RU2233812C2 - Лист из прозрачного стекла с покрытием, способ его получения, стеклянная панель - Google Patents

Лист из прозрачного стекла с покрытием, способ его получения, стеклянная панель Download PDF

Info

Publication number
RU2233812C2
RU2233812C2 RU99121322/03A RU99121322A RU2233812C2 RU 2233812 C2 RU2233812 C2 RU 2233812C2 RU 99121322/03 A RU99121322/03 A RU 99121322/03A RU 99121322 A RU99121322 A RU 99121322A RU 2233812 C2 RU2233812 C2 RU 2233812C2
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
layer
coated sheet
conductive
glass
metal oxide
Prior art date
Application number
RU99121322/03A
Other languages
English (en)
Other versions
RU99121322A (ru
Inventor
Робер ТЕРНЕ (BE)
Робер ТЕРНЕ
Эрик ТИКСОН (BE)
Эрик Тиксон
Original Assignee
Главербель
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Главербель filed Critical Главербель
Publication of RU99121322A publication Critical patent/RU99121322A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2233812C2 publication Critical patent/RU2233812C2/ru

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
    • C03C17/3429—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings being a non-oxide coating
    • C03C17/3435—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings being a non-oxide coating comprising a nitride, oxynitride, boronitride or carbonitride
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
    • C03C17/3417—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials all coatings being oxide coatings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
    • C03C17/3429—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings being a non-oxide coating
    • C03C17/3441—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings being a non-oxide coating comprising carbon, a carbide or oxycarbide

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Joining Of Glass To Other Materials (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)
  • Window Of Vehicle (AREA)
  • Vending Machines For Individual Products (AREA)
  • Electrochromic Elements, Electrophoresis, Or Variable Reflection Or Absorption Elements (AREA)

Abstract

Изобретение относится к листам из солнцезащитного стекла и способу их получения. Лист из прозрачного солнцезащитного стекла получают из известково-натриевого стекла, имеющего покрытие, состоящее из, по крайней мере, двух пиролитически образованных слоев. Лист характеризуется присутствием в покрытии проводящего или полупроводящего слоя, имеющего толщину в интервале от 15 до 500 нм и образованного из материала, содержащего оксид металла, который содержит присадку в количестве от 1 до 100 моль на 100 моль оксида металла. Указанный оксид металла выбирают из одного или более триоксида вольфрама (WO3), триоксида молибдена (МоО3), пентоксида ниобия (Nb2O5), пентоксида тантала (Та205), пентоксида ванадия (V2O5) и двуокиси ванадия (VO2), посредством чего покрытый лист имеет нейтральный или голубой оттенок при пропускании и отражении светового потока, значение светового пропускания (СП) от 30 до 85% и селективность более чем 1, предпочтительно более чем 1.2. Техническая задача изобретения – улучшение солнцезащитных свойств при сохранении высокого светового пропускания. 6 с. и 66 з.п. ф-лы, 1 табл.

