RU99117597A - Ускоритель электронного пучка (варианты) и способ ускорения электронов - Google Patents

Ускоритель электронного пучка (варианты) и способ ускорения электронов

Info

Publication number
RU99117597A
RU99117597A RU99117597/28A RU99117597A RU99117597A RU 99117597 A RU99117597 A RU 99117597A RU 99117597/28 A RU99117597/28 A RU 99117597/28A RU 99117597 A RU99117597 A RU 99117597A RU 99117597 A RU99117597 A RU 99117597A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
vacuum chamber
housing
electron
accelerator
electron source
Prior art date
Application number
RU99117597/28A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2212774C2 (ru
Inventor
Цви АВНЕРИ
Original Assignee
Эпплайд Эдвансд Текнолоджиз, Инк.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from US08/778,037 external-priority patent/US5962995A/en
Application filed by Эпплайд Эдвансд Текнолоджиз, Инк. filed Critical Эпплайд Эдвансд Текнолоджиз, Инк.
Publication of RU99117597A publication Critical patent/RU99117597A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2212774C2 publication Critical patent/RU2212774C2/ru

Links

Claims (25)

1. Ускоритель электронов, включающий: вакуумную камеру, снабженную выходной диафрагмой для электронного пучка, и источник электронов для генерирования электронного пучка, расположенный внутри вакуумной камеры, отличающийся тем, что он содержит корпус, окружающий источник электронов, причем корпус имеет первую систему отверстий, выполненных в корпусе между источником электронов и выходной диафрагмой для того, чтобы давать возможность электронам ускоряться от источника и выходить через выходную диафрагму в виде электронного пучка при создании разности потенциалов между корпусом и выходной диафрагмой, при этом корпус снабжен также пассивным формирователем линий электрического поля для обеспечения равномерного распределения электронов в поперечном направлении электронного пучка.
2. Ускоритель по п.1, отличающийся тем, что вакуумная камера образована внутри цилиндрического элемента, имеющего продольную ось и боковую наружную стенку.
3. Ускоритель по п. 2, отличающийся тем, что он снабжен далее высоковольтным коннектором для подачи энергии к источнику электронов и корпусу, при этом высоковольтный изолятор дисковой формы отделяет вакуумную камеру от высоковольтного коннектора.
4. Ускоритель по п. 3, отличающийся тем, что он снабжен только двумя проводами, проходящими через изолятор для электрического подсоединения высоковольтного коннектора к источнику электронов и корпусу.
5. Ускоритель по п.3, отличающийся тем, что он снабжен герметично закрываемым отводом, подсоединенным к вакуумной камере.
6. Ускоритель по п.1, отличающийся тем, что источник электронов включает катод прямого накала.
7. Ускоритель по п.2, отличающийся тем, что вакуумная камера герметично закрыта для самостоятельного сохранения в ней вакуума.
8. Ускоритель по п. 7, отличающийся тем, что выходная диафрагма имеет наружную кромку, которая припаяна к вакуумной камере для создания между ними газонепроницаемого герметичного шва.
9. Ускоритель по п.8, отличающийся тем, что он снабжен опорной пластиной, прикрепленной к вакуумной камере для поддерживания выходной диафрагмы.
10. Ускоритель по п.9, отличающийся тем, что выходная диафрагма расположена перпендикулярно продольной оси вакуумной камеры.
11. Ускоритель по п.9, отличающийся тем, что выходная диафрагма расположена параллельно продольной оси вакуумной камеры.
12. Ускоритель по п.9, отличающийся тем, что выходная диафрагма выполнена из металлической фольги.
13. Ускоритель по п.12, отличающийся тем, что выходная диафрагма выполнена из титановой фольги толщиной примерно 6 - 12 мкм.
14. Ускоритель по п.7, отличающийся тем, что выходная диафрагма имеет наружную кромку, которая приварена или приклеена к вакуумной камере для создания между ними газонепроницаемого герметичного шва.
15. Ускоритель по п.1, отличающийся тем, что электронный пучок по существу является несфокусированным.
16. Ускоритель по п.1, отличающийся тем, что ускоритель является первым ускорителем электронов для получения первого электронного пучка и включает далее второй ускоритель электронов для получения второго электронного пучка, причем второй ускоритель смещен относительно первого ускорителя назад и поперечно в сторону для обеспечения сплошного поперечного покрытия электронным пучком объекта, движущегося под электронными пучками.
