RU2601725C1 - Источник металлической плазмы (варианты) - Google Patents
Источник металлической плазмы (варианты) Download PDFInfo
- Publication number
- RU2601725C1 RU2601725C1 RU2015120819/02A RU2015120819A RU2601725C1 RU 2601725 C1 RU2601725 C1 RU 2601725C1 RU 2015120819/02 A RU2015120819/02 A RU 2015120819/02A RU 2015120819 A RU2015120819 A RU 2015120819A RU 2601725 C1 RU2601725 C1 RU 2601725C1
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- cathode
- power source
- anode
- shape
- screens
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/35—Sputtering by application of a magnetic field, e.g. magnetron sputtering
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
Изобретение относится к источникам металлической плазмы (варианты) и может быть использовано для нанесения защитных, упрочняющих и декоративных покрытий методом катодного распыления на внутренние поверхности изделий, в частности на внутренние поверхности тел вращения, как открытых, так и закрытых с одной стороны. Источник металлической плазмы (ИМП) содержит установленные в вакуумной камере охлаждаемый катод из испаряемого металла, анод в виде вертикальных пластин и источник питания, соединенный токоподводами с анодом и катодом. ИМП имеет экраны и датчики ионного тока, соединенные с источником питания. Катод по одному из вариантов имеет перевернутую U-образную форму. Экраны выполнены в виде пластин, расположенных вдоль всей нерабочей поверхности катода. Две параллельные пластины выполнены повторяющими форму катода и соединены пластиной, расположенной во внутренней полости катода, каждое основание которого соединено с токоподводом. 2 н.п. ф-лы, 3 ил.
Description
Изобретение относится к устройствам для нанесения покрытий в вакууме и может быть использовано в различных отраслях промышленности для нанесения защитных, упрочняющих и декоративных покрытий методом катодного распыления на внутренние поверхности изделий, в частности на внутренние поверхности тел вращения, как открытых, так и закрытых с одной стороны (например, цилиндров, открытых только с одной стороны, внутренние поверхности конических, параболических, сферических тел вращения).
Известен электродуговой испаритель токопроводящих материалов, который содержит установленные в вакуумной камере катод из испаряемого материала, экран, датчики ионного тока и источник питания, соединенный токоподводами с анодом и катодом. Вакуумная камера является анодом, катод вытянут вдоль своей продольной оси и имеет поверхность испарения, вытянутую вдоль его продольной оси. Поверхность испарения катода ограничивается изолированным от катода экраном. Катод имеет на своих концах токоподводы, выведенные через изоляторы, вмонтированные в стенки камеры. Токоподводы подключены к управляемым ключам, электрически связанным через индивидуальные элементы включения с блоком управления и соединенным с отрицательными полюсами соответствующих источников постоянного тока, положительные полюса которых соединены с вакуумной камерой. Блок управления содержит также средство определения и управления положением катодного пятна, электрически связанное с концевыми датчиками (датчиками ионного тока) (РФ №2404284, МПК С23С 14/24, опубл. 2010 г.).
Испаритель снабжен электромагнитным устройством, выполненным с возможностью регулирования скорости перемещения области испарения материала с поверхности катода и размеров области испарения. Экран может быть выполнен в виде тонкостенного, открытого со стороны испарения материала катода кожуха коробчатой формы.
Данный испаритель обеспечивает стабильные условия работы вакуумно-плазменной установки: ионно-плазменную обработку и нанесение покрытий на детали машин и аппаратов, а также на внутренние поверхности деталей - тел вращения с соотношением диаметра к высоте не более 0,5. Однако конструкция данного испарителя не позволяет ему наносить покрытия на внутренние поверхности сложных тел вращения как открытых, так и закрытых с одной стороны.
Наиболее близким аналогом заявляемого изобретения, выбранным в качестве прототипа, является известный из патента РФ №2280709, МПК С23С 14/35, 14/54, опубл. 2006 г., источник металлической плазмы (ИМП), содержащий установленные в вакуумной камере охлаждаемый катод из испаряемого металла, анод в виде вертикальных пластин, превышающих длину катода и расположенных по окружности вдоль катода, и источник питания, соединенный токоподводами с анодом и катодом.
Катод выполнен в виде пустотелого цилиндра с полусферической вершиной, пластины анода превышают длину катода, повторяя его форму, и соединены в верхней части металлическим кольцом. В полости катода размещена магнитная система управления движением катодного пятна в виде многосекционной катушки, которая установлена на магнитопровод в виде стальной трубы. В секциях катушки размещены соленоиды, перемещение катодных пятен дугового разряда происходит под действием результирующего магнитного поля включенных соленоидов катушки.
