RU97110173A - Матрица тонкопленочных приводных зеркал и способ для ее изготовления - Google Patents

Матрица тонкопленочных приводных зеркал и способ для ее изготовления

Info

Publication number
RU97110173A
RU97110173A RU97110173/09A RU97110173A RU97110173A RU 97110173 A RU97110173 A RU 97110173A RU 97110173/09 A RU97110173/09 A RU 97110173/09A RU 97110173 A RU97110173 A RU 97110173A RU 97110173 A RU97110173 A RU 97110173A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
thin
thin film
layer
matrix
electrically
Prior art date
Application number
RU97110173/09A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2143715C1 (ru
Inventor
Ли Мин Енг
Original Assignee
Дэу Электроникс Ко., Лтд.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from KR1019940029763A external-priority patent/KR960018646A/ko
Application filed by Дэу Электроникс Ко., Лтд. filed Critical Дэу Электроникс Ко., Лтд.
Publication of RU97110173A publication Critical patent/RU97110173A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2143715C1 publication Critical patent/RU2143715C1/ru

Links

Claims (11)

1. Матрица тонкопленочных приводных зеркал размерностью М х N, где М и N - целые числа, для использования в оптической проекционной системе, при этом каждое тонкопленочное приводное зеркало имеет биморфную структуру, содержащая: активную матрицу, имеющую верхнюю поверхность и включающую подложку с матрицей соединительных выводов размерностью М х N и матрицу транзисторов размерностью М х N, и матрицу приводных структур размерностью М х N, причем каждая приводная структура имеет ближние и отдаленные концы, и каждая приводная структура включает в себя второй тонкопленочный электрод для работы в качестве второго электрода смещения, нижний элемент, перемещаемый электрическим способом, имеющий верхнюю и нижнюю поверхности, промежуточный тонкопленочный электрод для работы в качестве сигнального электрода, верхний элемент, перемещаемый электрическим способом, имеющий верхнюю и нижнюю поверхности и первый тонкопленочный электрод для работы в качестве зеркала, а также первый электрод смещения, в котором верхние и нижние элементы, перемещаемые электрическим способом, отделены промежуточным тонкопленочным электродом, причем первый тонкопленочный электрод размещен на верхней поверхности верхнего элемента, перемещаемого электрическим способом, второй тонкопленочный электрод размещают на нижней поверхности нижнего элемента, перемещаемого электрическим способом, промежуточный тонкопленочный электрод электрическим способом подсоединен к каждому транзистору через каждый соединительный вывод, и ближний конец каждой приводной структуры прикрепляют к верхней поверхности активной матрицы, формируя таким образом тонкопленочное приводное зеркало, имеющее биморфную структуру.
2. Матрица по п. 1, в которой первый тонкопленочный электрод электрически подсоединен ко второму тонкопленочному электроду.
3. Способ для изготовления матрицы тонкопленочных приводных зеркал размерностью М х N, где М и N - целые числа, для использования в оптической проекционной системе, при этом каждое тонкопленочное приводное зеркало имеет биморфную структуру, способ содержит операции, по которым: выполняют активную матрицу, имеющую верхнюю поверхность, при этом активная матрица включает в себя подложку с матрицей транзисторов размерностью М х N и матрицу соединительных выводов размерностью М х N, осаждают тонкопленочный защитный слой на верхней поверхности активной матрицы, удаляют части тонкопленочного защитного слоя, сформированного наверху каждого соединительного вывода на активной матрице, формируют второй тонкопленочный электродный слой, изготовленный из второго проводящего электрической ток материала наверху активной матрицы, включающей в себя тонкопленочный защитный слой, удаляют части второго тонкопленочного электродного слоя, сформированного наверху каждого соединительного вывода в активной матрице, осаждают нижний слой, перемещаемый электрическим способом наверху активной матрицы, и второй тонкопленочный электродный слой, создают матрицу отверстий размерностью М х N, каждое из которых имеет внутренние поверхности и проходящие от верхней части нижнего слоя, перемещаемого электрическим способом, до верхней части каждого соединительного вывода, формируют промежуточный электродный слой, изготовленный из первого материала, проводящего электрический ток, наверху нижнего слоя, перемещаемого электрическим способом, включающий в себя внутренние поверхности каждого отверстия, осаждают верхний слой, перемещаемый электрическом способом, наверху промежуточного электродного слоя при заполнении отверстий, формируют первый тонкопленочный электродный слой, изготовленный из проводящего электрический ток и отражающего свет материала наверху верхнего слоя, перемещаемого электрическим способом, формируя таким образом многослойную структуру, включающую в себя первый тонкопленочный электродный слой, верхний слой, перемещаемый электрическим способом, промежуточный электродный слой, нижний слой, перемещаемый электрическим способом, и второй тонкопленочный электродный слой, выполняют образец многослойной структуры в матрице с полузаконченными приводными структурами размерностью М х N, в которой каждая из полузаконченных приводных структур включает в себя первый тонкопленочный электрод, верхний элемент, перемещаемый электрическим способом, промежуточный тонкопленочный электрод, нижний элемент, перемещаемый электрическим способом, и второй тонкопленочный электрод, и удаляют тонкопленочный защитный слой, формируя таким образом упомянутую матрицу тонкопленочных приводных зеркал размерностью М х N.
4. Способ по п. 3, в котором верхний и нижний слои, перемещаемые электрическим способом, изготавливают из ассимметричного материала с точки зрения кристаллографии.
5. Способ по п. 4, в котором асимметричным материалом с точки зрения кристаллографии является ZnO.
6. Способ по п. 3, в котором верхний и нижний слои, перемещаемые электрическим способом, формируют с толщиной 0,1 - 2 мкм.
7. Способ по п. 3, в котором верхний и нижний слои, перемещаемые электрическим способом, формируют с использованием способа вакуумного напыления или распыления.
8. Способ по п. 3, в которым тонкопленочный защитный слой изготовлен из окиси или полимера.
9. Способ по п. 3, в котором тонкопленочный защитный слой формируют с использованием способа распыления или вакуумного напыления, если тонкопленочный защитный слой изготовлен из окиси, и способа покрытия с вращением, если тонкопленочный защитный слой изготовлен из полимера.
10. Способ по п. 3, в котором слой первой тонкой пленки, слой второй тонкой пленки и промежуточный электродный слой формируют с использованием способа распыления и вакуумного напыления.
11. Способ по п. 3, в котором второй тонкопленочный электродный слой, промежуточный электродный слой и первый тонкопленочный электродный слой формируют с толщиной 0,1 - 2 мкм.
RU97110173/09A 1994-11-14 1995-10-17 Матрица тонкопленочных приводных зеркал и способ ее изготовления RU2143715C1 (ru)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019940029763A KR960018646A (ko) 1994-11-14 1994-11-14 광로조절장치의 제조방법
KR1994/29763 1994-11-14
PCT/KR1995/000133 WO1996015630A1 (en) 1994-11-14 1995-10-17 Array of thin film actuated mirrors and method for the manufacture thereof