Description

Данное изобретение относится к листам из солнцезащитного стекла и способу их получения.
Прозрачные солнцезащитные листы в основном используются в качестве наружных стеклянных панелей в зданиях. Помимо эстетической привлекательности они обладают и другими преимуществами, обеспечивая защиту от нагревания и слепящего действия солнечного излучения. Подобные требования предъявляются к листам из стекла, используемым для стекол, устанавливаемых в транспортных средствах.
Листы из солнцезащитного стекла обычно представляют собой известково-натриевое стекло, имеющее покрытие, обеспечивающее определенные требуемые качества. Они могут быть использованы в виде отдельного листа из стекла или стеклянной панели, включающей другие листы из стекла, а также, возможно, не стеклянные ламинирующие материалы. Требования, предъявляемые к солнцезащитным листам, заключаются в том, что сам лист или панель, частью которой он является, не должен пропускать чрезмерно большую часть суммарного падающего солнечного излучения, таким образом, не допуская перегревания здания или внутреннего пространства транспортного средства.
Свойства защитных листов из стекла, описываемых в данном изобретении, основаны на стандартных определениях, принятых Международной Комиссией по Освещению - Commission Internationale de l’Eclairage ("CIE").
“Световое пропускание” (СП) определяется отношением количества светового потока, проходящего через пластину к общему количеству падающего светового потока, в процентах.
“Световое отражение” (СО) определяется отношением количества светового потока, отраженного от листа, к общему количеству падающего светового потока, в процентах. Для листа, покрытого с одной стороны, световое отражение может быть определено для покрытой стороны (СОп) или для непокрытой стороны листа из стекла (СОн).
Пропускание суммарного падающего солнечного излучения, которое может быть обозначено как “коэффициент излучения” (КИ) листа, в данном описании означает сумму общего количества непосредственно пропущенной энергии и энергии адсорбированной и вторично излученной со стороны, противоположной к источнику энергии, в процентах по отношению к суммарному излучению, падающему на лист.
“Селективность” листа представляет собой отношение светового пропускания к коэффициенту излучения (СП/КИ).
Известно множество методик получения покрытий на листах из стекла, включая пиролиз. Пиролиз обычно имеет то преимущество, что позволяет получать твердые покрытия, обладающие хорошей абразивной и коррозионной устойчивостью. Полагают, что это достигается, в частности, благодаря тому, что лист из стекла остается горячим во время нанесения покрытия. Пиролиз также обычно дешевле, чем альтернативные процессы нанесения покрытия, такие как ионное распыление, особенно с точки зрения инвестиций в производство.
Предложен широкий спектр покрытий для модификации оптических свойств стеклянных панелей. Оксид олова (SnO2) используется наиболее широко, часто в сочетании с другими материалами, такими как другие оксиды металлов.
Патент Великобритании 1455148 тех же авторов является самым ранним примером способа пиролитического нанесения одного или более оксидов (например, SnO2, Со3O4, Сr2O3, Sb2O3, SiO2, TiО2 или ZrO2) на лист из стекла, в первую очередь, распылением соединений металла или кремния таким образом, чтобы модифицировать их световое пропускание и световое отражения.
Патент США 5385751 относится к способу образования пленки, состоящей из оксида вольфрама с добавлением фтора, на поверхности стеклянного субстрата для улучшения солнцезащитных и оптических свойств стекла. Оксид с присадкой получается при взаимодействии на указанной поверхности алкоксида вольфрама, соединения, содержащего кислород и соединения, содержащего фтор.
WO 98/11031 относится к стеклу с солнцезащитным покрытием, в котором покрытие содержит абсорбирующий тепло слой оксида металла, такого как оксид хрома, оксид кобальта, оксид железа, оксид молибдена, оксид ниобия, оксид ванадия или оксид вольфрама, содержащий или не содержащий присадку, и слой соединения металла с низким коэффициентом излучения, например оксида полупроводникового металла, такого как оксид олова с присадкой или оксид индия с присадкой.
Объектом данного изобретения является лист из стекла с покрытием, нанесенным пиролитическим способом, который обладает значительными солнцезащитными свойствами.
Было обнаружено, что эта и другие полезные цели могут быть достигнуты нанесением на лист пиролитического покрытия, которое включает проводящий или полупроводящий слой определенной толщины определенных оксидов металлов, содержащих проводящую присадку (Все приводимые здесь ссылки на числовые ограничения толщины даны для геометрической толщины).
Таким образом, согласно данному изобретению представлен прозрачный лист из стекла, имеющий покрытие, состоящее из, по крайней мере, двух пиролитически образованных слоев, характеризуемых наличием в покрытии проводящих или полупроводящих слоев, имеющих толщину в интервале от 15 до 500 нм и состоящих из материалов, содержащих оксид металла, содержащий присадку в количестве от 1 до 100 моль на 100 моль оксида металла, где указанный оксид металла выбирают из одного или более триоксида вольфрама (WO3), триоксида молибдена (МоО3), пентоксида ниобия (Nb2O2), пентоксида тантала (Та2O5), пентоксида ванадия (V2O5) и диоксида ванадия (VО2), за счет чего лист с покрытием имеет нейтральный или голубой оттенок при пропускании света и отражении, значение светового пропускания (СП) в интервале от 30 до 85% и селективность более чем 1.
Изобретение также раскрывает способ получения листа из прозрачного стекла, имеющего покрытие, состоящее из, по крайней мере, двух пиролитически образованных слоев, характеризуемых нанесением на лист проводящего или полупроводящего слоя толщиной от 15 до 500 нм и состоящего из материала, содержащего оксид металла и введенную в этот оксид металла присадку в количестве от 1 до 100 моль на 100 моль оксида металла, причем указанный оксид металла выбирают из одного или более триоксида вольфрама (WO3), триоксида молибдена (МоО3), пентоксида ниобия (Nb2O5), пентоксида тантала (Та2O5), пентоксида ванадия (V2O5) и диоксида ванадия (VO2), за счет чего лист с покрытием имеет нейтральный или голубой оттенок при пропускании света и отражении, значение светового пропускания (СП) в интервале от 30 до 85% и селективность более чем 1.
Особенным преимуществом определенного выше проводящего или полупроводящего слоя является то, что покрытый им лист обладает большей отражательной способностью в инфракрасном спектре по сравнению с видимым спектром, таким образом, улучшая солнцезащитные свойства при сохранении высокого светового пропускания.
Покрытие состоит из слоя, обычно прозрачного, который взаимосвязан с проводящим или полупроводящим слоем таким образом, что при пропускании или отражении света покрытое им стекло имеет нейтральный или голубой оттенок.
Оксид вольфрама с присадкой является предпочтительным материалом для проводящего или полупроводящего слоя. Он обладает такими полезными свойствами как естественно низкая относительная излучательная способность (ε), то есть отношение количества энергии, излучаемой данной поверхностью при данной температуре, к тому же параметру идеального источника излучения (твердого тела с относительной излучательной способностью 1.0) при той же температуре.
Оксид металла получают из подходящего предшественника. Например, для оксида молибдена подходящие предшественники включают карбонил молибдена [Мо(СО)6], ацетил ацетонат молибдена, хлорид молибдена (МоСl3 или МоСl5), фторид молибдена (МоF6) или органическое соединение молибдена, такое как МоO2 (2,2,6,6-тетраметилгептан-3,5-дион)2, и оксихлорид молибдена (МоO2Сl2 или МоОСl4). Для оксида ванадия подходящим предшественником является ацетил ацетонат ванадия. Для оксида ниобия подходящими предшественниками являются этоксид ниобия [Nb(OC2H5)5], хлорид ниобия (NbCl5), фторид ниобия (NbF5) и ниобий дипивалоилметанатохлорид (Nb(2,2,6,6-тетраметилгептан-3,5-дион)2Сl3). Для получения оксида тантала подходящие предшественники включают фторид или хлорид тантала (ТаF5 или ТаСl3) или алкокси тантал [например, Ta(OR)5, где R=СН3, С5Н5 или С4Н9]. Для получения оксида вольфрама подходящие предшественники включают гексахлорид вольфрама (WCl6), окситетрахлорид вольфрама (WOCl4), карбонил вольфрама [W(CO)6], циклопентадиенил хлорид вольфрама [W(C5H5)2Cl2], фторид вольфрама (WF6), этоксид вольфрама [W(OC2H5)2 или W(ОС2Н5)6].
