ES2198904T3 - Sustrato revestido de alta reflectancia. - Google Patents

Sustrato revestido de alta reflectancia.

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ES2198904T3 ES99911530T ES99911530T ES2198904T3 ES 2198904 T3 ES2198904 T3 ES 2198904T3 ES 99911530 T ES99911530 T ES 99911530T ES 99911530 T ES99911530 T ES 99911530T ES 2198904 T3 ES2198904 T3 ES 2198904T3
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Abstract

Se presenta un substrato transparente revestido con una alta reflectancia especialmente para su uso como paneles de acristalamiento exterior para edificios, que soportan un revestimiento extratificado que comprende una capa principal pirolíticamente formada que contiene óxidos de estaño y antimonio, en donde la capa principal tiene un grosor geométrico de al menos 250 nm y la estratificación incluye una capa reflectante exterior que tiene un grosor geométrico de entre 30 y 150 nm y un índice refractivo de entre 2,0 y 2,8, mediante lo cual el substrato así revestido tiene una reflectancia (RL) superior al 10%.

Description

Sustrato revestido de alta reflectancia.
La presente invención se refiere a un sustrato revestido de alta reflectancia. Está relacionado en especial con sustratos de vidrio transparente que llevan un revestimiento de óxidos de estaño y de antimonio y con el uso de tales sustratos en paneles acristalados exteriores para edificios.
Aunque los arquitectos que buscan paneles acristalados para su uso en edificios han tendido tradicionalmente a favorecer los paneles con bajos niveles de reflexión, una cambiante percepción del atractivo estético ha conducido a que aumente la demanda de paneles con niveles de reflexión más altos pero sin deslumbramiento, vistos desde el exterior, que está asociado con niveles de reflexión muy altos. A los paneles se les puede exigir también que tengan otras cualidades tales como dar protección a los ocupantes del edificio contra la radiación solar y el sobrecalentamiento asociado (propiedades de apantallamiento solar).
Los paneles comprenden por lo menos una hoja de un material de sustrato transparente, típicamente vidrio de cal sodada, con un revestimiento de estaño en una o más de las caras de la hoja para modificar las propiedades ópticas y físicas de la hoja y del panel como conjunto. Para el revestimiento se han presentado una enorme variedad de propuestas anteriores, de acuerdo con las propiedades específicas buscadas. El revestimiento puede comprender una pila de varias capas discretas elegidas con composiciones y espesores apropiados para complementar sus respectivos efectos. Un problema persistente en la elección de las capas respectivas es que una capa adoptada con un fin puede cambiar de manera adversa el efecto de las otras capas.
El óxido de estaño (SnO_{2}) se ha venido utilizando ampliamente como material de revestimiento, a menudo en combinación con otros óxidos metálicos. Los revestimientos que comprenden óxido de estaño con una pequeña proporción de óxido de antimonio han resultado ser especialmente atractivos.
Nuestra patente GB 1455148 describe un método para formar pirolíticamente un revestimiento de uno o más óxidos (p. ej. ZrO_{2}, SnO_{2}, Sb_{2}O_{3}, TiO_{2}, CO_{3}O_{4}, Cr_{2}O_{3}, SiO_{2}) sobre un sustrato, fundamentalmente pulverizando compuestos de un metal o silicio, para modificar la transmisión de la luz y/o la reflexión de la luz del sustrato. Nuestra patente GB 2078213, que se refiere a un método para formar pirolíticamente un revestimiento mediante dos pulverizaciones separadas para conseguir altas velocidades de constitución del revestimiento, describe revestimientos de óxido de estaño dopados con flúor o antimonio. Nuestra patente GB 2200139 se refiere a la formación de un revestimiento pirolítico de óxido de estaño a partir de un precursor que contiene por lo menos dos aditivos tales como agentes oxidantes, fuentes de flúor y fuentes de metal.
