RU2670926C9 - Газорасходное устройство для установки для облучения подложек - Google Patents

Газорасходное устройство для установки для облучения подложек Download PDF

Info

Publication number
RU2670926C9
RU2670926C9 RU2016115042A RU2016115042A RU2670926C9 RU 2670926 C9 RU2670926 C9 RU 2670926C9 RU 2016115042 A RU2016115042 A RU 2016115042A RU 2016115042 A RU2016115042 A RU 2016115042A RU 2670926 C9 RU2670926 C9 RU 2670926C9
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
gas
chamber
flow
substrates
radiation
Prior art date
Application number
RU2016115042A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2016115042A (ru
RU2670926C2 (ru
Inventor
Карлос РИБЕЙРО
Original Assignee
Эрликон Серфиз Солюшнз Аг, Пфеффикон
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Эрликон Серфиз Солюшнз Аг, Пфеффикон filed Critical Эрликон Серфиз Солюшнз Аг, Пфеффикон
Publication of RU2016115042A publication Critical patent/RU2016115042A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2670926C2 publication Critical patent/RU2670926C2/ru
Publication of RU2670926C9 publication Critical patent/RU2670926C9/ru

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D3/00—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials
    • B05D3/06—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by exposure to radiation
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F26—DRYING
    • F26B—DRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
    • F26B3/00—Drying solid materials or objects by processes involving the application of heat
    • F26B3/28—Drying solid materials or objects by processes involving the application of heat by radiation, e.g. from the sun
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C21/00—Accessories or implements for use in connection with applying liquids or other fluent materials to surfaces, not provided for in groups B05C1/00 - B05C19/00
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D3/00—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials
    • B05D3/06—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by exposure to radiation
    • B05D3/061—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by exposure to radiation using U.V.
    • B05D3/065—After-treatment
    • B05D3/066—After-treatment involving also the use of a gas
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29B—PREPARATION OR PRETREATMENT OF THE MATERIAL TO BE SHAPED; MAKING GRANULES OR PREFORMS; RECOVERY OF PLASTICS OR OTHER CONSTITUENTS OF WASTE MATERIAL CONTAINING PLASTICS
    • B29B13/00—Conditioning or physical treatment of the material to be shaped
    • B29B13/06—Conditioning or physical treatment of the material to be shaped by drying
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C35/00—Heating, cooling or curing, e.g. crosslinking or vulcanising; Apparatus therefor
    • B29C35/02—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould
    • B29C35/08—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation
    • B29C35/0805—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation using electromagnetic radiation
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C37/00—Component parts, details, accessories or auxiliary operations, not covered by group B29C33/00 or B29C35/00
    • B29C37/0092—Drying moulded articles or half products, e.g. preforms, during or after moulding or cooling
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C71/00—After-treatment of articles without altering their shape; Apparatus therefor
    • B29C71/04—After-treatment of articles without altering their shape; Apparatus therefor by wave energy or particle radiation, e.g. for curing or vulcanising preformed articles
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F26—DRYING
    • F26B—DRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
    • F26B21/00—Arrangements or duct systems, e.g. in combination with pallet boxes, for supplying and controlling air or gases for drying solid materials or objects
    • F26B21/02—Circulating air or gases in closed cycles, e.g. wholly within the drying enclosure
    • F26B21/022—Circulating air or gases in closed cycles, e.g. wholly within the drying enclosure with provisions for changing the drying gas flow pattern, e.g. by reversing gas flow, by moving the materials or objects through subsequent compartments, at least two of which have a different direction of gas flow
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F26—DRYING
    • F26B—DRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
    • F26B25/00—Details of general application not covered by group F26B21/00 or F26B23/00
    • F26B25/06—Chambers, containers, or receptacles
    • F26B25/08—Parts thereof
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F26—DRYING
    • F26B—DRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
    • F26B3/00—Drying solid materials or objects by processes involving the application of heat
    • F26B3/02—Drying solid materials or objects by processes involving the application of heat by convection, i.e. heat being conveyed from a heat source to the materials or objects to be dried by a gas or vapour, e.g. air
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F26—DRYING
    • F26B—DRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
    • F26B3/00—Drying solid materials or objects by processes involving the application of heat
    • F26B3/28—Drying solid materials or objects by processes involving the application of heat by radiation, e.g. from the sun
    • F26B3/30—Drying solid materials or objects by processes involving the application of heat by radiation, e.g. from the sun from infrared-emitting elements
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C35/00—Heating, cooling or curing, e.g. crosslinking or vulcanising; Apparatus therefor
    • B29C35/02—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould
    • B29C35/08—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation
    • B29C35/0805—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation using electromagnetic radiation
    • B29C2035/0822—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation using electromagnetic radiation using IR radiation
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C35/00—Heating, cooling or curing, e.g. crosslinking or vulcanising; Apparatus therefor
    • B29C35/02—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould
    • B29C35/08—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation
    • B29C35/0805—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation using electromagnetic radiation
    • B29C2035/0827—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation using electromagnetic radiation using UV radiation
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C35/00—Heating, cooling or curing, e.g. crosslinking or vulcanising; Apparatus therefor
    • B29C35/02—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould
    • B29C35/04—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould using liquids, gas or steam
    • B29C35/045—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould using liquids, gas or steam using gas or flames