Присадка обеспечивает проводящие свойства проводящего или полупроводящего слоя. Присадка присутствует в слое в количестве от 1 до 100 моль в процентах по отношению к молям оксида металла, предпочтительно от 5 до 100 моль в процентах по отношению к молям оксида металла, для обеспечения проводящего или полупроводящего характера слоя оксида металла. Предпочтительные присадки включают водород, литий, натрий, калий и фтор. Для слоя на основании WO3 предпочтительное количество водородной, литиевой, натриевой или калиевой присадки составляет от 20 до 100 моль на 100 моль оксида металла, в то время как для присадки на основе фтора предпочтительное количество составляет от 10 до 40 моль на 100 моль W. Для слоя МоО3 предпочтительно количество натриевой присадки составляет от 20 до 100 моль на 100 моль Мо и предпочтительное количество присадки на основе фтора составляет от 10 до 30 моль на 100 моль Мо. Для слоев Nb2О3 или Та2O5 предпочтительное количество присадки на основе фтора составляет от 1 до 5 моль на 100 моль Nb или Та.
Присадка может быть нанесена после получения оксида металла и диффундируется в оксид металла. В одном варианте оксид металла получают в флоат-ванне линии по производству листового стекла, и наличие водорода, действующего в качестве присадки, обеспечивается атмосферой водорода в указанной ванне.
Слой с водородной, литиевой, натриевой или калиевой присадками является проводящим. Толщина слоя с данными присадками предпочтительно составляет от 15 до 100 нм, в то время как слой с присадкой на основе фтора является полупроводящим, и его толщина составляет предпочтительно от 100 до 500 нм.
В одном из предпочтительных вариантов данного изобретения покрытие включает прозрачный слой в виде подложки между листом из стекла и проводящим или полупроводящим слоем. Подходящие материалы для данной подложки включают один или более оксидов, оксикарбидов и оксинитридов, таких как Аl2О3, SiO2, SiOx (0<х<2), SnO2, SnO2/Sb (0.02<Sb/Sn<0.5), SnO2/F (0.01<F<0.03), TiO2, ZrO2, SiOxCy, AlN, Si3N4, AlNxOy, SiNxOy.
Предпочтительно материалом слоя подложки является оксид. Слой оксида может быть легко получен пиролизом и имеет известные, стабильные свойства.
Предпочтительно материал слоя подложки является диэлектрическим материалом. Это гарантирует хорошую прозрачность и служит для достижения требуемых оптических свойств листа из стекла с покрытием. Предпочтительными материалами являются SnO2 и ТiO2.
Предпочтительная толщина этого слоя составляет от 15 до 90 нм. Если покрытие включает только подложку и проводящий и полупроводящий слой, то есть не имеет других слоев, предпочтительная толщина подложки составляет от 22 до 90 нм и предпочтительная толщина проводящего или полупроводящего слоя составляет от 20 до 60 нм.
Слой подложки дает определенные преимущества. Она помогает нейтрализовать оттенок покрытия при отражении. Она служит для снижения суммарного отражения покрытия в пределах видимого спектра, таким образом, улучшая селективность. Она может служить барьером для проникновения ионов натрия из стекла в покрытие, что особенно желательно для предотвращения матовости. Матовость может возникать при использовании некоторых предшественников, содержащих хлор, особенно если образование толстых слоев покрытия начинается с таких предшественников.
В другом предпочтительном варианте данного изобретения покрытие включает прозрачный слой в качестве лежащего выше слоя покрытия на лицевой поверхности проводящего или полупроводящего слоя, который не соприкасается с листом из стекла. Такой лежащий выше слой покрытия может защищать проводящий или полупроводящий слой от воздействия на него атмосферы.
Подходящие материалы для лежащего выше слоя покрытия включают один или более оксидов, нитридов и оксинитридов, таких как Аl2О3, SiO2, SnO2, SnO2/Sb (0.02<Sb/Sn<0.5), SnO2/F (0.01<F/Sn<0.03), TiO2, ZrO2, Si3N4 и SiNxOy.
Предпочтительно материалом лежащего выше слоя покрытия является оксид. Оксидные слои могут быть легко получены пиролизом и имеют известные стабильные свойства.
Предпочтительно материал лежащего выше слоя покрытия является диэлектрическим материалом. Это гарантирует хорошую прозрачность и служит для достижения требуемых оптических свойств листа из стекла с покрытием. Предпочтительными материалами являются SnO2 и TiO2, так как они способствуют защите и нейтрализации покрытия.
Предпочтительная толщина лежащего выше слоя покрытия составляет от 5 до 60 нм. Такая толщина позволяет получить требуемые оптические свойства, то есть нейтральный или голубой оттенок при пропускании и отражении света. Если покрытие включает только проводящий и полупроводящий слой и лежащий выше слой покрытия, то есть не имеет других слоев, предпочтительная толщина проводящего или полупроводящего слоя составляет от 15 до 500 нм и предпочтительная толщина лежащего выше слоя покрытия составляет от 10 до 60 нм.
Подходящими предшественниками для материала, используемого в качестве слоя подложки или лежащего выше слоя покрытия, являются хлориды, например АlСl3, SiCl4, SnCl4 и TiCl4, и металлоорганические соединения, такие как трихлормонобутил олова (ТМБО).
Лежащий выше слой покрытия служит в качестве барьера для диффузии атмосферного кислорода в покрытие при последующей тепловой обработке или сгибании продукта. Этот слой также помогает нейтрализовать оттенок покрытия при отражении и минимизирует отражение конечного продукта в пределах видимого спектра. Он также служит в качестве барьера для диффузии присадки из проводящего или полупроводящего слоя и, таким образом, способствует сохранению проводящего характера слоя.
В наиболее предпочтительном варианте изобретения покрытие включает оба слоя - подложку и лежащий выше слой покрытия. Материал слоя подложки не обязательно должен быть таким же, что и у лежащего выше слоя покрытия слоя, но использование одного и того же материала может быть наиболее удобным с точки зрения производства покрытия. В тройном покрытии, состоящем из слоя подложки, проводящего или полупроводящего слоя и лежащего выше слоя покрытия, предпочтительная толщина указанных слоев составляет от 15 до 60 нм, от 15 до 500 нм или от 5 до 60 нм соответственно. Предпочтительными материалами для слоя подложки и лежащего выше слоя покрытия являются прозрачные диэлектрические оксиды.
Слой подложки и лежащий выше слой покрытия в тройном покрытии, таком как описано ранее, предпочтительно свободны от присадок. Это обеспечивает покрытие, имеющее три последовательных слоя: непроводящий слой, проводящий или полупроводящий слой и другой непроводящий слой. Взаимодействие между соответствующими непроводящими и проводящими слоями способствует достижению комбинации высокого светового пропускания и низкого светового отражения в пределах видимого спектра.
Толщина соответствующих слоев покрытия, их показатели преломления и определенные материалы, применяемые для слоев, влияют на оптические свойства листа с покрытием. Определенная оптимальная толщина варьируется в указанных выше пределах в соответствии с материалом слоя и оптическими свойствами листов с покрытием, которые представлены ниже.
Покрытие данного изобретения, особенно покрытие, содержащее проводящий или полупроводящий слой, а также лежащий выше слой покрытия, может давать лист с покрытием, имеющий особые преимущества, которые заключаются в том, что он способен выдерживать сгибание и тепловую обработку, такую как отпуск термообработкой. Это свойство особенно полезно при производстве стекол для транспортных средств.
Листы из стекла с покрытием данного изобретения имеют селективность более чем 1, то есть их световое пропускание (СП) больше, чем их коэффициент излучения (КИ). Предпочтительная селективность составляет более чем 1.2.
Нейтральный или голубой оттенок, достигаемый у листов согласно данному изобретению, представлен значениями Хантера а и b при пропускании света -10<а<3 и -10<b<3 и при отражении -10<а<3 и -10≤b<3.
