ES2205665T3 - Hojas de vidrio para control solar. - Google Patents

Hojas de vidrio para control solar.

Info

Publication number
ES2205665T3
ES2205665T3 ES99119664T ES99119664T ES2205665T3 ES 2205665 T3 ES2205665 T3 ES 2205665T3 ES 99119664 T ES99119664 T ES 99119664T ES 99119664 T ES99119664 T ES 99119664T ES 2205665 T3 ES2205665 T3 ES 2205665T3
Authority
ES
Spain
Prior art keywords
coated
thickness
metal oxide
sheet according
coating
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
ES99119664T
Other languages
English (en)
Inventor
Robert Terneu
Eric Tixhon
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
AGC Glass Europe SA
Original Assignee
Glaverbel Belgium SA
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Glaverbel Belgium SA filed Critical Glaverbel Belgium SA
Application granted granted Critical
Publication of ES2205665T3 publication Critical patent/ES2205665T3/es
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
    • C03C17/3429—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings being a non-oxide coating
    • C03C17/3435—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings being a non-oxide coating comprising a nitride, oxynitride, boronitride or carbonitride
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
    • C03C17/3417—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials all coatings being oxide coatings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
    • C03C17/3429—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings being a non-oxide coating
    • C03C17/3441—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings being a non-oxide coating comprising carbon, a carbide or oxycarbide

Abstract

Se suministra una hoja de vidrio transparente de control solar por una hoja de vidrio de cal y sosa que lleva una cubierta de al menos dos capas formadas pirolíticamente, caracterizadas por la presencia en el revestimiento de una capa conductora o semiconductora que tiene un espesor en el intervalo de 15 a 500 nm y formada de un material que comprende un óxido metálico que contiene un adulterante en una cantidad de desde 1 a 100 moles por 100 moles del óxido metálico, dicho óxido metálico se selecciona de uno o más de trióxido de tungsteno (WO{sub,3}), trióxido de molibdeno (MoO{sub,3}, pentóxido de niobio (Nb{sub,2}O{sub,5}), pentóxido de tántalo (Ta{sub,2}O{sub,5}), pentóxido de vanadio (V{sub,2}O{sub,5}) y dióxido de vanadio (VO{sub,2}), mediante el cual la hoja así recubierta tiene un tinte neutro o azul en transmisión y en reflexión, una transmitancia luminosa (TL) que está en el intervalo de 30 a 85% y una selectividad mayor que 1, preferiblemente mayor que 1,2.

