ES2198904T3 - Sustrato revestido de alta reflectancia. - Google Patents
Sustrato revestido de alta reflectancia.Info
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Abstract
Se presenta un substrato transparente revestido con una alta reflectancia especialmente para su uso como paneles de acristalamiento exterior para edificios, que soportan un revestimiento extratificado que comprende una capa principal pirolíticamente formada que contiene óxidos de estaño y antimonio, en donde la capa principal tiene un grosor geométrico de al menos 250 nm y la estratificación incluye una capa reflectante exterior que tiene un grosor geométrico de entre 30 y 150 nm y un índice refractivo de entre 2,0 y 2,8, mediante lo cual el substrato así revestido tiene una reflectancia (RL) superior al 10%.
Description
Sustrato revestido de alta reflectancia.
La presente invención se refiere a un sustrato
revestido de alta reflectancia. Está relacionado en especial con
sustratos de vidrio transparente que llevan un revestimiento de
óxidos de estaño y de antimonio y con el uso de tales sustratos en
paneles acristalados exteriores para edificios.
Aunque los arquitectos que buscan paneles
acristalados para su uso en edificios han tendido tradicionalmente
a favorecer los paneles con bajos niveles de reflexión, una
cambiante percepción del atractivo estético ha conducido a que
aumente la demanda de paneles con niveles de reflexión más altos
pero sin deslumbramiento, vistos desde el exterior, que está
asociado con niveles de reflexión muy altos. A los paneles se les
puede exigir también que tengan otras cualidades tales como dar
protección a los ocupantes del edificio contra la radiación solar y
el sobrecalentamiento asociado (propiedades de apantallamiento
solar).
Los paneles comprenden por lo menos una hoja de
un material de sustrato transparente, típicamente vidrio de cal
sodada, con un revestimiento de estaño en una o más de las caras de
la hoja para modificar las propiedades ópticas y físicas de la hoja
y del panel como conjunto. Para el revestimiento se han presentado
una enorme variedad de propuestas anteriores, de acuerdo con las
propiedades específicas buscadas. El revestimiento puede comprender
una pila de varias capas discretas elegidas con composiciones y
espesores apropiados para complementar sus respectivos efectos. Un
problema persistente en la elección de las capas respectivas es que
una capa adoptada con un fin puede cambiar de manera adversa el
efecto de las otras capas.
El óxido de estaño (SnO_{2}) se ha venido
utilizando ampliamente como material de revestimiento, a menudo en
combinación con otros óxidos metálicos. Los revestimientos que
comprenden óxido de estaño con una pequeña proporción de óxido de
antimonio han resultado ser especialmente atractivos.
Nuestra patente GB 1455148 describe un método
para formar pirolíticamente un revestimiento de uno o más óxidos
(p. ej. ZrO_{2}, SnO_{2}, Sb_{2}O_{3}, TiO_{2},
CO_{3}O_{4}, Cr_{2}O_{3}, SiO_{2}) sobre un sustrato,
fundamentalmente pulverizando compuestos de un metal o silicio,
para modificar la transmisión de la luz y/o la reflexión de la luz
del sustrato. Nuestra patente GB 2078213, que se refiere a un
método para formar pirolíticamente un revestimiento mediante dos
pulverizaciones separadas para conseguir altas velocidades de
constitución del revestimiento, describe revestimientos de óxido de
estaño dopados con flúor o antimonio. Nuestra patente GB 2200139 se
refiere a la formación de un revestimiento pirolítico de óxido de
estaño a partir de un precursor que contiene por lo menos dos
aditivos tales como agentes oxidantes, fuentes de flúor y fuentes
de metal.
Se ha descubierto que el uso de un revestimiento
de óxido de estaño con una pequeña proporción de óxido de antimonio
ofrece varias combinaciones ventajosas de propiedades ópticas y de
energía. Nuestras solicitudes de patente GB 2302101 (`101) y
2302102 (`102) describen paneles acristalados antisolares que
comprenden una capa de revestimiento pirolítico de óxidos de estaño
y antimonio en donde la relación molar Sb/Sn está entre 0,01 y 0,5.
El revestimiento `101 se aplica mediante pulverización líquida y
tiene un espesor de por lo menos 400 nm, una transmitancia luminosa
de menos del 35% y una selectividad de por lo menos 1,3. El
revestimiento `102 se aplica por deposición de vapor química (CVD)
y tiene un factor solar inferior al 70%.