17. Ускоритель по п.1, отличающийся тем, что пассивный формирователь линий электрического поля включает вторую и третью систему отверстий, выполненных в корпусе на противоположных боковых сторонах от источника электронов.
18. Ускоритель электронов, отличающийся тем, что он включает вакуумную камеру, снабженную выходной диафрагмой для электронного пучка, причем вакуумная камера образована внутри удлиненного элемента и герметично закрыта для самостоятельного сохранения в ней вакуума, источник электронов для генерирования электронов, расположенный внутри вакуумной камеры, высоковольтный коннектор, расположенный внутри удлиненного элемента для подачи питания к ускорителю, высоковольтный изолятор, отделяющий вакуумную камеру от высоковольтного коннектора, и корпус, окружающий источник электронов, причем корпус имеет первую систему отверстий, выполненных в корпусе между источником электронов и выходной диафрагмой для того, чтобы давать возможность электронам ускоряться от источника и выходить через выходную диафрагму в виде электронного пучка при создании разности потенциалов между корпусом и выходной диафрагмой.
19. Ускоритель по п.18, отличающийся тем, что выходная диафрагма выполнена из титановой фольги толщиной меньше 12,5 мкм, предпочтительно примерно 8 - 10 мкм.
20. Ускоритель по п.19, отличающийся тем, что он снабжен высоковольтным источником питания для создания разности потенциалов между корпусом и выходной диафрагмой, причем источник питания подает напряжение примерно 100 - 150 кВ, предпочтительно примерно 80 - 125 кВ.
21. Способ ускорения электронов в электронном ускорителе, содержащем вакуумную камеру, имеющую выходную диафрагму для электронного пучка, расположенный внутри вакуумной камеры источник электронов для генерирования электронов и корпус, окружающий источник электронов, причем корпус имеет первую систему отверстий, выполненных в корпусе между источником электронов и выходной диафрагмой, отличающийся тем, что он включает операции: ускорения электронов от источника электронов с их выходом через выходную диафрагму в виде электронного пучка посредством создания разности потенциалов между корпусом и выходной диафрагмой и операцию равномерного распределения электронов в поперечном сечении электронного пучка между источником электронов и выходной диафрагмой с помощью пассивного формирователя линий электрического поля.
22. Способ по п.21, отличающийся тем, что он включает дополнительно операцию герметичной изоляции вакуумной камеры для самостоятельного сохранения в ней вакуума.
23. Способ по п.22, отличающийся тем, что он включает дополнительно операцию повышения вакуума в вакуумной камере путем осаждения ионизированных молекул, содержащихся внутри вакуумной камеры, на поверхностях корпуса.
24. Способ по п.21, отличающийся тем, что пассивный формирователь линий электрического поля образуют посредством выполнения второй и третьей систем отверстий в корпусе на противоположных боковых сторонах от источника электронов.
25. Способ ускорения электронов в электронном ускорителе, содержащем вакуумную камеру, имеющую выходную диафрагму для электронного пучка, расположенный внутри вакуумной камеры источник электронов для генерирования электронов и корпус, окружающий источник электронов, причем корпус имеет первое отверстие, выполненное в корпусе между источником электронов и выходной диафрагмой, отличающийся тем, что он включает операции: ускорение электронов от источника электронов с их выходом через выходную диафрагму в виде электронного пучка посредством создания разности потенциалов между корпусом и выходной диафрагмой, операцию герметичного изолирования вакуумной камеры для самостоятельного сохранения в ней вакуума и повышения вакуума в вакуумной камере путем осаждения ионизированных молекул, содержащихся внутри вакуумной камеры, на поверхностях корпуса.
RU99117597/28A 1997-01-02 1997-12-30 Ускоритель электронного пучка (варианты) и способ ускорения электронов RU2212774C2 (ru)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US08/778,037 1997-01-02
US08/778,037 US5962995A (en) 1997-01-02 1997-01-02 Electron beam accelerator