Se ha descubierto que el uso de un revestimiento de óxido de estaño con una pequeña proporción de óxido de antimonio ofrece varias combinaciones ventajosas de propiedades ópticas y de energía. Nuestras solicitudes de patente GB 2302101 (`101) y 2302102 (`102) describen paneles acristalados antisolares que comprenden una capa de revestimiento pirolítico de óxidos de estaño y antimonio en donde la relación molar Sb/Sn está entre 0,01 y 0,5. El revestimiento `101 se aplica mediante pulverización líquida y tiene un espesor de por lo menos 400 nm, una transmitancia luminosa de menos del 35% y una selectividad de por lo menos 1,3. El revestimiento `102 se aplica por deposición de vapor química (CVD) y tiene un factor solar inferior al 70%.
El uso de la pirólisis para formar un revestimiento sobre un sustrato tiene en general la ventaja de producir un revestimiento duro con propiedades duraderas de resistencia a la abrasión y resistencia a la corrosión. Se cree que esto es debido en particular al hecho de que el proceso implica la deposición de material del revestimiento sobre un sustrato que está caliente. La pirólisis es también generalmente más barata que los procesos de revestimiento alternativos tales como la deposición electrónica, en particular en cuanto a la inversión en equipos.
Las propiedades del sustrato revestido que aquí se discuten están basadas en las definiciones normalizadas de la International Commission on Illumination — Commission International de l'Eclairage ("CIE"). La fuente luminosa para las pruebas fue el patrón de luz C, que representa la luz del día media que tiene una temperatura del color de 6700 K y es especialmente útil para evaluar las propiedades ópticas del vidrio destinado al uso en edificios.
La "transmitancia luminosa" (TL) es el flujo luminoso transmitido a través de un sustrato como porcentaje del flujo luminoso incidente.
La "reflectancia luminosa" (RL) es el flujo luminoso reflejado por un sustrato como porcentaje del flujo luminoso incidente.
La "pureza" (p) del color del sustrato se refiere a la pureza de excitación en la transmisión o la reflexión.
La "longitud de onda dominante" (\lambda_{D}) es la longitud de onda de pico en la gama transmitida o reflejada.
El "factor solar" (FS), que se refiere a la transmisión de la radiación solar incidente total a través del sustrato revestido, es la suma de la energía total directamente transmitida (TE) y de la energía que es absorbida y vuelta a radiar por el lado del sustrato revestido alejado de la fuente de energía, como proporción de la energía radiante incidente total.
La "selectividad" de un sustrato revestido para su uso en un panel acristalado para edificios es la relación entre la transmitancia luminosa y el factor solar (TL/FS).
Uno de los objetos de la presente invención es proporcionar un revestimiento formado pirolíticamente sobre un sustrato para impartir al sustrato propiedades de apantallamiento solar y una alta reflectancia.
Hemos descubierto que éste y otros objetivos útiles pueden alcanzarse depositando una pila de revestimientos que comprende una capa superior definida sobre una capa principal que comprende óxidos de estaño y de antimonio.
De acuerdo con la invención, se proporciona un sustrato transparente que lleva una pila de revestimiento que comprende una capa principal formada pirolíticamente que contiene óxidos de estaño y de antimonio, caracterizada porque la capa principal tiene un espesor geométrico de por lo menos 250 nm y porque la pila incluye una capa reflectora exterior que tiene un espesor geométrico en la gama de 30 a 150 nm y que tiene un índice de refracción en la gama de 2,0 a 2,8, con lo que el sustrato así revestido tiene una reflectancia (RL) de más del 10%.
La presencia de la capa reflectora exterior crea una mejora en la reflectancia luminosa (RL) del sustrato revestido, aumentando la reflectancia desde menos del 10% a más del 10% y, en general, hasta por lo menos el 15% e incluso alrededor del 25%. Además, estos aumentos se consiguen sin que las demás propiedades ópticas del sustrato se lleven más allá de límites aceptables. La capa exterior es también beneficiosa porque mejora además la resistencia a la abrasión y a la corrosión del revestimiento.
Aunque la invención se describe aquí fundamentalmente con referencia a paneles acristalados para edificios, los paneles, de acuerdo con la invención, son adecuados para otras aplicaciones tales como ventanas de vehículos, en particular techos corredizos de vehículos.
La capa reflectora exterior contiene preferentemente un óxido de uno o más de los metales níquel, estaño, titanio, zinc y circonio. Estos materiales forman fácilmente por pirólisis un revestimiento con el índice de refracción requerido.