El uso de la pirólisis para formar un
revestimiento sobre un sustrato tiene en general la ventaja de
producir un revestimiento duro con propiedades duraderas de
resistencia a la abrasión y resistencia a la corrosión. Se cree que
esto es debido en particular al hecho de que el proceso implica la
deposición de material del revestimiento sobre un sustrato que está
caliente. La pirólisis es también generalmente más barata que los
procesos de revestimiento alternativos tales como la deposición
electrónica, en particular en cuanto a la inversión en equipos.
Las propiedades del sustrato revestido que aquí
se discuten están basadas en las definiciones normalizadas de la
International Commission on Illumination — Commission International
de l'Eclairage ("CIE"). La fuente luminosa para las pruebas
fue el patrón de luz C, que representa la luz del día media que
tiene una temperatura del color de 6700 K y es especialmente útil
para evaluar las propiedades ópticas del vidrio destinado al uso en
edificios.
La "transmitancia luminosa" (TL) es el flujo
luminoso transmitido a través de un sustrato como porcentaje del
flujo luminoso incidente.
La "reflectancia luminosa" (RL) es el flujo
luminoso reflejado por un sustrato como porcentaje del flujo
luminoso incidente.
La "pureza" (p) del color del sustrato se
refiere a la pureza de excitación en la transmisión o la
reflexión.
La "longitud de onda dominante"
(\lambda_{D}) es la longitud de onda de pico en la gama
transmitida o reflejada.
El "factor solar" (FS), que se refiere a la
transmisión de la radiación solar incidente total a través del
sustrato revestido, es la suma de la energía total directamente
transmitida (TE) y de la energía que es absorbida y vuelta a radiar
por el lado del sustrato revestido alejado de la fuente de energía,
como proporción de la energía radiante incidente total.
La "selectividad" de un sustrato revestido
para su uso en un panel acristalado para edificios es la relación
entre la transmitancia luminosa y el factor solar (TL/FS).
Uno de los objetos de la presente invención es
proporcionar un revestimiento formado pirolíticamente sobre un
sustrato para impartir al sustrato propiedades de apantallamiento
solar y una alta reflectancia.
Hemos descubierto que éste y otros objetivos
útiles pueden alcanzarse depositando una pila de revestimientos que
comprende una capa superior definida sobre una capa principal que
comprende óxidos de estaño y de antimonio.
De acuerdo con la invención, se proporciona un
sustrato transparente que lleva una pila de revestimiento que
comprende una capa principal formada pirolíticamente que contiene
óxidos de estaño y de antimonio, caracterizada porque la capa
principal tiene un espesor geométrico de por lo menos 250 nm y
porque la pila incluye una capa reflectora exterior que tiene un
espesor geométrico en la gama de 30 a 150 nm y que tiene un índice
de refracción en la gama de 2,0 a 2,8, con lo que el sustrato así
revestido tiene una reflectancia (RL) de más del 10%.
La presencia de la capa reflectora exterior crea
una mejora en la reflectancia luminosa (RL) del sustrato revestido,
aumentando la reflectancia desde menos del 10% a más del 10% y, en
general, hasta por lo menos el 15% e incluso alrededor del 25%.
Además, estos aumentos se consiguen sin que las demás propiedades
ópticas del sustrato se lleven más allá de límites aceptables. La
capa exterior es también beneficiosa porque mejora además la
resistencia a la abrasión y a la corrosión del revestimiento.
Aunque la invención se describe aquí
fundamentalmente con referencia a paneles acristalados para
edificios, los paneles, de acuerdo con la invención, son adecuados
para otras aplicaciones tales como ventanas de vehículos, en
particular techos corredizos de vehículos.
La capa reflectora exterior contiene
preferentemente un óxido de uno o más de los metales níquel,
estaño, titanio, zinc y circonio. Estos materiales forman
fácilmente por pirólisis un revestimiento con el índice de
refracción requerido.
La capa reflectora exterior comprende
preferentemente óxido de titanio. Este ofrece una elevada
reflectancia luminosa con un espesor de revestimiento muy delgado.