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU97110173A true RU97110173A (ru) 1999-05-27
RU2143715C1 RU2143715C1 (ru) 1999-12-27

Family

ID=19397806

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU97110173/09A RU2143715C1 (ru) 1994-11-14 1995-10-17 Матрица тонкопленочных приводных зеркал и способ ее изготовления

Country Status (18)

Country Link
US (1) US5606452A (ru)
EP (1) EP0712021B1 (ru)
JP (1) JPH10508952A (ru)
KR (1) KR960018646A (ru)
CN (1) CN1061203C (ru)
AU (1) AU701168B2 (ru)
BR (1) BR9510396A (ru)
CA (1) CA2205168A1 (ru)
CZ (1) CZ288386B6 (ru)
DE (1) DE69522898T2 (ru)
HU (1) HU221360B1 (ru)
MY (1) MY132060A (ru)
PE (1) PE36497A1 (ru)
PL (1) PL178550B1 (ru)
RU (1) RU2143715C1 (ru)
TW (1) TW305944B (ru)
UY (1) UY24087A1 (ru)
WO (1) WO1996015630A1 (ru)

Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6969635B2 (en) * 2000-12-07 2005-11-29 Reflectivity, Inc. Methods for depositing, releasing and packaging micro-electromechanical devices on wafer substrates
KR970054559A (ko) * 1995-12-22 1997-07-31 배순훈 광로 조절 장치의 제조 방법
TW357271B (en) * 1996-02-26 1999-05-01 Seiko Epson Corp Light regulator, display and the electronic machine
US5930025A (en) * 1996-05-29 1999-07-27 Daewoo Electronics Co., Ltd. Array of thin film actuated mirrors and method for the manufacture thereof
EP0810458B1 (en) * 1996-05-29 2001-09-19 Daewoo Electronics Co., Ltd Array of thin film actuated mirrors and method for the manufacture thereof
KR100229788B1 (ko) * 1996-05-29 1999-11-15 전주범 광로 조절 장치의 제조 방법
US5945898A (en) * 1996-05-31 1999-08-31 The Regents Of The University Of California Magnetic microactuator
US5991064A (en) * 1996-06-29 1999-11-23 Daewoo Electronics Co., Ltd. Thin film actuated mirror array and a method for the manufacture thereof
KR100212539B1 (ko) * 1996-06-29 1999-08-02 전주범 박막형 광로조절장치의 엑츄에이터 및 제조방법
JP3920351B2 (ja) * 1996-08-21 2007-05-30 デーウー・エレクトロニクス・コーポレイション 光ピックアップシステム用薄膜アクチュエーテッドミラーアレイ
WO1998008127A1 (en) * 1996-08-21 1998-02-26 Daewoo Electronics Co., Ltd. Thin film actuated mirror array for use in an optical projection system
US5949568A (en) * 1996-12-30 1999-09-07 Daewoo Electronics Co., Ltd. Array of thin film actuated mirrors having a levelling member
EP1033037B1 (en) * 1997-06-30 2006-12-13 Daewoo Electronics Corporation Thin film actuated mirror including a seeding member and an electrodisplacive member made of materials having the same crystal structure and growth direction
US7281808B2 (en) * 2003-06-21 2007-10-16 Qortek, Inc. Thin, nearly wireless adaptive optical device
JP4037394B2 (ja) * 2004-09-16 2008-01-23 株式会社東芝 マイクロメカニカルデバイス