La capa reflectora exterior comprende preferentemente óxido de titanio. Este ofrece una elevada reflectancia luminosa con un espesor de revestimiento muy delgado. Preferentemente, el revestimiento contiene óxido de titanio junto con óxido de estaño. Esto confiere al revestimiento una mejor resistencia a la abrasión y química. Ese revestimiento contiene más preferentemente por lo menos el 50% en volumen de óxido de estaño y por lo menos el 30% en volumen de óxido de titanio. El espesor geométrico preferido para un revestimiento de óxido de titanio está en la gama de
\hbox{45-55}
nm. El espesor geométrico preferido para la capa reflectora de óxidos de estaño/titanio está en la gama de 40 a 75 nm. Por debajo de 40 nm la capa puede no ser suficiente para modificar las propiedades ópticas, especialmente la reflectancia, del producto revestido. Por encima de 75 nm el nivel de reflexión luminosa puede ser indebidamente alto y los efectos ópticos de la capa superior tenderán a enmascarar los efectos ópticos de las demás capas de la pila. Más preferentemente, dicha capa tiene un espesor en la gama de 60 a 75 nm. Esta gama permite conseguir una buena estabilidad óptica para la pila de revestimiento. Estabilidad óptica significa que las variaciones de espesor de la capa, inherentes a la producción industrial, no provocan cambios importantes en las propiedades ópticas, en particular en los valores a y b de Hunter y en la pureza de la reflexión. La estabilidad óptica es incluso mejor cuando la capa superior tiene un espesor entre 60 y 70 nm.
Los materiales de óxidos de Sb/Sn de la capa principal imparten al sustrato revestido buenas propiedades antisolares. El espesor geométrico de por lo menos 250 nm para esta capa representa la gama óptima para una capa en lo que se refiere a proporcionar las propiedades de apantallamiento solar perseguidas y un tono neutro. Preferentemente, dicho espesor es inferior a 650 nm, por motivos económicos y prácticos. Más preferentemente, el espesor está en la gama de 300 a 360 nm. Esta gama permite conseguir productos revestidos con suficientes propiedades de apantallamiento solar y que presentan estabilidad óptica.
Preferentemente, el producto revestido tiene un valor a de Hunter entre 0 y -2 y un valor b de Hunter entre
\hbox{-4 y –2}
, lo que significa un aspecto ligeramente azulado en la reflexión. La pureza de reflexión es preferentemente baja, es decir, menos del 10%, preferentemente entre 4 y 7,5.
Como se describe en nuestra anterior especificación de patente GB-A-2302102, la relación molar Sb/Sn en la capa principal de revestimiento está preferentemente en la gama de 0,01 a 0,5, más preferentemente en la gama de 0,03 a 0,21.
Como se ha descrito y reivindicado en nuestra solicitud de patente, también pendiente, que lleva la misma fecha que la presente solicitud, la reflectancia del sustrato revestido puede mejorarse más incluyendo también en la capa de revestimiento principal un aditivo que comprende uno o más de los metales aluminio, cromo, cobalto, manganeso, magnesio, níquel, titanio, vanadio, zinc y circonio. Dicho aditivo se selecciona preferentemente entre cromo, hierro y magnesio.
En una realización de la invención, la pila de revestimiento comprende además una capa inferior situada entre el sustrato y la capa principal de revestimiento. La capa inferior sirve para mejorar el atractivo estético del revestimiento tanto disminuyendo o eliminando la turbiedad en la pila de revestimiento como neutralizando el color que el óxido de estaño de la capa principal tiende a impartir a la pila.
Los materiales adecuados para la capa inferior incluyen uno o más revestimientos a base de óxido de silicio o alúmina, por ejemplo, alúmina con una pequeña proporción de óxido de vanadio. En el caso de óxidos de silicio, se prefiere utilizar un material no completamente oxidado, es decir, SiO_{x} donde x es menor que 2, que puede tener la estructura general del SiO_{2} pero que tiene una proporción de huecos que se llenarían con oxígeno en el dióxido. Esto puede conseguirse empleando oxígeno en una cantidad insuficiente para la oxidación completa del material de la capa inferior del sustrato.
El espesor geométrico preferido de la capa inferior está en la gama de 60 a 75 nm. Esta es la gama en la que la capa inferior tiende mejor a impartir a la pila de revestimiento un punto no neutro en la reflexión.
