RU2388846C2 - Устройство и способ для нанесения покрытия на подложку - Google Patents

Устройство и способ для нанесения покрытия на подложку Download PDF

Info

Publication number
RU2388846C2
RU2388846C2 RU2007148502/02A RU2007148502A RU2388846C2 RU 2388846 C2 RU2388846 C2 RU 2388846C2 RU 2007148502/02 A RU2007148502/02 A RU 2007148502/02A RU 2007148502 A RU2007148502 A RU 2007148502A RU 2388846 C2 RU2388846 C2 RU 2388846C2
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
container
substrate
coil
conductive material
coating
Prior art date
Application number
RU2007148502/02A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2007148502A (ru
Inventor
ВАН ВЕСТРЮМ Йоханнес Альфонсус Франсискус Мария СХАДЕ (NL)
ВАН ВЕСТРЮМ Йоханнес Альфонсус Франсискус Мария СХАДЕ
Лоран Кристоф Бернар БАТИСТ (NL)
Лоран Кристоф Бернар БАТИСТ
Герардус ГЛЕЙМ (NL)
Герардус ГЛЕЙМ
Original Assignee
Корус Текнолоджи Бв
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Корус Текнолоджи Бв filed Critical Корус Текнолоджи Бв
Publication of RU2007148502A publication Critical patent/RU2007148502A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2388846C2 publication Critical patent/RU2388846C2/ru

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24—Vacuum evaporation
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24—Vacuum evaporation
    • C23C14/26—Vacuum evaporation by resistance or inductive heating of the source
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24—Vacuum evaporation
    • C23C14/32—Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

Изобретение относится к устройству и способу для нанесения покрытия на подложку с использованием физического осаждения из паровой фазы. Устройство содержит вакуумную камеру, в которой размещена катушка (1) для удержания некоторого количества проводящего материала (10) в состоянии левитации и для нагревания и испарения этого материала при использовании переменного электрического тока в катушке. В катушке (1) размещены средства (3) для изоляции катушки от левитированного материала (10). Средства (3) для изоляции являются частью контейнера (2), выполненного из непроводящего материала. Этот контейнер (2) имеет одно или более отверстий (5) для направления испаренного проводящего материала к покрываемой подложке. Изобретение позволяет получать покрытие, имеющее повышенные сцепление и плотность. 2 н. и 15 з.п. ф-лы, 2 ил.