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU99117597A true RU99117597A (ru) 2001-07-10
RU2212774C2 RU2212774C2 (ru) 2003-09-20

Family

ID=25112112

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU99117597/28A RU2212774C2 (ru) 1997-01-02 1997-12-30 Ускоритель электронного пучка (варианты) и способ ускорения электронов

Country Status (9)

Country Link
US (1) US5962995A (ru)
EP (3) EP2204838A3 (ru)
JP (5) JP4213770B2 (ru)
AT (1) ATE489722T1 (ru)
AU (1) AU5808498A (ru)
BR (1) BR9714246A (ru)
DE (1) DE69740064D1 (ru)
RU (1) RU2212774C2 (ru)
WO (1) WO1998029895A1 (ru)

Families Citing this family (94)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5909032A (en) * 1995-01-05 1999-06-01 American International Technologies, Inc. Apparatus and method for a modular electron beam system for the treatment of surfaces
US6407492B1 (en) 1997-01-02 2002-06-18 Advanced Electron Beams, Inc. Electron beam accelerator
US6576915B1 (en) 1998-02-12 2003-06-10 Mcintyre Peter M. Method and system for electronic pasteurization
US7640083B2 (en) 2002-11-22 2009-12-29 Monroe David A Record and playback system for aircraft
US6545398B1 (en) * 1998-12-10 2003-04-08 Advanced Electron Beams, Inc. Electron accelerator having a wide electron beam that extends further out and is wider than the outer periphery of the device
US6140657A (en) * 1999-03-17 2000-10-31 American International Technologies, Inc. Sterilization by low energy electron beam
JP2000347000A (ja) * 1999-06-04 2000-12-15 Ebara Corp 電子線照射装置
WO2001004924A1 (en) * 1999-07-09 2001-01-18 Advanced Electron Beams, Inc. Electron beam accelerator
US6426507B1 (en) * 1999-11-05 2002-07-30 Energy Sciences, Inc. Particle beam processing apparatus
FR2815769A1 (fr) * 2000-10-23 2002-04-26 Thomson Csf Linac Canon a electrons a faisceau recombine avec fenetre de sortie a refroidissement central
WO2002058742A1 (en) 2000-12-13 2002-08-01 Advanced Electron Beams, Inc. Decontamination apparatus
US7183563B2 (en) * 2000-12-13 2007-02-27 Advanced Electron Beams, Inc. Irradiation apparatus
PT1232760E (pt) * 2001-02-16 2007-11-30 Tetra Laval Holdings & Finance Método e unidade para esterilizaçâo do material de embalagem em folha para fabrico de embalagens seladas de produtos alimentares vazáveis
US6630774B2 (en) * 2001-03-21 2003-10-07 Advanced Electron Beams, Inc. Electron beam emitter
US7265367B2 (en) 2001-03-21 2007-09-04 Advanced Electron Beams, Inc. Electron beam emitter
US20020135290A1 (en) 2001-03-21 2002-09-26 Advanced Electron Beams, Inc. Electron beam emitter
US8367013B2 (en) 2001-12-24 2013-02-05 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Reading device, method, and system for conducting lateral flow assays
US20030119203A1 (en) 2001-12-24 2003-06-26 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Lateral flow assay devices and methods for conducting assays
US20040000648A1 (en) * 2002-06-28 2004-01-01 Rissler Lawrence D. E-beam treatment system for machining coolants and lubricants
US7285424B2 (en) 2002-08-27 2007-10-23 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Membrane-based assay devices
US6808600B2 (en) * 2002-11-08 2004-10-26 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Method for enhancing the softness of paper-based products
US7247500B2 (en) 2002-12-19 2007-07-24 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Reduction of the hook effect in membrane-based assay devices
US20040197819A1 (en) 2003-04-03 2004-10-07 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Assay devices that utilize hollow particles
US7851209B2 (en) 2003-04-03 2010-12-14 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Reduction of the hook effect in assay devices
CN100557755C (zh) * 2003-07-30 2009-11-04 能源科学公司 采用粒子束处理材料的方法和如此处理的材料
US7754197B2 (en) 2003-10-16 2010-07-13 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Method for reducing odor using coordinated polydentate compounds
FR2861215B1 (fr) * 2003-10-20 2006-05-19 Calhene Canon a electrons a anode focalisante, formant une fenetre de ce canon, application a l'irradiation et a la sterilisation
US7713748B2 (en) 2003-11-21 2010-05-11 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Method of reducing the sensitivity of assay devices