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3544201A (en) * 1968-01-02 1970-12-01 Gen Telephone & Elect Optical beam deflector
US4615595A (en) * 1984-10-10 1986-10-07 Texas Instruments Incorporated Frame addressed spatial light modulator
US4793699A (en) * 1985-04-19 1988-12-27 Canon Kabushiki Kaisha Projection apparatus provided with an electro-mechanical transducer element
US5172262A (en) * 1985-10-30 1992-12-15 Texas Instruments Incorporated Spatial light modulator and method
US5185660A (en) * 1989-11-01 1993-02-09 Aura Systems, Inc. Actuated mirror optical intensity modulation
US5126836A (en) * 1989-11-01 1992-06-30 Aura Systems, Inc. Actuated mirror optical intensity modulation
GB2239101B (en) * 1989-11-17 1993-09-22 Marconi Gec Ltd Optical device
US5085497A (en) * 1990-03-16 1992-02-04 Aura Systems, Inc. Method for fabricating mirror array for optical projection system
US5216537A (en) * 1990-06-29 1993-06-01 Texas Instruments Incorporated Architecture and process for integrating DMD with control circuit substrates
US5170283A (en) * 1991-07-24 1992-12-08 Northrop Corporation Silicon spatial light modulator
US5175465A (en) * 1991-10-18 1992-12-29 Aura Systems, Inc. Piezoelectric and electrostrictive actuators
US5159225A (en) * 1991-10-18 1992-10-27 Aura Systems, Inc. Piezoelectric actuator
US5247222A (en) * 1991-11-04 1993-09-21 Engle Craig D Constrained shear mode modulator
KR970003007B1 (ko) * 1993-05-21 1997-03-13 대우전자 주식회사 투사형 화상표시장치용 광로조절장치 및 그 구동방법
US5481396A (en) * 1994-02-23 1996-01-02 Aura Systems, Inc. Thin film actuated mirror array

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU97110173A (ru) Матрица тонкопленочных приводных зеркал и способ для ее изготовления
US4332075A (en) Method of producing thin film transistor array
JPH09179042A (ja) M×n個の薄膜アクチュエーテッドミラーアレイの製造方法
EP0252929A1 (en) ELECTRICALLY CHANGEABLE PIEZOELECTRIC HYBRID CAPACITOR.
EP1427031B1 (en) Manufacturing method of a thin film piezoelectric element
RU96112195A (ru) Тонкопленочная приводимая в действие зеркальная матрица для использования в оптической проекционной системе и способ ее изготовления
JPH08114758A (ja) M×n個の薄膜アクチュエーテッドミラーアレーの製造方法
CN1061203C (zh) 薄膜致动反射镜阵列及其制造方法
RU2129759C1 (ru) Периодическая структура из тонкопленочных связанных с приводом зеркал для оптических проекционных систем и способ ее изготовления
JP3797682B2 (ja) M×n個の薄膜アクチュエーテッドミラーアレーの製造方法
RU96119962A (ru) Периодическая структура из тонкопленочных связанных с приводом зеркал для оптических проекционных систем и способ ее изготовления
JPH07174993A (ja) 光投射型システムに用いられるエレクトロディスプレイシブアクチュエイテッドミラーアレイ
US20080043309A1 (en) Micro-device and electrode forming method for the same
JPH07159709A (ja) エレクトロディスプレーシブアクチュエーチドミラーアレーおよびその製法
EP0835474B1 (de) Mikromechanische Bewegungseinrichtung zur Ablenkung von Lichtstrahlen und Verfahren zu deren Herstellung
JPH07140402A (ja) 圧電アクチュエータミラーアレーおよびその製造方法
JPH07159707A (ja) M×n電歪アクチュエーテッドミラーアレーおよびその製法
KR950029794A (ko) 광로조절장치 및 그 제조방법
JPH1082960A (ja) 薄膜アクチュエーテッドミラーアレイ及びその製造方法
JPS6132571A (ja) 光電変換装置
AU703795B2 (en) Low temperature formed thin film actuated mirror array
RU97112466A (ru) Матрица тонкопленочных возбуждаемых зеркал и способ ее изготовления
KR970003447B1 (ko) 투사형화상표시장치용 광로조절장치의 제조방법
US7189625B2 (en) Micromachine and manufacturing method
JPH06301068A (ja) アクチュエータアレーおよびその製法