Preferentemente, el revestimiento contiene óxido de titanio junto
con óxido de estaño. Esto confiere al revestimiento una mejor
resistencia a la abrasión y química. Ese revestimiento contiene más
preferentemente por lo menos el 50% en volumen de óxido de estaño y
por lo menos el 30% en volumen de óxido de titanio. El espesor
geométrico preferido para un revestimiento de óxido de titanio está
en la gama de
\hbox{45-55}nm. El espesor geométrico preferido para la capa reflectora de óxidos de estaño/titanio está en la gama de 40 a 75 nm. Por debajo de 40 nm la capa puede no ser suficiente para modificar las propiedades ópticas, especialmente la reflectancia, del producto revestido. Por encima de 75 nm el nivel de reflexión luminosa puede ser indebidamente alto y los efectos ópticos de la capa superior tenderán a enmascarar los efectos ópticos de las demás capas de la pila. Más preferentemente, dicha capa tiene un espesor en la gama de 60 a 75 nm. Esta gama permite conseguir una buena estabilidad óptica para la pila de revestimiento. Estabilidad óptica significa que las variaciones de espesor de la capa, inherentes a la producción industrial, no provocan cambios importantes en las propiedades ópticas, en particular en los valores a y b de Hunter y en la pureza de la reflexión. La estabilidad óptica es incluso mejor cuando la capa superior tiene un espesor entre 60 y 70 nm.
Los materiales de óxidos de Sb/Sn de la capa
principal imparten al sustrato revestido buenas propiedades
antisolares. El espesor geométrico de por lo menos 250 nm para esta
capa representa la gama óptima para una capa en lo que se refiere a
proporcionar las propiedades de apantallamiento solar perseguidas y
un tono neutro. Preferentemente, dicho espesor es inferior a 650
nm, por motivos económicos y prácticos. Más preferentemente, el
espesor está en la gama de 300 a 360 nm. Esta gama permite
conseguir productos revestidos con suficientes propiedades de
apantallamiento solar y que presentan estabilidad óptica.
Preferentemente, el producto revestido tiene un
valor a de Hunter entre 0 y -2 y un valor b de Hunter entre
\hbox{-4 y –2}, lo que significa un aspecto ligeramente azulado en la reflexión. La pureza de reflexión es preferentemente baja, es decir, menos del 10%, preferentemente entre 4 y 7,5.
Como se describe en nuestra anterior
especificación de patente
GB-A-2302102, la relación molar
Sb/Sn en la capa principal de revestimiento está preferentemente en
la gama de 0,01 a 0,5, más preferentemente en la gama de 0,03 a
0,21.
Como se ha descrito y reivindicado en nuestra
solicitud de patente, también pendiente, que lleva la misma fecha
que la presente solicitud, la reflectancia del sustrato revestido
puede mejorarse más incluyendo también en la capa de revestimiento
principal un aditivo que comprende uno o más de los metales
aluminio, cromo, cobalto, manganeso, magnesio, níquel, titanio,
vanadio, zinc y circonio. Dicho aditivo se selecciona
preferentemente entre cromo, hierro y magnesio.
En una realización de la invención, la pila de
revestimiento comprende además una capa inferior situada entre el
sustrato y la capa principal de revestimiento. La capa inferior
sirve para mejorar el atractivo estético del revestimiento tanto
disminuyendo o eliminando la turbiedad en la pila de revestimiento
como neutralizando el color que el óxido de estaño de la capa
principal tiende a impartir a la pila.
Los materiales adecuados para la capa inferior
incluyen uno o más revestimientos a base de óxido de silicio o
alúmina, por ejemplo, alúmina con una pequeña proporción de óxido
de vanadio. En el caso de óxidos de silicio, se prefiere utilizar
un material no completamente oxidado, es decir, SiO_{x} donde x
es menor que 2, que puede tener la estructura general del SiO_{2}
pero que tiene una proporción de huecos que se llenarían con
oxígeno en el dióxido. Esto puede conseguirse empleando oxígeno en
una cantidad insuficiente para la oxidación completa del material
de la capa inferior del sustrato.
El espesor geométrico preferido de la capa
inferior está en la gama de 60 a 75 nm. Esta es la gama en la que
la capa inferior tiende mejor a impartir a la pila de revestimiento
un punto no neutro en la reflexión.
En otra realización de la invención, la pila de
revestimiento comprende también una capa intermedia situada entre
la capa de revestimiento principal y la capa reflectora exterior.
Esta capa intermedia es otro medio de aumentar la reflectancia
luminosa del sustrato revestido. Los materiales adecuados para la
capa intermedia incluyen óxidos de aluminio o silicio, que pueden
ser utilizados solos o mezclados.
Como la presencia de flúor tiende a obstaculizar
la incorporación de ciertos elementos, tales como antimonio, a las
capas de revestimiento, es deseable que se excluya el flúor de las
capas de revestimiento de la invención.
Preferentemente, como se ha discutido antes, la
reflectancia (RL) del sustrato revestido es por lo menos del 15%
pero no tan grande que produzca deslumbramiento en la reflexión.
