RU2402637C2 - Устройство для нанесения покрытия на внутреннюю поверхность трубы - Google Patents

Устройство для нанесения покрытия на внутреннюю поверхность трубы Download PDF

Info

Publication number
RU2402637C2
RU2402637C2 RU2008131790/02A RU2008131790A RU2402637C2 RU 2402637 C2 RU2402637 C2 RU 2402637C2 RU 2008131790/02 A RU2008131790/02 A RU 2008131790/02A RU 2008131790 A RU2008131790 A RU 2008131790A RU 2402637 C2 RU2402637 C2 RU 2402637C2
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
target
source
magnetic field
length
electrodes
Prior art date
Application number
RU2008131790/02A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2008131790A (ru
Inventor
Виктор Алексеевич Быстрик (RU)
Виктор Алексеевич Быстрик
Николай Александрович Бычков (RU)
Николай Александрович Бычков
Михаил Владимирович Атаманов (RU)
Михаил Владимирович Атаманов
Владимир Иванович Мирошниченко (RU)
Владимир Иванович Мирошниченко
Олег Иосифович Обрезков (RU)
Олег Иосифович Обрезков
Геннадий Иванович Соленов (RU)
Геннадий Иванович Соленов
Original Assignee
Закрытое акционерное общество "ЭЛКАМ-нефтемаш"
Виктор Алексеевич Быстрик
Николай Александрович Бычков
Михаил Владимирович Атаманов
Владимир Иванович Мирошниченко
Олег Иосифович Обрезков
Геннадий Иванович Соленов
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Закрытое акционерное общество "ЭЛКАМ-нефтемаш", Виктор Алексеевич Быстрик, Николай Александрович Бычков, Михаил Владимирович Атаманов, Владимир Иванович Мирошниченко, Олег Иосифович Обрезков, Геннадий Иванович Соленов filed Critical Закрытое акционерное общество "ЭЛКАМ-нефтемаш"
Priority to RU2008131790/02A priority Critical patent/RU2402637C2/ru
Publication of RU2008131790A publication Critical patent/RU2008131790A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2402637C2 publication Critical patent/RU2402637C2/ru

Links

Images

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

Изобретение относится к устройствам для нанесения металлических покрытий на внутреннюю поверхность длинномерных труб вакуумным распылением металлов в магнитном поле. Устройство содержит коаксиально размещенные в вакуумной камере электроды с проходными изоляторами, соединенные с источником постоянного тока, и источник магнитного поля, скрещиваемого с электрическим полем. Одним из электродов является обрабатываемая труба, а вторым - мишень, длина которой не меньше длины обрабатываемой поверхности. При этом источник магнитного поля выполнен в виде источника тока, электрически соединенного с мишенью или с мишенью и проводником, расположенным в полости, выполненной в мишени. Конструкция устройства обеспечивает возможность нанесения равномерного покрытия на внутреннюю поверхность длинномерной трубы малого диаметра. 2 з.п. ф-лы, 4 ил.