US7943395B2 (en) 2003-11-21 2011-05-17 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Extension of the dynamic detection range of assay devices
US20050112703A1 (en) 2003-11-21 2005-05-26 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Membrane-based lateral flow assay devices that utilize phosphorescent detection
US20050132466A1 (en) * 2003-12-11 2005-06-23 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Elastomeric glove coating
US20050127552A1 (en) * 2003-12-11 2005-06-16 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Method for forming an elastomeric article
US7943089B2 (en) 2003-12-19 2011-05-17 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Laminated assay devices
US7295015B2 (en) * 2004-02-19 2007-11-13 Brooks Automation, Inc. Ionization gauge
US7030619B2 (en) * 2004-02-19 2006-04-18 Brooks Automation, Inc. Ionization gauge
US7148613B2 (en) 2004-04-13 2006-12-12 Valence Corporation Source for energetic electrons
US7449232B2 (en) * 2004-04-14 2008-11-11 Energy Sciences, Inc. Materials treatable by particle beam processing apparatus
US20060113486A1 (en) * 2004-11-26 2006-06-01 Valence Corporation Reaction chamber
US7957507B2 (en) 2005-02-28 2011-06-07 Cadman Patrick F Method and apparatus for modulating a radiation beam
US8232535B2 (en) 2005-05-10 2012-07-31 Tomotherapy Incorporated System and method of treating a patient with radiation therapy
DE602006021803D1 (de) 2005-07-22 2011-06-16 Tomotherapy Inc System zur Verabreichung einer Strahlentherapie auf ein sich bewegendes Zielgebiet
CA2616292A1 (en) * 2005-07-22 2007-02-01 Tomotherapy Incorporated Method and system for evaluating quality assurance criteria in delivery of a treament plan
EP2532386A3 (en) 2005-07-22 2013-02-20 TomoTherapy, Inc. System for delivering radiation therapy to a moving region of interest
US8442287B2 (en) 2005-07-22 2013-05-14 Tomotherapy Incorporated Method and system for evaluating quality assurance criteria in delivery of a treatment plan
US7839972B2 (en) 2005-07-22 2010-11-23 Tomotherapy Incorporated System and method of evaluating dose delivered by a radiation therapy system
WO2007014090A2 (en) 2005-07-23 2007-02-01 Tomotherapy Incorporated Radiation therapy imaging and delivery utilizing coordinated motion of gantry and couch
EP1775752A3 (de) * 2005-10-15 2007-06-13 Burth, Dirk, Dr. Herstellung eines Elektronenaustrittsfensters mittels eines Ätzprozesses
US7759661B2 (en) * 2006-02-14 2010-07-20 Advanced Electron Beams, Inc. Electron beam emitter for sterilizing containers
JP4584851B2 (ja) * 2006-03-10 2010-11-24 浜松ホトニクス株式会社 電子線発生装置
US20080043910A1 (en) * 2006-08-15 2008-02-21 Tomotherapy Incorporated Method and apparatus for stabilizing an energy source in a radiation delivery device
US8223918B2 (en) 2006-11-21 2012-07-17 Varian Medical Systems, Inc. Radiation scanning and disabling of hazardous targets in containers
US7935538B2 (en) 2006-12-15 2011-05-03 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Indicator immobilization on assay devices
US7785496B1 (en) 2007-01-26 2010-08-31 Clemson University Research Foundation Electrochromic inks including conducting polymer colloidal nanocomposites, devices including the electrochromic inks and methods of forming same
US7656236B2 (en) 2007-05-15 2010-02-02 Teledyne Wireless, Llc Noise canceling technique for frequency synthesizer
US7768267B2 (en) * 2007-07-11 2010-08-03 Brooks Automation, Inc. Ionization gauge with a cold electron source
US8440981B2 (en) 2007-10-15 2013-05-14 Excellims Corporation Compact pyroelectric sealed electron beam
US7960704B2 (en) * 2007-10-15 2011-06-14 Excellims Corporation Compact pyroelectric sealed electron beam
US8399368B2 (en) * 2007-10-16 2013-03-19 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Nonwoven web material containing a crosslinked elastic component formed from a linear block copolymer
US8349963B2 (en) * 2007-10-16 2013-01-08 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Crosslinked elastic material formed from a linear block copolymer
US7923392B2 (en) * 2007-10-16 2011-04-12 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Crosslinked elastic material formed from a branched block copolymer