Description

Изобретение относится к устройству для нанесения покрытия на подложку с использованием физического осаждения из паровой фазы, содержащему вакуумную камеру, в которой размещена катушка для удержания некоторого количества проводящего материала в состоянии левитации и для нагрева и испарения этого материала при использовании переменного электрического тока в катушке, причем в катушке размещены средства для изоляции катушки от левитированного материала. Изобретение также относится к способу нанесения покрытия на подложку с использованием физического осаждения из паровой фазы.
Левитация и испарение проводящего материала известны из WO 03/071000 А1. В этом документе описана технология покрытия подложки слоем проводящего материала, который конденсируется из паровой фазы на подложку в вакуумной камере. Некоторое количество проводящего материала удерживается в состоянии парения над катушкой, в которую подается переменный электрический ток. Благодаря этому току в катушке создается переменное электромагнитное поле. Электромагнитное поле создает направленную вверх силу, действующую на проводящий материал. Электрический ток также обеспечивает электрическую энергию для нагревания левитированного проводящего материала, в результате чего он плавится и в конечном итоге испаряется, хотя некоторые проводящие материалы не плавятся, а сублимируют. Между катушкой и левитированным материалом имеются электроизолирующие средства, такие как труба или короб, для предотвращения дугообразования между обмотками катушки и для предотвращения загрязнения катушки и вакуумной камеры. Образующийся пар выпускается через конец трубы и используется для нанесения покрытия на подложки.
Недостатком этого устройства является то, что сложно управлять слоем покрытия на подложке. Особенно сложно получить покрытие, имеющее равномерную толщину и однородный состав по ширине полосы, когда устройство используется для непрерывного нанесения покрытия на полосу, проходящую через вакуумную камеру.
Для преодоления этого недостатка в WO 02/065558 А1 предложена вакуумная камера, в которой может транспортироваться полоса и пар может транспортироваться к полосе с помощью трубы, имеющей один или более дросселей, так чтобы пар осаждался в условиях запирания потока. В этом документе предложен процесс осаждения двух паров одновременно, но этот процесс может также использоваться лишь для одного пара. Таким образом на полосу может быть нанесено равномерное покрытие в том случае, когда в дросселе используется несколько отверстий, а труба является достаточно широкой.
Однако недостаток нанесенных этим способом покрытий состоит в том, что сцепление покрытия с подложкой не является оптимальным. Другой недостаток состоит в том, что не является оптимальной плотность такого покрытия. Поэтому необходимо подвергать подложку с покрытием дополнительной стадии обработки, такой как прокатка в случае полосы.
Задачей изобретения является создание устройства и способа для нанесения покрытия на подложку с использованием физического осаждения из паровой фазы, с помощью которых на подложке может быть получено улучшенное покрытие.
Еще одной задачей изобретения является создание устройства и способа для нанесения покрытия на подложку с использованием физического осаждения из паровой фазы, с помощью которых на подложке может быть получен слой материала покрытия, имеющий повышенные сцепление и плотность.
Одну или более из этих задач позволяет решить устройство для нанесения покрытия на подложку с использованием физического осаждения из паровой фазы, содержащее вакуумную камеру, в которой размещена катушка для удержания некоторого количества проводящего материала в состоянии левитации и для нагревания и испарения этого материала при использовании переменного электрического тока в катушке, при этом в катушке размещены средства для изоляции катушки от левитированного материала, при этом изолирующие средства являются частью контейнера, выполненного из непроводящего материала, причем контейнер имеет одно или более отверстий для направления испаренного проводящего материала к покрываемой подложке.
С помощью этого устройства можно удерживать испаренный материал таким образом, что давление внутри контейнера выше, чем давление в вакуумной камере снаружи контейнера. Неожиданно было обнаружено, что высокое давление внутри контейнера позволяет генерировать в этом контейнере плазму, поэтому газ, состоящий из испаренного материала, частично ионизирован: он содержит атомы, ионы, радикалы и электроны. Эта плазма генерируется при частотах переменного тока, указанных в WO 03/071000 A1, например, на частоте 50 кГц или выше, что намного ниже, чем известные частоты для генерирования плазмы. Часть этой плазмы направляется через отверстия, перед которыми размещена покрываемая подложка. Благодаря тому что ионы заряжены, покрытие имеет лучшее сцепление с подложкой, и, кроме того, это покрытие имеет более высокую плотность. Контейнер должен быть выполнен из непроводящего материала, так как ионы будут становиться атомами, когда они контактируют с электропроводной стенкой.