Description

Hojas de vidrio para control solar.
La presente invención hace referencia a hojas de vidrio para control solar y a un procedimiento para su preparación.
Las hojas transparentes para control solar tienen una gran demanda como paneles de acristalamiento exteriores de edificios. Además de su atractivo estético, ofrecen ventajas como la protección contra el calentamiento y el deslumbramiento provocado por la radiación solar. En el caso de las hojas de vidrio para las ventanas de automóviles existe una demanda similar.
Las hojas para control solar, generalmente de vidrio sodocálcico, llevan un revestimiento que proporciona las propiedades específicas necesarias. Pueden utilizarse en una sola hoja o en un panel de acristalamiento que incluya otras hojas de vidrio y posiblemente también materiales laminados no vítreos. El requisito de control solar es que la hoja, o el panel del cual forma parte, no deje pasar una proporción demasiado grande de la radicación solar incidente total, por lo que proporcionará una resistencia al sobrecalentamiento del edificio o del interior del vehículo.
Las propiedades de la hoja de vidrio revestida tratadas en este documento se basan en las definiciones estándar de la International Commission on Illumination - Commission Internationale de l'Eclairage ("CIE").
La "transmitancia luminosa" (TL) es el flujo luminoso transmitido a través de la hoja como porcentaje del flujo luminoso incidente.
La "reflectancia luminosa" (RL) es el flujo luminoso reflejado en la hoja como porcentaje del flujo luminoso incidente. En el caso de una hoja con un revestimiento en un lado, la reflectancia puede medirse en el lado revestido (RLc) o en el lado de vidrio no revestido (RLg).
La transmisión de la radiación solar incidente total puede expresarse como el "factor solar" (FS) de la hoja, que, tal y como se utiliza en la presente invención, significa la suma de la energía total directamente transmitida y la energía que se absorbe y vuelve a radiar en el lado opuesto a la fuente de energía, como porcentaje de la energía radiante total incidente en la hoja.
La "selectividad" de la hoja es la relación de la transmitancia luminosa respecto al factor solar (TUFS).
Se conocen varias técnicas para formar revestimientos en hojas de vidrio, tales como la pirólisis. Generalmente la pirólisis presenta la ventaja de producir un revestimiento duro con propiedades duraderas resistentes a la abrasión y la corrosión. Esto se cree que es debido en particular a que la hoja de vidrio está caliente durante la deposición del material de revestimiento. La pirólisis también suele ser más barata que los procedimientos de revestimiento alternativos tales como la pulverización, especialmente por lo que a la inversión en la planta se refiere.
Se ha propuesto una amplia gama de materiales de revestimiento para modificar las propiedades ópticas de los paneles de acristalamiento.
El óxido de estaño (SnO_{2}) se ha utilizado ampliamente, generalmente junto con otros materiales tales como otros óxidos metálicos.
Nuestra patente británica GB 1455148 es uno de los primeros ejemplos de un procedimiento para formar pirolíticamente un revestimiento de uno o varios óxidos (por ejemplo, SnO_{2}, CO_{3}O_{4}, Cr_{2}O_{3}, Sb_{2}O_{3}, SiO_{2}, TiO_{2} o ZrO_{2}) en una hoja de vidrio, principalmente mediante rociado de compuestos de un metal o silicio, a fin de modificar su transmisión y/o reflexión de la luz.
La patente americana US 5385751 hace referencia a la formación de una película dopada con flúor de óxido de tungsteno en una superficie de sustrato de vidrio a fin de mejorar las propiedades solares y ópticas del vidrio. El óxido dopado se obtiene por reacción en dicha superficie de un alcóxido de tungsteno, un compuesto que contiene oxígeno y un compuesto que contiene flúor.
La patente WO 98/11031 hace referencia a vidrio revestido de control solar en el que el revestimiento comprende una capa de absorción de calor de un óxido de metal tal como óxido de cromo, óxido de cobalto, óxido de hierro, óxido de molibdeno, óxido de niobio, óxido de vanadio u óxido de tungsteno dopado o no dopado, y una capa de baja emisividad de un compuesto metálico, por ejemplo, un óxido metálico semiconductor tal como óxido de estaño dopado u óxido de indio dopado.
La patente WO 98/11031 revela la combinación de una capa de absorción de calor (por ejemplo, WO_{3} dopado) y una capa de baja emisividad expuesta de un óxido metálico (por ejemplo, ITO) en un panel de acristalamiento.
La patente GB 2114965 hace referencia a películas de óxido de vanadio termocrómicas que pueden doparse o no para reducir su temperatura de transición.
La patente US 5256485 hace referencia al uso de una subcapa de óxido de aluminio dopada con vanadio junto con una sobrecapa de óxido de estaño dopada con flúor.
Es un objetivo de la presente invención proporcionar una hoja de vidrio revestido formada pirolíticamente con propiedades significativas de protección solar.
Hemos descubierto que este y otros objetivos útiles pueden conseguirse aplicando a la hoja un revestimiento pirolítico que incluye un capa conductora o semiconductora de un espesor definido de determinados óxidos metálicos que contienen un material dopante conductor. (Las referencias en este documento a los límites numéricos de los espesores de capa son en todos los casos a espesores geométricos.)
En consecuencia, según la presente invención, se proporciona una hoja de vidrio transparente según la reivindicación 1, la reivindicación 2 o la reivindicación 4.
La invención también proporciona un procedimiento para producir una hoja de vidrio transparente según la reivindicación 28 o la reivindicación 29.
Una ventaja en particular de la capa conductora o semiconductora definida anteriormente es que aporta a la hoja revestida una mayor reflexión en la gama próxima al infrarrojo que en la visible, por lo que mejora la protección solar y al mismo tiempo mantiene una transmisión luminosa alta.
El revestimiento comprende una capa, generalmente transparente, que interfiere con la capa conductora o semiconductora para conferir a la hoja de vidrio revestida un tono neutro o azul en la transmisión y la reflexión.
El óxido de tungsteno dopado es un material preferido para la capa conductora o semiconductora. Entre sus propiedades útiles se encuentra una emisividad (\varepsilon) baja por naturaleza, es decir, la relación de la energía emitida por una superficie dada a una temperatura determinada respecto a la de un emisor perfecto (un cuerpo negro con emisividad de 1,0) a la misma temperatura.
El óxido de metal está formado a partir de un precursor adecuado. Por ejemplo, para el óxido de molibdeno los precursores adecuados incluyen carbonilo de molibdeno [Mo(CO)_{6}], acetil acetonato de molibdeno, un cloruro de molibdeno (MoCl_{3} o MoCl_{5}), fluoruro de molibdeno (MoF_{6}), un compuesto de molibdeno orgánico tal como MoO_{2}(2,2,6,6-tetrametilheptano-3,5-diona)_{2}, y un oxicloruro de molibdeno (MoO_{2}Cl_{2} o MoOCl_{4}). Para el óxido de vanadio, un precursor adecuado es acetil acetonato de vanadio. Para el óxido de niobio, los precursores adecuados incluyen etóxido de niobio [Nb(OC_{2}H_{5})_{5}], cloruro de niobio (NbCl_{5}), fluoruro de niobio (NbF_{5}) y dipivaloil metanato cloruro de niobio (Nb(2,2,6,6-tetrametilheptano-3,5-diona)_{2}Cl_{3}). Para formar óxido de tántalo, los precursores adecuados son fluoruro o cloruro de tántalo (TaF_{5} o TaCl_{5}) o un tántalo de alcoxi [por ejemplo, Ta(OR)_{5} donde R = CH_{3}, C_{2}H_{5}, o C_{4}H_{9}]. Para formar un óxido de tungsteno, los precursores adecuados incluyen hexacloruro de tungsteno (WCl_{6}), oxitetracloruro de tungsteno (WOCl_{4}), carbonilo de tungsteno [W(CO)_{6}], ciclopentadienil cloruro de tungsteno [W(C_{5}H_{5})_{2}Cl_{2}], fluoruro de tungsteno (WF_{6}) o un etóxido de tungsteno [W(OC_{2}H_{5})_{5} o W(OC_{2}H_{5})_{6}].
El dopante proporciona las propiedades conductoras de la capa conductora o semiconductora. El dopante está presente en la capa en una cantidad de 1 a 100 moles por cien moles del óxido metálico, preferiblemente de 5 a 100 moles por cien moles del óxido metálico, para garantizar el carácter conductor o semiconductor en la capa de óxido metálico. Los dopantes preferidos son el hidrógeno, el litio, el sodio, el potasio y el flúor. Para una capa basada en WO_{3}, la cantidad preferida de un dopante de hidrógeno, litio, sodio o potasio está comprendida entre 20 y 100 moles por 100 moles del óxido de metal, mientras que para un dopante de flúor la cantidad preferida está comprendida entre 10 y 40 moles por 100 moles de W. Para una capa de MoO_{3}, la cantidad preferida de un dopante de sodio está comprendida entre 20 y 100 moles por 100 moles de Mo y la cantidad preferida de un dopante de flúor está comprendida entre 10 y 30 moles por 100 moles de Mo. Para una capa de Nb_{2}O_{3} o Ta_{2}O_{5}, la cantidad preferida de un dopante de flúor está comprendida entre 1 y 5 por 100 moles de Nb o Ta.
