造方法
JP2761751B2 (ja) * 1989-03-20 1998-06-04 ペルメレック電極株式会社 耐久性電解用電極及びその製造方法
JP2713788B2 (ja) * 1989-12-22 1998-02-16 ティーディーケイ株式会社 酸素発生用電極及びその製造方法
JP3212327B2 (ja) * 1991-08-30 2001-09-25 ペルメレック電極株式会社 電解用電極
JP3212334B2 (ja) * 1991-11-28 2001-09-25 ペルメレック電極株式会社 電解用電極基体、電解用電極及びそれらの製造方法
KR100196094B1 (ko) 1992-03-11 1999-06-15 사토 히로시 산소발생전극
DE69330773T2 (de) * 1992-10-14 2002-07-04 Daiki Engineering Co Hochfeste Elektroden für die Elektrolyse und ein Verfahren für die Herstellung derselben
JP3124847B2 (ja) * 1992-11-06 2001-01-15 ペルメレック電極株式会社 金属箔の電解による製造方法
JP3124848B2 (ja) * 1992-11-11 2001-01-15 ペルメレック電極株式会社 金属箔の電解による製造方法
JPH07316862A (ja) * 1994-05-27 1995-12-05 Matsushita Electric Ind Co Ltd 電 極
US5587058A (en) * 1995-09-21 1996-12-24 Karpov Institute Of Physical Chemicstry Electrode and method of preparation thereof
DE10007480A1 (de) * 2000-02-18 2001-08-23 Provera Ges Fuer Projektierung Bipolare Elektrode mit Halbleiterbeschichtung und damit verbundenes Verfahren zur elektrolytischen Wasserspaltung
US20040058205A1 (en) * 2002-08-21 2004-03-25 Mantese Joseph V. Metal alloys forming passivating conductive oxides for durable electrical contact surfaces
US20050189041A1 (en) * 2002-08-21 2005-09-01 Mantese Joseph V. Metal alloys for forming conductive oxide coatings for electrical contacts
US7575827B2 (en) * 2002-08-21 2009-08-18 Delphi Technologies, Inc. Conductive coatings for PEM fuel cell electrodes
US20060266648A1 (en) * 2002-12-17 2006-11-30 King Mackenzie E Process analyzer for monitoring electrochemical deposition solutions
US7258778B2 (en) * 2003-03-24 2007-08-21 Eltech Systems Corporation Electrocatalytic coating with lower platinum group metals and electrode made therefrom
MY136763A (en) * 2003-05-15 2008-11-28 Permelec Electrode Ltd Electrolytic electrode and process of producing the same
JP4535822B2 (ja) 2004-09-28 2010-09-01 ペルメレック電極株式会社 導電性ダイヤモンド電極及びその製造方法
EP1896633A2 (en) * 2005-06-15 2008-03-12 Danfoss A/S A corrosion resistant object having an outer layer of a precious metal
JP2009511747A (ja) * 2005-10-12 2009-03-19 オール マイ リレーションズ、インコーポレイティッド 電解セルを利用する内燃装置および方法
US8431191B2 (en) * 2006-07-14 2013-04-30 Tantaline A/S Method for treating titanium objects with a surface layer of mixed tantalum and titanium oxides
ITMI20061974A1 (it) * 2006-10-16 2008-04-17 Industrie De Nora Spa Anodo per elettrolisi
TWI453305B (zh) 2008-03-31 2014-09-21 Permelec Electrode Ltd 電解用電極的製造方法
TWI453306B (zh) 2008-03-31 2014-09-21 Permelec Electrode Ltd 電解用電極的製造方法
US8221599B2 (en) * 2009-04-03 2012-07-17 The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University Corrosion-resistant anodes, devices including the anodes, and methods of using the anodes
TWI490371B (zh) * 2009-07-28 2015-07-01 Industrie De Nora Spa 電解應用上的電極及其製法以及在電極表面上陽極釋氧之電解法和電冶法
US20150053574A1 (en) * 2012-06-08 2015-02-26 The Doshisha Metal electrowinning anode and electrowinning method
BR112013006922A2 (pt) * 2010-09-24 2016-07-12 Det Norske Veritas As método e aparelho para a redução eletroquímica de dióxido de carbono
JP2013053348A (ja) * 2011-09-05 2013-03-21 Omega:Kk セラミックス電極
WO2013082205A1 (en) * 2011-12-01 2013-06-06 Neohydro Corp. Direct contact cell
FI2823079T3 (fi) 2012-02-23 2023-05-04 Treadstone Tech Inc Korrosiota kestävä ja sähköä johtava metallin pinta
KR101480023B1 (ko) 2014-05-29 2015-01-07 주식회사 아벡테크 다이아몬드 전극 및 그 제조 방법
CN113693954B (zh) * 2021-09-05 2024-02-20 诗乐氏实业(深圳)有限公司 一种抗菌洗手液
CN114752971B (zh) * 2022-04-11 2023-03-28 西安泰金新能科技股份有限公司 一种具有高电解耐久性的涂层钛阳极的制备方法
CN115595467A (zh) * 2022-10-17 2023-01-13 西安稀有金属材料研究院有限公司(Cn) 一种耐硝酸腐蚀Ti-Ta-Nb合金及其制备方法