En otra realización de la invención, la pila de revestimiento comprende también una capa intermedia situada entre la capa de revestimiento principal y la capa reflectora exterior. Esta capa intermedia es otro medio de aumentar la reflectancia luminosa del sustrato revestido. Los materiales adecuados para la capa intermedia incluyen óxidos de aluminio o silicio, que pueden ser utilizados solos o mezclados.
Como la presencia de flúor tiende a obstaculizar la incorporación de ciertos elementos, tales como antimonio, a las capas de revestimiento, es deseable que se excluya el flúor de las capas de revestimiento de la invención.
Preferentemente, como se ha discutido antes, la reflectancia (RL) del sustrato revestido es por lo menos del 15% pero no tan grande que produzca deslumbramiento en la reflexión. Por lo tanto, se prefiere que el sustrato revestido tenga una reflectancia (RL) máxima del 25%, más preferentemente una reflectancia máxima del 20%.
Se requiere casi siempre que el panel acristalado transmita una proporción suficiente de luz visible con el fin de permitir una buena iluminación natural hacia el interior del edificio o vehículo y una buena visibilidad hacia fuera. La transmitancia luminosa (TL) de un sustrato revestido de acuerdo con la invención es preferentemente superior al 60%.
Es deseable aumentar a un elevado nivel la selectividad del revestimiento, es decir, la relación entre la transmitancia y el factor solar. Se prefiere que la selectividad sea superior a 1,00.
La invención incluye dentro de su ámbito un panel acristalado que comprende un sustrato transparente revestido como se define aquí. El panel puede ser una sola hoja o alternativamente puede incluir dos o más hojas con sustrato en un conjunto de acristalado múltiple o laminado. En un conjunto de acristalado múltiple o laminado se prefiere que sólo una de las hojas constituyentes lleve el revestimiento.
Los métodos pirolíticos son generalmente preferidos para la aplicación de todas las capas de la pila de revestimiento de la invención. Los revestimientos obtenidos por pirólisis son ventajosos generalmente porque tienen una resistencia mecánica mayor que los revestimientos obtenidos por otros métodos. Los materiales reactivos a pirolizar pueden aplicarse al sustrato por deposición de vapor química (CVD o "pirólisis de vapor") o como pulverización líquida ("pirólisis líquida").
La aplicación de un revestimiento pirolítico a vidrio plano se consigue mejor cuando el vidrio está recién formado, por ej., cuando sale de una línea de baño de metal líquido del vidrio. Esto proporciona beneficios económicos al evitar la necesidad de volver a calentar el vidrio para que tengan lugar las reacciones pirolíticas y en la calidad del revestimiento, ya que la superficie del vidrio recién formado está en estado prístino.
Preferentemente, la fuente de estaño para la capa principal se selecciona entre SnCl_{2}, SnCl_{4}, Sn(CH_{3})_{2}Cl_{2}, tetrametil estaño o monobutil tricloroestaño ("MBTC"). La fuente de antimonio para la capa principal puede seleccionarse entre SbCl_{5}, SbCl_{3}, compuestos de antimonio orgánicos tales como Sb(OCH_{2}CH_{3})_{3}, Cl_{1.7}Sb(OCH_{2}CH_{3})_{1.3}, Cl_{2}SbOCHClCH_{3}, Cl_{2}SbOCH_{2}CHCH_{3}Cl y Cl_{2}SbOCH_{2}C(CH_{3})_{2}Cl. La fuente de cualquier aditivo metálico para la capa principal puede ser de manera similar un compuesto organometálico o de cloruro adecuado del metal respectivo.
Las fuentes de reactivos para las respectivas capas se forman preferentemente en mezclas iniciales únicas para cada una de las capas, con lo que todos los reactivos iniciales para una capa dada se aplican simultáneamente al sustrato.
Para formar una capa de revestimiento por CVD, se aplica la mezcla de reactivos respectiva, típicamente a través de una tobera, al sustrato en una cámara de revestimiento. Cuando esta mezcla comprende cloruros que son líquidos a temperatura ambiente, se vaporiza en una corriente caliente de gas portador anhidro como nitrógeno. La vaporización es facilitada por la atomización de esos reactivos en el gas portador. Para producir los óxidos, los cloruros se ponen en presencia de una fuente de oxígeno, por ejemplo, vapor de agua.