Abstract

Изобретение относится к установке для облучения подложки электромагнитным излучением, как, например, инфракрасное излучение (ИК-излучение) для сушки подложек и/или ультрафиолетовое излучение (УФ-излучение) для сшивки УФ-отверждаемых лаков и может быть использовано в качестве компонента лакировальных установок. Установка (401) для облучения подложек в камере над подложкодержателями (11, 11') для оснащения подлежащими обработке подложками содержит по меньшей мере один источник (9, 9', 9") излучения. Камера содержит средства для поддержания газового потока в камере в виде газорасходного устройства. Газорасходное устройство включает в себя по меньшей мере один расположенный в области ниже подложкодержателя (11, 11’) впуск (421, 421') газа и по меньшей мере один расположенный в области ниже подложкодержателя (11, 11’) выпуск (423) газа. Газорасходное устройство выполнено так, что впуск (421, 421') газа и выпуск (423) газа содержат элементы, которые образуют сужающиеся в направлении потока и затем ниже по потоку снова расширяющиеся проточные каналы. Таким образом, при работе установки устанавливается по существу ламинарное течение по меньшей мере у газорасходного устройства и поэтому не происходит отложений из-за турбулентности. Газорасходное устройство выполнено так, что в камере создается газовый поток, который непосредственно после входа в камеру и прохода через проточные каналы обтекает подожки без протекания перед этим мимо возможно излучающих тепло источников излучения. Техническим результатом изобретения является обеспечение возможности получения температуры газового потока полностью определенной и настраивание ее на желательное стабильное значение, т.е. процесс обработки подложек (сушки и др.) является стабильным и с равномерными результатами. 3 з.п. ф-лы, 5 ил.