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1195871A (en) * 1967-02-10 1970-06-24 Chemnor Ag Improvements in or relating to the Manufacture of Electrodes.
US3632495A (en) * 1969-06-02 1972-01-04 Petrolite Corp Corrosion test probe assembly
GB1327760A (en) * 1969-12-22 1973-08-22 Imp Metal Ind Kynoch Ltd Electrodes
US3775284A (en) * 1970-03-23 1973-11-27 J Bennett Non-passivating barrier layer electrodes
US3711385A (en) * 1970-09-25 1973-01-16 Chemnor Corp Electrode having platinum metal oxide coating thereon,and method of use thereof
IT959730B (it) * 1972-05-18 1973-11-10 Oronzio De Nura Impianti Elett Anodo per sviluppo di ossigeno
NL161817C (nl) * 1972-08-03 Marston Excelsior Ltd Werkwijze ter vervaardiging van elektrodes.
DE2300422C3 (de) * 1973-01-05 1981-10-15 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Verfahren zur Herstellung einer Elektrode
US4005003A (en) * 1975-04-15 1977-01-25 Olin Corporation Multi-component metal electrode
US3950240A (en) * 1975-05-05 1976-04-13 Hooker Chemicals & Plastics Corporation Anode for electrolytic processes
US4110180A (en) * 1976-04-28 1978-08-29 Diamond Shamrock Technologies S.A. Process for electrolysis of bromide containing electrolytes
DE2714605A1 (de) * 1977-04-01 1978-10-05 Sigri Elektrographit Gmbh Elektrode fuer elektrochemische prozesse
US4310391A (en) * 1979-12-21 1982-01-12 Bell Telephone Laboratories, Incorporated Electrolytic gold plating
DE3161802D1 (en) * 1980-11-26 1984-02-02 Imi Kynoch Ltd Electrode, method of manufacturing an electrode and electrolytic cell using such an electrode

Also Published As

Publication number Publication date
JPS6021232B2 (ja) 1985-05-25
SE8203139L (sv) 1982-11-20
DE3219003C2 (sv) 1988-04-07
CA1204705A (en) 1986-05-20
DE3219003A1 (de) 1982-12-09
PH17186A (en) 1984-06-14
IN156379B (sv) 1985-07-06
FR2506342B1 (fr) 1988-06-10
KR830010221A (ko) 1983-12-26
FR2506342A1 (fr) 1982-11-26
IT8248433A0 (it) 1982-05-17
JPS57192281A (en) 1982-11-26
KR850001740B1 (ko) 1985-12-07
IT1157202B (it) 1987-02-11
GB2099019B (en) 1984-05-16
MY8500880A (en) 1985-12-31
US4469581A (en) 1984-09-04
GB2099019A (en) 1982-12-01
US4468416A (en) 1984-08-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
SE448000B (sv) Elektrolyselektrod samt anvendning av densamma
US4288302A (en) Method for electrowinning metal
US4484999A (en) Electrolytic electrodes having high durability
US4554176A (en) Durable electrode for electrolysis and process for production thereof
JP7094110B2 (ja) 電解過程のための電極
US4584084A (en) Durable electrode for electrolysis and process for production thereof
CA1259053A (en) Durable electrode for electrolysis and process for production thereof
KR20140043886A (ko) 전기 화학적 산업 공정에 있어서 산소를 발생시키기 위한 전극
US6231731B1 (en) Electrolyzing electrode and process for the production thereof
JP2574699B2 (ja) 酸素発生陽極及びその製法
US8702877B2 (en) Cathode member and bipolar plate for hypochlorite cells
KR100207763B1 (ko) 전기분해 전극기재,전기분해 전극 및 이들의 제조방법
EP0359876B1 (en) Oxygen-generating electrode and method for the preparation thereof
JPH0499294A (ja) 酸素発生用陽極及びその製法
JPH02179891A (ja) 酸素発生用陽極
JPH05230682A (ja) 電解用電極
CA1259052A (en) Durable electrode for electrolysis and process for production thereof
JPH06122988A (ja) 電解用電極およびその製造方法
JPS6314885A (ja) 電解用電極の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
NAL Patent in force

Ref document number: 8203139-4

Format of ref document f/p: F

NUG Patent has lapsed

Ref document number: 8203139-4

Format of ref document f/p: F