Por lo tanto, se prefiere que el sustrato revestido tenga una
reflectancia (RL) máxima del 25%, más preferentemente una
reflectancia máxima del 20%.
Se requiere casi siempre que el panel acristalado
transmita una proporción suficiente de luz visible con el fin de
permitir una buena iluminación natural hacia el interior del
edificio o vehículo y una buena visibilidad hacia fuera. La
transmitancia luminosa (TL) de un sustrato revestido de acuerdo con
la invención es preferentemente superior al 60%.
Es deseable aumentar a un elevado nivel la
selectividad del revestimiento, es decir, la relación entre la
transmitancia y el factor solar. Se prefiere que la selectividad
sea superior a 1,00.
La invención incluye dentro de su ámbito un panel
acristalado que comprende un sustrato transparente revestido como
se define aquí. El panel puede ser una sola hoja o alternativamente
puede incluir dos o más hojas con sustrato en un conjunto de
acristalado múltiple o laminado. En un conjunto de acristalado
múltiple o laminado se prefiere que sólo una de las hojas
constituyentes lleve el revestimiento.
Los métodos pirolíticos son generalmente
preferidos para la aplicación de todas las capas de la pila de
revestimiento de la invención. Los revestimientos obtenidos por
pirólisis son ventajosos generalmente porque tienen una resistencia
mecánica mayor que los revestimientos obtenidos por otros métodos.
Los materiales reactivos a pirolizar pueden aplicarse al sustrato
por deposición de vapor química (CVD o "pirólisis de vapor") o
como pulverización líquida ("pirólisis líquida").
La aplicación de un revestimiento pirolítico a
vidrio plano se consigue mejor cuando el vidrio está recién
formado, por ej., cuando sale de una línea de baño de metal líquido
del vidrio. Esto proporciona beneficios económicos al evitar la
necesidad de volver a calentar el vidrio para que tengan lugar las
reacciones pirolíticas y en la calidad del revestimiento, ya que la
superficie del vidrio recién formado está en estado prístino.
Preferentemente, la fuente de estaño para la capa
principal se selecciona entre SnCl_{2}, SnCl_{4},
Sn(CH_{3})_{2}Cl_{2}, tetrametil estaño o
monobutil tricloroestaño ("MBTC"). La fuente de antimonio para
la capa principal puede seleccionarse entre SbCl_{5}, SbCl_{3},
compuestos de antimonio orgánicos tales como
Sb(OCH_{2}CH_{3})_{3},
Cl_{1.7}Sb(OCH_{2}CH_{3})_{1.3},
Cl_{2}SbOCHClCH_{3}, Cl_{2}SbOCH_{2}CHCH_{3}Cl y
Cl_{2}SbOCH_{2}C(CH_{3})_{2}Cl. La fuente de
cualquier aditivo metálico para la capa principal puede ser de
manera similar un compuesto organometálico o de cloruro adecuado
del metal respectivo.
Las fuentes de reactivos para las respectivas
capas se forman preferentemente en mezclas iniciales únicas para
cada una de las capas, con lo que todos los reactivos iniciales
para una capa dada se aplican simultáneamente al sustrato.
Para formar una capa de revestimiento por CVD, se
aplica la mezcla de reactivos respectiva, típicamente a través de
una tobera, al sustrato en una cámara de revestimiento. Cuando esta
mezcla comprende cloruros que son líquidos a temperatura ambiente,
se vaporiza en una corriente caliente de gas portador anhidro como
nitrógeno. La vaporización es facilitada por la atomización de esos
reactivos en el gas portador. Para producir los óxidos, los
cloruros se ponen en presencia de una fuente de oxígeno, por
ejemplo, vapor de agua.
Para formar tal revestimiento se describen
métodos y dispositivos, por ejemplo, en la patente francesa N°
2348166 o en la solicitud de patente francesa N° 2648453. Estos
métodos y dispositivos conducen a la formación de revestimientos
especialmente fuertes con propiedades ópticas ventajosas.
Para formar el revestimiento por un método de
pulverización, el sustrato puede ponerse en contacto con una
pulverización de gotitas que contienen los materiales reactivos
respectivos. La pulverización se aplica mediante una o más toberas
de pulverización dispuestas para seguir un recorrido que
proporciona el revestimiento a lo largo de la anchura de la banda a
revestir.