El dopante puede aplicarse después de la formación del óxido de metal y dejarse difundir en el óxido de metal. Según una opción, el óxido de metal se forma en la cámara de flotación de una línea de producción de vidrio plano y el hidrógeno que actuará como dopante se proporciona mediante la atmósfera de hidrógeno en dicha cámara.
Con dopante de hidrógeno, litio, sodio o potasio la capa es conductora. El espesor de la capa con estos dopantes está comprendido preferiblemente entre 15 y 100 nm, mientras que con un dopante de flúor la capa es semiconductora y su espesor está comprendido preferiblemente entre 100 y 500 nm.
En una realización preferida de la invención, el revestimiento incluye una capa transparente como subcapa entre la hoja de vidrio y la capa conductora o semiconductora. Los materiales adecuados para esta subcapa son uno o varios de los óxidos, oxicarburos, nitruros y oxinitruros, tales como Al_{2}O_{3}, SiO_{2}, SiO_{x} (0<x<2), SnO_{2}, SnO_{2}/Sb (0,02<Sb/Sn<0,5), SnO_{2}/F (0,01<F<0,03), TiO_{2}, ZrO_{2}, SiO_{x}C_{y}, AIN, Si_{3}N_{4}, AIN_{x}O_{y}, SiN_{x}O_{y}.
Preferiblemente, el material de la subcapa es un óxido. Las capas de óxido pueden fabricarse fácilmente mediante pirólisis y sus propiedades son conocidas y estables.
Preferiblemente, el material de la subcapa es un material dieléctrico. Esto garantiza una buena transparencia y permite conseguir las propiedades ópticas necesarias para la hoja de vidrio revestida. Los materiales preferidos son SnO_{2} y TiO_{2}.
El espesor preferido de esta capa está comprendido entre 15 y 90 nm. Si el revestimiento incluye solo la subcapa y la capa conductora o semiconductora, es decir, no hay ninguna otra capa, el espesor preferido de la subcapa está comprendido entre 22 y 90 nm y el espesor preferido de la capa conductora o semiconductora está comprendido entre 20 y 60 nm.
La subcapa ofrece varias ventajas. Ayuda a neutralizar el matiz del revestimiento en la reflexión. Permite reducir la reflexión total del revestimiento en la gama visible, por lo que mejora la selectividad. Puede proporcionar una barrera contra la difusión de iones de sodio desde el vidrio hacia el revestimiento, lo que resulta especialmente deseable para prevenir la turbidez. La turbidez puede aparecer con algunos precursores que contienen cloro, especialmente cuando se forman capas de revestimiento espesas a partir de dichos precursores.
En otra realización preferida de la invención, el revestimiento incluye una capa transparente como sobrecapa situada encima de la capa conductora o semiconductora en el lado opuesto de la hoja de vidrio. Dicha sobrecapa puede proteger la capa conductora o semiconductora cuando está expuesta a la atmósfera.
Los materiales adecuados para la sobrecapa son uno o varios de los óxidos, nitruros y oxinitruros, tales como Al_{2}O_{3}, SiO_{2}, SnO_{2}, SnO_{2}/Sb (0,02<Sb/Sn<0,5), SnO_{2}/F (0,01<F/Sn<0,03), TiO_{2}, ZrO_{2}, Si_{3}N_{4} y SiN_{x}O_{y}.
Preferiblemente, el material de la sobrecapa es un óxido. Las capas de óxido pueden fabricarse fácilmente mediante pirólisis y sus propiedades son conocidas y estables.
Preferiblemente, el material de la sobrecapa es un material dieléctrico. Esto garantiza una buena transparencia y permite conseguir las propiedades ópticas necesarias para la hoja de vidrio revestida. Los materiales preferidos son SnO_{2} y TiO_{2} ya que facilitan la protección y neutralización del revestimiento.
El espesor preferido de la sobrecapa está comprendido entre 5 y 60 nm. Este margen de espesor permite obtener las propiedades ópticas necesarias, es decir, un tono neutro o azul en la transmisión y la reflexión. Si el revestimiento incluye solo la capa conductora o semiconductora y la sobrecapa, es decir, no hay ninguna otra capa, el espesor preferido de la capa conductora o semiconductora está comprendido entre 15 y 500 nm y el espesor preferido de la sobrecapa está comprendido entre 10 y 60 nm.
Los precursores adecuados para el material utilizado como subcapa o sobrecapa incluyen los cloruros, por ejemplo, AlCl_{3}, SiCl_{4}, SnCl_{4} y TiCl_{4}, y compuestos organometálicos tales como monobutil tricloro estaño ("MBTC").
La sobrecapa sirve de barrera para la difusión de oxígeno atmosférico hacia el revestimiento en el caso de tratamiento térmico subsiguiente o doblado del producto. Esta capa también sirve para neutralizar el matiz del revestimiento en la reflexión y para minimizar la reflexión del producto acabado en la gama visible. También sirve como barrera para la difusión de dopante desde la capa conductora o semiconductora y, por lo tanto, contribuye a preservar el carácter conductor de esta capa.
En la realización más preferida de la invención, el revestimiento comprende tanto una subcapa como una sobrecapa. El material de la subcapa no tiene que ser esencialmente el mismo que el de la sobrecapa, pero el uso del mismo material puede ser lo más adecuado por lo que a la fabricación del revestimiento se refiere. En un revestimiento tripe de subcapa, capa conductora o semiconductora y sobrecapa, el espesor preferido de dichas capas se encuentra entre 15 y 60 nm, 15 y 500 nm y 5 y 60 nm respectivamente. Los materiales preferidos para la subcapa y la sobrecapa son materiales de óxido dieléctricos transparentes.
La subcapa y la sobrecapa en un revestimiento triple como se ha mencionado anteriormente están preferiblemente libres de dopante. Esto es para garantizar que el revestimiento tiene secuencialmente una capa no conductora, una capa conductora o semiconductora y otra capa no conductora. La interferencia entre las capas no conductoras y conductora respectivas contribuye a conseguir una combinación de alta transmitancia luminosa y baja reflectancia luminosa en el espectro visible.
El espesor de las capas respectivas en el revestimiento, sus índices refractivos y los materiales específicos utilizados para las capas afectan a las propiedades ópticas de la hoja revestida. El espesor óptimo específico varía pues dentro de los márgenes mencionados anteriormente de acuerdo con los materiales de la capa y las propiedades ópticas de las hojas revestidas que se pretenden fabricar.
Un revestimiento de acuerdo con la invención, especialmente un revestimiento que comprende la capa conductora o semiconductora y también una sobrecapa, puede proporcionar una hoja revestida con la ventaja concreta de tener gran capacidad de soportar el doblado y un tratamiento térmico tal como el templado. Esta propiedad es especialmente útil en la producción de ventanas de vehículos.
\newpage
Las hojas de vidrio revestidas según la invención tienen una selectividad superior a 1, es decir, una transmisión luminosa (TL) superior a su factor solar (FS). La selectividad preferida es superior a 1,2.
Los matices neutros o azules conseguidos para las hojas según la invención se representan mediante los valores de Hunter a y b en la transmisión de -10 < a < 3 y -10 < b < 3 y en la reflexión de -10 < a < 3 y -10 \leq b < 3.
Preferiblemente, el valor de Hunter a en la reflexión y en la transmisión es inferior o igual a cero con el fin de evitar un componente rojo en el matiz. Por lo tanto, el valor de Hunter a en la transmisión y en la reflexión es: -10 < a \leq 0. Preferiblemente, el valor de Hunter a en la reflexión y en la transmisión es superior a -6 (-6 < a) con el fin de que el componente verde del matiz sea bajo. Más preferiblemente, el valor de Hunter a en la reflexión y en la transmisión se encuentra entre -6 y 0 (-6 < a \leq 0) con el fin de que los componentes verde y amarillo del matiz sean bajos.
Preferiblemente, el valor de Hunter b en la reflexión y en la transmisión se encuentra entre -10 < b < 0 con el fin de evitar un componente amarillo en el matiz.
La producción de los revestimientos de la invención por pirólisis proporciona una resistencia mecánica superior que la de los revestimientos producidos por otros métodos.