Description

Настоящее изобретение относится к установке для облучения подложки электромагнитным излучением, как, например, инфракрасное излучение (ИК-излучение) для сушки подложек и/или ультрафиолетовое излучение (УФ-излучение) для сшивки УФ-отверждаемых лаков.
Такие установки применяются, например, в качестве компонента лакировальных установок. В таких лакировальных установках на первом этапе типично очищают поверхность подложки. Это можно сделать, например, с помощью давления воздуха и/или с помощью средств ионизации поверхности или путем струйной обработки поверхности текучей средой, такой как вода, или водный или спиртовой раствор, или раствор, содержащий растворитель, или твердым телом, как абразивный материал, или с помощью CO2, или путем окунания подложек в водный или спиртовой раствор или раствор, содержащий растворитель, возможно, при воздействии волнового излучения, как ультразвук или микроволны.
В случае очистки текучей средой тепловое ИК-излучение может применяться уже для последующей сушки.
Затем на втором этапе наносят собственно лаковое покрытие, например, распылением дисперсии лака. Затем следует этап, на котором уже покрытую лаком подложку пропекают. Это можно осуществить путем нагрева в окружающем воздухе и/или путем воздействия инфракрасного излучения (ИК), например, при 50-80°C. При этом растворитель, обычно присутствующий в лаковых дисперсиях, по существу испаряется. В случае очень широко распространенных в настоящее время УФ-отверждаемых лаков, т.е. лаков, которые сшиваются посредством УФ-излучения, это отверждение происходит на этапе, следующем за испарением растворителя. В соответствии с назначением на этих технологических стадиях применяются ИК- и/или УФ-лампы. В настоящем описании процесс сушки ИК-излучением и/или процесс сшивания посредством УФ-излучения называется одинаково облучением.
Чтобы предотвратить свободное улетучивание растворителя в окружающую среду или в производственную среду, такие процессы проводят, согласно уровню техники, в камерах обработки. При этом должно гарантироваться стабильное протекание газообмена, чтобы, например, сохранять низкой концентрацию растворителя вблизи подложки и, тем самым, ускорить процесс сушки и/или сшивки.
Согласно уровню техники, как схематически показано на фиг.1, облучение осуществляется в закрытой камере 1. При этом в верхней части камеры 1 предусмотрены источники 9, 9', 9" излучения, а в нижней части помещаются подложкодержатели 11, 11', на которые устанавливаются подложки. В качестве подложкодержателя на фиг.1 показаны два шпинделя, на которые могут быть установлены подлежащие облучению детали. Размещение источников 9, 9', 9" излучения под подложкодержателями 11, 11' хотя и возможно, но этого, как правило, избегают, чтобы не рисковать, что источники 9, 9', 9" излучения будут загрязняться капающими с подложек остатками лака.
Согласно уровню техники, на крышке камеры предусмотрена зона 7 впуска, через которую в камеру течет газ, подаваемый из впуска 3, например, воздух. Газ течет, согласно уровню техники, мимо источников 9, 9', 9" излучения, а затем мимо подложек 11, 11' в нижнюю область камеры, где он вытягивается из камеры 1 через выпуск 5. Вследствие такой конфигурации согласно уровню техники, течение и гравитация действуют совместно, так что можно эффективно удалить загрязнения, такие, например, как пыль, а также растворитель, путем отсасывания. На фиг.1 газовый поток и его направление схематически показаны стрелками.
Однако недостатком конфигурации согласно уровню техники является то, что газовый поток, который течет мимо подложек, сначала должен пройти через источники излучения. Они при работе являются, как правило, горячими, что ведет к неконтролируемому нагреву газового потока. Это означает, что на подложкодержатели 11, 11' воздействует газовый поток, который не имеет определенной температуры и который может привести к образованию градиента температуры по ширине подложкодержателя. Однако процесс сушки и/или сшивки сильно зависит от установившейся температуры. Поэтому неопределенные температурные условия быстро приведут к неконтролируемому процессу. В частности, при наличии градиентов температуры могут возникнуть неоднородности. Проблема усугубляется тем, что сами источники излучения, как правило, не имеют стабильной температуры. В начальной фазе источники излучения скорее могут быть холодными, тогда как после длительной работы они заметно нагреваются. Правда, эту проблему можно было бы ослабить определенными мерами по охлаждению источников излучения. Однако такие меры связаны с существенными техническими издержками и поэтому дороги.
Из сказанного выше следует, что было бы желательно иметь установку для облучения, которая смягчала бы вышеописанные проблемы уровня техники, а предпочтительно полностью устраняла.
В основе изобретения стоит задача разработать такую установку.
Согласно изобретению, вышеописанные проблемы решаются установкой по пункту 1 формулы изобретения. Зависимые пункты представляют предпочтительные варианты осуществления настоящего изобретения. Принципиально задачи изобретения решены тем, что в камере создается поток газа, который непосредственно после входа в камеру течет мимо подложки. Так как газовый поток не течет сначала мимо источников излучения, возможно излучающих тепло, температура газового потока является полностью определенной и может также просто настраиваться на желательное стабильное значение.
Далее изобретение и его предпочтительные варианты осуществления будут подробно описаны на фигурах.
Фиг.1 показывает установку для облучения подложек, соответствующую уровню техники.
Фиг.2 показывает предлагаемую изобретением установку для облучения согласно первому варианту осуществления.
Фиг.3 показывает предлагаемую изобретением установку для облучения согласно второму варианту осуществления.
Фиг.4 показывает предлагаемую изобретением установку для облучения согласно третьему варианту осуществления.
Фиг.5 схематически показывает возможное расположение лакировальной установки, которая содержит камеру облучения согласно настоящему изобретению.
Фиг.2 показывает предлагаемую изобретением установку согласно первому варианту осуществления. Показана камера 201, в которой находятся источники 9, 9', 9" излучения и подлежащие облучению подложки 11, 11'. Внизу камеры, вблизи подложек 11, 11' предусмотрен впуск 203 газа. В области крыши камеры в соответствии с этим вариантом осуществления предусмотрен выпуск 205 газа, перед которым может быть включена потолочная камера 207. При работе установки теперь газ после входа в камеру течет сначала мимо подложек 11, 11', прежде чем он обтекает источники 9, 9', 9" излучения и вытекает через факультативную (необязательную) потолочную камеру 207 из выпуска 205 газа. Благодаря этому температура газа, текущего мимо подложек 11, 11', полностью определена и процесс может идти при точно заданных и стабильных температурных условиях. Предпочтительно предусмотреть в краевых зонах камеры желобки 209, которые могут действовать как пылеуловители.