La CVD ofrece ventajas sobre los líquidos
pulverizados al proporcionar revestimientos de espesor y
composición regulares, siendo importante esta uniformidad del
revestimiento cuando el producto tiene que cubrir una superficie
grande. Un revestimiento pulverizado tiende también a retener
trazas de las gotitas pulverizadas y del recorrido de la pistola
pulverizadora. Además, la pirólisis de los líquidos pulverizados se
limita esencialmente a la fabricación de revestimientos de óxido,
como SnO_{2} y TiO_{2}. Es difícil también hacer
revestimientos multicapa utilizando líquidos pulverizados porque
cada deposición del revestimiento produce un importante
enfriamiento del sustrato. Además, la CVD es más económica en cuanto
a las materias primas, lo que conduce a un menor despilfarro.
No obstante, a pesar de estas desventajas del
método de pulverización, se considera sin embargo conveniente y
barato de aplicar y emplea un equipo sencillo. Por lo tanto, se
adopta a menudo, especialmente para la formación de capas de
revestimiento gruesas.
Los paneles acristalados que incorporan sustratos
revestidos, de acuerdo con la invención, pueden ser fabricados como
sigue. Cada fase de revestimiento pirolítico puede realizarse a una
temperatura de por lo menos 400ºC, idealmente de 550ºC a 750ºC. Los
revestimientos pueden formarse sobre una hoja de vidrio que se
mueve en un horno de túnel o sobre una banda de vidrio durante su
formación, mientras esté aún caliente. Los revestimientos pueden
formarse en el interior del túnel de recocido que sigue al
dispositivo de formación de la banda de vidrio o en el interior del
tanque de flotación sobre la cara superior de la banda de vidrio
mientras esta última está flotando en un baño de estaño
fundido.
La invención se describe más en detalle a
continuación con referencia a los siguientes ejemplos no
limitativos.
Se aplicó una pila de revestimiento a vidrio de
cal sodada transparente de 6 mm de espesor en baño de metal líquido
en una serie de estaciones de revestimiento, cada una de ellas
situada en una posición de una cámara de flotación donde el vidrio
estaba a una elevada temperatura. Se aplicó primero una capa
inferior que comprendía óxidos de aluminio y de vanadio
pulverizando sobre el vidrio, que en esta etapa inicial estaba a una
temperatura superior a 550ºC, una solución en ácido acético
cristalizado de 220 g/l de acetilacetonato de aluminio y 12 g/l de
triacetil-acetonato de vanadio para formar una
capa de aproximadamente 75 nm de espesor geométrico. A
continuación, se aplicó una capa principal, que comprendía óxidos de
estaño y de antimonio, pulverizando sobre el vidrio, a una
temperatura de aproximadamente 550ºC, una solución que comprendía
SnCl_{2} y SbCl_{3}. Las proporciones de Sn y Sb daban una
relación Sb/Sn en la capa de 0,05 y el espesor de la capa formada
fue de 430 nm. Finalmente, se aplicó una capa superior que
comprendía óxidos de estaño y de titanio pulverizando una solución
en dimetilformamida que comprendía dibutilacetato de estaño y un
quelato de titanio formado a partir de titanato de octileno glicol y
de acetilacetona. La capa superior contenía un 60% de SnO_{2} en
volumen y un 40% de TiO_{2} en volumen y tenía un espesor
geométrico de 70 nm.
El sustrato así revestido se colocó en un armazón
para formar un panel acristalado con la pila de revestimiento
mirando hacia fuera. Las propiedades ópticas del sustrato se
midieron por el lado exterior.
Las propiedades del panel acristalado eran las
que se muestran en la Tabla adjunta.
Ejemplos 2 a
11
Se aplicó una pila de revestimiento a vidrio de
cal sodada transparente de 6 mm de espesor en baño de metal líquido
en una serie de estaciones de revestimiento, cada una de ellas
situada en una posición en una cámara de flotación en la que el
vidrio estaba a una elevada temperatura. Se aplicó primero una capa
inferior de óxido de silicio SiO_{x} en una estación de
revestimiento situada en una posición a lo largo de la cámara de
flotación en la que el vidrio estaba a una temperatura de
aproximadamente 700ºC. El tubo de suministro se alimentó con
nitrógeno, se introdujo en él silano con una presión parcial del
0,2% y se introdujo oxígeno con una presión parcial del 0,36%. Se
obtuvo un revestimiento de SiO_{x}, donde x era aproximadamente
igual a 1,78, con un índice de refracción de aproximadamente 1,69.
La capa tenía el espesor geométrico especificado en la tabla. A
continuación, se aplicó una capa principal, que contenía óxidos de
estaño y antimonio, por pirólisis de CVD, utilizando una mezcla de
reactivos vaporizada de MBTC como fuente de estaño y SbCl_{3}
como fuente de antimonio. Se formó una capa de revestimiento de
óxidos de estaño/antimonio que contenía estaño y antimonio con una
relación molar Sb/Sn de 0,05, con el espesor especificado en la
tabla.