Para formar tal revestimiento se describen métodos y dispositivos, por ejemplo, en la patente francesa N° 2348166 o en la solicitud de patente francesa N° 2648453. Estos métodos y dispositivos conducen a la formación de revestimientos especialmente fuertes con propiedades ópticas ventajosas.
Para formar el revestimiento por un método de pulverización, el sustrato puede ponerse en contacto con una pulverización de gotitas que contienen los materiales reactivos respectivos. La pulverización se aplica mediante una o más toberas de pulverización dispuestas para seguir un recorrido que proporciona el revestimiento a lo largo de la anchura de la banda a revestir.
La CVD ofrece ventajas sobre los líquidos pulverizados al proporcionar revestimientos de espesor y composición regulares, siendo importante esta uniformidad del revestimiento cuando el producto tiene que cubrir una superficie grande. Un revestimiento pulverizado tiende también a retener trazas de las gotitas pulverizadas y del recorrido de la pistola pulverizadora. Además, la pirólisis de los líquidos pulverizados se limita esencialmente a la fabricación de revestimientos de óxido, como SnO_{2} y TiO_{2}. Es difícil también hacer revestimientos multicapa utilizando líquidos pulverizados porque cada deposición del revestimiento produce un importante enfriamiento del sustrato. Además, la CVD es más económica en cuanto a las materias primas, lo que conduce a un menor despilfarro.
No obstante, a pesar de estas desventajas del método de pulverización, se considera sin embargo conveniente y barato de aplicar y emplea un equipo sencillo. Por lo tanto, se adopta a menudo, especialmente para la formación de capas de revestimiento gruesas.
Los paneles acristalados que incorporan sustratos revestidos, de acuerdo con la invención, pueden ser fabricados como sigue. Cada fase de revestimiento pirolítico puede realizarse a una temperatura de por lo menos 400ºC, idealmente de 550ºC a 750ºC. Los revestimientos pueden formarse sobre una hoja de vidrio que se mueve en un horno de túnel o sobre una banda de vidrio durante su formación, mientras esté aún caliente. Los revestimientos pueden formarse en el interior del túnel de recocido que sigue al dispositivo de formación de la banda de vidrio o en el interior del tanque de flotación sobre la cara superior de la banda de vidrio mientras esta última está flotando en un baño de estaño fundido.
La invención se describe más en detalle a continuación con referencia a los siguientes ejemplos no limitativos.
Ejemplo 1
Se aplicó una pila de revestimiento a vidrio de cal sodada transparente de 6 mm de espesor en baño de metal líquido en una serie de estaciones de revestimiento, cada una de ellas situada en una posición de una cámara de flotación donde el vidrio estaba a una elevada temperatura. Se aplicó primero una capa inferior que comprendía óxidos de aluminio y de vanadio pulverizando sobre el vidrio, que en esta etapa inicial estaba a una temperatura superior a 550ºC, una solución en ácido acético cristalizado de 220 g/l de acetilacetonato de aluminio y 12 g/l de triacetil-acetonato de vanadio para formar una capa de aproximadamente 75 nm de espesor geométrico. A continuación, se aplicó una capa principal, que comprendía óxidos de estaño y de antimonio, pulverizando sobre el vidrio, a una temperatura de aproximadamente 550ºC, una solución que comprendía SnCl_{2} y SbCl_{3}. Las proporciones de Sn y Sb daban una relación Sb/Sn en la capa de 0,05 y el espesor de la capa formada fue de 430 nm. Finalmente, se aplicó una capa superior que comprendía óxidos de estaño y de titanio pulverizando una solución en dimetilformamida que comprendía dibutilacetato de estaño y un quelato de titanio formado a partir de titanato de octileno glicol y de acetilacetona. La capa superior contenía un 60% de SnO_{2} en volumen y un 40% de TiO_{2} en volumen y tenía un espesor geométrico de 70 nm.
El sustrato así revestido se colocó en un armazón para formar un panel acristalado con la pila de revestimiento mirando hacia fuera. Las propiedades ópticas del sustrato se midieron por el lado exterior.