Второй предпочтительный вариант осуществления настоящего изобретения показан на фиг.3. При этом камера 301 с источниками 9, 9', 9" излучения, которые находятся над подложками 11, 11', нагружается потоками газа как через первый впуск 303 в нижней части камеры, ниже подложек 11, 11', так и через второй впуск 305 в верхней части камеры, выше источников 9, 9', 9" излучения. Предпочтительно, на половинной высоте камеры предусмотрены выпуски 311, 311', которые предпочтительно расположены симметрично. Оба газовых потока в этом варианте осуществления встречаются, как отмечено стрелками на фигуре, примерно на половине высоты, т.е. между источниками 9, 9', 9" излучения и подложками 11, 11', и выходят из внутреннего пространства камеры через расположенные сбоку выпуски 311, 311'. Этот особенно предпочтительный вариант осуществления настоящего изобретения выгоден, в частности, тем, что частицы пыли, переносимые газовым потоком, имеют тенденцию транспортироваться к краю камеры. Если там также предусмотреть желобки 309, которые могут действовать как пылеуловители, то возможно имеющаяся в камере пыль, которая переносится главным образом в направлении выпусков 311, 311', по пути будет отделяться от газового потока и собираться в основном в пылеуловителях. Согласно одному особенно предпочтительному варианту осуществления, в каждом желобке 309 предусмотрена вынимаемая емкость 313, так что пыль может собираться и просто удаляться путем извлечения и опорожнения емкости. Конечно, такая емкость также может предпочтительно применяться и в других вариантах осуществления настоящего изобретения.
В данном случае была описана установка облучения подложек, которая в камере, выше подложкодержателей для оснащения подлежащими обработке подложками, содержит по меньшей мере один источник излучения, причем камера содержит средства для поддержания потока газа в камере с по меньшей мере одним впуском газа и по меньшей мере одним выпуском газа, отличающаяся тем, что указанный по меньшей мере один впуск газа расположен в области подложкодержателя так, что газ, втекающий через указанный по меньшей мере один, впуск, сначала обтекает подложкодержатели, прежде чем через выпуск газа снова покинуть камеру непосредственно и/или после обтекания указанного по меньшей мере одного источника излучения.
В установке можно предусмотреть выпуск газа в области указанного по меньшей мере одного источника излучения, так что газ после обтекания подложкодержателей обтекает указанный по меньшей мере один источник излучения, прежде чем покинуть камеру через выпуск газа.
Выпуск газа можно предусмотреть по высоте между подложкодержателем и по меньшей мере одним источником излучения.
В области указанного по меньшей мере одного источника излучения можно предусмотреть второй впуск газа, так что газ, втекающий через второй впуск, сначала обтекает указанный по меньшей мере один источник излучения, прежде чем встретиться с газом, текущим от подложкодержателей, и вместе с ним вытекать из камеры через выпуск газа.
На нижнем краю камеры можно предусмотреть желобки, так что в области желобков поток ослабляется и желобки соответственно проявляют свое действие в качестве и пылеуловителей.
В желобках можно также предусмотреть вынимаемые емкости.
Третий, особенно предпочтительный вариант осуществления настоящего изобретения показан на фиг.4. В нем камера 401 с источниками 9, 9', 9" излучения, которые находятся над подложками 11, 11', нагружается газовыми потоками через впуски 421, 422' в нижней части камеры, ниже подложек 11, 11'. Газ или газы обтекают подложки 11, 11' и выходят частично через выпуск 423 газа в нижней части камеры, а частично – через выпуск 405 газа в верхней части камеры. В соответствии с настоящим вариантом осуществления устройства 421, 421', соответственно, 423 впуска и/или выпуска газа представляют собой проточные каналы, сужающиеся в одном измерении в направлении течения, а затем снова расширяющиеся в направлении течения, так что по меньшей мере вблизи газорасходных устройств имеется по существу ламинарное течение и тем самым не происходит отложений (как, например, пыль или грязь) из-за турбулентности. Проточные каналы в одной особенно предпочтительной модификации этого варианта осуществления выполнены из деформируемого листового материала, например, из стального листа. На фиг.4 каждый из них показан двустенным, причем эти две стенки выполнены отделенными друг от друга зазором S, например, 20 мм. Зазор позволяет обеспечить теплоизоляцию, которая предпочтительна, наряду с прочим, тем, что в камере из-за используемого при сушке горячего воздуха могут установиться температуры 100°C и выше. Газ втекает через круглые отверстия 21, 21' устройств 421, 421' впуска газа и частично вытекает через круглые отверстия 23 устройства 423 выпуска газа.
Согласно одной предпочтительной модификации третьего варианта, отдельные газорасходные устройства имеют в верхней части носики, которые позволяют удерживать вместе два газорасходных устройства, например, посредством зажимных планок или посредством колпачков 30, 30', что также позволяет, например, поддерживать ламинарное течение и в этой области.
В частности, настоящее изобретение раскрывает установку 401 облучения подложек, которая в камере над подложкодержателями 11 11' для оснащения подлежащими обработке подложками содержит по меньшей мере один источник 9, 9', 9" излучения, причем камера содержит средства для поддержания потока газа в камере с газорасходным устройством с по меньшей мере одним впуском 421, 421' газа и по меньшей мере одним выпуском 423, 405 газа, причем газорасходное устройство находится в области ниже подложкодержателей 11, 11' и выполнено так, что впуск 421, 421' и выпуск 423, 405 газа включают в себя элементы, которые образуют проточные каналы, сужающиеся в направлении потока и затем ниже по потоку снова расширяющиеся, благодаря чему при работе установки устанавливается по существу ламинарное течение по меньшей мере у газорасходного устройства и, следовательно, не происходит отложений из-за турбулентности.
Предпочтительно, образующие проточные каналы элементы установки 401 облучения выполнены из деформируемых пластин, предпочтительно, из стального листа.
Предпочтительно, по меньшей мере два из образующих проточные каналы элементов в верхней части удерживаются вместе посредством шин, скоб (зажимов) и/или колпаков 30, 30', что позволяет легкий монтаж или демонтаж.
Предпочтительно, образующие проточные каналы элементы являются по меньшей мере двустенными, причем указанные, по меньшей мере две стенки отстоят друг от друга, в результате чего образуется теплоизолирующий зазор S.