La aplicación de un revestimiento pirolítico al vidrio plano se consigue mejor cuando el vidrio se acaba de formar, por ejemplo, cuando sale de la línea de vidrio en flotación en forma de cinta de vidrio caliente o incluso mejor dentro de la cámara de flotación. Esto comporta ventajas económicas ya que evita la necesidad de recalentar el vidrio para que tengan lugar las reacciones pirolíticas y mejora la calidad del revestimiento, ya que la superficie del vidrio recién formado se encuentra en una condición prístina.
La materia prima de las capas de revestimiento respectivas puede aplicarse a la hoja de vidrio mediante deposición química en fase vapor (CVD o "pirólisis con vapor"), por rociado líquido ("pirólisis líquida") o mediante una combinación de CVD y rociado. Para formar las capas de revestimiento por CVD, la materia prima se aporta generalmente mediante una primera boquilla para que entre en contacto con la hoja de vidrio. Si la materia prima comprende uno o más cloruros que son líquidos a temperatura ambiente, este se vaporiza en una corriente calentada de gas portador anhidro tal como nitrógeno. La vaporización se facilita mediante la atomización de estos reactivos en el gas portador. Para producir los óxidos, el reactivo, por ejemplo un cloruro, se lleva en presencia de un compuesto que contenga oxígeno, por ejemplo, vapor de agua, ácido acético, isopropanol o acetato de etilo, que preferiblemente se conduce a través de una segunda boquilla.
Los procedimientos y dispositivos para formar dicho revestimiento se describen, por ejemplo, en la patente francesa nº 2348166 o en la solicitud de patente francesa nº 2 648 453 A1. Estos procedimientos y dispositivos llevan a la formación de revestimientos especialmente resistentes con propiedades ópticas ventajosas.
Para formar el revestimiento mediante un procedimiento por rociado, la hoja de vidrio puede ponerse en contacto con un rociado de gotitas de líquido que contengan la materia prima. El rociado se aplica mediante una o varias boquillas de rociado dispuestas para seguir un recorrido que proporcione el revestimiento en toda la anchura de la hoja o cinta a revestir.
El procedimiento preferido de deposición de las capas de revestimiento de la invención es CVD. Esto ofrece ventajas respecto a los líquidos rociados ya que proporciona revestimientos de espesor y composición regulares, siendo esta uniformidad del revestimiento importante cuando el producto deber abarcar una gran área. Un revestimiento por rociado también tiene tendencia a retener las trazas de las gotitas rociadas y del recorrido de la pistola de rociado. Además, la pirólisis de los líquidos rociados está esencialmente limitada a la fabricación de revestimientos de óxido, tales como SnO_{2} y TiO_{2}. También resulta difícil hacer revestimientos multicapa con líquidos rociados porque cada deposición de revestimiento produce un enfriamiento significativo de la hoja de vidrio. Además, la CVD es más económica por lo que a materia prima se refiere, de manera que se generan menos residuos.
Sin embargo, a pesar de los inconvenientes del procedimiento de rociado, generalmente suele adoptarse porque resulta práctico y su aplicación económica.
Una hoja de vidrio revestida de acuerdo con la invención puede utilizarse como panel de acristalamiento simple de una sola hoja o alternativamente en un panel compuesto de varias láminas o acristalamientos. En los paneles compuestos de varias láminas o acristalamientos es preferible que sola una de las hojas constitutivas lleve el revestimiento.
A continuación se describirá la invención más detalladamente en relación con los ejemplos siguientes no limitativos y la tabla adjunta. Las iniciales de los encabezados de la tabla (TL, RLc, etc.) tienen los significados descritos anteriormente.
Ejemplos comparativos 1 a 4 (C1 a C4)
Se revistió una cinta de vidrio sodocálcico claro dentro de la cámara de flotación de una línea de producción de vidrio por flotación mediante pirólisis CVD utilizando una unidad de revestimiento que comprendía dos boquillas sucesivas. La cinta tenía un espesor de 6 mm, un temperatura de aproximadamente 700ºC y se desplazaba a una velocidad de 7 metros por minuto. Se inyectaron gas de fluoruro de tungsteno (WF_{6}) y vapor de sodio en una corriente de gas de nitrógeno anhidro como gas portador y se introdujeron con el gas portador aplicado a la cinta a través de la primera boquilla, con el fin de introducir dopante en el óxido de metal.
También se inyectó ácido acético a aproximadamente 250ºC en un gas portador, en este caso aire calentado a aproximadamente 250ºC, y se introdujo a través de la segunda boquilla para que reaccionara con el WF_{6} y formara un revestimiento de WO_{3} en la superficie de la cinta. Este procedimiento de revestimiento se prolongó hasta que se hubo aplicado un espesor definido del revestimiento de WO_{3}, siendo el espesor distinto para los ejemplos comparativos, tal y como se muestra en la tabla adjunta. Se introdujo dopante de sodio en el revestimiento mediante el vapor de sodio (como alternativa, el sodio se podría proporcionar desde el propio vidrio) con una proporción de sodio en relación con el WO_{3} de 94 por ciento molar (es decir, 94 moles de dopante por 100 moles de WO_{3}), por lo que se confirió un carácter conductor metálico a la capa de óxido de tungsteno.
La cinta se enfrió y se cortó en hojas. Se examinaron las propiedades ópticas de una hoja de muestra revestida según los ejemplos respectivos: transmitancia luminosa (TL), reflectancia luminosa en el lado revestido de la hoja (RLc), valores de Hunter a y b tanto en la transmisión como en la reflexión y el factor solar (FS). También se anotó la selectividad (TL/FS). Los resultados se muestran en la tabla adjunta.
Ejemplos 1 y 2
Se prepararon hojas de muestra del vidrio revestido como se describe en los ejemplos comparativos 1 a 3, pero con la diferencia de que se aplicaron subcapas de óxido estánnico (SnO_{2}) [Ejemplo 1] y dióxido de titanio (TiO_{2}) [Ejemplo 2], respectivamente, a la cinta antes de la capa de WO_{3}. La subcapa se aplicó mediante pirólisis CVD mediante una unidad de revestimiento que se encontraba aguas arriba de la unidad de revestimiento del WO_{3}.
Una solución precursora en gas de nitrógeno anhidro a aproximadamente 250ºC como gas portador se introdujo con el gas portador mediante la boquilla. Los precursores, respectivamente MBTC y tetracloruro de titanio, reaccionaron para crear espesores de óxido depositado como se muestra en la tabla adjunta. La capa de WO_{3} se depositó a partir de WF_{6} y vapor de sodio. Después de la aplicación de la capa de WO_{3}, se enfrió la cinta y se cortó en hojas, y se examinaron sus propiedades ópticas. Los resultados de nuevo se muestran en la tabla adjunta.
Ejemplos 3 y 4
Se prepararon hojas de muestra de vidrio revestido como se describe en los ejemplos comparativos 1 a 3, pero en este caso con la diferencia de que se aplicó una sobrecapa a la capa de WO_{3} dopada. La sobrecapa del ejemplo 3 era de dióxido de titanio (TiO_{2}) y la del ejemplo 4 era de óxido estánnico (SnO_{2}). Se aplicó mediante pirólisis CVD utilizando una unidad de revestimiento que se encontraba aguas abajo de la unidad de revestimiento del WO_{3}.
Los precursores de los óxidos de la sobrecapa, respectivamente tetracloruro de titanio y MBTC, reaccionaron con vapor supercalentado para crear espesores de la capa depositados en el WO_{3} dopado como se muestra en la tabla adjunta. Después de la aplicación de la sobrecapa, la cinta se enfrió y se cortó en hojas. Sus propiedades ópticas se muestran en la tabla adjunta.
Ejemplos 5 a 11
Se volvieron a preparar hojas de muestra de vidrio revestido según se describe en los ejemplos comparativos 1 a 3, pero incluyendo también la aplicación de una subcapa tal y como se describe en los ejemplos 1 y 2 y una sobrecapa tal y como se describe en los ejemplos 3 y 4.
En los ejemplos 9 a 11, en lugar de WO_{3}, los óxidos de metal de la capa conductora fueron respectivamente trióxido de molibdeno (MoO_{3}), pentóxido de niobio (Nb_{2}O_{5}) y pentóxido de tántalo (Ta_{2}O_{5}). En los ejemplos 10 a 11, en lugar de sodio, el dopante para las capas conductoras fue flúor introducido mediante ácido fluorhídrico (HF) o hexafluoroetano (C_{2}F_{6}). Los materiales específicos utilizados, el espesor de las capas respectivas, las proporciones de dopante en las capas conductoras y las propiedades ópticas de las hojas del producto se especifican en la tabla.
1