Предпочтительно, контейнер имеет форму трубы, которая имеет заглушки на обоих концах, при этом в заглушке имеется одно или более отверстий. Таким образом, предусматривается контейнер простого типа, причем плазма содержится в этом контейнере и частично выпускается через отверстия для нанесения покрытия на подложку во время использования.
Согласно предпочтительному варианту реализации контейнер имеет форму трубы с заглушкой на одном конце и коробчатым выступом на другом конце, причем этот выступ имеет несколько отверстий. Этот предпочтительный вариант реализации особенно подходит для нанесения покрытия на полосу, так как коробчатый выступ может иметь поверхность, которая по существу соответствует форме покрываемой подложки, приводя в результате к равному расстоянию между этой поверхностью и подложкой. Это обеспечит равномерное покрытие на подложке.
Предпочтительно, выступ является по меньшей мере таким же по ширине, как и покрываемая подложка. Это особенно важно при нанесении покрытия на полосовой материал, то есть материал, имеющий длину по меньшей мере несколько сотен метров, который транспортируют через вакуумную камеру. Полоса может быть выполнена из бумаги, металла, пластика или другого материала. При данном варианте реализации контейнера можно наносить покрытие на полосовой материал по всей его ширине.
Предпочтительно, отверстия имеют форму дырки или щели. Это позволяет выпускать плазму эффективным образом.
Согласно одному предпочтительному варианту реализации контейнер снабжен нагревательными средствами для нагрева контейнера. Контейнер необходимо нагревать, поскольку в противном случае пар и плазма будут конденсироваться на холодной стенке.
Предпочтительно, контейнер снабжен нагревательными элементами, выполненными из проводящего материала, такого как проволока высокого сопротивления из молибдена или вольфрама. Таким образом, для нагрева неэлектропроводного контейнера предусмотрены относительно простые нагревательные элементы.
Согласно предпочтительному варианту реализации контейнер изготовлен из керамического материала, такого как нитрид бора или нитрид кремния. Керамический материал очень хорошо подходит для условий, воздействию которых подвергается данное устройство, а именно высокая температура, сильные тепловые удары и напряжения. Кроме того, керамический материал имеет высокую теплопроводность.
Согласно другому аспекту изобретения предложен способ нанесения покрытия на подложку с использованием физического осаждения из паровой фазы при использовании катушки в вакууме для удержания некоторого количества проводящего материала в состоянии левитации и для нагревания и испарения этого материала, причем в катушке присутствует переменный электрический ток, и между катушкой и левитированным материалом размещены изолирующие средства, являющиеся частью контейнера, выполненного из непроводящего материала, который нагревают, причем контейнер имеет одно или более отверстий для направления испаренного проводящего материала к покрываемой подложке, при этом испаренный материал образует плазму внутри контейнера, и эту плазму выпускают через отверстия в контейнере для нанесения покрытия на подложку.
Этот способ обеспечивает в контейнере плазму, имеющую описанные выше преимущества.
Предпочтительно, контейнер нагревают до температуры, равной или превышающей температуру левитированного материала. Таким образом, пар или плазма не могут конденсироваться на стенках контейнера.
Согласно предпочтительному варианту реализации плазма в контейнере имеет давление между 10-1 и 10-5 мбар, предпочтительно - между 10-2 и 10-4 мбар. При давлении выше 10-5 мбар, предпочтительно - выше 10-4 мбар, в контейнере будет генерироваться плазма, и эта плазма будет сохраняться до тех пор, пока давление не станет слишком высоким, то есть не выше 10-1 мбар, предпочтительно - не выше 10-2 мбар. Понятно, что давление зависит от типа испаряемого проводящего материала, температуры левитированного проводящего материала, а также размера контейнера и отверстий в нем. Более того, понятно, что давление снаружи контейнера в вакуумной камере должно быть ниже, чем давление плазмы, чтобы можно было выпускать плазму через отверстия в контейнере. Предпочтительно, давление в вакуумной камере в 10-1000 раз ниже, чем давление в вакуумной камере, более предпочтительно - приблизительно в 100 раз ниже.
Согласно одному варианту реализации покрываемой подложкой является полоса, которую непрерывно транспортируют относительно контейнера. С помощью способа согласно изобретению можно получать полосу, имеющую плотное, хорошо сцепленное покрытие.