Claims (9)

1. Установка (401) для облучения подложек,
которая в камере над подложкодержателями (11, 11') для оснащения подлежащими обработке подложками содержит по меньшей мере один источник (9, 9', 9") излучения, причем камера содержит средства для поддержания газового потока в камере в виде газорасходного устройства,
причем газорасходное устройство включает в себя по меньшей мере один расположенный в области ниже подложкодержателя (11, 11’) впуск (421, 421') газа и по меньшей мере один расположенный в области ниже подложкодержателя (11, 11’) выпуск (423) газа,
отличающаяся тем, что
газорасходное устройство выполнено так, что впуск (421, 421') газа и указанный выпуск (423) газа содержат элементы, которые образуют сужающиеся в направлении потока и затем ниже по потоку снова расширяющиеся проточные каналы, вследствие чего при работе установки устанавливается по существу ламинарное течение по меньшей мере у газорасходного устройства и поэтому не происходит отложений из-за турбулентности,
причем газорасходное устройство выполнено так, что в камере создается газовый поток, который непосредственно после входа в камеру и прохода через проточные каналы обтекает подложки без протекания перед этим мимо возможно излучающих тепло источников излучения.
2. Установка по п.1, отличающаяся тем, что образующие проточные каналы элементы выполнены из деформируемых пластин, предпочтительно из стального листа.
3. Установка по п.2, отличающаяся тем, что по меньшей мере два из образующих проточные каналы элементов удерживаются вместе в верхней части посредством шин, скоб и/или колпаков, что позволяет легкий монтаж или демонтаж.
4. Установка по п.3, отличающаяся тем, что образующие проточные каналы элементы являются по меньшей мере двустенными, причем указанные по меньшей мере две стенки отстоят друг от друга, в результате чего образуется теплоизолирующий зазор.
RU2016115042A 2013-09-20 2014-09-05 Газорасходное устройство для установки для облучения подложек RU2670926C9 (ru)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE201310015580 DE102013015580A1 (de) 2013-09-20 2013-09-20 Gasstromvorrichtung für Anlage zur Strahlungsbehandlung von Substraten
DE102013015580.0 2013-09-20
PCT/EP2014/002406 WO2015039732A1 (de) 2013-09-20 2014-09-05 Gasstromvorrichtung für anlage zur strahlungsbehandlung von substraten