Предпочтительно значение Хантера а при отражении и пропускании света ниже или равно нулю, так как это позволяет избежать появления красного компонента в оттенке. Таким образом, значение Хантера а при пропускании и отражении света составляет -10<а<0. Предпочтительно значение Хантера а при отражении и пропускании света составляет больше -6(-6<а), таким образом, что зеленый компонент в оттенке крайне незначителен. Более предпочтительно значение Хантера а при отражении и пропускании света составляет от -6 до 0 (-6<а<0), таким образом, что зеленый и желтый компоненты в оттенке крайне незначительны.
Предпочтительно значение Хантера b при отражении и пропускании света составляет-10<b<0, чтобы избежать появления желтого компонента в оттенке.
Покрытия данного изобретения, полученные пиролизом, имеют большее механическое сопротивление, чем покрытия, полученные другими способами.
Нанесение пиролитического покрытия на плоское стекло наиболее удобно в момент, когда стекло только что получено, например, когда оно сходит с линии по производству флоат-стекла в виде горячей стеклянной ленты, или даже лучше внутри флоат-ванны. Это обеспечивает экономическую выгоду, так как позволяет избежать необходимости повторного нагревания стекла для проведения пиролитической реакции, и дает более качественное покрытие, так как поверхность только что полученного стекла находится в безупречном состоянии.
Материал для соответствующих слоев покрытия может быть нанесен на лист из стекла при помощи химического осаждения из паровой фазы (ХОПФ или “паровой пиролиз”), в виде распыления жидкости (“жидкий пиролиз”) или при помощи комбинации методик ХОПФ и распыления. Для образования покрытия по методике ХОПФ исходный материал обычно подают через первую насадку для взаимодействия с листом из стекла. Если исходное сырье содержит один или более хлоридов, которые имеют жидкое состояние при комнатной температуре, его переводят в парообразное состояние в нагретом потоке безводного несущего газа, такого как азот. Парообразование происходит в результате атомизации этих реагентов в несущем газе. Для получения оксидов реагент, например хлорид, помещают в атмосферу кислородосодержащего соединения, например водяного пара, уксусной кислоты, изопропанола или этилацетата, который предпочтительно подают через вторую насадку.
Способы и оборудование для получения таких покрытий описаны, например, в патенте Франции № 2348166 или в заявке на патент Франции № 2648453 A1. Эти способы и оборудование позволяют получать особенно стойкие покрытия с преимущественными оптическими свойствами.
Для получения покрытия способом распыления лист из стекла может подвергаться взаимодействию с аэрозолем из жидких капелек, содержащих исходный материал. Аэрозоль подают через одну или более насадок для распыления, установленных таким образом, чтобы обеспечивать покрытие по всей ширине покрываемого листа или ленты.
Предпочтительным способом напыления слоев покрытия данного изобретения является ХОПФ. Он имеет преимущества над методикой распыления, заключающиеся в том, что дает покрытие определенной толщины и состава, и такая однородность покрытия очень важна при нанесении покрытия на большую площадь. Покрытие распылением имеет тенденцию оставлять следы от распыляемых капель и от распылителя. Более того, пиролиз распыленных жидкостей по существу ограничен производством оксидных покрытий, таких как SnO2 и ТiO2. Также трудно получать многослойные покрытия, используя распыленные жидкости, так как каждое наложение слоя напыления приводит к значительному охлаждению листа из стекла. Более того, методика ХОПФ является более экономичной в отношении исходных материалов, что приводит к меньшим убыткам.
Однако, несмотря на указанные недостатки методики распыления, она тем не менее часто используется, так как является удобной и недорогой в применении.
Лист из стекла с покрытием согласно данному изобретению может применяться в виде однослойной стеклянной панели или альтернативно в виде многослойной или ламинированной панели. Для многослойных и ламинированных панелей предпочтительно, чтобы только один из составляющих их листов имел покрытие.
Далее изобретение описывается более подробно при помощи представленных ниже не ограничивающих область данного изобретения примеров и сопровождающей их таблицы. Обозначения в шапке таблицы имеют значения, указанные ранее.
Сравнительные примеры 1-4 (С1-С4)
Ленту чистого известково-натриевого флоат-стекла внутри флоат-ванны линии по производству флоат-стекла покрывают по методике ХОПФ пиролиза, используя оборудование для нанесения покрытия, включающее две расположенные последовательно насадки. Лента имеет толщину 6 мм, температуру около 700°С и движется со скоростью 7 метров в минуту. Газообразный фторид вольфрама (WF6) и натриевый пар впрыскивают в поток безводного газообразного азота, применяемого в качестве несущего газа, и подают с несущим газом на ленту через первую насадку таким образом, чтобы ввести присадку в оксид металла.
Уксусную кислоту при температуре около 250°С также впрыскивают в несущий газ, при этом воздух нагревается до температуры 250°С, и пропускают через вторую насадку для взаимодействия с WF6 и образования покрытия WО3 на поверхности ленты. Покрытие наносят таким образом до тех пор, пока не будет получен слой покрытия WO3 определенной толщины, причем в сравнительных примерах толщина слоя является различной, что указано в таблице. Натриевую присадку вводят в покрытие при помощи натриевого пара (альтернативно, натрий может быть получен из стекла) при соотношении натрия и WO3 94 молярных процента (то есть 94 моля присадки на 100 моль WO3), таким образом, придавая слою оксида вольфрама металлический проводящий характер.
Ленту охлаждают и разрезают на листы. Исследуют оптические свойства образца листа, с покрытием, нанесенным согласно соответствующим примерам: световое пропускание (СП), световое отражение для покрытой поверхности листа (СОп), значения Хантера а и b как для пропускания, так и для отражения светового потока и коэффициент излучения (КИ). Также отмечают селективность (СП/КИ). Результаты представлены в таблице.
Примеры 1 и 2.
Образцы листов из стекла с покрытием получают, как описано в сравнительных примерах 1-3, но с той разницей, что слои подложки, соответственно двуокись олова (SnO2) [Пример 1] и двуокись титана (TiO2) [Пример 2], наносят на ленту до нанесения слоя WO3. Подложку наносят по методике ХОПФ пиролиза, используя оборудование для нанесения покрытий, расположенное выше оборудования для нанесения WO3.
Раствор предшественника в безводном газообразном азоте при температуре около 250°С в качестве несущего газа подают с несущим газом через насадку. Предшественники, соответственно ТМБО и тетрахлорид титана, взаимодействуют с получением слоев оксидного покрытия, толщина которых показана в таблице. Слой WO3 наносят при помощи исходных материалов WF6 и натриевого пара. После нанесения слоя WO3 ленту охлаждают и разрезают на листы и исследуют их оптические свойства. Результаты показаны в таблице.
Примеры 3 и 4
Образцы листов из стекла с покрытием получают, как описано в сравнительных примерах 1-3, но в данном случае с тем отличием, что лежащий выше слой покрытия наносят на слой WО3 с присадкой. Лежащий выше слой покрытия в примере 3 является двуокисью титана (TiO2) и в примере 4 является двуокисью олова (SnO2). Его наносят по методике ХОПФ пиролиза, используя оборудование для нанесения покрытий, расположенное ниже оборудования для нанесения WO3.
Предшественники оксидов лежащего выше слоя покрытия, соответственно тетрахлорид титана и ТМБО, подвергают взаимодействию с перегретым паром для получения слоев, нанесенных на слой WO3 с присадкой, с толщиной, которая указана в таблице. После нанесения лежащего выше слоя покрытия ленту охлаждают и разрезают на листы. Их оптические свойства показаны в таблице.
Примеры 5-11
Образцы листов из стекла с покрытием получают, как описано в сравнительных примерах 1-3, но также включая нанесение как слоя подложки, как описано в примерах 1 и 2, так и лежащего выше слоя покрытия, как описано в примерах 3 и 4.
Для примеров 9-11 вместо WО3 в качестве оксида металла проводящего слоя соответственно используют триокись молибдена (МоО3), пентоксид ниобия (Nb2O5) и пентоксид тантала (Та2O5). Для примеров 10 и 11 вместо натрия присадкой для проводящего слоя является фтор, вводимый посредством использования плавиковой кислоты (HF) или гексафторэтана (С2F6). Используемые определенные материалы, толщина соответствующих слоев, пропорции присадки в проводящих слоях и оптические свойства полученных пластин представлены в таблице.
Figure 00000001