Las propiedades del panel acristalado eran las que se muestran en la Tabla adjunta.
Ejemplos 2 a 11
Se aplicó una pila de revestimiento a vidrio de cal sodada transparente de 6 mm de espesor en baño de metal líquido en una serie de estaciones de revestimiento, cada una de ellas situada en una posición en una cámara de flotación en la que el vidrio estaba a una elevada temperatura. Se aplicó primero una capa inferior de óxido de silicio SiO_{x} en una estación de revestimiento situada en una posición a lo largo de la cámara de flotación en la que el vidrio estaba a una temperatura de aproximadamente 700ºC. El tubo de suministro se alimentó con nitrógeno, se introdujo en él silano con una presión parcial del 0,2% y se introdujo oxígeno con una presión parcial del 0,36%. Se obtuvo un revestimiento de SiO_{x}, donde x era aproximadamente igual a 1,78, con un índice de refracción de aproximadamente 1,69. La capa tenía el espesor geométrico especificado en la tabla. A continuación, se aplicó una capa principal, que contenía óxidos de estaño y antimonio, por pirólisis de CVD, utilizando una mezcla de reactivos vaporizada de MBTC como fuente de estaño y SbCl_{3} como fuente de antimonio. Se formó una capa de revestimiento de óxidos de estaño/antimonio que contenía estaño y antimonio con una relación molar Sb/Sn de 0,05, con el espesor especificado en la tabla.
Finalmente, se aplicó una capa superior que comprendía óxidos de estaño y de titanio pulverizando una solución en dimetilformamida que comprendía dibutilacetato de estaño y un quelato de titanio formado a partir de titanato de octileno glicol y de acetilacetona. La capa superior contenía un 60% de SnO_{2} en volumen y un 40% de TiO_{2} en volumen y tenía el espesor geométrico especificado en la tabla.
El sustrato así revestido se colocó en un armazón para formar un panel acristalado con la pila de revestimiento mirando hacia fuera. Las propiedades ópticas del sustrato se midieron por el lado exterior.
Ejemplos 12 a 19
El procedimiento de los ejemplos 12 a 19 fue el mismo que para los ejemplos 2 a 11, excepto que la capa superior estaba hecha de TiO_{2} puro, partiendo de quelato de titanio formado a partir de titanato de octileno glicol y de acetilacetona. En los ejemplos 16 a 19, la capa de revestimiento de óxidos de estaño/antimonio contiene estaño y antimonio en una relación molar Sb/Sn de 0,1.
Ejemplos comparativos C.1 a C.10
Se preparó un sustrato revestido como se describe en los ejemplos 2 a 19 pero con la diferencia de que no se aplicó ninguna capa superior sobre la capa principal. En los ejemplos comparativos C1 a C8 la relación molar Sb/Sn de la capa de revestimiento de estaño/antimonio era 0,05. En los ejemplos comparativos C9 y C10, esta relación molar es 0,1. Las propiedades del panel acristalado así formado se muestran también en la Tabla adjunta.
La comparación de los resultados muestra una mejora importante en la reflectancia luminosa del panel, desde menos del 10% a más del 24% con una capa superior de TiO_{2} puro. La mejora iba acompañada de una cierta disminución de la transmitancia luminosa pero ésta seguía estando dentro de límites aceptables.