Finalmente, se aplicó una capa superior que
comprendía óxidos de estaño y de titanio pulverizando una solución
en dimetilformamida que comprendía dibutilacetato de estaño y un
quelato de titanio formado a partir de titanato de octileno glicol
y de acetilacetona. La capa superior contenía un 60% de SnO_{2}
en volumen y un 40% de TiO_{2} en volumen y tenía el espesor
geométrico especificado en la tabla.
El sustrato así revestido se colocó en un armazón
para formar un panel acristalado con la pila de revestimiento
mirando hacia fuera. Las propiedades ópticas del sustrato se
midieron por el lado exterior.
Ejemplos 12 a
19
El procedimiento de los ejemplos 12 a 19 fue el
mismo que para los ejemplos 2 a 11, excepto que la capa superior
estaba hecha de TiO_{2} puro, partiendo de quelato de titanio
formado a partir de titanato de octileno glicol y de
acetilacetona. En los ejemplos 16 a 19, la capa de revestimiento de
óxidos de estaño/antimonio contiene estaño y antimonio en una
relación molar Sb/Sn de 0,1.
Ejemplos comparativos C.1 a
C.10
Se preparó un sustrato revestido como se describe
en los ejemplos 2 a 19 pero con la diferencia de que no se aplicó
ninguna capa superior sobre la capa principal. En los ejemplos
comparativos C1 a C8 la relación molar Sb/Sn de la capa de
revestimiento de estaño/antimonio era 0,05. En los ejemplos
comparativos C9 y C10, esta relación molar es 0,1. Las propiedades
del panel acristalado así formado se muestran también en la Tabla
adjunta.
La comparación de los resultados muestra una
mejora importante en la reflectancia luminosa del panel, desde
menos del 10% a más del 24% con una capa superior de TiO_{2}
puro. La mejora iba acompañada de una cierta disminución de la
transmitancia luminosa pero ésta seguía estando dentro de límites
aceptables.
Ejemplos | 1 | 2 | 3 | 4 | 5 | 6 | 7 | 8 | 9 | 10 | 11 |
Espesor de la capa inferior (nm) | 75 | 62,5 | 62,5 | 67,5 | 67,5 | 72,5 | 62,5 | 62,5 | 67,5 | 67,5 | 60 |
Espesor de la capa principal (nm) | 430 | 342,5 | 342,5 | 342,5 | 342,5 | 342,5 | 347,5 | 347,5 | 347,5 | 347,5 | 350 |
Espesor de la capa superior (nm) | 70 | 64 | 68 | 64 | 68 | 62 | 64 | 68 | 64 | 68 | 69 |
Reflectancia luminosa (RL) (%) | 21,7 | 18,4 | 18,4 | 18,6 | 18,6 | 18,7 | 18,4 | 18,5 | 18,6 | 18,6 | 18,4 |
Valor a de Hunter en reflexión | 0,1 | 0,44 | -0,53 | -0,2 | -0,95 | -0,3 | -0,62 | -1,61 | -1 | -1,8 | -2,3 |
Valor b de Hunter en reflexión | -2,6 | -3,84 | -2,3 | -3,5 | -2,07 | -3,9 | -3,64 | -2,04 | -3,42 | -1,93 | -1,5 |
Pureza del color en reflexión (%) | 4,2 | 6,5 | 4,6 | 6,4 | 4,6 | 7,1 | 7 | 5,1 | 6,9 | 5 | 4,8 |
\lambda_{D} en reflexión (nm) | 488 | 475 | 480 | 478 | 483 | 478 | 480 | 485 | 481 | 486 | 488 |
Transmitancia luminosa (TL) (%) | 42,3 | 64,8 | 64,8 | 64,7 | 64,7 | 64,6 | 64,7 | 64,65 | 64,6 | 64,5 | 64,6 |
Factor solar (FS) (%) | 42,6 | 59 | 58,8 | 59 | 58,9 | 59,1 | 58,8 | 58,6 | 58,8 | 58,7 | 58,5 |
Selectividad (TL/FS) | 0,99 | 1,10 | 1,10 | 1,10 | 1,10 | 1,10 | 1,10 | 1,10 | 1,10 | 1,10 | 1,10 |
Ejemplos comparativos | C1 | C2 | C3 | C4 | C5 | C6 | |||||