Claims (36)

1. Hoja de vidrio transparente que lleva un revestimiento de al menos dos capas formadas pirolíticamente, teniendo la hoja así revestida un tono neutro o azul en la transmisión y la reflexión,
una transmitancia luminosa (TL) comprendida entre 30 y 85% y
una selectividad superior a 1
comprendiendo las al menos dos capas formadas pirolíticamente, en orden desde la hoja de vidrio:
1) una capa conductora o semiconductora con un espesor comprendido entre 15 y 500 nm y formada de un material que comprende un óxido de metal que contiene un dopante en una cantidad comprendida entre 1 y 100 moles por 100 moles del óxido de metal, estando dicho óxido de metal seleccionado entre uno o varios de los compuestos trióxido de tungsteno (WO_{3}), trióxido de molibdeno (MoO_{3}), pentóxido de niobio (Nb_{2}O_{5}), pentóxido de tántalo (Ta_{2}O_{5}), pentóxido de vanadio (V_{2}O_{5}) y dióxido de vanadio (VO_{2}); y
2) una sobrecapa con un espesor comprendido entre 5 y 60 nm.
2. Hoja de vidrio transparente que lleva un revestimiento de al menos dos capas formadas pirolíticamente, teniendo la hoja así revestida un tono neutro o azul en la transmisión y la reflexión,
una transmitancia luminosa (TL) comprendida entre 30 y 85% y
una selectividad superior a 1
comprendiendo las al menos dos capas formadas pirolíticamente, en orden desde la hoja de vidrio:
1) una capa conductora o semiconductora con un espesor comprendido entre 15 y 500 nm y formada de un material que comprende un óxido de metal que contiene un dopante en una cantidad comprendida entre 1 y 100 moles por 100 moles del óxido de metal, estando dicho óxido de metal seleccionado entre uno o varios de los compuestos trióxido de tungsteno (WO_{3}), trióxido de molibdeno (MoO_{3}), pentóxido de niobio (Nb_{2}O_{5}), pentóxido de tántalo (Ta_{2}O_{5}), pentóxido de vanadio (V_{2}O_{5}) y dióxido de vanadio (VO_{2}); y
2) una sobrecapa no conductora.
3. Hoja revestida según la reivindicación 2, en la que la sobrecapa no conductora tiene un espesor comprendido entre 5 y 60 nm.
4. Hoja de vidrio transparente que lleva un revestimiento de al menos dos capas formadas pirolíticamente, teniendo la hoja así revestida un tono neutro o azul en la transmisión y la reflexión,
una transmitancia luminosa (TL) comprendida entre 30 y 85% y
una selectividad superior a 1
comprendiendo esencialmente las dos capas formadas pirolíticamente, en orden desde la hoja de vidrio:
1) una subcapa;
2) una capa conductora o semiconductora, expuesta al aire, con un espesor comprendido entre 15 y 500 nm y formada de un material que comprende un óxido de metal que contiene un dopante en una cantidad comprendida entre 1 y 100 moles por 100 moles del óxido de metal, comprendiendo dicho óxido de metal trióxido de tungsteno (WO_{3}).
5. Hoja revestida según cualquiera de las reivindicaciones anteriores, donde el dopante se selecciona entre hidrógeno, litio, sodio, potasio y flúor.
6. Hoja revestida según cualquiera de las reivindicaciones anteriores, donde la cantidad de dopante está comprendida entre 5 y 100 moles por 100 moles del óxido de metal.
7. Hoja revestida según cualquiera de las reivindicaciones anteriores, donde la cantidad de dopante está comprendida entre 20 y 100 moles por 100 moles del óxido de metal.
8. Hoja revestida según cualquiera de las reivindicaciones anteriores, en la que la capa conductora o semiconductora es una capa conductora, donde el dopante se selecciona entre hidrógeno, litio, sodio y potasio y donde el espesor de la capa conductora está comprendido entre 15 y 100 nm.
9. Hoja revestida según cualquiera de las reivindicaciones 1 a 7, en la que la capa conductora o semiconductora es una capa semiconductora, donde el dopante es flúor y donde el espesor de la capa semiconductora está comprendido entre 100 y 500 nm.
10. Hoja revestida según cualquiera de las reivindicaciones anteriores, en la que el revestimiento incluye una capa transparente como subcapa entre la hoja de vidrio y la capa conductora o semiconductora.
11. Hoja revestida según la reivindicación 10, en la que el material de la subcapa se selecciona entre uno o varios de los óxidos, oxicarburos, nitruros y oxinitruros tales como Al_{2}O_{3}, SiO_{2}, SiO_{x} (0<x<2), SnO_{2}, SnO_{2}/Sb (0,02<Sb/Sn<0,5), SnO_{2}/F (0,01<F/Sn<0,03), TiO_{2}, ZrO_{2}, SiO_{x}C_{y}, AIN, Si_{3}N_{4}, AIN_{x}O_{y}, SiN_{x}O_{y}.
12. Hoja revestida según la reivindicación 10 o la reivindicación 11, en la que el material de la subcapa es un óxido.
13. Hoja revestida según cualquiera de las reivindicaciones 10 a 12, en la que el material de la subcapa es un material dieléctrico.
14. Hoja revestida según cualquiera de las reivindicaciones 10 a 13, en la que el espesor de la subcapa está comprendido entre 15 y 90 nm.
15. Hoja revestida según cualquiera de las reivindicaciones 4 a 14, dependiente de la reivindicación 4, en la que el espesor de la subcapa está comprendido entre 22 y 90 nm.
16. Hoja revestida según la reivindicación 15, en la que el espesor de la capa conductora o semiconductora está comprendido entre 20 y 60 nm.
17. Hoja revestida según cualquiera de las reivindicaciones 1 a 3 o cualquiera de las reivindicaciones 5 a 16, dependientes de la reivindicación 1 o la reivindicación 2, en la que el material de la sobrecapa se selecciona entre uno o varios de los óxidos, nitruros y oxinitruros tales como Al_{2}O_{3}, SiO_{2}, SnO_{2}, SnO_{2}/Sb (0,02<Sb/Sn<0,5), SnO_{2}/F (0,01<F/Sn<0,03), TiO_{2}, ZrO_{2}, Si_{3}N_{4} y SiN_{x}O_{y}.
18. Hoja revestida según cualquiera de las reivindicaciones 1 a 3 o cualquiera de las reivindicaciones 5 a 17, dependientes de la reivindicación 1 o la reivindicación 2, en la que el material de la sobrecapa es un óxido.