TABLA
Ejemplos 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11
Espesor de la capa inferior (nm) 75 62,5 62,5 67,5 67,5 72,5 62,5 62,5 67,5 67,5 60
Espesor de la capa principal (nm) 430 342,5 342,5 342,5 342,5 342,5 347,5 347,5 347,5 347,5 350
Espesor de la capa superior (nm) 70 64 68 64 68 62 64 68 64 68 69
Reflectancia luminosa (RL) (%) 21,7 18,4 18,4 18,6 18,6 18,7 18,4 18,5 18,6 18,6 18,4
Valor a de Hunter en reflexión 0,1 0,44 -0,53 -0,2 -0,95 -0,3 -0,62 -1,61 -1 -1,8 -2,3
Valor b de Hunter en reflexión -2,6 -3,84 -2,3 -3,5 -2,07 -3,9 -3,64 -2,04 -3,42 -1,93 -1,5
Pureza del color en reflexión (%) 4,2 6,5 4,6 6,4 4,6 7,1 7 5,1 6,9 5 4,8
\lambda_{D} en reflexión (nm) 488 475 480 478 483 478 480 485 481 486 488
Transmitancia luminosa (TL) (%) 42,3 64,8 64,8 64,7 64,7 64,6 64,7 64,65 64,6 64,5 64,6
Factor solar (FS) (%) 42,6 59 58,8 59 58,9 59,1 58,8 58,6 58,8 58,7 58,5
Selectividad (TL/FS) 0,99 1,10 1,10 1,10 1,10 1,10 1,10 1,10 1,10 1,10 1,10
Ejemplos comparativos C1 C2 C3 C4 C5 C6
Espesor de la capa inferior (nm) 62,5 67,5 72,5 62,5 67,5 60
Espesor de la capa principal (nm) 342,5 342,5 342,5 347,5 347,5 350
Reflectancia luminosa (RL) (%) 12,7 12,5 12,3 12,7 12,5 12,8
Valor a de Hunter en reflexión -2,4 -1,5 -0,82 -1,4 -0,75 -1,2
Valor b de Hunter en reflexión 2,3 1,4 0,63 2,2 1,4 2,4
Pureza del color en reflexión (%) 4,8 3 1,2 5 3,3 5,7
\lambda_{D} en reflexión (nm) 559 559 552 567 569 569
Transmitancia luminosa (TL) (%) 69,9 70,1 70,2 69,7 69,9 69,6
Factor solar (FS) (%) 65,4 65,4 65,3 65,2 65,2 65,1
Selectividad (TL/FS) 1,07 1,07 1,08 1,07 1,07 1,07
TABLA (continuación)
Ejemplos 12 13 14 15 16 17 18 19
Espesor de la capa inferior (nm) 70 70 70 70 70 70 70 70
Espesor de la capa principal (nm) 300 291,8 413,6 393,3 313,3 292,4 391,2 400
Espesor de la capa superior (nm) 25,5 40,5 27,1 45,2 21,5 39,1 28,6 50,1
Reflectancia luminosa (RL) (%) 19 24,6 18,3 24,4 15,4 22,6 16,7 24,5
Valor a de Hunter en reflexión -1,7 -1,1 -3,1 -3,7 -0,7 -0,9 - 1,1 -4,0
Valor b de Hunter en reflexión -4,6 -3,7 -7,1 -5,3 -4,4 -4,7 - 9,7 -3,2
Pureza del color en reflexión (%) 9,3 6,5 14,8 10,7 9,0 8,0 17,7 8,0
\lambda_{D} en reflexión (nm) 481,9 481,1 482,4 484,4 479,4 480,0 478,8 487,1
Transmitancia luminosa (TL) (%) 66,7 62,4 63,2 59,1 48,6 46,0 42,2 37,7
Factor solar (FS) (%) 61,7 58,8 57,4 54,7 50,6 48,9 45,8 41,8
Selectividad (TUFS) 1,08 1,06 1,10 1,08 0,96 0,94 0,92 0,90
Ejemplos comparativos C7 C8 C9 C10
Espesor de la capa inferior (nm) 70 70 70 70
Espesor de la capa principal (nm) 300 413,6 313,3 391,2
Reflectancia luminosa (RL) (%) 9,8 9,5 9,5 9,2
Valor a de Hunter en reflexión -2,9 1,9 -4,1 3,1
Valor b de Hunter en reflexión -2,8 -3,0 -1,4 -2,3
Pureza del color en reflexión (%) 9,7 5,7 8,4 6,8
\lambda_{D} en reflexión (nm) 486,1 -566,7 490,7 -550,8
Transmitancia luminosa (TL) (%) 74,5 70,2 52,8 46,2
Factor solar (FS) (%) 67,7 63,2 54,4 49,7
Selectividad (TL/FS) 1,10 1,11 0,97 0,93

Claims (26)

1. Un sustrato transparente que lleva una pila de revestimiento que comprende una capa principal formada pirolíticamente que contiene óxidos de estaño y de antimonio, caracterizado porque la capa principal tiene un espesor geométrico de por lo menos 250 nm y porque la pila incluye una capa reflectora exterior que tiene un espesor geométrico en la gama de 30 a 150 nm y que tiene un índice de refracción en la gama de 2,0 a 2,8, con lo que el sustrato así revestido tiene una reflectancia (RL) de más del 10%.