Согласно предпочтительному варианту реализации между подложкой и контейнером поддерживают градиент потенциала, в результате чего ионы ускоряются к подложке. Благодаря градиенту потенциала ионы имеют высокую кинетическую энергию, когда они ударяют по поверхности подложки. Эта высокая кинетическая энергия приводит либо к сцеплению ионов с подложкой или с покрытием, которое уже есть на подложке, давая тем самым очень плотное и хорошо сцепленное покрытие на подложке, либо к отскоку иона от поверхности подложки из-за того, что энергия иона слишком высока. Однако в последнем случае часть энергии иона поглощается покрытием на подложке, что приводит к дополнительному уплотнению покрытия. Потенциал между подложкой и контейнером может составлять 10-40 вольт.
Далее изобретение будет описано со ссылками на прилагаемые чертежи.
Фиг.1 схематически изображает вариант реализации устройства согласно изобретению в сечении.
Фиг.2 изображает устройство, показанное на фиг.1, в сечении по линии А-А.
На фиг.1 показан предпочтительный вариант реализации устройства согласно изобретению. В вакуумной камере (не показана) размещена катушка 1. Контейнер 2 имеет трубчатую часть 3, которая размещена в катушке 1, в которой создается пар. Эта часть 3 закрыта на своем нижнем конце, а к ее верхнему концу присоединена коробчатая часть 4, которая сконструирована соответствующей покрываемой подложке. На поверхности этой части 4 имеются отверстия 5.
В варианте реализации, показанном на фиг.1, контейнер 2 предназначен для нанесения покрытия на полосу (не показана), которую транспортируют на коротком расстоянии над контейнером. По этой причине часть 4 контейнера 2 является удлиненной, чтобы можно было наносить покрытие на всю ширину полосы.
На фиг.2 показан контейнер 2 по фиг.1 в сечении по линии А-А. Это сечение демонстрирует коробчатую часть 4, где в короб 7 вставлена труба 6, и между этими трубой 6 и коробом 7 размещены электрические катушки или провода 8.
Во время работы устройства в трубчатую часть 3 контейнера 2 вводят проводящий материал с использованием подающего устройства (не показано). В катушке 1 создают переменный электрический ток, образующий переменное электромагнитное поле. Благодаря этому электромагнитному полю проводящий материал удерживается в состоянии левитации над катушкой, и в то же время проводящий материал нагревается. В большинстве случаев проводящий материал плавится, образуя каплю 10, и испаряется, а в некоторых случаях он сублимирует без плавления.
Так как контейнер 2 закрыт, за исключением нескольких отверстий 5, за счет испарения капли 10 давление внутри контейнера становится выше, чем давление в окружающей его вакуумной камере.
Неожиданным образом, это позволяет генерировать плазму внутри контейнера и поддерживать эту плазму внутри контейнера за счет использования электроизоляционного или непроводящего материала в качестве материала для самого контейнера с тем, чтобы сохранить плазму. Плазма в контейнере имеет давление между 10-1 и 10-5 мбар, предпочтительно - между 10-2 и 10-4 мбар. При давлении выше 10-5, предпочтительно - выше 10-4 мбар, в контейнере будет генерироваться плазма, и эта плазма будет сохраняться до тех пор, пока давление не станет слишком высоким, т.е. не выше 10-1 мбар, предпочтительно - не выше 10-2 мбар. Плазма генерируется при частотах переменного тока, указанных в WO 03/071000 А1, например, при частоте 50 кГц или выше, что намного ниже, чем известные частоты для генерирования плазмы. Конечно, давление в окружающей вакуумной камере должно быть ниже, чем давление в контейнере, чтобы можно было выпускать плазму через отверстия 5.
Кроме того, чтобы предотвратить конденсацию пара/плазмы на стенках контейнера, контейнер необходимо нагревать до температуры, равной или превышающей температуру пара/плазмы. Для этого используются электрические катушки или провода 8 внутри стенок контейнера. Так как контейнер должен быть термостойким и устойчивым к тепловым ударам, а также иметь высокую теплопроводность, обычно используется керамический материал, такой как нитрид бора или нитрид кремния, но можно также использовать и другие керамические материалы, такие как оксид циркония, оксид иттрия, бромид гафния или бромид циркония, так как керамические материалы являются электрически непроводящими.
Отверстия в контейнере могут иметь любую форму, но обычно они представляют собой круглые дырки или щели. Общая поверхность отверстий зависит от объема контейнера и скорости нанесения покрытия. Расстояние между отверстиями также может варьироваться и будет зависеть от расстояния между поверхностью контейнера, в котором имеются эти дырки, и покрываемой подложкой. Обычно плазма, выпускаемая из контейнера через дырку, имеет форму факела.
Ввиду того, что ионы в плазме заряжены, они будут лучше сцепляться с подложкой и образовывать более плотное покрытие.
Можно дополнительно повысить сцепление и плотность покрытия, прикладывая разность потенциалов между контейнером и покрываемой подложкой. Из-за разности потенциалов ионы ускоряются к подложке и, таким образом, ударяют по ее поверхности, имея высокую скорость. В результате этого образуется очень хорошо сцепленное покрытие с высокой плотностью. Подходящая разность потенциалов составляет 10-40 вольт.