В катоде установлен двухслойный водоохлаждаемый корпус, повторяющий форму катода и охватывающий магнитную систему управления. Установка содержит блок управления движением катодного пятна, который состоит из программируемого устройства, блока обратной связи, регулируемого многоканального источника тока, источника тока дуги и источника постоянного тока.
Данное устройство обеспечивает высокое качество наносимого покрытия на внутренние поверхности тел вращения как открытых, так и закрытых с одной стороны и позволяет наносить покрытия на внутренние поверхности сложных тел вращения. Однако в конструкции данного источника используется сложная система многосекционных магнитных катушек, которая управляет процессом нанесения покрытия с помощью ПЭВМ, что существенно повышает себестоимость источника и снижает стабильность его работы.
Технический результат - создание более простой конструкции источника металлической плазмы и повышение стабильности его работы при повышении качества наносимого покрытия на внутренние поверхности тел вращения как открытых, так и закрытых с одной стороны.
Сущность первого варианта заключается в том, что в источнике металлической плазмы, который содержит установленные в вакуумной камере охлаждаемый катод из испаряемого металла, анод в виде вертикальных пластин, превышающих длину катода и расположенных по окружности вдоль катода, и источник питания, соединенный токоподводами с анодом и катодом, особенность заключается в том, что источник плазмы снабжен дугогасящими экранами и датчиками ионного тока, соединенными с источником питания, катод имеет перевернутую U-образную форму и снабжен дополнительным токоподводом, соединенным с источником питания, а экраны выполнены в виде пластин, расположенных вдоль всей нерабочей поверхности катода: двух параллельных пластин, повторяющих форму катода и соединенных пластиной, расположенной во внутренней полости катода.
Всей совокупностью перечисленных признаков обеспечивается оптимальный режим управления движением катодного пятна. Этого добились за счет следующего: для ограничения зоны перемещения катодных пятен выполнили катод перевернутой U-образной формы и снабдили ИМП дугогасящими экранами и датчиками ионного тока, соединенными с источником питания. Таким образом, применив принцип автоуправления, достигли стабильного перемещения катодных пятен по рабочей поверхности катода и обеспечили создание простой конструкции ИМП, повысив стабильность его работы наряду с повышением качества наносимого покрытия на внутренние поверхности тел вращения как открытых, так и закрытых с одной стороны.
Сущность второго варианта изобретения заключается в том, что в источнике металлической плазмы, который содержит установленные в вакуумной камере охлаждаемый катод из испаряемого металла, анод в виде вертикальных пластин, превышающих длину катода и расположенных по окружности вдоль катода, и источник питания, соединенный токоподводами с анодом и катодом, особенность заключается в том, что источник плазмы снабжен дугогасящими экранами и датчиками ионного тока, соединенными с источником питания, катод имеет перевернутую V-образную форму и снабжен дополнительным токоподводом, соединенным с источником питания, а экраны выполнены в виде пластин, расположенных вдоль всей нерабочей поверхности катода: двух параллельных пластин, повторяющих форму катода и соединенных пластиной, расположенной во внутренней полости катода.
Принцип действия источника металлической плазмы по второму варианту аналогичен работе ИМП по первому варианту. А достигаемый при этом технический результат такой же, как и при осуществлении устройства по первому варианту. Отличие заключается в том, что осуществление способа по второму варианту позволяет наносить более качественное покрытие на изделия переменного диаметра.
При проведении анализа уровня техники, включающего поиск по патентным и научно-техническим источникам информации, и выявлении источников, содержащих сведения об аналогах заявленного изобретения, не обнаружено аналогов, характеризующихся признаками, тождественными всем существенным признакам данного изобретения. Определение из перечня выявленных аналогов прототипа как наиболее близкого по совокупности существенных признаков аналога, позволило выявить совокупность существенных отличительных признаков от прототипа, изложенных в формуле изобретения.
Следовательно, заявленное изобретение соответствует условию «новизна».
Для проверки соответствия заявленного изобретения условию «изобретательский уровень» заявитель провел дополнительный поиск известных решений, чтобы выявить признаки, совпадающие с отличительными от прототипа признаками заявленного устройства. В результате поиска не выявлены технические решения с этими признаками. На этом основании можно сделать вывод о соответствии заявляемого изобретения условию «изобретательский уровень».