19. Hoja revestida según cualquiera de las reivindicaciones 1 a 3 o cualquiera de las reivindicaciones 5 a 18, dependientes de la reivindicación 1 o la reivindicación 2, en la que el material de la sobrecapa es un material dieléctrico.
20. Hoja revestida según cualquiera de las reivindicaciones 1 a 3 o cualquiera de las reivindicaciones 5 a 9, dependientes de la reivindicación 1 o la reivindicación 2, o según cualquiera de las reivindicaciones 17 a 19, dependientes de la reivindicación 1 o la reivindicación 2, en la que el espesor de la sobrecapa está comprendido entre 5 y 60 nm.
21. Hoja revestida según cualquiera de las reivindicaciones 1 a 3 o cualquiera de las reivindicaciones 5 a 20, dependientes de la reivindicación 1 o la reivindicación 2, donde la hoja revestida consta esencialmente de la hoja de vidrio transparente, la capa conductora o semiconductora y la sobrecapa.
22. Hoja revestida según cualquiera de las reivindicaciones 1 a 3 o cualquiera de las reivindicaciones 5 a 21, dependientes de la reivindicación 1 o la reivindicación 2, donde la hoja revestida consta esencialmente de la hoja de vidrio transparente, una subcapa, la capa conductora o semiconductora y la sobrecapa.
23. Hoja revestida según la reivindicación 22, en la que el espesor de la subcapa está comprendido entre 15 y 60 nm, y el espesor de la sobrecapa está comprendido entre 5 y 60 nm.
24. Hoja revestida según cualquiera de las reivindicaciones anteriores, en la que la selectividad es superior a 1,2.
25. Panel de acristalamiento que comprende una hoja de vidrio transparente revestida según cualquiera de las reivindicaciones anteriores.
26. Panel de acristalamiento según la reivindicación 25, para ser utilizado como panel de acristalamiento para edificios.
27. Panel de acristalamiento según la reivindicación 25, para ser utilizado como ventana para vehículos.
28. Procedimiento de fabricación de una hoja de vidrio transparente que lleva un revestimiento de al menos dos capas formadas pirolíticamente, teniendo la hoja así revestida
un tono neutro o azul en la transmisión y la reflexión,
una transmitancia luminosa (TL) comprendida entre 30 y 85% y
una selectividad superior a 1
comprendiendo al menos las etapas siguientes:
1) deposición de una capa conductora o semiconductora con un espesor comprendido entre 15 y 500 nm y formada de un material que comprende un óxido de metal que contiene un dopante en una cantidad comprendida entre 1 y 100 moles por 100 moles del óxido de metal, estando dicho óxido de metal seleccionado entre uno o varios de los compuestos trióxido de tungsteno (WO_{3}), trióxido de molibdeno (MoO_{3}), pentóxido de niobio (Nb_{2}O_{5}), pentóxido de tántalo (Ta_{2}O_{5}), pentóxido de vanadio (V_{2}O_{5}) y dióxido de vanadio (VO_{2}); y
2) deposición subsiguiente de una sobrecapa con un espesor comprendido entre 5 y 60 nm.
29. Procedimiento de fabricación de una hoja de vidrio transparente que lleva un revestimiento de al menos dos capas formadas pirolíticamente, teniendo la hoja así revestida
un tono neutro o azul en la transmisión y la reflexión,
una transmitancia luminosa (TL) comprendida entre 30 y 85% y
una selectividad superior a 1
comprendiendo al menos las etapas siguientes:
1) deposición de una capa conductora o semiconductora con un espesor comprendido entre 15 y 500 nm y formada de un material que comprende un óxido de metal que contiene un dopante en una cantidad comprendida entre 1 y 100 moles por 100 moles del óxido de metal, estando dicho óxido de metal seleccionado entre uno o varios de los compuestos trióxido de tungsteno (WO_{3}), trióxido de molibdeno (MoO_{3}), pentóxido de niobio (Nb_{2}O_{5}), pentóxido de tántalo (Ta_{2}O_{5}), pentóxido de vanadio (V_{2}O_{5}) y dióxido de vanadio (VO_{2}); y
2) deposición subsiguiente de una sobrecapa no conductora.
30. Procedimiento según la reivindicación 28 ó 29, en el que el dopante se aplica después de la formación del óxido de metal y se deja difundir en el óxido de metal.
31. Procedimiento según cualquiera de las reivindicaciones 28 a 30, en el que el óxido de metal se forma en la cámara de flotación de una línea de producción de vidrio plano y el hidrógeno que actuará como dopante se proporciona mediante una atmósfera de hidrógeno en dicha cámara.
32. Procedimiento según cualquiera de las reivindicaciones 28 a 31, en el que el revestimiento se aplica a una cinta de vidrio caliente acabado de formar en una línea de producción de vidrio en flotación o en la salida de la misma.
33. Procedimiento según cualquiera de las reivindicaciones 28 a 32, en el que las capas de revestimiento respectivas se aplican a la hoja de vidrio mediante deposición química en fase vapor (CVD).
34. Procedimiento según cualquiera de las reivindicaciones 28 a 33, en el que las capas de revestimiento respectivas se aplican a la hoja de vidrio mediante rociado líquido.
35. Procedimiento según cualquiera de las reivindicaciones 28 a 34, en el que las capas de revestimiento respectivas se aplican a la hoja de vidrio mediante una combinación de CVD y rociado.
36. Hoja revestida según cualquiera de las reivindicaciones 28 a 35, donde el procedimiento comprende una etapa adicional de deposición de al menos una capa transparente como subcapa entre la hoja de vidrio y la capa conductora o semiconductora.
ES99119664T 1998-10-13 1999-10-04 Hojas de vidrio para control solar. Expired - Lifetime ES2205665T3 (es)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB9822338 1998-10-13
GBGB9822338.1A GB9822338D0 (en) 1998-10-13 1998-10-13 Solar control coated glass