Espesor de la capa inferior (nm) | 62,5 | 67,5 | 72,5 | 62,5 | 67,5 | 60 | |||||
Espesor de la capa principal (nm) | 342,5 | 342,5 | 342,5 | 347,5 | 347,5 | 350 | |||||
Reflectancia luminosa (RL) (%) | 12,7 | 12,5 | 12,3 | 12,7 | 12,5 | 12,8 | |||||
Valor a de Hunter en reflexión | -2,4 | -1,5 | -0,82 | -1,4 | -0,75 | -1,2 | |||||
Valor b de Hunter en reflexión | 2,3 | 1,4 | 0,63 | 2,2 | 1,4 | 2,4 | |||||
Pureza del color en reflexión (%) | 4,8 | 3 | 1,2 | 5 | 3,3 | 5,7 | |||||
\lambda_{D} en reflexión (nm) | 559 | 559 | 552 | 567 | 569 | 569 | |||||
Transmitancia luminosa (TL) (%) | 69,9 | 70,1 | 70,2 | 69,7 | 69,9 | 69,6 | |||||
Factor solar (FS) (%) | 65,4 | 65,4 | 65,3 | 65,2 | 65,2 | 65,1 | |||||
Selectividad (TL/FS) | 1,07 | 1,07 | 1,08 | 1,07 | 1,07 | 1,07 |
TABLA
(continuación)
Ejemplos | 12 | 13 | 14 | 15 | 16 | 17 | 18 | 19 |
Espesor de la capa inferior (nm) | 70 | 70 | 70 | 70 | 70 | 70 | 70 | 70 |
Espesor de la capa principal (nm) | 300 | 291,8 | 413,6 | 393,3 | 313,3 | 292,4 | 391,2 | 400 |
Espesor de la capa superior (nm) | 25,5 | 40,5 | 27,1 | 45,2 | 21,5 | 39,1 | 28,6 | 50,1 |
Reflectancia luminosa (RL) (%) | 19 | 24,6 | 18,3 | 24,4 | 15,4 | 22,6 | 16,7 | 24,5 |
Valor a de Hunter en reflexión | -1,7 | -1,1 | -3,1 | -3,7 | -0,7 | -0,9 | - 1,1 | -4,0 |
Valor b de Hunter en reflexión | -4,6 | -3,7 | -7,1 | -5,3 | -4,4 | -4,7 | - 9,7 | -3,2 |
Pureza del color en reflexión (%) | 9,3 | 6,5 | 14,8 | 10,7 | 9,0 | 8,0 | 17,7 | 8,0 |
\lambda_{D} en reflexión (nm) | 481,9 | 481,1 | 482,4 | 484,4 | 479,4 | 480,0 | 478,8 | 487,1 |
Transmitancia luminosa (TL) (%) | 66,7 | 62,4 | 63,2 | 59,1 | 48,6 | 46,0 | 42,2 | 37,7 |
Factor solar (FS) (%) | 61,7 | 58,8 | 57,4 | 54,7 | 50,6 | 48,9 | 45,8 | 41,8 |
Selectividad (TUFS) | 1,08 | 1,06 | 1,10 | 1,08 | 0,96 | 0,94 | 0,92 | 0,90 |
Ejemplos comparativos | C7 | C8 | C9 | C10 | ||||
Espesor de la capa inferior (nm) | 70 | 70 | 70 | 70 | ||||
Espesor de la capa principal (nm) | 300 | 413,6 | 313,3 | 391,2 | ||||
Reflectancia luminosa (RL) (%) | 9,8 | 9,5 | 9,5 | 9,2 | ||||
Valor a de Hunter en reflexión | -2,9 | 1,9 | -4,1 | 3,1 | ||||
Valor b de Hunter en reflexión | -2,8 | -3,0 | -1,4 | -2,3 | ||||
Pureza del color en reflexión (%) | 9,7 | 5,7 | 8,4 | 6,8 | ||||
\lambda_{D} en reflexión (nm) | 486,1 | -566,7 | 490,7 | -550,8 | ||||
Transmitancia luminosa (TL) (%) | 74,5 | 70,2 | 52,8 | 46,2 | ||||
Factor solar (FS) (%) | 67,7 | 63,2 | 54,4 | 49,7 | ||||
Selectividad (TL/FS) | 1,10 | 1,11 | 0,97 | 0,93 |
Claims (26)
1. Un sustrato transparente que lleva una pila de
revestimiento que comprende una capa principal formada
pirolíticamente que contiene óxidos de estaño y de antimonio,
caracterizado porque la capa principal tiene un espesor
geométrico de por lo menos 250 nm y porque la pila incluye una capa
reflectora exterior que tiene un espesor geométrico en la gama de
30 a 150 nm y que tiene un índice de refracción en la gama de 2,0 a
2,8, con lo que el sustrato así revestido tiene una reflectancia
(RL) de más del 10%.