На фиг. 1 представлен общий вид источника металлической плазмы по первому варианту.
На фиг. 2 показан источник в разрезе А-А.
На фиг. 3 представлен общий вид источника металлической плазмы по второму варианту.
Источник металлической плазмы по первому варианту содержит охлаждаемый катод 1 из испаряемого металла и анод в виде вертикальных пластин 2, установленные в вакуумной камере 3 (фиг. 1-2). Пластины 2 анода расположены по окружности вдоль катода и превышают длину катода. Катод 1 имеет перевернутую U-образную форму и может быть выполнен составным из нескольких частей в виде параллелепипедов, соединенных в верхней части аркой. Каждая часть катода при этом может быть выполнена из различного металла. Катод имеет канал охлаждения, который выполнен в виде трубки 4, установленной на внутренней поверхности катода и повторяющей его форму.
Источник плазмы содержит дугогасящие экраны 5, датчики ионного тока 6, 7, размещенные на противоположных концах катода 1, и источник питания 8. Дугогасящие экраны 5 выполнены в виде двух параллельных пластин, повторяющих форму катода и соединенных пластиной, расположенной во внутренней полости катода. Пластины экранов 5 расположены вдоль всей нерабочей поверхности катода 1 и крепятся к катоду через изоляторы 9. Датчики ионного тока 6, 7, определяющие положение катодного пятна, соединены с источником питания 8. Источник питания соединен токоподводами с анодом и катодом: одним токоподводом 10 с анодом и двумя токоподводами 11, 12 с каждым основанием катода.
В нижней части катода расположено экранирующее кольцо 13, под которым установлены поджигающие электроды 14, 15, расположенные на противоположных концах катода 1, для инициирования дугового разряда. Экранирующее кольцо 13 исключает существование катодных пятен в нерабочей зоне катода - ниже поджигающих электродов 14, 15.
Вакуумная камера 3 содержит поворотное устройство 16 для установки обрабатываемой детали 17.
Источник металлической плазмы по второму варианту содержит охлаждаемый катод 1 из испаряемого металла и анод в виде вертикальных пластин 2, установленные в вакуумной камере 3 (фиг. 3). Пластины 2 анода расположены по окружности вдоль катода и превышают длину катода. Катод 1 имеет перевернутую V-образную форму и может быть выполнен составным из нескольких частей в виде параллелепипедов. Каждая часть катода при этом может быть выполнена из различного металла. Катод имеет канал охлаждения, который выполнен в виде трубки 4, установленной на внутренней поверхности катода и повторяющей его форму.
Источник плазмы содержит дугогасящие экраны 5, датчики ионного тока 6, 7, размещенные на противоположных концах катода 1, и источником питания 8. Дугогасящие экраны 5 выполнены в виде двух параллельных пластин, повторяющих форму катода и соединенных пластиной, расположенной во внутренней полости катода. Пластины экранов 5 расположены вдоль всей нерабочей поверхности катода 1 и крепятся к катоду через изоляторы 9 (фиг. 2). Датчики ионного тока 6, 7, определяющие положение катодного пятна, соединены с источником питания 8. Источник питания соединен токоподводами с анодом и катодом: одним токоподводом 10 с анодом и двумя токоподводами 11, 12 с каждым основанием катода.
В нижней части катода расположено экранирующее кольцо 13, под которым установлены поджигающие электроды 14, 15, расположенные на противоположных концах катода 1, для инициирования дугового разряда. Экранирующее кольцо 13 исключает существование катодных пятен в нерабочей зоне катода - ниже поджигающих электродов 14, 15.
Вакуумная камера 3 содержит поворотное устройство 16 для установки обрабатываемой детали 17.
Устройство по первому варианту работает следующим образом. Источник плазмы устанавливается в вакуумную камеру 3, на поворотное устройство 16 устанавливается обрабатываемая деталь 17, которая охватывает анод 2. Между катодом 1 (токоподвод 11) и анодом 2 (токоподвод 10) создается электрическое поле от источника питания. Затем поджигающий импульс, который через поджигающий электрод 14 инициирует электродуговой разряд между катодом и анодом. Катодные пятна перемещаются по рабочей поверхности катода, ограниченной дугогасящими экранами, от поджигающего электрода 14 в сторону катодного токоподвода 11. Достигая датчика ионного тока 7, источник питания переключает катодный потенциал с токоподвода 11 на токоподвод 12. Катодное пятно перемещается по поверхности катода в сторону катодного токоподвода 12. Достигая датчика ионного тока 6, источник питания 8 переключает катодный потенциал, и цикл повторяется.