Claims (72)

1. Лист из прозрачного стекла, имеющий покрытие, состоящее из, по крайней мере, двух пиролитически образованных слоев, при этом таким образом покрытый лист имеет нейтральный или голубой оттенок при пропускании и отражении, значение светового пропускания (СП) в пределах от 30 до 85% и селективность более чем 1, и, по крайней мере, два пиролитически образованных слоя содержат, в порядке расположения от листа стекла 1) проводящий или полупроводящий слой, имеющий толщину в интервале от 15 до 500 нм и образованный из материала, содержащего оксид металла, который содержит присадку в количестве от 1 до 100 моль на 100 моль оксида металла, причем указанный оксид металла выбирают из одного или более триоксида вольфрама (WO3), триоксида молибдена (МоО3), пентоксида ниобия (Nb2O5), пентоксида тантала (Та2O5), пентоксида ванадия (V2O5) и диоксида ванадия (VO2); 2) лежащий выше слой покрытия, имеющий толщину в интервале от 5 до 60 нм.
2. Лист с покрытием по п.1, в котором присадку выбирают из водорода, лития, натрия, калия и фтора.
3. Лист с покрытием по любому из предшествующих пунктов, в котором количество присадки составляет от 5 до 100 моль на 100 моль оксида металла.
4. Лист с покрытием по любому из предшествующих пунктов, в котором количество присадки составляет от 20 до 100 моль на 100 моль оксида металла.
5. Лист с покрытием по любому из пп.1-4, в котором проводящий или полупроводящий слой означает проводящий слой, в котором присадку выбирают из водорода, лития, натрия и калия, и толщина проводящего слоя составляет от 15 до 100 нм.
6. Лист с покрытием по любому из пп.1-4, в котором проводящий или полупроводящий слой означает проводящий слой, в котором присадкой является фтор, и толщина полупроводящего слоя составляет от 100 до 500 нм.
7. Лист с покрытием по любому из предшествующих пунктов, в котором покрытие включает прозрачный слой в качестве подложки между листом из стекла и проводящим или полупроводящим слоем.
8. Лист с покрытием по п.7, в котором материал слоя подложки выбирают из одного или более оксидов, оксикарбидов, нитридов, оксинитридов, таких как Аl2О3, SiO2, SiOx (0<x<2), SnO2, SnO2/Sb (0,02<Sb/Sn<0,5), SnO2/F (0,01<F/Sn<0,03), ТiO2, ZrO2, SiOxCy, AlN, Si3N4, AlNxOy, SiNxOy.
9. Лист с покрытием по п.7 или 8, в котором материалом слоя подложки является оксид.
10. Лист с покрытием по любому из пп.7-9, в котором материал слоя подложки является диэлектрическим материалом.
11. Лист с покрытием по любому из пп.7-10, в котором толщина слоя подложки составляет от 15 до 90 нм.
12. Лист с покрытием по любому из пп.1-11, в котором материал лежащего выше слоя выбирают из одного или более оксидов, нитридов и оксинитридов, таких как Аl2О3, SiO2, SnO2, SnO2/Sb (0,02<Sb/Sn<0,5), SnO2/F (0,01<F/Sn<0,03), TiO2, ZrO2, Si3N4, и SiNxOy.
13. Лист с покрытием по любому из пп.1-12, в котором материал лежащего выше слоя является оксидом.
14. Лист с покрытием по любому из пп.1-13, в котором материал лежащего выше слоя является диэлектрическим материалом.
15. Лист с покрытием по любому из пп.1-14, в котором толщина лежащего выше слоя составляет от 5 до 60 нм.
16. Лист с покрытием по любому из пп.1-15, в котором лист с покрытием состоит, по существу, из листа прозрачного стекла, проводящего или полупроводящего слоя и лежащего выше слоя.
17. Лист с покрытием по любому из пп.1-16, в котором лист с покрытием состоит, по существу, из листа прозрачного стекла, подложки, проводящего или полупроводящего слоя и лежащего выше слоя.
18. Лист с покрытием по п.17, в котором толщина слоя подложки составляет от 15 до 60 нм и толщина выше лежащего слоя составляет от 5 до 60 нм.
19. Лист с покрытием по любому из предшествующих пунктов, в котором селективность больше чем 1,2.
20. Лист из прозрачного стекла, имеющий покрытие, состоящее из, по крайней мере, двух пиролитически образованных слоев, при этом таким образом покрытый лист имеет нейтральный или голубой оттенок при пропускании и отражении, значение светового пропускания (СП) в пределах от 30 до 85% и селективность более чем 1, и, по крайней мере, два пиролитически образованных слоя содержат, в порядке расположения от листа стекла 1) проводящий или полупроводящий слой, имеющий толщину в интервале от 15 до 500 нм и образованный из материала, содержащего оксид металла, который содержит присадку в количестве от 1 до 100 моль на 100 моль оксида металла, причем указанный оксид металла выбирают из одного или более триоксида вольфрама (WО3), триоксида молибдена (МоО3), пентоксида ниобия (Nb2O5), пентоксида тантала (Та2O5), пентоксида ванадия (V2O5) и диоксида ванадия (VO2); 2) непроводящий лежащий выше слой покрытия.
21. Лист с покрытием по п.20, в котором присадку выбирают из водорода, лития, натрия, калия и фтора.
22. Лист с покрытием по п.20 или 21, в котором количество присадки составляет от 5 до 100 моль на 100 моль оксида металла.
23. Лист с покрытием по любому из пп.20-22, в котором количество присадки составляет от 20 до 100 моль на 100 моль оксида металла.
24. Лист с покрытием по любому из пп.20-23, в котором проводящий или полупроводящий слой означает проводящий слой, в котором присадку выбирают из водорода, лития, натрия и калия, и толщина проводящего слоя составляет от 15 до 100 нм.
25. Лист с покрытием по пп.20-23, в котором проводящий или полупроводящий слой означает проводящий слой, в котором присадкой является фтор, и толщина полупроводящего слоя составляет от 100 до 500 нм.
26. Лист с покрытием по любому из пп.20-25, в котором покрытие включает прозрачный слой в качестве подложки между листом из стекла и проводящим или полупроводящим слоем.
27. Лист с покрытием по п. 26, в котором материал слоя подложки выбирают из одного или более оксидов, оксикарбидов, нитридов, оксинитридов, таких как Аl2О3, SiO2, SiOx (0<x<2), SnO2, SnO2/Sb (0,02<Sb/Sn<0,5), SnO2/F (0,01<F/Sn<0,03), ТiO2, ZrO2, SiOxCy, AlN, Si3N4, AlNxOy, SiNxOy.
28. Лист с покрытием по п.26 или 27, в котором материалом слоя подложки является оксид.
29. Лист с покрытием по любому из пп.26-28, в котором материал слоя подложки является диэлектрическим материалом.
30. Лист с покрытием по любому из пп.26-29, в котором толщина слоя подложки составляет от 15 до 90 нм.
31. Лист с покрытием по любому из пп.20-30, в котором материал лежащего выше слоя выбирают из одного или более оксидов, нитридов и оксинитридов, таких как Аl2О3, SiO2, SnO2, SnO2/Sb (0,02<Sb/Sn<0,5), SnO2/F (0,01<F/Sn<0,03), TiO2, ZrO2, Si3N4, и SiNxOy.
32. Лист с покрытием по любому из пп.20-31, в котором материал лежащего выше слоя является оксидом.
33. Лист с покрытием по любому из пп.20-32, в котором материал лежащего выше слоя является диэлектрическим материалом.
34. Лист с покрытием по любому из пп.20-33, в котором толщина лежащего выше слоя составляет от 5 до 60 нм.
35. Лист с покрытием по любому из пп.20-34, в котором лист с покрытием состоит, по существу, из листа прозрачного стекла, проводящего или полупроводящего слоя и лежащего выше слоя.
36. Лист с покрытием по любому из пп.20-35, в котором лист с покрытием состоит, по существу, из листа прозрачного стекла, подложки, проводящего или полупроводящего слоя и лежащего выше слоя.
37. Лист с покрытием по п.36, в котором толщина слоя подложки составляет от 15 до 60 нм и толщина выше лежащего слоя составляет от 5 до 60 нм.
38. Лист с покрытием по любому из пп.20-37, в котором селективность больше, чем 1,2.