Claims (17)

1. Устройство для нанесения покрытия на подложку с использованием физического осаждения из паровой фазы, содержащее вакуумную камеру, в которой размещена катушка для удержания некоторого количества проводящего материала в состоянии левитации и для нагревания и испарения этого материала при использовании переменного электрического тока в катушке, причем в катушке размещены средства для изоляции катушки от левитированного материала, отличающееся тем, что средства для изоляции катушки выполнены в виде части контейнера, выполненного из непроводящего материала, причем контейнер имеет одно или более отверстий для направления испаренного проводящего материала к покрываемой подложке.
2. Устройство по п.1, в котором контейнер имеет форму трубы, которая имеет заглушки на обоих концах, причем в заглушке имеется одно или более отверстий.
3. Устройство по п.1, в котором контейнер имеет форму трубы с заглушкой на одном конце и коробчатым выступом на другом конце, причем этот выступ имеет несколько отверстий.
4. Устройство по п.3, в котором выступ является по меньшей мере таким же по ширине, как и покрываемая подложка.
5. Устройство по любому из пп.1-4, в котором отверстия имеют форму дырки или щели.
6. Устройство по любому из пп.1-4, в котором контейнер снабжен нагревательными средствами для нагрева контейнера.
7. Устройство по п.6, в котором контейнер снабжен нагревательными элементами, выполненными из проводящего материала, такого как проволока высокого сопротивления из молибдена или вольфрама.
8. Устройство по любому из пп.1-4, в котором контейнер изготовлен из керамического материала, такого как нитрид бора или нитрид кремния.
9. Способ нанесения покрытия на подложку с использованием физического осаждения из паровой фазы, включающий использование размещенной в вакуумной камере катушки для удержания некоторого количества проводящего материала в состоянии левитации и для нагрева и испарения этого материала за счет переменного электрического тока в катушке, причем между катушкой и левитированным материалом размещают средства для изоляции катушки от левитированного материала, отличающийся тем, что средства для изоляции являются частью контейнера, выполненного из непроводящего материала, который нагревают, причем контейнер имеет одно или более отверстий для направления испаренного проводящего материала к покрываемой подложке, при этом испаренный материал образует плазму внутри контейнера, и эту плазму выпускают через отверстия в контейнере для нанесения покрытия на подложку.
10. Способ по п.9, в котором контейнер нагревают до температуры, равной или превышающей температуру левитированного материала.
11. Способ по любому из пп.9 или 10, в котором плазма в контейнере имеет давление между 10-1 и 10-5 мбар, предпочтительно между 10-2 и 10-4 мбар.
12. Способ по любому из пп.9 или 10, в котором покрываемая подложка представляет собой полосу, которую непрерывно транспортируют относительно контейнера.
13. Способ по п.11, в котором покрываемая подложка представляет собой полосу, которую непрерывно транспортируют относительно контейнера.
14. Способ по любому из пп.9 или 10, в котором между подложкой и контейнером поддерживают градиент потенциала, в результате чего ионы ускоряются к подложке.
15. Способ по п.11, в котором между подложкой и контейнером поддерживают градиент потенциала, в результате чего ионы ускоряются к подложке.
16. Способ по п.12, в котором между подложкой и контейнером поддерживают градиент потенциала, в результате чего ионы ускоряются к подложке.
17. Способ по п.13, в котором между подложкой и контейнером поддерживают градиент потенциала, в результате чего ионы ускоряются к подложке.
RU2007148502/02A 2005-05-31 2006-04-27 Устройство и способ для нанесения покрытия на подложку RU2388846C2 (ru)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP05076265 2005-05-31
EP05076265.7 2005-05-31

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2007148502A RU2007148502A (ru) 2009-07-20
RU2388846C2 true RU2388846C2 (ru) 2010-05-10

Family

ID=34981132

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2007148502/02A RU2388846C2 (ru) 2005-05-31 2006-04-27 Устройство и способ для нанесения покрытия на подложку

Country Status (21)

Country Link
US (1) US8435352B2 (ru)
EP (1) EP1902152B1 (ru)
JP (1) JP5394061B2 (ru)
KR (1) KR101235457B1 (ru)
CN (1) CN101175866B (ru)
AR (1) AR053487A1 (ru)
AT (1) ATE471997T1 (ru)
AU (1) AU2006254452B2 (ru)
BR (1) BRPI0610874A2 (ru)
CA (1) CA2605147C (ru)
DE (1) DE602006015055D1 (ru)
ES (1) ES2346902T3 (ru)
HK (1) HK1118871A1 (ru)
MX (1) MX2007014483A (ru)
MY (1) MY141409A (ru)
NZ (1) NZ562697A (ru)
RU (1) RU2388846C2 (ru)
TW (1) TWI461553B (ru)
UA (1) UA87916C2 (ru)
WO (1) WO2006128532A1 (ru)
ZA (1) ZA200709026B (ru)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2741042C1 (ru) * 2017-12-14 2021-01-22 Арселормиттал Устройство для вакуумного нанесения покрытия и способ нанесения покрытия на подложку
RU2744334C1 (ru) * 2017-12-14 2021-03-05 Арселормиттал Устройство для вакуумного нанесения покрытия и способ нанесения покрытия на подложку

Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20060226003A1 (en) * 2003-01-22 2006-10-12 John Mize Apparatus and methods for ionized deposition of a film or thin layer
US9659758B2 (en) 2005-03-22 2017-05-23 Honeywell International Inc. Coils utilized in vapor deposition applications and methods of production
DE102009042972A1 (de) 2009-09-16 2011-03-24 Technische Universität Ilmenau Vorrichtung und Verfahren zum Manipulieren einer levitierten elektrisch leitfähigen Substanz
US9267203B2 (en) * 2010-12-13 2016-02-23 Posco Continuous coating apparatus
KR101207719B1 (ko) * 2010-12-27 2012-12-03 주식회사 포스코 건식 코팅 장치
DE102011018675A1 (de) 2011-04-18 2012-10-18 Technische Universität Ilmenau Vorrichtung und Verfahren zum aktiven Manipulieren einer elektrisch leitfähigen Substanz
EP3448666A1 (en) * 2016-04-27 2019-03-06 Essilor International Substrate holder for coating equiped with moveable shutters and method for using the same
US11183373B2 (en) 2017-10-11 2021-11-23 Honeywell International Inc. Multi-patterned sputter traps and methods of making
CN112553577A (zh) 2019-09-26 2021-03-26 宝山钢铁股份有限公司 一种提高真空镀膜收得率的真空镀膜装置
CN112553578B (zh) 2019-09-26 2022-01-14 宝山钢铁股份有限公司 一种具有抑流式喷嘴的真空镀膜装置
CN112575308B (zh) 2019-09-29 2023-03-24 宝山钢铁股份有限公司 一种能在真空下带钢高效镀膜的真空镀膜装置
CN113957392B (zh) 2020-07-21 2022-09-20 宝山钢铁股份有限公司 一种采用混匀缓冲结构均匀分配金属蒸汽的真空镀膜装置
CN113957390B (zh) * 2020-07-21 2024-03-08 宝山钢铁股份有限公司 一种具有气垫缓冲腔的真空镀膜装置
CN113957389B (zh) * 2020-07-21 2023-08-11 宝山钢铁股份有限公司 一种具有多孔降噪及均匀化分配金属蒸汽的真空镀膜装置
CN113957391B (zh) * 2020-07-21 2023-09-12 宝山钢铁股份有限公司 一种采用芯棒加热结构均匀分配金属蒸汽的真空镀膜装置
CN113957388B (zh) 2020-07-21 2022-08-16 宝山钢铁股份有限公司 一种采用导流板式结构均匀分配金属蒸汽的真空镀膜装置
KR102547666B1 (ko) * 2021-01-21 2023-06-27 울산대학교 산학협력단 진공 박막 증착용 분자빔 증발원

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5740758A (en) * 1980-08-22 1982-03-06 Sekisui Chem Co Ltd Method and device for manufacturing magnetic recording medium
DE3632027C1 (de) * 1986-09-20 1988-02-18 Rudnay Andre Dr De Verfahren und Vakuumbedampfungsanlage zum Metallisieren von Folienoberflaechen
JPH0793249B2 (ja) * 1991-03-22 1995-10-09 松下電器産業株式会社 金属化フィルムの製造方法
JPH06228740A (ja) * 1993-01-29 1994-08-16 Sony Corp 真空蒸着装置
JPH07252639A (ja) * 1994-03-15 1995-10-03 Kao Corp 金属薄膜体の製造方法
JPH0835059A (ja) * 1994-07-22 1996-02-06 Sony Corp 原料蒸気供給装置及び薄膜形成装置
JPH08104981A (ja) * 1994-10-05 1996-04-23 Sumitomo Electric Ind Ltd Ｐｖｄ装置
JP2000328239A (ja) * 1999-05-19 2000-11-28 Shin Meiwa Ind Co Ltd 薄膜形成装置
US6830626B1 (en) * 1999-10-22 2004-12-14 Kurt J. Lesker Company Method and apparatus for coating a substrate in a vacuum
EP1174526A1 (en) * 2000-07-17 2002-01-23 Nederlandse Organisatie voor Toegepast Natuurwetenschappelijk Onderzoek TNO Continuous vapour deposition
DE10128091C1 (de) * 2001-06-11 2002-10-02 Applied Films Gmbh & Co Kg Vorrichtung für die Beschichtung eines flächigen Substrats
NL1020059C2 (nl) * 2002-02-21 2003-08-25 Corus Technology B V Werkwijze en inrichting voor het bekleden van een substraat.
US6749906B2 (en) * 2002-04-25 2004-06-15 Eastman Kodak Company Thermal physical vapor deposition apparatus with detachable vapor source(s) and method
US7025832B2 (en) * 2002-07-19 2006-04-11 Lg Electronics Inc. Source for thermal physical vapor deposition of organic electroluminescent layers
JP2004099961A (ja) * 2002-09-09 2004-04-02 Nippon Steel Corp 金属箔コート設備及びコーティング金属箔の製造方法
DE10256038A1 (de) * 2002-11-30 2004-06-17 Applied Films Gmbh & Co. Kg Bedampfungsvorrichtung
WO2004105095A2 (en) * 2003-05-16 2004-12-02 Svt Associates Inc. Thin-film deposition evaporator