Устройство по второму варианту работает аналогично устройству по первому варианту, отличие заключается в том, что устройство по второму варианту позволяет наносить более качественное покрытие на детали конусной формы.
Таким образом, представленные данные свидетельствуют о выполнении при использовании заявляемого изобретения следующей совокупности условий:
- средство, воплощающее заявленное устройство при его осуществлении, предназначено для использования в машиностроительной промышленности для нанесения защитных, упрочняющих и декоративных покрытий на внутренние поверхности сложных тел вращения;
- для заявляемого устройства в том виде, в котором оно охарактеризовано в формуле изобретения, подтверждена возможность его осуществления.
Следовательно, заявляемое изобретение соответствует условию «промышленная применимость».
Claims (2)
1. Источник металлической плазмы, содержащий установленные в вакуумной камере охлаждаемый катод из испаряемого металла, анод , выполненный в виде вертикальных пластин с длиной, превышающей длину катода, и расположенных по окружности вдоль катода, и источник питания, соединенный токоподводами с анодом и катодом, отличающийся тем, что он снабжен экранами и датчиками ионного тока, соединенными с источником питания, катод выполнен перевернутой U-образной формой и снабжен дополнительным токоподводом, соединенным с источником питания, а экраны выполнены в виде пластин, расположенных вдоль всей нерабочей поверхности катода, при этом две пластины, расположенные параллельно, повторяют форму катода и соединены пластиной, расположенной во внутренней полости катода, каждое основание которого соединено с токоподводом источника питания.
2. Источник металлической плазмы, содержащий установленные в вакуумной камере охлаждаемый катод из испаряемого металла, анод, выполненный в виде вертикальных пластин с длиной, превышающей длину катода, и расположенных по окружности вдоль катода, и источник питания, соединенный токоподводами с анодом и катодом, отличающийся тем, что он снабжен экранами и датчиками ионного тока, соединенными с источником питания, при этом катод выполнен перевернутой V-образной формой и снабжен дополнительным токоподводом, соединенным с источником питания, а экраны выполнены в виде пластин, расположенных вдоль нерабочей поверхности катода, причем две пластины расположены параллельно, выполнены формой, повторяющей форму катода, и соединены пластиной, расположенной во внутренней полости катода, каждое основание которого соединено с токоподводом источника питания.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2015120819/02A RU2601725C1 (ru) | 2015-06-01 | 2015-06-01 | Источник металлической плазмы (варианты) |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2015120819/02A RU2601725C1 (ru) | 2015-06-01 | 2015-06-01 | Источник металлической плазмы (варианты) |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2601725C1 true RU2601725C1 (ru) | 2016-11-10 |
Family
ID=57278241
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2015120819/02A RU2601725C1 (ru) | 2015-06-01 | 2015-06-01 | Источник металлической плазмы (варианты) |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
RU (1) | RU2601725C1 (ru) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU179897U1 (ru) * | 2017-10-17 | 2018-05-28 | федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский университет "МЭИ" (ФГБОУ ВО "НИУ "МЭИ") | Устройство подвода энергоносителей к технологическому распылителю |
RU2816469C1 (ru) * | 2023-10-31 | 2024-03-29 | Общество с ограниченной ответственностью Научно-производственное предприятие "Уралавиаспецтехнология" | Протяженный электродуговой испаритель токопроводящих материалов |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4201551A1 (de) * | 1992-01-22 | 1993-07-29 | Leybold Ag | Zerstaeubungskathode |
DE4202211A1 (de) * | 1992-01-28 | 1993-07-29 | Leybold Ag | Sputteranlage mit wenigstens einer magnetron-kathode |
RU2186874C2 (ru) * | 1999-03-16 | 2002-08-10 | Российский федеральный ядерный центр - Всероссийский научно-исследовательский институт технической физики | Электродуговой испаритель металлов |