Publications (1)

Publication Number Publication Date
ES2205665T3 true ES2205665T3 (es) 2004-05-01

Family

ID=10840501

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
ES99119664T Expired - Lifetime ES2205665T3 (es) 1998-10-13 1999-10-04 Hojas de vidrio para control solar.

Country Status (13)

Country Link
US (1) US6416890B1 (es)
EP (1) EP0994081B1 (es)
JP (1) JP2000119045A (es)
AT (1) ATE247078T1 (es)
CA (1) CA2285160A1 (es)
DE (1) DE69910322T2 (es)
ES (1) ES2205665T3 (es)
GB (1) GB9822338D0 (es)
HU (1) HU223558B1 (es)
ID (1) ID23640A (es)
IL (1) IL132308A0 (es)
RU (1) RU2233812C2 (es)
TR (1) TR199902539A3 (es)

Families Citing this family (63)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6596398B1 (en) * 1998-08-21 2003-07-22 Atofina Chemicals, Inc. Solar control coated glass
EP1013619A1 (fr) * 1998-12-22 2000-06-28 Glaverbel Substrat en verre coloré portant un revêtement
LU90420B1 (fr) * 1999-07-20 2001-01-22 Glaverbel Couche pyrolitique d'oxynitrure d'aluminium et vitrage comportant cette couche
FR2809388B1 (fr) * 2000-05-23 2002-12-20 Saint Gobain Vitrage Vitrage comprenant au moins une couche a proprietes thermochromes
EP1326809B1 (de) * 2000-09-29 2006-09-06 Schott Ag Optisches substrat sowie ein verahren zur herstellung optischer substrate
US20020172775A1 (en) * 2000-10-24 2002-11-21 Harry Buhay Method of making coated articles and coated articles made thereby
JP2003060217A (ja) * 2001-08-10 2003-02-28 Nippon Sheet Glass Co Ltd 導電膜付きガラス板
AU2002356642A1 (en) * 2001-12-14 2003-06-30 Glaverbel Coloured soda-lime glass
BE1014543A3 (fr) * 2001-12-14 2003-12-02 Glaverbel Verre sodo-calcique colore.
BR122015015874B1 (pt) 2003-07-11 2016-12-27 Pilkington Automotive Ltd vidraça para veículo
AU2004282041B2 (en) 2003-10-20 2010-09-30 Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. Infrared shielding material microparticle dispersion, infrared shield, process for producing infrared shielding material microparticle, and infrared shielding material microparticle
US20150153478A1 (en) 2007-04-18 2015-06-04 Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. Electroconductive particle, visible light transmitting particle-dispersed electrical conductor and manufacturing method thereof, transparent electroconductive thin film and manufacturing method thereof, transparent electroconductive article that uses the same, and infrared-shielding article
KR100982871B1 (ko) 2004-08-31 2010-09-16 스미토모 긴조쿠 고잔 가부시키가이샤 도전성 입자, 가시광 투과형 입자 분산 도전체 및 그제조방법, 투명 도전 박막 및 그 제조방법, 이를 이용한투명 도전물품, 적외선 차폐물품
USRE43388E1 (en) * 2005-07-26 2012-05-15 Pilkington North America, Inc. Silver-free low-E solar control coating
JP2007176443A (ja) 2005-12-28 2007-07-12 Nippon Sheet Glass Co Ltd 車両用窓ガラス及びその製造方法
JP4933780B2 (ja) 2006-01-17 2012-05-16 日本板硝子株式会社 車両用窓ガラス及びその製造方法
US20080295884A1 (en) * 2007-05-29 2008-12-04 Sharma Pramod K Method of making a photovoltaic device or front substrate with barrier layer for use in same and resulting product
AR069169A1 (es) * 2007-11-02 2010-01-06 Agc Flat Glass Europe Sa Metodo para fabricar un recubrimiento transparente de un oxido conductor para aplicaciones fotovoltaicas en peliculas finas
WO2010055570A1 (ja) 2008-11-13 2010-05-20 住友金属鉱山株式会社 赤外線遮蔽微粒子及びその製造方法、並びにそれを用いた赤外線遮蔽微粒子分散体、赤外線遮蔽基材
DE102009015086A1 (de) * 2009-03-31 2010-10-07 Schott Ag Transparente Glas- oder Glaskeramikscheibe mit einer Infrarotstrahlung reflektierenden Schicht
DE102009017547B4 (de) * 2009-03-31 2022-06-09 Schott Ag Infrarot-Strahlung reflektierende Glas- oder Glaskeramikscheibe und Verfahren zu deren Herstellung
US8270060B2 (en) * 2009-09-25 2012-09-18 Samsung Sdi Co., Ltd. Infrared ray transmittance controlling panel including color modifying layer
KR101137370B1 (ko) 2009-11-18 2012-04-20 삼성에스디아이 주식회사 복층 창호
US9862640B2 (en) 2010-01-16 2018-01-09 Cardinal Cg Company Tin oxide overcoat indium tin oxide coatings, coated glazings, and production methods
EP2524099B1 (en) 2010-01-16 2020-09-30 Cardinal CG Company High quality emission control coatings, emission control glazings
US10060180B2 (en) 2010-01-16 2018-08-28 Cardinal Cg Company Flash-treated indium tin oxide coatings, production methods, and insulating glass unit transparent conductive coating technology
US10000965B2 (en) 2010-01-16 2018-06-19 Cardinal Cg Company Insulating glass unit transparent conductive coating technology
US11155493B2 (en) 2010-01-16 2021-10-26 Cardinal Cg Company Alloy oxide overcoat indium tin oxide coatings, coated glazings, and production methods
US10000411B2 (en) 2010-01-16 2018-06-19 Cardinal Cg Company Insulating glass unit transparent conductivity and low emissivity coating technology
KR101127614B1 (ko) * 2010-06-10 2012-03-22 삼성에스디아이 주식회사 창호 및 복층 창호
CN101898869B (zh) * 2010-08-03 2012-09-05 东莞南玻太阳能玻璃有限公司 复合溶胶的制备方法以及用其制造太阳能电池封装玻璃的方法
EP2450322A1 (en) * 2010-09-13 2012-05-09 Korea Electronics Technology Institute Double window / door system for blocking infrared rays
JP5730670B2 (ja) 2011-05-27 2015-06-10 株式会社Adeka 酸化モリブデンを含有する薄膜の製造方法、及び酸化モリブデンを含有する薄膜の形成用原料
GB201114242D0 (en) * 2011-08-18 2011-10-05 Pilkington Group Ltd Tantalum oxide coatings
DE102012012219B4 (de) 2012-06-21 2014-12-24 Justus-Liebig-Universität Giessen Thermochrome Schicht für Glas, Verfahren zur Herstellung einer thermochromen Schicht und Verwendung einer thermochromen Schicht
US10450471B2 (en) 2012-07-11 2019-10-22 Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. Method for producing heat-ray shielding dispersion body, heat-ray shielding dispersion body, and heat-ray shielding body
CN103570254B (zh) * 2012-07-31 2016-01-13 信义光伏产业(安徽)控股有限公司 导电玻璃、其制备方法和应用
EP3095766B1 (en) * 2014-01-17 2018-03-21 Nippon Sheet Glass Company, Limited Vehicle window glass and method for manufacturing same
US10377664B2 (en) * 2014-11-12 2019-08-13 Pilkington Group Limited Coated glass article, display assembly made therewith and method of making a display assembly
JP5913663B2 (ja) * 2015-02-19 2016-04-27 株式会社Adeka モリブデンアミド化合物
KR101906656B1 (ko) * 2015-12-03 2018-10-10 아주대학교산학협력단 단층 스마트 윈도우
MY193596A (en) 2016-03-16 2022-10-19 Sumitomo Metal Mining Co Near-infrared shielding material fine particle dispersion body, near-infrared shielding body and near-infrared shielding laminated structure, and method for producing the same
EP3431564A4 (en) 2016-03-16 2019-08-07 Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. MICROPARTICLES OF NEAR-FROSTED ABSORBENT MATERIAL, METHOD OF MANUFACTURING THEM AND PARTICLE DISPERSION OF NEAR-FROSTED MATERIAL
KR102266610B1 (ko) * 2016-07-14 2021-06-21 엔테그리스, 아이엔씨. MoOCl4의 사용에 의한 CVD Mo 증착
US10453744B2 (en) * 2016-11-23 2019-10-22 Entegris, Inc. Low temperature molybdenum film deposition utilizing boron nucleation layers
US10297751B2 (en) * 2017-01-26 2019-05-21 Hrl Laboratories, Llc Low-voltage threshold switch devices with current-controlled negative differential resistance based on electroformed vanadium oxide layer
WO2018140539A1 (en) 2017-01-26 2018-08-02 Hrl Laboratories, Llc A scalable, stackable, and beol-process compatible integrated neuron circuit
US11861488B1 (en) 2017-06-09 2024-01-02 Hrl Laboratories, Llc Scalable excitatory and inhibitory neuron circuitry based on vanadium dioxide relaxation oscillators
EP3666732A4 (en) 2017-08-09 2021-04-28 Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. ELECTROMAGNETIC WAVE-ABSORBING PARTICLE DISPERSION AND ELECTROMAGNETIC WAVE-ABSORBING TRANSPARENT LAMINATED SUBSTRATE
AU2018365930B2 (en) 2017-11-13 2021-10-28 Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. Surface-treated infrared absorbing fine particles, surface-treated infrared absorbing fine powder, infrared absorbing fine particle dispersion liquid using the surface-treated infrared absorbing fine particles, infrared absorbing fine particle dispersion body and method for producing them
JP6911721B2 (ja) 2017-11-14 2021-07-28 住友金属鉱山株式会社 赤外線吸収体
CN108516699B (zh) * 2018-04-17 2021-01-19 武汉理工大学 一种低辐射镀膜玻璃
CN112074582A (zh) 2018-05-11 2020-12-11 住友金属矿山株式会社 表面处理红外线吸收微粒分散液及红外线吸收透明基材
US20210380433A1 (en) 2018-09-27 2021-12-09 Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. Infrared absorbing material fine particle dispersion liquid and producing method thereof
US20200131628A1 (en) * 2018-10-24 2020-04-30 Entegris, Inc. Method for forming molybdenum films on a substrate
WO2020084852A1 (ja) 2018-10-25 2020-04-30 Ｊｘ金属株式会社 モリブデンオキシクロライド又はタングステンオキシクロライド及びそれらの製造方法
US11028012B2 (en) 2018-10-31 2021-06-08 Cardinal Cg Company Low solar heat gain coatings, laminated glass assemblies, and methods of producing same
JP7292586B2 (ja) 2019-01-21 2023-06-19 住友金属鉱山株式会社 表面処理赤外線吸収微粒子、表面処理赤外線吸収微粒子粉末、当該表面処理赤外線吸収微粒子を用いた赤外線吸収微粒子分散液、赤外線吸収微粒子分散体、および、赤外線吸収基材
TWI830133B (zh) * 2019-02-27 2024-01-21 美商恩特葛瑞斯股份有限公司 用於製備vi族前驅化合物之方法
US20230018757A1 (en) 2020-02-28 2023-01-19 Jx Nippon Mining & Metals Corporation High-purity molybdenum oxychloride and manufacturing method therefor
CN114647122B (zh) * 2020-12-17 2023-10-13 中国科学院上海硅酸盐研究所 一种高性能可见红外独立调控电致变色器件及其制备方法和应用
WO2023144222A1 (fr) * 2022-01-27 2023-08-03 Saint-Gobain Glass France Substrat transparent muni d'un empilement fonctionnel de couches minces
FR3132096A1 (fr) * 2022-01-27 2023-07-28 Saint-Gobain Glass France Substrat transparent muni d’un empilement fonctionnel de couches minces