2. Un sustrato transparente revestido según la reivindicación 1, en el que la capa reflectora exterior contiene un óxido de uno o más de los metales níquel, estaño, titanio, zinc y circonio.
3. Un sustrato transparente revestido según la reivindicación 1 ó 2, en el que la capa reflectora exterior comprende óxido de titanio.
4. Un sustrato transparente revestido según la reivindicación 3, en el que la capa reflectora exterior comprende óxidos de titanio y de estaño.
5. Un sustrato transparente revestido según la reivindicación 4, en el que la capa reflectora exterior comprende por lo menos un 50% en volumen de óxido de estaño y por lo menos un 30% en volumen de óxido de titanio.
6. Un sustrato transparente revestido según la reivindicación 4 ó 5, en el que la capa reflectora exterior tiene un espesor geométrico en la gama de 40 a 75 nm.
7. Un sustrato transparente revestido según la reivindicación 6, en el que la capa reflectora exterior tiene un espesor en la gama de 60 a 70 nm.
8. Un sustrato transparente revestido según cualquiera de las reivindicaciones anteriores, en el que la relación molar Sb/Sn de la capa de revestimiento principal está en la gama de 0,01 a 0,5.
9. Un sustrato transparente revestido según la reivindicación 8, en el que la relación molar Sb/Sn está en la gama de 0,03 a 0,21.
10. Un sustrato transparente revestido según cualquiera de las reivindicaciones anteriores, en el que la capa de revestimiento principal incluye además un aditivo que comprende uno o más de los metales aluminio, cromo, cobalto, hierro, manganeso, magnesio, níquel, titanio, vanadio, zinc y circonio.
11. Un sustrato transparente revestido según la reivindicación 10, en el que el aditivo se selecciona entre cromo, hierro y magnesio.
12. Un sustrato transparente revestido según cualquiera de las reivindicaciones anteriores, en el que la pila de revestimiento comprende además una capa inferior situada entre el sustrato y la capa de revestimiento principal.
13. Un sustrato transparente revestido según la reivindicación 12, en el que la capa inferior comprende uno o más óxidos de silicio.
14. Un sustrato transparente revestido según la reivindicación 12, en el que la capa inferior comprende alúmina.
15. Un sustrato transparente revestido según cualquiera de las reivindicaciones 12 a 13, en el que el espesor geométrico de la capa inferior está en la gama de 60 a 75 nm.
16. Un sustrato transparente revestido según cualquiera de las reivindicaciones 12 a 14, en el que la capa inferior imparte al sustrato revestido un tono más neutro en la reflexión.
17. Un sustrato transparente revestido según cualquiera de las reivindicaciones anteriores, en el que la pila de revestimiento comprende además una capa intermedia situada entre la capa de revestimiento principal y la capa reflectora exterior.
18. Un sustrato transparente revestido según la reivindicación 17, en el que la capa intermedia comprende óxido de aluminio u óxido de silicio.
19. Un sustrato transparente revestido según cualquiera de las reivindicaciones anteriores, que tiene una transmitancia luminosa (TL) de por lo menos el 60%.
20. Un sustrato transparente revestido según cualquiera de las reivindicaciones anteriores, que tiene una reflectancia (RL) de por lo menos el 15%.
21. Un sustrato transparente revestido según cualquiera de las reivindicaciones anteriores, que tiene una reflectancia (RL) máxima del 25%.
22. Un sustrato transparente revestido según la reivindicación 21, que tiene una reflectancia (RL) máxima del 20%.
23. Un panel acristalado que comprende un sustrato transparente revestido según cualquiera de las reivindicaciones anteriores.
24. Un panel acristalado según la reivindicación 23, que comprende dos o más hojas con sustrato de las que una es un sustrato transparente revestido según cualquiera de las reivindicaciones 1 a 22.
25. Un panel acristalado según la reivindicación 23 o la reivindicación 24, a utilizar como panel acristalado para edificios.
26. Un panel acristalado según la reivindicación 23 o la reivindicación 24, a utilizar como ventana para vehículos.
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