Publications (3)

Publication Number Publication Date
RU2016115042A RU2016115042A (ru) 2017-10-25
RU2670926C2 RU2670926C2 (ru) 2018-10-25
RU2670926C9 true RU2670926C9 (ru) 2018-12-13

Family

ID=51542322

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2016115042A RU2670926C9 (ru) 2013-09-20 2014-09-05 Газорасходное устройство для установки для облучения подложек

Country Status (14)

Country Link
US (1) US10245616B2 (ru)
EP (1) EP3046686B1 (ru)
JP (1) JP6492089B2 (ru)
KR (1) KR20160075518A (ru)
CN (1) CN105555423B (ru)
CA (1) CA2924785A1 (ru)
DE (1) DE102013015580A1 (ru)
ES (1) ES2712992T3 (ru)
HU (1) HUE043144T2 (ru)
MX (1) MX369668B (ru)
PL (1) PL3046686T3 (ru)
PT (1) PT3046686T (ru)
RU (1) RU2670926C9 (ru)
WO (1) WO2015039732A1 (ru)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI667123B (zh) * 2018-11-30 2019-08-01 國家中山科學研究院 Improved intake structure for laminated manufacturing
CN216631458U (zh) * 2021-11-05 2022-05-31 江苏时代新能源科技有限公司 风嘴及涂布机

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4591724A (en) * 1984-03-07 1986-05-27 Japan Synthetic Rubber Co., Ltd. Curing apparatus
US5641451A (en) * 1992-10-14 1997-06-24 Nissei Asb Machine Co., Ltd. Method for forming heat-resistant containers
DE102004030674A1 (de) * 2004-06-24 2006-01-19 Basf Ag Vorrichtung und Verfahren zum Härten mit energiereicher Strahlung unter Inertgasatmosphäre
RU2325957C2 (ru) * 2002-05-29 2008-06-10 Шмид Рюнер Аг Способ нанесения покрытий на поверхности

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1953074A1 (de) * 1969-10-22 1970-10-29 Eisenmann Kg Strahlungshaerter fuer UV-Polyester
US3733461A (en) * 1971-05-26 1973-05-15 Powell R Radiant heater
GB1499770A (en) * 1974-10-15 1978-02-01 Ushio Electric Inc Light fitting for a tubular light source which includes a cooling arrangement
US4336279A (en) 1978-07-04 1982-06-22 Metzger Wesley A Apparatus and process for drying and curing coated substrates
US4220865A (en) * 1978-11-24 1980-09-02 Sun Chemical Corporation Ultraviolet curing oven with rotable lamp assembly
FI841491A (fi) * 1983-04-25 1984-10-26 Christian Lumpp Anordning foer aostadkommande och reflektering av infraroed eller ultraviolett straolning.
US4563589A (en) * 1984-01-09 1986-01-07 Scheffer Herbert D Ultraviolet curing lamp device
FR2599485B1 (fr) * 1986-05-27 1988-08-26 Socoa Dispositif rechauffeur-melangeur d'un flux de gaz froid avec un flux de gaz chaud, et sechoir a grains comportant un tel dispositif
US5099586A (en) * 1989-09-08 1992-03-31 W. R. Grace & Co.-Conn. Reflector assembly for heating a substrate
DE9306998U1 (ru) * 1993-05-08 1993-07-08 Novokeram Max Wagner Gmbh, 8908 Krumbach, De
JPH08174567A (ja) * 1994-10-25 1996-07-09 Ushio Inc 光照射器
US6072158A (en) 1998-10-22 2000-06-06 Konal Engineering And Equipment Inc. Method and apparatus for heating thin plastic sheet with air diffuser plate preventing sagging of the sheet
US6456895B1 (en) * 1999-09-13 2002-09-24 Fitel Usa Corp. Method and apparatus for detecting conditions in a UV curing lamp system
US6325981B1 (en) * 1999-09-28 2001-12-04 Alcatel Apparatus and method for curing a photocurable coating provided on a fiber
DE10125770C2 (de) * 2001-05-26 2003-06-26 Arccure Technologies Gmbh Bestrahlungsvorrichtung mit langgestreckter Strahlungsquelle und Verfahren zum Betrieb derselben
CN2866577Y (zh) * 2005-11-15 2007-02-07 李朝基 纸板上光机的热风循环装置
US20090238960A1 (en) * 2008-03-24 2009-09-24 The Sherwin-Williams Company Ambient cure painting method
FR2960816B1 (fr) * 2010-06-02 2012-07-13 Sidel Participations Four pour le conditionnement thermique de preformes et procede de commande d'un dispositif de refroidissement par air equipant un tel four
DE102012017230A1 (de) * 2012-08-31 2014-03-06 Oerlikon Trading Ag, Trübbach Anlage zur Strahlungsbehandlung von Substraten

