KR950029794A - 광로조절장치 및 그 제조방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 광로조절장치 및 그제조방법에 관한 것으로서, 트랜지스터가 매트릭스 형태로 내장되고 표면에 각각의 트랜지스터에 전기적으로 연결된 제1 및 제2접속단자를 갖는 구동기판과; 상기 구동기판에 상기 제1 및 제2접속단자를 각각 에워싸며 분리되게 형성된 지지부와, 상기 지지부를 관통하여 상기 제1 및 제2접속단자와 접촉되게 형성된 제1플러그와, 상기 지지부의 상부에 일측의 소정부분이 접촉되도록 실장되며 상기제1플러그와 전기적으로 연결되는 신호전극과, 상기 제1 및 제2접속단자를 전기적으로 분리하기 위해 신호전극의 소정부분을 에워싸는 절연체와, 상기 변형부의 소정부분을 관통하도록 형성되어 상기 제2접속단자와 전기적으로 연결되는 신호전극과 접촉하는 제2플러그와, 상기 신호전극의 상부에 형성된 변형부와, 상기 변형부의 상부에 일측부분과 타측부분이 전기적 및 물리적으로 분리되게 형성되되 일측부분이 상기 제2프러그와 접촉되는 거울로 이루어진 액츄에이터를 구비한다. 따라서, 변형부 상부의 일측부분에 형성된 거울이 바이어스 전극으로 사용되어 변형부는 이와 중첩되는 일측부분에서만 휘어짐이 발생되고 나머지 타측부분이 평탄하게 경사지므로 광특성을 향상시킬 수 있으며, 또한, 변형부의 휘어지는 면적이 축소되므로 거울과의 계면에서 발생되는 응력을 감소시킬 수 있어 크랙 발생 및 박리현상을 감소시킬 수 있는 잇점이있고, 바이어스 전압이 구동기판에 형성된 도선 패턴에 의해 공통으로 바이어스 전극에 인가되므로 바이어스 전극의 결함시 열방향의 모든 액츄에이터가아닌 해당되는 액츄에이터만 구동되지 않아 손실을 최소화할 수 있다.

Description

광로조절장치 및 그 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 본 발명에 따른 광로조절장치의 평면도, 제3도는 제2도를 a-a선으로 자른 단면도, 제4도 (A) 내지 (D)는 본 발명에 따른 광로조절장치의 제조공정도.

Claims (10)

  1. 트랜지스터가 매트릭스 형태로 내장되고 표면에 각각의 트랜지스터에 전기적으로 연결된 제1 및 제2접속 단자를 갖는 구동기판과; 상기 구동기판에 상기 제1 및 제2접속단자를 각각 에워싸며 분리되게 형성된 지지부와, 상기 지지부를 관통하여 상기 제1 및 제2접속단자와 접촉되게 형성된 제1플러그와, 상기 지지부의 상부에 일측의 소정부분이 접촉되도록 실장되며 상기 제1플러그와 전기적으로 연결되는 신호전극과, 상기 제1 및 제2접속단자를 전기적으로 분리하기 위해 신호전극의 소정부분을 에워싸는 절연체와, 상기 변형부의 소정부분을 관통하도록 형성되어 상기 제2접속단자와 전기적으로 연결되는 신호전극과 접촉하는 제2플러그와, 상기 신호전극의 상부에 형성된 변형부와, 상기 변형부의 상부에 일측부분과 타측부분이 전기적 및 물리적으로 분리되게 형성되되 일측부분이 상기 제2플러그와 접촉되는 거울로 이루어진 액츄에이터를 구비하는 광로조절장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 신호전극이 0.7∼2㎛정도의 두께로 형성되어 멤브레인으로도 이용되는 광로조절장치.
  3. 트랜지스터가 매트릭스 형태로 내장되고 표면에 이 트랜지스터 각각에 제1 및 제2접속단자가 전기적으로 연결되도록 형성된 구동기판의 상부에 상기 제1 및 제2접속단자와 접촉되지 않도록 희생막을 형성하는 공정과, 상기 희생막이 형성되지 않은 구동기판의 상부에 상기 제1 및 제2접속단자를 에워싸는 지지부를 형성하는 공정과, 상기 지지부의 소정 부분을 제1 및 제2접속단자가 노출되도록 제거하고 제1플러그를 형성하는 공정과, 상기 희생막과 지지부의 상부에 신호전극을 제1플러그에 접촉되도록 형성하는 공정과, 상기 신호전극의 소정부분을 패터닝하고 절연체를 채워 제1 및 제2접속단자를 전기적으로 분리하는 공정과, 상기 신호전극의 상부에 변형부를 형성하는 공정과, 상기 제2접속단자와 전기적으로 연결되는 신호전극이 노출되도록 변형부의 소정부분을 제거한 후 제2플러그를 채우는 공정과, 상기 변형부의 표면에 일측부분과 타측부분이 전기적 및 물리적으로 분리되도록 형성하되 일측부분이 제2플러그와 접촉되도록 거울을 형성하는공정과, 상기 거울부터 신호전극까지 소정부분을 희생막이 노출되도록 제거하여 화소들을 분리하는 공정과, 상기 희생막을 제거하는 공정을 구비하는 광로조절장치의 제조방법.
  4. 3항에 있어서, 상기 지지부를 포토리쏘그래피법에 의한 에칭 또는 리프트-오프법중 어느 하나로 한정하는 광조조절장치의 제조방법.
  5. 제3항에 있어서, 상기 신호전극를 0.7∼2㎛ 정도의 두께로 형성하는 광로조절장치의 제조방법.
  6. 제3항에 있어서, 상기 변형부를 압전 또는 전왜세라믹으로 형성하는 광로조절장치의 제조방법.
  7. 제6항에 있어서, 상기 변형부를 Sol-Gel법, 스피터링 또는 CVD법들중 어느 하나로 형성하는 광로조절장치의 제조방법.
  8. 제7항에 있어서, 상기 변형부를 0.7∼2㎛ 정도의 두께로 형성하는 광로조절장치의 제조방법.
  9. 제5항에 있어서, 상기 거울을 진공증착 또는 스퍼터링하여 형성하는 광로조절장치의 제조방법.
  10. 제9항에 있어서, 상기 거울을 500∼1000A 정도의 두께로 형성하는 광로조절장치의 제조방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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