US7923391B2 (en) * 2007-10-16 2011-04-12 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Nonwoven web material containing crosslinked elastic component formed from a pentablock copolymer
US20090157024A1 (en) * 2007-12-14 2009-06-18 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Hydration Test Devices
US8134042B2 (en) * 2007-12-14 2012-03-13 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Wetness sensors
US8179045B2 (en) 2008-04-22 2012-05-15 Teledyne Wireless, Llc Slow wave structure having offset projections comprised of a metal-dielectric composite stack
CN102099889A (zh) * 2008-05-21 2011-06-15 先进电子束公司 带狭缝枪的电子束发射机
US20090325440A1 (en) * 2008-06-30 2009-12-31 Thomas Oomman P Films and film laminates with relatively high machine direction modulus
US8222476B2 (en) 2008-10-31 2012-07-17 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Absorbent articles with impending leakage sensors
JP2009143237A (ja) * 2009-01-16 2009-07-02 Energy Sciences Inc 粒子線で材料を処理するための方法およびこのように処理された材料
SE534156C2 (sv) * 2009-03-11 2011-05-17 Tetra Laval Holdings & Finance Förfarande för montering av ett fönster för utgående elektroner och en fönsterenhet för utgående elektroner
US8293173B2 (en) * 2009-04-30 2012-10-23 Hitachi Zosen Corporation Electron beam sterilization apparatus
US20110012030A1 (en) 2009-04-30 2011-01-20 Michael Lawrence Bufano Ebeam sterilization apparatus
WO2011005307A2 (en) 2009-07-07 2011-01-13 Advanced Electron Beams Method and apparatus for ebeam treatment of webs and products made therefrom
JP2010047017A (ja) * 2009-11-20 2010-03-04 Energy Sciences Inc 粒子線で材料を処理するための方法およびこのように処理された材料
ES2610626T3 (es) 2010-02-08 2017-04-28 Tetra Laval Holdings & Finance S.A. Conjunto y método para reducir las arrugas de las láminas en una disposición circular
US8623292B2 (en) 2010-08-17 2014-01-07 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Dehydration sensors with ion-responsive and charged polymeric surfactants
WO2012025546A1 (en) * 2010-08-26 2012-03-01 Tetra Laval Holdings & Finance S.A. Control grid design for an electron beam generating device
JP5911507B2 (ja) * 2010-12-16 2016-04-27 日立造船株式会社 プラズマまたはオゾンの生成システム、及びプラズマまたはオゾンの生成方法
US8604129B2 (en) 2010-12-30 2013-12-10 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Sheet materials containing S-B-S and S-I/B-S copolymers
RU2461151C1 (ru) * 2011-01-25 2012-09-10 Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Национальный исследовательский ядерный университет "МИФИ" (НИЯУ МИФИ) Ионный диод для генерации нейтронов
CN102340922B (zh) * 2011-08-09 2012-11-28 湖北久瑞核技术股份有限公司 一种电子加速器
EP2819708B1 (en) 2012-02-28 2017-08-02 Life Technologies Corporation Systems and containers for sterilizing a fluid
EP2962309B1 (en) 2013-02-26 2022-02-16 Accuray, Inc. Electromagnetically actuated multi-leaf collimator
US9202660B2 (en) 2013-03-13 2015-12-01 Teledyne Wireless, Llc Asymmetrical slow wave structures to eliminate backward wave oscillations in wideband traveling wave tubes
DE102014001344B4 (de) * 2014-02-02 2015-08-20 Crosslinking AB Elektronenstrahleinheit mit schräg zur Transportrichtung ausgerichteten Heizkathodendrähten sowie Verfahren zur Bestrahlung
DE102014001342A1 (de) * 2014-02-02 2015-08-06 Crosslinking AB Stützkonstruktion mit schräg verlaufenden Kühlkanälen für ein Elektronenaustrittsfenster
KR102587532B1 (ko) 2015-02-27 2023-10-11 킴벌리-클라크 월드와이드, 인크. 흡수 용품 누설 평가 시스템
CN104717823A (zh) * 2015-03-30 2015-06-17 同方威视技术股份有限公司 绝缘密封结构和电子帘加速器
WO2017075021A1 (en) 2015-10-29 2017-05-04 Celanese EVA Performance Polymers Corporation Medical tube
CN106211536A (zh) * 2016-08-30 2016-12-07 中广核达胜加速器技术有限公司 一种中能半自屏蔽电子加速器
RU2648241C2 (ru) * 2016-09-01 2018-03-23 Акционерное Общество "Нииэфа Им. Д.В. Ефремова" Широкоапертурный ускоритель с планарной электронно-оптической системой
JP6451716B2 (ja) * 2016-10-21 2019-01-16 岩崎電気株式会社 電子線照射装置
EP3536132B1 (en) * 2016-11-03 2022-03-16 Starfire Industries LLC A compact system for coupling rf power directly into an accelerator
MX2019010970A (es) 2017-04-05 2019-12-16 Kimberly Clark Co Prenda para detectar fugas en un articulo absorbente y metodos para detectar fugas del articulo absorbente usando la misma.
US11139139B2 (en) * 2018-06-28 2021-10-05 Hitaclii High-Tech Corporation Charged particle beam generator and charged particle beam apparatus