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
IT996924B (it) 1972-12-21 1975-12-10 Glaverbel Procedimento per formare uno strato di ossido metallico
GB1524326A (en) 1976-04-13 1978-09-13 Bfg Glassgroup Coating of glass
GB2031756B (en) * 1978-10-20 1983-03-09 Gordon Roy Gerald Non-iridescent glass structures and processes for their production
AU546405B2 (en) * 1982-02-01 1985-08-29 Ppg Industries, Inc. Vanadium oxide coating
GB8914047D0 (en) 1989-06-19 1989-08-09 Glaverbel Method of and apparatus for pyrolytically forming an oxide coating on a hot glass substrate
GB9019117D0 (en) * 1990-09-01 1990-10-17 Glaverbel Coated glass and method of manufacturing same
US5168003A (en) 1991-06-24 1992-12-01 Ford Motor Company Step gradient anti-iridescent coatings
US5268208A (en) * 1991-07-01 1993-12-07 Ford Motor Company Plasma enhanced chemical vapor deposition of oxide film stack
US5324537A (en) 1993-07-06 1994-06-28 Ford Motor Company Gaseous doping of tungsten oxide
US5385751A (en) 1993-07-06 1995-01-31 Ford Motor Company Atmospheric pressure CVD process for preparing fluorine-doped tungsten oxide films
JPH08268732A (ja) 1995-03-30 1996-10-15 Central Glass Co Ltd 熱線反射ガラス
GB9619134D0 (en) * 1996-09-13 1996-10-23 Pilkington Plc Improvements in or related to coated glass

Also Published As

Publication number Publication date
DE69910322T2 (de) 2004-08-12
HUP9903519A3 (en) 2002-11-28
ID23640A (id) 2000-05-04
US6416890B1 (en) 2002-07-09
TR199902539A2 (xx) 2000-05-22
EP0994081A1 (en) 2000-04-19
ATE247078T1 (de) 2003-08-15
DE69910322D1 (de) 2003-09-18
EP0994081B1 (en) 2003-08-13
GB9822338D0 (en) 1998-12-09
IL132308A0 (en) 2001-03-19
HUP9903519A2 (hu) 2002-01-28
TR199902539A3 (tr) 2000-05-22
HU9903519D0 (en) 1999-12-28
JP2000119045A (ja) 2000-04-25
CA2285160A1 (en) 2000-04-13
HU223558B1 (hu) 2004-09-28
RU2233812C2 (ru) 2004-08-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
ES2205665T3 (es) Hojas de vidrio para control solar.
JP4538116B2 (ja) 太陽光線制御被覆ガラス
JP4498648B2 (ja) ソーラーコントロール被覆ガラス
US7622186B2 (en) Glazing panel having solar screening properties
GB2302102A (en) Glazing panel having solar screening properties
ES2198904T3 (es) Sustrato revestido de alta reflectancia.
PL179769B1 (pl) S zyba do oszklen o wlasnosciach przeciwslonecznych i sposób wytwarzania szyby do oszklen o wlasnosciach przeciwslonecznych PL PL PL PL PL
US6387514B1 (en) Solar control coated substrate with high reflectance
AU2002300125B2 (en) Coated substrate with high reflectance
CZ363199A3 (cs) Protisluneční povlečené sklo
UA65556C2 (en) A coated glass (variants), a method for making the same and coating absorbing radiation of the spectral region adjacent to that infrared
CA2607846A1 (en) Glazing panel having solar screening properties and a process for making such a panel
MXPA99007735A (es) Vidrio revestido para control solar
MXPA99010635A (es) Sustrato recubierto con control de radiacion solar con elevada reflectancia