39. Лист с покрытием по п.20, в котором лежащий выше слой покрытия имеет толщину в интервале от 5 до 60 нм.
40. Лист из прозрачного стекла, имеющий покрытие, состоящее из, по крайней мере, двух пиролитически образованных слоев, при этом таким образом покрытый лист имеет нейтральный или голубой оттенок при пропускании и отражении, значение светового пропускания (СП) в пределах от 30 до 85% и селективность более чем 1, и, по крайней мере, два пиролитически образованных слоя содержат, по существу, в порядке расположения от листа стекла 1) слой подложки; 2) проводящий или полупроводящий слой, подвергающийся воздействию воздуха, имеющий толщину в интервале от 15 до 500 нм и образованный из материала, содержащего оксид металла, который содержит присадку в количестве от 1 до 100 моль на 100 моль оксида металла, причем указанный оксид металла содержит триоксид вольфрама (WО3).
41. Лист с покрытием по п.40, в котором присадку выбирают из водорода, лития, натрия, калия и фтора.
42. Лист с покрытием по п.40 или 41, в котором количество присадки составляет от 5 до 100 моль на 100 молей оксида металла.
43. Лист с покрытием по пп.40-42, в котором количество присадки составляет от 20 до 100 моль на 100 молей оксида металла.
44. Лист с покрытием по пп.40-43, в котором проводящий или полупроводящий слой означает проводящий слой, в котором присадку выбирают из водорода, лития, натрия и калия, и толщина проводящего слоя составляет от 15 до 100 нм.
45. Лист с покрытием по любому из пп.40-43, в котором проводящий или полупроводящий слой означает проводящий слой, в котором присадкой является фтор, и толщина полупроводящего слоя составляет от 100 до 500 нм.
46. Лист с покрытием по любому из предшествующих пунктов, в котором покрытие включает прозрачный слой в качестве подложки между листом из стекла и проводящим или полупроводящим слоем.
47. Лист с покрытием по п.46, в котором материал слоя подложки выбирают из одного или более оксидов, оксикарбидов, нитридов, оксинитридов, таких как Аl2О3, SiO2, SiOx (0<x<2), SnO2, SnO2/Sb (0,02<Sb/Sn<0,5), SnO2/F (0,01<F/Sn<0,03), ТiO2, ZrO2, SiOxCy, AlN, Si3N4, AlNxOy, SiNxOy.
48. Лист с покрытием по п.46 или 47, в котором материалом слоя подложки является оксид.
49. Лист с покрытием по любому из пп.46-48, в котором материал слоя подложки является диэлектрическим материалом.
50. Лист с покрытием по любому из пп.46-49, в котором толщина слоя подложки составляет от 15 до 90 нм.
51. Лист с покрытием по любому из пп.46-49, в котором толщина слоя подложки составляет от 22 до 90 нм.
52. Лист с покрытием по п.51, в котором толщина проводящего или полупроводящего слоя составляет от 20 до 60 нм.
53. Лист с покрытием по любому из пп.40-52, в котором селективность больше чем 1,2.
54. Стеклянная панель, содержащая лист из прозрачного стекла с покрытием по любому из предшествующих пунктов.
55. Стеклянная панель по п.54 для использования в качестве стеклянной панели для зданий.
56. Стеклянная панель по п.54 для использования в качестве стекла для транспортных средств.
57. Способ получения листа из прозрачного стекла, имеющего покрытие, состоящее из, по крайней мере, двух пиролитически образованных слоев, при этом таким образом покрытый лист имеет нейтральный или голубой оттенок при пропускании и отражении, значение светового пропускания (СП) в пределах от 30 до 85% и селективность более чем 1, включающий, по крайней мере, следующие стадии: 1) нанесение проводящего или полупроводящего слоя, имеющего толщину в интервале от 15 до 500 нм и образованного из материала, содержащего оксид металла, который содержит присадку в количестве от 1 до 100 моль на 100 моль оксида металла, причем указанный оксид металла выбирают из одного или более триоксида вольфрама (WO3), триоксида молибдена (МоО3), пентоксида ниобия (Nb2O5), пентоксида тантала (Ta2O5), пентоксида ванадия (V2O5) и диоксида ванадия (VO2); 2) последующее нанесение лежащего выше слоя покрытия, имеющего толщину в интервале от 5 до 60 нм.
58. Способ по п.57, в котором присадку наносят после образования оксида металла и оставляют ее диффундировать в оксид металла.
59. Способ по п.57 или 58, в котором оксид металла получают во флоат-ванне линии по производству листового стекла, и водород, действующий в качестве присадки, обеспечивается атмосферой водорода в указанной ванне.
60. Способ по любому из пп.57-59, в котором покрытие наносят на только что полученную горячую ленту стекла, находящуюся на или сходящую с линии по производству флоат-стекла.
61. Способ по любому из пп.57-60, в котором соответствующие слои покрытия наносят на лист из стекла при помощи химического осаждения из паровой фазы (ХОПФ).
62. Способ по любому из пп.57-61, в котором соответствующие слои покрытия наносят на лист из стекла распылением жидкости.
63. Способ по любому из пп.57-62, в котором соответствующие слои покрытия наносят на лист из стекла посредством сочетания ХОПФ и распыления.
64. Способ по любому из пп.57-63, включающий дополнительную стадию нанесения, по крайней мере, одного прозрачного слоя в качестве подложки между листом из стекла и проводящим или полупроводящим слоем.
65. Способ получения листа из прозрачного стекла, имеющего покрытие, состоящее из, по крайней мере, двух пиролитически образованных слоев, при этом таким образом покрытый лист имеет нейтральный или голубой оттенок при пропускании и отражении, значение светового пропускания (СП) от пределах от 30 до 85% и селективность более чем 1, включающий, по крайней мере, следующие стадии: 1) нанесение проводящего или полупроводящего слоя, имеющего толщину в интервале от 15 до 500 нм и образованного из материала, содержащего оксид металла, который содержит присадку в количестве от 1 до 100 моль на 100 моль оксида металла, причем указанный оксид металла выбирают из одного или более триоксида вольфрама (WO3), триоксида молибдена (МоО3), пентоксида ниобия (Nb2O5), пентоксида тантала (Та2O5), пентоксида ванадия (V2O5) и диоксида ванадия (VO2); 2) последующее нанесение непроводящего лежащего выше слоя покрытия.
66. Способ по п.65, в котором присадку наносят после образования оксида металла и оставляют ее диффундировать в оксид металла.
67. Способ по любому из п.65 или 66, в котором оксид металла получают во флоат-ванне линии по производству листового стекла, и водород, действующий в качестве присадки, обеспечивается атмосферой водорода в указанной ванне.
68. Способ по любому из пп.65-67, в котором покрытие наносят на только что полученную горячую ленту стекла, находящуюся на или сходящую с линии по производству флоат-стекла.
69. Способ по любому из пп.65-68, в котором соответствующие слои покрытия наносят на лист из стекла при помощи химического осаждения из паровой фазы (ХОПФ).
70. Способ по любому из пп.65-69, в котором соответствующие слои покрытия наносят на лист из стекла распылением жидкости.
71. Способ по любому из пп.65-70, в котором соответствующие слои покрытия наносят на лист из стекла посредством сочетания ХОПФ и распыления.
72. Способ по любому из пп.65-71, включающий дополнительную стадию нанесения, по крайней мере, одного прозрачного слоя в качестве подложки между листом из стекла и проводящим или полупроводящим слоем.
RU99121322/03A 1998-10-13 1999-10-11 Лист из прозрачного стекла с покрытием, способ его получения, стеклянная панель RU2233812C2 (ru)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB9822338.1 1998-10-13
GBGB9822338.1A GB9822338D0 (en) 1998-10-13 1998-10-13 Solar control coated glass

