RU2015123270A - Способ нанесения покрытий путем плазменного напыления и устройство для его осуществления - Google Patents

Способ нанесения покрытий путем плазменного напыления и устройство для его осуществления Download PDF

Info

Publication number
RU2015123270A
RU2015123270A RU2015123270A RU2015123270A RU2015123270A RU 2015123270 A RU2015123270 A RU 2015123270A RU 2015123270 A RU2015123270 A RU 2015123270A RU 2015123270 A RU2015123270 A RU 2015123270A RU 2015123270 A RU2015123270 A RU 2015123270A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
plasma
target
products
cathode
plasma spraying
Prior art date
Application number
RU2015123270A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2607398C2 (ru
Inventor
Владимир Михайлович Кайбышев
Станислав Владиславович Коновалов
Аркадий Геннадьевич Стародубов
Original Assignee
Общество с ограниченной ответственностью "Плазма-Пактер"
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Общество с ограниченной ответственностью "Плазма-Пактер" filed Critical Общество с ограниченной ответственностью "Плазма-Пактер"
Priority to RU2015123270A priority Critical patent/RU2607398C2/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2015123270A publication Critical patent/RU2015123270A/ru
Publication of RU2607398C2 publication Critical patent/RU2607398C2/ru

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34—Sputtering
    • C23C14/3471—Introduction of auxiliary energy into the plasma
    • C23C14/3478—Introduction of auxiliary energy into the plasma using electrons, e.g. triode sputtering
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof

Claims (2)

1. Способ ионно-плазменного напыления покрытий на изделия в вакууме, характеризующийся тем, что изделия размещают внутри плазменного устройства, содержащего мишень из распыляемого материала, и путем наложения сконфигурированного электрического и магнитного полей в условиях тлеющего плазменного разряда осуществляют сжатие плазменного потока и его локальную фокусировку в центре вершины мишени с образованием на ее поверхности локального плазменного пятна в пределах 1 мм2.
2. Устройство для ионно-плазменного напыления покрытий на изделия, характеризующееся тем, что оно включает размещаемую внутри вакуумной камеры и заполняемую в процессе работы плазмообразующим газом плазменную ячейку, образованную между двумя паралелльно расположенными пластинами и содержащую расположенные соосно катод, мишень из распыляемого материала, анод и фокусирующие электроды, при этом катод выполнен в виде стержневого держателя мишени, напыляемые изделия закреплены в одном из фокусирующих электродов, а катод с мишенью установлены внутри полого цилиндрического магнита, имеющего осевую намагниченность.
RU2015123270A 2015-06-17 2015-06-17 Способ нанесения покрытий путем плазменного напыления и устройство для его осуществления RU2607398C2 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2015123270A RU2607398C2 (ru) 2015-06-17 2015-06-17 Способ нанесения покрытий путем плазменного напыления и устройство для его осуществления

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2015123270A RU2607398C2 (ru) 2015-06-17 2015-06-17 Способ нанесения покрытий путем плазменного напыления и устройство для его осуществления

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2015123270A true RU2015123270A (ru) 2017-01-10
RU2607398C2 RU2607398C2 (ru) 2017-01-10

Family

ID=57955745

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2015123270A RU2607398C2 (ru) 2015-06-17 2015-06-17 Способ нанесения покрытий путем плазменного напыления и устройство для его осуществления

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2607398C2 (ru)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU192230U1 (ru) * 2019-01-31 2019-09-09 Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет "ЛЭТИ" им. В.И. Ульянова (Ленина) Устройство для вакуумно-плазменого нанесения покрытий

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH435215A (de) * 1957-10-02 1967-05-15 Berghaus Elektrophysik Anst Verfahren zur Durchführung chemischer oder physikalischer Prozesse
JPH02156066A (ja) * 1988-12-07 1990-06-15 Raimuzu:Kk 基材のクリーニング方法
RU2206964C1 (ru) * 2001-07-10 2003-06-20 Геннадий Михайлович Русев Электродуговой плазмотрон
RU2306683C1 (ru) * 2005-12-21 2007-09-20 Томский университет систем управления и радиоэлектроники Плазменный электронный источник
RU2415199C1 (ru) * 2009-10-28 2011-03-27 Российская Федерация, от имени которой выступает государственный заказчик - Министерство промышленности и торговли Российской Федерации (Минпромторг России) Способ нанесения покрытия

Also Published As

Publication number Publication date
RU2607398C2 (ru) 2017-01-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2015521784A5 (ru)
MX2017007356A (es) Fuente de plasma del catodo hueco.
CL2014002921A1 (es) Sistema de tratamiento de plasma y recubrimiento al vacio y tratamiento de superficies, comprende un mecanismo de plasma, un catado de magnetrón, un ánodos, una descarga de arco remoto, una cubierta de cátodos, una cubierta de ánodos, un sistema magnético, un suministro de energía de cátodo, y un suministro de energía de descarga de arco; método para recubrir un sustrato.
RU2015137774A (ru) Устройство для ионной бомбардировки и способ его применения для очистки поверхности подложки
JP2021522660A (ja) 低温プラズマ生成方法、パルスプラズマを使用する導電性又は強磁性管被覆方法、及び対応する装置
CN102484024B (zh) 电子枪、真空处理装置
RU2015123270A (ru) Способ нанесения покрытий путем плазменного напыления и устройство для его осуществления
US9524853B2 (en) Ion implantation machine presenting increased productivity
JP2013218881A5 (ru)
CN102296274B (zh) 用于阴极弧金属离子源的屏蔽装置
RU107657U1 (ru) Форвакуумный плазменный электронный источник
RU2601725C1 (ru) Источник металлической плазмы (варианты)
CN109659212B (zh) 一种阵列孔空心阴极放电离子源
RU2015108566A (ru) Способ напыления тонкопленочных покрытий на поверхность полупроводниковых гетероэпитаксиальных структур методом магнетронного распыления
US20100218721A1 (en) Hollow-cathode discharge apparatus for plasma-based processing
RU2012105581A (ru) Способ нанесения покрытий электронно-лучевым испарением в вакууме
RU2014130048A (ru) Низкотемпературное ионно-дуговое напыление
JP2009179835A (ja) 同軸型真空アーク蒸着源及び真空蒸着装置
UA102800C2 (ru) Электронный испаритель металлов или сплавов для нанесения покрытия в вакууме
JP5025991B2 (ja) アーク蒸着源、成膜装置
US20150114825A1 (en) Systems and method of coating an interior surface of an object
RU2575018C1 (ru) Магнетронная распылительная система с протяженным катодом
RU2015144841A (ru) Плазмотрон, устройство дозирования плазменного материала и способ формирования плазмы
JP2013218985A5 (ru)
RU2015110792A (ru) Способ газоразряного напыления пленок