RU2280709C2 (ru) * | 2004-02-09 | 2006-07-27 | Федеральное государственное унитарное предприятие "Российский федеральный ядерный центр - Всероссийский научно-исследовательский институт технической физики им. акад. Е.И. Забабахина" (ФГУП РФЯЦ-ВНИИТФ) | Установка для нанесения покрытий |
KR20120028144A (ko) * | 2010-09-14 | 2012-03-22 | 배진범 | 다공성 음극스크린을 구비한 물리 증착 장치 및 이를 이용한 표면처리방법 |
RU2482216C2 (ru) * | 2010-12-17 | 2013-05-20 | Открытое акционерное общество "Научно-исследовательский институт точного машиностроения" | Плазменное устройство нанесения многослойных пленочных покрытий |
-
2015
- 2015-06-01 RU RU2015120819/02A patent/RU2601725C1/ru active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4201551A1 (de) * | 1992-01-22 | 1993-07-29 | Leybold Ag | Zerstaeubungskathode |
DE4202211A1 (de) * | 1992-01-28 | 1993-07-29 | Leybold Ag | Sputteranlage mit wenigstens einer magnetron-kathode |
RU2186874C2 (ru) * | 1999-03-16 | 2002-08-10 | Российский федеральный ядерный центр - Всероссийский научно-исследовательский институт технической физики | Электродуговой испаритель металлов |
RU2280709C2 (ru) * | 2004-02-09 | 2006-07-27 | Федеральное государственное унитарное предприятие "Российский федеральный ядерный центр - Всероссийский научно-исследовательский институт технической физики им. акад. Е.И. Забабахина" (ФГУП РФЯЦ-ВНИИТФ) | Установка для нанесения покрытий |
KR20120028144A (ko) * | 2010-09-14 | 2012-03-22 | 배진범 | 다공성 음극스크린을 구비한 물리 증착 장치 및 이를 이용한 표면처리방법 |
RU2482216C2 (ru) * | 2010-12-17 | 2013-05-20 | Открытое акционерное общество "Научно-исследовательский институт точного машиностроения" | Плазменное устройство нанесения многослойных пленочных покрытий |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU179897U1 (ru) * | 2017-10-17 | 2018-05-28 | федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский университет "МЭИ" (ФГБОУ ВО "НИУ "МЭИ") | Устройство подвода энергоносителей к технологическому распылителю |
RU2816469C1 (ru) * | 2023-10-31 | 2024-03-29 | Общество с ограниченной ответственностью Научно-производственное предприятие "Уралавиаспецтехнология" | Протяженный электродуговой испаритель токопроводящих материалов |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US9911576B2 (en) | Ion bombardment apparatus and method for cleaning of surface of base material using the same | |
SE450539B (sv) | Plasmabagapparat for paleggning av overdrag | |
US6246059B1 (en) | Ion-beam source with virtual anode | |
RU2009119420A (ru) | Способ и приспособление для выработки положительно и/или отрицательно ионизированных анализируемых газов для анализа газов | |
RU2601725C1 (ru) | Источник металлической плазмы (варианты) | |
UA101678C2 (ru) | ВАКУУМНОДУГОВОЙ испаритель для генерирования катодной ПЛАЗМЫ | |
JP2010168662A (ja) | 真空処理プロセスのためのソース | |
CN109295426B (zh) | 一种超宽且均匀的磁过滤系统和圆柱电弧靶及真空设备 | |
KR20120041475A (ko) | 노즐 구조에 의한 상압 플라즈마 토치 발생장치 | |
US9524853B2 (en) | Ion implantation machine presenting increased productivity | |
CN102296274B (zh) | 用于阴极弧金属离子源的屏蔽装置 | |
NO760244L (ru) | ||
RU2450083C2 (ru) | Установка для вакуумной ионно-плазменной обработки длинномерных изделий | |
RU2298855C1 (ru) | Установка для очистки | |
RU2280709C2 (ru) | Установка для нанесения покрытий | |
RU2670958C1 (ru) | Установка для снятия металлических покрытий (варианты) | |
RU2537383C2 (ru) | Способ образования каналов на катоде в несамостоятельном дуговом разряде | |
RU2483500C2 (ru) | Способ локального нагрева участка поверхности катода | |
RU2607398C2 (ru) | Способ нанесения покрытий путем плазменного напыления и устройство для его осуществления | |
RU2634534C2 (ru) | Устройство для нанесения покрытий в вакууме | |
RU2186874C2 (ru) | Электродуговой испаритель металлов | |
RU2562568C2 (ru) | Установка для вакуумного ионно-плазменного нанесения покрытий | |
RU2402637C2 (ru) | Устройство для нанесения покрытия на внутреннюю поверхность трубы | |
CN106158572B (zh) | 一种电子枪 | |
RU2639176C2 (ru) | Способ легирования металлов и сплавов |