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU99121322A RU99121322A (ru) 2001-07-27
RU2233812C2 true RU2233812C2 (ru) 2004-08-10

Family

ID=10840501

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU99121322/03A RU2233812C2 (ru) 1998-10-13 1999-10-11 Лист из прозрачного стекла с покрытием, способ его получения, стеклянная панель

Country Status (13)

Country Link
US (1) US6416890B1 (ru)
EP (1) EP0994081B1 (ru)
JP (1) JP2000119045A (ru)
AT (1) ATE247078T1 (ru)
CA (1) CA2285160A1 (ru)
DE (1) DE69910322T2 (ru)
ES (1) ES2205665T3 (ru)
GB (1) GB9822338D0 (ru)
HU (1) HU223558B1 (ru)
ID (1) ID23640A (ru)
IL (1) IL132308A0 (ru)
RU (1) RU2233812C2 (ru)
TR (1) TR199902539A2 (ru)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8367187B2 (en) 2005-12-28 2013-02-05 Nippon Sheet Glass Company, Limited Vehicle window pane and manufacturing method therefor
US8445096B2 (en) 2006-01-17 2013-05-21 Nippon Sheet Glass Company, Limited Vehicle window glass and manufacturing method therefor

Families Citing this family (61)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6596398B1 (en) * 1998-08-21 2003-07-22 Atofina Chemicals, Inc. Solar control coated glass
EP1013619A1 (fr) * 1998-12-22 2000-06-28 Glaverbel Substrat en verre coloré portant un revêtement
LU90420B1 (fr) * 1999-07-20 2001-01-22 Glaverbel Couche pyrolitique d'oxynitrure d'aluminium et vitrage comportant cette couche
FR2809388B1 (fr) * 2000-05-23 2002-12-20 Saint Gobain Vitrage Vitrage comprenant au moins une couche a proprietes thermochromes
CA2423283A1 (en) * 2000-09-29 2003-03-24 Schott Glas Optical substrate and method and device for producing optical substrates
US20020172775A1 (en) * 2000-10-24 2002-11-21 Harry Buhay Method of making coated articles and coated articles made thereby
JP2003060217A (ja) * 2001-08-10 2003-02-28 Nippon Sheet Glass Co Ltd 導電膜付きガラス板
JP4459623B2 (ja) * 2001-12-14 2010-04-28 エージーシー フラット グラス ユーロップ エスエー 着色されたソーダライムガラス
BE1014543A3 (fr) * 2001-12-14 2003-12-02 Glaverbel Verre sodo-calcique colore.
JP5171036B2 (ja) 2003-07-11 2013-03-27 ピルキントン グループ リミテッド 太陽調節グレイジング
US8083847B2 (en) 2003-10-20 2011-12-27 Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. Fine particle dispersion of infrared-shielding material, infrared-shielding body, and production method of fine particles of infrared-shielding material and fine particles of infrared-shielding material
WO2006025470A1 (ja) 2004-08-31 2006-03-09 Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. 導電性粒子、可視光透過型粒子分散導電体およびその製造方法、透明導電薄膜およびその製造方法、これを用いた透明導電物品、赤外線遮蔽物品
US20150153478A1 (en) 2007-04-18 2015-06-04 Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. Electroconductive particle, visible light transmitting particle-dispersed electrical conductor and manufacturing method thereof, transparent electroconductive thin film and manufacturing method thereof, transparent electroconductive article that uses the same, and infrared-shielding article
USRE43388E1 (en) * 2005-07-26 2012-05-15 Pilkington North America, Inc. Silver-free low-E solar control coating
US20080295884A1 (en) * 2007-05-29 2008-12-04 Sharma Pramod K Method of making a photovoltaic device or front substrate with barrier layer for use in same and resulting product
US9181124B2 (en) * 2007-11-02 2015-11-10 Agc Flat Glass North America, Inc. Transparent conductive oxide coating for thin film photovoltaic applications and methods of making the same
EP2360220B1 (en) 2008-11-13 2015-03-18 Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. Infrared blocking particle, method for producing the same, infrared blocking particle dispersion using the same, and infrared blocking base
DE102009015086A1 (de) * 2009-03-31 2010-10-07 Schott Ag Transparente Glas- oder Glaskeramikscheibe mit einer Infrarotstrahlung reflektierenden Schicht
DE102009017547B4 (de) * 2009-03-31 2022-06-09 Schott Ag Infrarot-Strahlung reflektierende Glas- oder Glaskeramikscheibe und Verfahren zu deren Herstellung
US8270060B2 (en) * 2009-09-25 2012-09-18 Samsung Sdi Co., Ltd. Infrared ray transmittance controlling panel including color modifying layer
KR101137370B1 (ko) 2009-11-18 2012-04-20 삼성에스디아이 주식회사 복층 창호
US10060180B2 (en) 2010-01-16 2018-08-28 Cardinal Cg Company Flash-treated indium tin oxide coatings, production methods, and insulating glass unit transparent conductive coating technology
US11155493B2 (en) 2010-01-16 2021-10-26 Cardinal Cg Company Alloy oxide overcoat indium tin oxide coatings, coated glazings, and production methods
US10000411B2 (en) 2010-01-16 2018-06-19 Cardinal Cg Company Insulating glass unit transparent conductivity and low emissivity coating technology
EP2524099B1 (en) 2010-01-16 2020-09-30 Cardinal CG Company High quality emission control coatings, emission control glazings
US10000965B2 (en) 2010-01-16 2018-06-19 Cardinal Cg Company Insulating glass unit transparent conductive coating technology
US9862640B2 (en) 2010-01-16 2018-01-09 Cardinal Cg Company Tin oxide overcoat indium tin oxide coatings, coated glazings, and production methods
KR101127614B1 (ko) * 2010-06-10 2012-03-22 삼성에스디아이 주식회사 창호 및 복층 창호
CN101898869B (zh) * 2010-08-03 2012-09-05 东莞南玻太阳能玻璃有限公司 复合溶胶的制备方法以及用其制造太阳能电池封装玻璃的方法
EP2450322A1 (en) * 2010-09-13 2012-05-09 Korea Electronics Technology Institute Double window / door system for blocking infrared rays
JP5730670B2 (ja) 2011-05-27 2015-06-10 株式会社Adeka 酸化モリブデンを含有する薄膜の製造方法、及び酸化モリブデンを含有する薄膜の形成用原料
GB201114242D0 (en) * 2011-08-18 2011-10-05 Pilkington Group Ltd Tantalum oxide coatings
DE102012012219B4 (de) * 2012-06-21 2014-12-24 Justus-Liebig-Universität Giessen Thermochrome Schicht für Glas, Verfahren zur Herstellung einer thermochromen Schicht und Verwendung einer thermochromen Schicht
WO2014010684A1 (ja) 2012-07-11 2014-01-16 住友金属鉱山株式会社 熱線遮蔽分散体の製造方法および熱線遮蔽分散体並びに熱線遮蔽体
CN103570254B (zh) * 2012-07-31 2016-01-13 信义光伏产业(安徽)控股有限公司 导电玻璃、其制备方法和应用
US10106458B2 (en) * 2014-01-17 2018-10-23 Nippon Sheet Glass Company, Limited Vehicle window glass and method for producing same
WO2016075435A1 (en) * 2014-11-12 2016-05-19 Pilkington Group Limited Coated glass article, display assembly made therewith and method of making a display assembly
JP5913663B2 (ja) * 2015-02-19 2016-04-27 株式会社Adeka モリブデンアミド化合物
KR101906656B1 (ko) * 2015-12-03 2018-10-10 아주대학교산학협력단 단층 스마트 윈도우
AU2017232747B2 (en) 2016-03-16 2021-08-19 Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. Near-infrared shielding material fine particles and method for producing the same, and near-infrared shielding material fine particle dispersion liquid
KR102371493B1 (ko) 2016-03-16 2022-03-07 스미토모 긴조쿠 고잔 가부시키가이샤 근적외선 차폐 재료 미립자 분산체, 근적외선 차폐체 및 근적외선 차폐용 적층 구조체 및 이들의 제조방법
WO2018013778A1 (en) * 2016-07-14 2018-01-18 Entegris, Inc. Cvd mo deposition by using mooc14
US10453744B2 (en) * 2016-11-23 2019-10-22 Entegris, Inc. Low temperature molybdenum film deposition utilizing boron nucleation layers
US10297751B2 (en) * 2017-01-26 2019-05-21 Hrl Laboratories, Llc Low-voltage threshold switch devices with current-controlled negative differential resistance based on electroformed vanadium oxide layer
US10541274B2 (en) 2017-01-26 2020-01-21 Hrl Laboratories, Llc Scalable, stackable, and BEOL-process compatible integrated neuron circuit
US11861488B1 (en) 2017-06-09 2024-01-02 Hrl Laboratories, Llc Scalable excitatory and inhibitory neuron circuitry based on vanadium dioxide relaxation oscillators
EP3666732A4 (en) 2017-08-09 2021-04-28 Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. ELECTROMAGNETIC WAVE-ABSORBING PARTICLE DISPERSION AND ELECTROMAGNETIC WAVE-ABSORBING TRANSPARENT LAMINATED SUBSTRATE
CN111373011B (zh) 2017-11-13 2023-04-21 住友金属矿山株式会社 表面处理的红外线吸收微粒、其粉末、其分散液、其分散体和它们的制造方法
JP6911721B2 (ja) 2017-11-14 2021-07-28 住友金属鉱山株式会社 赤外線吸収体
CN108516699B (zh) * 2018-04-17 2021-01-19 武汉理工大学 一种低辐射镀膜玻璃
CN112074582A (zh) 2018-05-11 2020-12-11 住友金属矿山株式会社 表面处理红外线吸收微粒分散液及红外线吸收透明基材
KR102618176B1 (ko) 2018-09-27 2023-12-28 스미토모 긴조쿠 고잔 가부시키가이샤 적외선 흡수 재료 미립자 분산액과 그의 제조 방법
US20200131628A1 (en) * 2018-10-24 2020-04-30 Entegris, Inc. Method for forming molybdenum films on a substrate
EP3738928A4 (en) 2018-10-25 2021-11-10 JX Nippon Mining & Metals Corporation MOLYBDENE OXYCHLORIDE OR TUNGSTEN OXYCHLORIDE AND PROCESS FOR THEIR PRODUCTION
US11028012B2 (en) 2018-10-31 2021-06-08 Cardinal Cg Company Low solar heat gain coatings, laminated glass assemblies, and methods of producing same
JP7292586B2 (ja) 2019-01-21 2023-06-19 住友金属鉱山株式会社 表面処理赤外線吸収微粒子、表面処理赤外線吸収微粒子粉末、当該表面処理赤外線吸収微粒子を用いた赤外線吸収微粒子分散液、赤外線吸収微粒子分散体、および、赤外線吸収基材
KR102649987B1 (ko) 2019-02-27 2024-03-22 엔테그리스, 아이엔씨. Vi족 전구체 화합물
KR20240051336A (ko) 2020-02-28 2024-04-19 제이엑스금속주식회사 몰리브덴옥시클로라이드의 제조 방법
CN114647122B (zh) * 2020-12-17 2023-10-13 中国科学院上海硅酸盐研究所 一种高性能可见红外独立调控电致变色器件及其制备方法和应用
WO2023144223A1 (fr) * 2022-01-27 2023-08-03 Saint-Gobain Glass France Substrat transparent muni d'un empilement fonctionnel de couches minces
FR3132096A1 (fr) * 2022-01-27 2023-07-28 Saint-Gobain Glass France Substrat transparent muni d’un empilement fonctionnel de couches minces