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4591724A (en) * 1984-03-07 1986-05-27 Japan Synthetic Rubber Co., Ltd. Curing apparatus
US5641451A (en) * 1992-10-14 1997-06-24 Nissei Asb Machine Co., Ltd. Method for forming heat-resistant containers
RU2325957C2 (ru) * 2002-05-29 2008-06-10 Шмид Рюнер Аг Способ нанесения покрытий на поверхности
DE102004030674A1 (de) * 2004-06-24 2006-01-19 Basf Ag Vorrichtung und Verfahren zum Härten mit energiereicher Strahlung unter Inertgasatmosphäre

Also Published As

Publication number Publication date
WO2015039732A1 (de) 2015-03-26
CN105555423B (zh) 2017-11-21
MX2016003237A (es) 2016-10-28
US20160214138A1 (en) 2016-07-28
ES2712992T3 (es) 2019-05-17
DE102013015580A1 (de) 2015-03-26
EP3046686A1 (de) 2016-07-27
EP3046686B1 (de) 2018-11-07
CN105555423A (zh) 2016-05-04
HUE043144T2 (hu) 2019-08-28
PL3046686T3 (pl) 2019-04-30
RU2016115042A (ru) 2017-10-25
KR20160075518A (ko) 2016-06-29
JP6492089B2 (ja) 2019-03-27
PT3046686T (pt) 2019-02-12
US10245616B2 (en) 2019-04-02
JP2016538163A (ja) 2016-12-08
RU2670926C2 (ru) 2018-10-25
CA2924785A1 (en) 2015-03-26
MX369668B (es) 2019-11-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20150252473A1 (en) Plasma foreline thermal reactor system
RU2670926C9 (ru) Газорасходное устройство для установки для облучения подложек
JP2016185507A (ja) 再塗装装置
KR102629526B1 (ko) 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법
KR102143978B1 (ko) 기판 방사선 처리 시스템
KR100935475B1 (ko) 열처리장치
JP7124720B2 (ja) 揮発性有機化合物の回収装置及び回収方法
US20070104889A1 (en) Apparatus and method for the surface treatment of workpieces
WO2017077460A1 (en) Device for the polymerization of inks and/or paints in an inert atmosphere
JP6428750B2 (ja) 塗装乾燥方法及びその装置
TW202033820A (zh) 成膜裝置
KR20170037200A (ko) 필름의 표면 처리 장치 및 시스템
CN217664434U (zh) 用于处理工件的处理设备
KR101342619B1 (ko) 기판 건조 시스템
JP2010177239A (ja) 半導体ウェハ処理装置
JP2010175092A (ja) 乾燥方法及び乾燥装置
KR102469600B1 (ko) 성막장치 및 성막방법
KR101876960B1 (ko) 박막형성 장치
KR100282856B1 (ko) 분체 도장용 건조로의 풍량 조절장치_
KR102612248B1 (ko) 기판 처리 장치 및 방법
CN114833048A (zh) 加热处理装置
JP2009216325A (ja) 乾燥装置
KR20100089321A (ko) 유브이-자동도장시스템
KR20040052858A (ko) 공해방지처리장치가 부설된 원단코팅기와 그공해방지처리방법
KR20110012566A (ko) Ｔｆｔ-ｌｃｄ 포토공정용 열풍기

Legal Events

Date Code Title Description
FA92 Acknowledgement of application withdrawn (lack of supplementary materials submitted)

Effective date: 20180731

FZ9A Application not withdrawn (correction of the notice of withdrawal)

Effective date: 20180731

TH4A Reissue of patent specification
MM4A The patent is invalid due to non-payment of fees

Effective date: 20200906