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2741042C1 (ru) * 2017-12-14 2021-01-22 Арселормиттал Устройство для вакуумного нанесения покрытия и способ нанесения покрытия на подложку
RU2744334C1 (ru) * 2017-12-14 2021-03-05 Арселормиттал Устройство для вакуумного нанесения покрытия и способ нанесения покрытия на подложку

Also Published As

Publication number Publication date
ZA200709026B (en) 2009-01-28
CA2605147A1 (en) 2006-12-07
KR20080016642A (ko) 2008-02-21
WO2006128532A1 (en) 2006-12-07
AU2006254452B2 (en) 2010-11-18
AR053487A1 (es) 2007-05-09
RU2007148502A (ru) 2009-07-20
BRPI0610874A2 (pt) 2010-08-03
ES2346902T3 (es) 2010-10-21
US20080280066A1 (en) 2008-11-13
MY141409A (en) 2010-04-30
EP1902152A1 (en) 2008-03-26
CN101175866B (zh) 2010-12-15
JP5394061B2 (ja) 2014-01-22
US8435352B2 (en) 2013-05-07
CA2605147C (en) 2011-12-13
HK1118871A1 (en) 2009-02-20
AU2006254452A1 (en) 2006-12-07
EP1902152B1 (en) 2010-06-23
JP2008542537A (ja) 2008-11-27
ATE471997T1 (de) 2010-07-15
UA87916C2 (ru) 2009-08-25
NZ562697A (en) 2009-12-24
DE602006015055D1 (de) 2010-08-05
KR101235457B1 (ko) 2013-02-20
TW200730648A (en) 2007-08-16
MX2007014483A (es) 2008-02-05
CN101175866A (zh) 2008-05-07
TWI461553B (zh) 2014-11-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2388846C2 (ru) Устройство и способ для нанесения покрытия на подложку
Boxman et al. Vacuum arc deposition devices
US5656141A (en) Apparatus for coating substrates
US5580429A (en) Method for the deposition and modification of thin films using a combination of vacuum arcs and plasma immersion ion implantation
JPH08505434A (ja) プラズマ補助高速電子ビーム蒸発用の装置
JP2017528602A (ja) 構成部品、バンド状の材料又はツールの表面にコーティングを形成する装置
US5441624A (en) Triggered vacuum anodic arc
KR101207719B1 (ko) 건식 코팅 장치
JPH04235276A (ja) 基板をコーティングするための装置
GB2248340A (en) Thin film deposition apparatus
Kuzmichev et al. Evaporators with induction heating and their applications
JPH06212433A (ja) 真空室内で基板を被覆する装置及び方法
JP4601076B2 (ja) イオンクラスタービーム蒸着装置
JPH0543784B2 (ru)
US20140034484A1 (en) Device for the elimination of liquid droplets from a cathodic arc plasma source
KR20200105835A (ko) 금속 및 세라믹 재료의 퇴적을 위한 적층 제조용 시스템 및 방법
JP2593292Y2 (ja) 金属イオン源輻射リフレクタ構造
JPH03158458A (ja) クラスターイオンビーム装置
JPH06122965A (ja) イオン蒸着膜形成装置
JPS63100170A (ja) 絶縁性薄膜形成装置
JPH04308079A (ja) クラスターイオンビーム蒸着装置およびクラスターイオンビーム蒸着方法ならびに導電性薄膜
JPH0860345A (ja) 基板を被覆するための被覆装置
JPH04202767A (ja) イオンビーム発生装置および発生方法
JPH04168266A (ja) イオンビーム製膜方法およびイオンビーム製膜装置

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A The patent is invalid due to non-payment of fees

Effective date: 20170428