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
IT996924B (it) 1972-12-21 1975-12-10 Glaverbel Procedimento per formare uno strato di ossido metallico
GB1524326A (en) 1976-04-13 1978-09-13 Bfg Glassgroup Coating of glass
GB2031756B (en) * 1978-10-20 1983-03-09 Gordon Roy Gerald Non-iridescent glass structures and processes for their production
AU546405B2 (en) * 1982-02-01 1985-08-29 Ppg Industries, Inc. Vanadium oxide coating
GB8914047D0 (en) 1989-06-19 1989-08-09 Glaverbel Method of and apparatus for pyrolytically forming an oxide coating on a hot glass substrate
GB9019117D0 (en) * 1990-09-01 1990-10-17 Glaverbel Coated glass and method of manufacturing same
US5168003A (en) 1991-06-24 1992-12-01 Ford Motor Company Step gradient anti-iridescent coatings
US5268208A (en) * 1991-07-01 1993-12-07 Ford Motor Company Plasma enhanced chemical vapor deposition of oxide film stack
US5324537A (en) 1993-07-06 1994-06-28 Ford Motor Company Gaseous doping of tungsten oxide
US5385751A (en) 1993-07-06 1995-01-31 Ford Motor Company Atmospheric pressure CVD process for preparing fluorine-doped tungsten oxide films
JPH08268732A (ja) 1995-03-30 1996-10-15 Central Glass Co Ltd 熱線反射ガラス
GB9619134D0 (en) * 1996-09-13 1996-10-23 Pilkington Plc Improvements in or related to coated glass

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8367187B2 (en) 2005-12-28 2013-02-05 Nippon Sheet Glass Company, Limited Vehicle window pane and manufacturing method therefor
US8445096B2 (en) 2006-01-17 2013-05-21 Nippon Sheet Glass Company, Limited Vehicle window glass and manufacturing method therefor

Also Published As

Publication number Publication date
GB9822338D0 (en) 1998-12-09
IL132308A0 (en) 2001-03-19
DE69910322D1 (de) 2003-09-18
DE69910322T2 (de) 2004-08-12
TR199902539A3 (tr) 2000-05-22
ID23640A (id) 2000-05-04
HU223558B1 (hu) 2004-09-28
ES2205665T3 (es) 2004-05-01
HU9903519D0 (en) 1999-12-28
EP0994081B1 (en) 2003-08-13
JP2000119045A (ja) 2000-04-25
TR199902539A2 (xx) 2000-05-22
CA2285160A1 (en) 2000-04-13
ATE247078T1 (de) 2003-08-15
US6416890B1 (en) 2002-07-09
HUP9903519A2 (hu) 2002-01-28
HUP9903519A3 (en) 2002-11-28
EP0994081A1 (en) 2000-04-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2233812C2 (ru) Лист из прозрачного стекла с покрытием, способ его получения, стеклянная панель
JP4538116B2 (ja) 太陽光線制御被覆ガラス
JP4498648B2 (ja) ソーラーコントロール被覆ガラス
RU2127231C1 (ru) Остекление и способ его получения
USRE40315E1 (en) Coated substrate with high reflectance
US7195821B2 (en) Coated substrate with high reflectance
US5635287A (en) Pane provided with a functional film
JPH04265253A (ja) 被覆ガラス及びその製造法
PL179769B1 (pl) S zyba do oszklen o wlasnosciach przeciwslonecznych i sposób wytwarzania szyby do oszklen o wlasnosciach przeciwslonecznych PL PL PL PL PL
US6387514B1 (en) Solar control coated substrate with high reflectance
US4737388A (en) Non-iridescent, haze-free infrared reflecting coated glass structures
US7776460B2 (en) Coated substrate with high reflectance
JP2008532813A (ja) コーティング
CZ363199A3 (cs) Protisluneční povlečené sklo
UA65556C2 (en) A coated glass (variants), a method for making the same and coating absorbing radiation of the spectral region adjacent to that infrared

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A The patent is invalid due to non-payment of fees

Effective date: 20041012