2. Un sustrato transparente revestido según la
reivindicación 1, en el que la capa reflectora exterior contiene un
óxido de uno o más de los metales níquel, estaño, titanio, zinc y
circonio.
3. Un sustrato transparente revestido según la
reivindicación 1 ó 2, en el que la capa reflectora exterior
comprende óxido de titanio.
4. Un sustrato transparente revestido según la
reivindicación 3, en el que la capa reflectora exterior comprende
óxidos de titanio y de estaño.
5. Un sustrato transparente revestido según la
reivindicación 4, en el que la capa reflectora exterior comprende
por lo menos un 50% en volumen de óxido de estaño y por lo menos un
30% en volumen de óxido de titanio.
6. Un sustrato transparente revestido según la
reivindicación 4 ó 5, en el que la capa reflectora exterior tiene
un espesor geométrico en la gama de 40 a 75 nm.
7. Un sustrato transparente revestido según la
reivindicación 6, en el que la capa reflectora exterior tiene un
espesor en la gama de 60 a 70 nm.
8. Un sustrato transparente revestido según
cualquiera de las reivindicaciones anteriores, en el que la
relación molar Sb/Sn de la capa de revestimiento principal está en
la gama de 0,01 a 0,5.
9. Un sustrato transparente revestido según la
reivindicación 8, en el que la relación molar Sb/Sn está en la gama
de 0,03 a 0,21.
10. Un sustrato transparente revestido según
cualquiera de las reivindicaciones anteriores, en el que la capa de
revestimiento principal incluye además un aditivo que comprende uno
o más de los metales aluminio, cromo, cobalto, hierro, manganeso,
magnesio, níquel, titanio, vanadio, zinc y circonio.
11. Un sustrato transparente revestido según la
reivindicación 10, en el que el aditivo se selecciona entre cromo,
hierro y magnesio.
12. Un sustrato transparente revestido según
cualquiera de las reivindicaciones anteriores, en el que la pila de
revestimiento comprende además una capa inferior situada entre el
sustrato y la capa de revestimiento principal.
13. Un sustrato transparente revestido según la
reivindicación 12, en el que la capa inferior comprende uno o más
óxidos de silicio.
14. Un sustrato transparente revestido según la
reivindicación 12, en el que la capa inferior comprende
alúmina.
15. Un sustrato transparente revestido según
cualquiera de las reivindicaciones 12 a 13, en el que el espesor
geométrico de la capa inferior está en la gama de 60 a 75 nm.
16. Un sustrato transparente revestido según
cualquiera de las reivindicaciones 12 a 14, en el que la capa
inferior imparte al sustrato revestido un tono más neutro en la
reflexión.
17. Un sustrato transparente revestido según
cualquiera de las reivindicaciones anteriores, en el que la pila de
revestimiento comprende además una capa intermedia situada entre la
capa de revestimiento principal y la capa reflectora exterior.
18. Un sustrato transparente revestido según la
reivindicación 17, en el que la capa intermedia comprende óxido de
aluminio u óxido de silicio.
19. Un sustrato transparente revestido según
cualquiera de las reivindicaciones anteriores, que tiene una
transmitancia luminosa (TL) de por lo menos el 60%.
20. Un sustrato transparente revestido según
cualquiera de las reivindicaciones anteriores, que tiene una
reflectancia (RL) de por lo menos el 15%.
21. Un sustrato transparente revestido según
cualquiera de las reivindicaciones anteriores, que tiene una
reflectancia (RL) máxima del 25%.
22. Un sustrato transparente revestido según la
reivindicación 21, que tiene una reflectancia (RL) máxima del
20%.
23. Un panel acristalado que comprende un
sustrato transparente revestido según cualquiera de las
reivindicaciones anteriores.
24. Un panel acristalado según la reivindicación
23, que comprende dos o más hojas con sustrato de las que una es un
sustrato transparente revestido según cualquiera de las
reivindicaciones 1 a 22.
25. Un panel acristalado según la reivindicación
23 o la reivindicación 24, a utilizar como panel acristalado para
edificios.
26. Un panel acristalado según la reivindicación
23 o la reivindicación 24, a utilizar como ventana para
vehículos.
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