Family Cites Families (56)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3440466A (en) * 1965-09-30 1969-04-22 Ford Motor Co Window support and heat sink for electron-discharge device
US3418155A (en) * 1965-09-30 1968-12-24 Ford Motor Co Electron discharge control
US3462292A (en) * 1966-01-04 1969-08-19 Ford Motor Co Electron induced deposition of organic coatings
US3433947A (en) * 1966-06-02 1969-03-18 High Voltage Engineering Corp Electron beam accelerator with shielding means and electron beam interlocked
US3617740A (en) * 1968-10-08 1971-11-02 High Voltage Engineering Corp Modular electron source for uniformly irradiating the surface of a product
US3610993A (en) * 1969-12-31 1971-10-05 Westinghouse Electric Corp Electronic image device with mesh electrode for reducing moire patterns
US3702412A (en) 1971-06-16 1972-11-07 Energy Sciences Inc Apparatus for and method of producing an energetic electron curtain
US3749967A (en) * 1971-12-23 1973-07-31 Avco Corp Electron beam discharge device
US3769600A (en) 1972-03-24 1973-10-30 Energy Sciences Inc Method of and apparatus for producing energetic charged particle extended dimension beam curtains and pulse producing structures therefor
US3956712A (en) * 1973-02-05 1976-05-11 Northrop Corporation Area electron gun
US3863163A (en) * 1973-04-20 1975-01-28 Sherman R Farrell Broad beam electron gun
US3925670A (en) * 1974-01-16 1975-12-09 Systems Science Software Electron beam irradiation of materials using rapidly pulsed cold cathodes
US4020354A (en) * 1975-05-22 1977-04-26 The Goodyear Tire & Rubber Company Treatment of tire making components
US4061944A (en) * 1975-06-25 1977-12-06 Avco Everett Research Laboratory, Inc. Electron beam window structure for broad area electron beam generators
JPS52117053A (en) * 1976-03-29 1977-10-01 Hokushin Electric Works Electromagnetic counter drive circuit
US4079328A (en) * 1976-09-21 1978-03-14 Radiation Dynamics, Inc. Area beam electron accelerator having plural discrete cathodes
DE2656314A1 (de) * 1976-12-11 1978-06-15 Leybold Heraeus Gmbh & Co Kg Stromversorgungseinrichtung fuer elektronenstrahlkanonen
US4246297A (en) * 1978-09-06 1981-01-20 Energy Sciences Inc. Process and apparatus for the curing of coatings on sensitive substrates by electron irradiation
DE3108006A1 (de) * 1981-03-03 1982-09-16 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Strahlenaustrittsfenster
US4499405A (en) * 1981-05-20 1985-02-12 Rpc Industries Hot cathode for broad beam electron gun
SU1107191A1 (ru) 1981-10-12 1984-08-07 Предприятие П/Я А-1067 Электронна пушка
US4446374A (en) * 1982-01-04 1984-05-01 Ivanov Andrei S Electron beam accelerator
US4468282A (en) * 1982-11-22 1984-08-28 Hewlett-Packard Company Method of making an electron beam window
JPS6013300A (ja) * 1983-07-04 1985-01-23 株式会社トーキン 電子線用ウインド
NL8302616A (nl) * 1983-07-22 1985-02-18 Philips Nv Electronenbeeldbuis met een invangruimte voor losse deeltjes.
US4646338A (en) * 1983-08-01 1987-02-24 Kevex Corporation Modular portable X-ray source with integral generator
JPS60207300A (ja) * 1984-03-30 1985-10-18 日本電子株式会社 荷電粒子線加速装置
CH664044A5 (de) * 1984-10-02 1988-01-29 En Physiquedes Plasmas Crpp Ce Vorrichtung zur fuehrung eines elektronenstrahls.
JPH0654642B2 (ja) 1985-02-09 1994-07-20 日新ハイボルテ−ジ株式会社 電子線照射装置の線量分布均一化方法
JPS62198045A (ja) * 1986-02-24 1987-09-01 Nisshin Haiboruteeji Kk 電子線照射装置
US4746909A (en) * 1986-09-02 1988-05-24 Marcia Israel Modular security system
JPH0540480Y2 (ru) * 1986-09-16 1993-10-14
US4786844A (en) 1987-03-30 1988-11-22 Rpc Industries Wire ion plasma gun
US4957835A (en) * 1987-05-15 1990-09-18 Kevex Corporation Masked electron beam lithography
US4910435A (en) * 1988-07-20 1990-03-20 American International Technologies, Inc. Remote ion source plasma electron gun
JPH0752640Y2 (ja) * 1988-08-16 1995-11-29 日新ハイボルテージ株式会社 電子線照射装置
FR2638891A1 (fr) * 1988-11-04 1990-05-11 Thomson Csf Fenetre etanche pour tube electronique hyperfrequence et tube a ondes progressives comportant cette fenetre
US5003178A (en) * 1988-11-14 1991-03-26 Electron Vision Corporation Large-area uniform electron source
FI84961C (fi) * 1989-02-02 1992-02-10 Tampella Oy Ab Foerfarande foer alstrande av hoegeffektelektronridaoer med hoeg verkningsgrad.
JP2744818B2 (ja) * 1989-10-13 1998-04-28 日本電子株式会社 電子線発生装置
US5093602A (en) * 1989-11-17 1992-03-03 Charged Injection Corporation Methods and apparatus for dispersing a fluent material utilizing an electron beam
US5126633A (en) * 1991-07-29 1992-06-30 Energy Sciences Inc. Method of and apparatus for generating uniform elongated electron beam with the aid of multiple filaments
JPH0587994A (ja) * 1991-09-30 1993-04-09 Iwasaki Electric Co Ltd 電子線照射装置
US5254911A (en) * 1991-11-22 1993-10-19 Energy Sciences Inc. Parallel filament electron gun
US5236159A (en) * 1991-12-30 1993-08-17 Energy Sciences Inc. Filament clip support
DE4219562C1 (ru) * 1992-06-15 1993-07-15 Fraunhofer-Gesellschaft Zur Foerderung Der Angewandten Forschung Ev, 8000 Muenchen, De
US5382802A (en) * 1992-08-20 1995-01-17 Kawasaki Steel Corporation Method of irradiating running strip with energy beams
US5378898A (en) * 1992-09-08 1995-01-03 Zapit Technology, Inc. Electron beam system
SE9301428D0 (sv) 1993-04-28 1993-04-28 Tetra Laval Holdings & Finance Sa Elektronaccelerator foer sterilisering av foerpackningsmaterial i en aseptisk foerpackningsmaskin
JPH06317700A (ja) 1993-04-30 1994-11-15 Iwasaki Electric Co Ltd 電子線照射装置
US5414267A (en) * 1993-05-26 1995-05-09 American International Technologies, Inc. Electron beam array for surface treatment
JPH0720295A (ja) * 1993-06-30 1995-01-24 Iwasaki Electric Co Ltd 電子線照射装置
US5561298A (en) * 1994-02-09 1996-10-01 Hughes Aircraft Company Destruction of contaminants using a low-energy electron beam
DE4432984C2 (de) * 1994-09-16 1996-08-14 Messer Griesheim Schweistechni Vorrichtung zum Bestrahlen von Oberflächen mit Elektronen
JP3569329B2 (ja) * 1994-12-12 2004-09-22 日本原子力研究所 電子ビーム照射設備の照射窓装置
US5483074A (en) * 1995-01-11 1996-01-09 Litton Systems, Inc. Flood beam electron gun

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU99117597A (ru) Ускоритель электронного пучка (варианты) и способ ускорения электронов
RU2212774C2 (ru) Ускоритель электронного пучка (варианты) и способ ускорения электронов
JP2539207B2 (ja) プラズマ電子ガン
CA2253045A1 (en) Method and apparatus for cleaning harmful gas by irradiation with gas laser and electron beams
EP2239755A3 (en) Electron Beam Accelerator
US5640009A (en) Fast atom beam source
US5382866A (en) Method of focusing a charged particle beam and plasma lens therefor
JPS6078400A (ja) プラズママイクロチヤンネルを用いた強いx線源
US5432342A (en) Method of and apparatus for generating low-energy neutral particle beam
JPH0465358B2 (ru)
JPS63119198A (ja) プラズマ発生装置
KR840006554A (ko) 음극선관
JPS5740845A (en) Ion beam generator
JPS63133432A (ja) 気体放電装置
JPS61208799A (ja) 高速原子線源装置
JPS6276144A (ja) ビ−ムプラズマ型イオン銃
JPH05121022A (ja) 電子銃
SU486628A1 (ru) Ускоритель пр мого действи
RU2127925C1 (ru) Виркатор
JP2001099995A (ja) レーザ光の閉じ込め方法及びこの方法を用いたレーザ光閉じ込め装置ならびに該装置を用いたタンデム型加速器の荷電変換装置、イオン化装置
JPH04196039A (ja) 電子銃
JPH01235138A (ja) 冷陰極電子銃
JPS6271146A (ja) 高周波イオン源
JPH04255655A (ja) 電子銃
JPH02284400A (ja) 加速器