Description

Изобретение относится к области нанесения покрытия вакуумным распылением металлов с использованием магнитного поля и может быть использовано для нанесения металлического покрытия на внутреннюю поверхность длинномерной трубы.
Известна магнертонная распылительная система (Б.С.Данилин, В.К.Сырчин. "Магнетронные распылительные системы". М.: "Радио и связь", 1982, стр.45, рис 35в), содержащая коаксиально размещенные в вакуумной камере с проходными изоляторами соединенные с источником постоянного тока электроды, одним из которых является подложка, а вторым - мишень, и источник скрещенного с электрическим магнитного поля. Источник магнитного поля выполнен в виде магнитной системы - катушек индуктивности, расположенных внутри мишени.
Такое устройство не применимо для нанесения покрытий на внутреннюю поверхность длинномерной трубы из-за ограниченной длины катушек индуктивности, а также на внутреннюю поверхность трубы малого диаметра, что объясняется большими габаритами катушек индуктивности. Кроме того, покрытие, получаемое при использовании такого устройства, имеет неравномерную толщину из-за концевого эффекта магнитной системы.
Наиболее близким к заявляемому и принятым в качестве прототипа является устройство, используемое для вакуумной обработки внутренней поверхности труб (RU 2039845, МПК6 C23C 14/35, опубл. 1995 г.), содержащее коаксиально размещенные в вакуумной камере с проходными изоляторами соединенные с источником постоянного тока электроды, одним из которых является обрабатываемая труба, а вторым - мишень, длина которой не меньше длины обрабатываемой поверхности, и источник скрещенного с электрическим магнитного поля.
Использование такого устройства позволяет наносить покрытия на внутреннюю поверхность неферромагнитной трубы малого диаметра. Для нанесения покрытия на внутреннюю поверхность ферромагнитной трубы необходимо создание мощного магнитного поля, кроме того, ограничена длина обрабатываемой поверхности трубы, и получаемое покрытие имеет неравномерную толщину по описанным выше причинам.
Задачей предлагаемого изобретения является обеспечение возможности нанесения равномерного покрытия на внутреннюю поверхность длинномерной трубы малого диаметра (порядка 20-40 мм).
Поставленная задача решается усовершенствованием устройства для нанесения покрытия на внутреннюю поверхность трубы, содержащего коаксиально размещенные в вакуумной камере с проходными изоляторами соединенные с источником постоянного тока электроды, одним из которых является обрабатываемая труба, а вторым - мишень, длина которой не меньше длины обрабатываемой поверхности, и источник скрещенного с электрическим магнитного поля.
Это усовершенствование заключается в том, что источник магнитного поля выполнен в виде источника тока, электрически соединенного с мишенью или мишенью и проводником, расположенным в полости, выполненной в мишени, что позволяет получить магнитное поле требуемой мощности вокруг мишени на всей ее длине (не меньшей длины обрабатываемой поверхности), при этом мишень или мишень, в полости которой расположен проводник, имеют диаметр, позволяющий расположить их коаксиально внутри обрабатываемой трубы малого диаметра и получить покрытие равномерной толщины.
Кроме того, мишень или мишень и проводник могут быть соединены с источником переменного тока, что позволяет снизить тепловое воздействие на один из проходных изоляторов, установленных в стенках вакуумной камеры.
Кроме того, вокруг проходных изоляторов могут быть установлены заземляющие кольца, препятствующие пробою изоляторов циклирующими над поверхностью мишени электронами.
Полезная модель поясняется чертежами, где на фиг.1 схематично изображено заявляемое устройство с мишенью, по которой пропускают электрический ток, на фиг.2 - выносной элемент А на фиг.1 с мишенью, по которой пропускают электрический ток, на фиг.3 - выносной элемент А с мишенью, в полости которой расположен проводник, на фиг.4 - выносной элемент А с мишенью, в полости которой с зазором расположен проводник. Стрелками показано направление потока охлаждающей жидкости.
Устройство для нанесения покрытия на внутреннюю поверхность трубы содержит коаксиально размещенные в вакуумной камере 1 с проходными изоляторами 2 и 3 соединенные с источником 4 постоянного тока электроды 5 и 6. Электродом 5 является обрабатываемая труба, а электродом 6 - мишень, длина которой не меньше длины обрабатываемой поверхности. Источник скрещенного с электрическим магнитного поля выполнен в виде источника 7 тока, электрически соединенного с мишенью 6 (фиг.2). В случае, когда мишень 6 имеет большое электрическое сопротивление, источник 7 тока электрически соединен мишенью 6 и проводником 8, расположенным в мишени 6 (фиг.3). В варианте на фиг.4 проводник расположен в полости 9, выполненной в мишени с зазором, по которому подают охлаждающую жидкость. Вокруг проходных изоляторов 2, 3 установлены заземляющие кольца 10.
Устройство для нанесения покрытия на внутреннюю поверхность трубы работает следующим образом. Инициируют вакуумный электрический разряд между электродами 5 и 6 путем создания разности потенциалов (к обрабатываемой трубе 5 прикладывают положительный потенциал, а к мишени 6 - отрицательный от источника постоянного тока 4). Плазма разряда воздействует на наружную поверхность мишени 6 при наложении на разрядную зону скрещенного с электрическим магнитного поля. Магнитное поле создают пропусканием электрического тока через мишень 6 (фиг.2) или через мишень 6 и проводник 8 (фиг.3, 4), расположенный в полости 9, выполненной в мишени 6 (фиг.4). В приведенном варианте в качестве источника электрического тока используют источник переменного тока 7. В вакуумную камеру подают инертный газ (например, аргон) и осуществляют охлаждение мишени 6 при подаче охлаждающей жидкости в полость мишени 6. За счет бомбардировки поверхности мишени 6 ионами газа, образующимися в плазме разряда, и их локализации у поверхности мишени 6 происходит распыление ее материала и осаждение на внутреннюю поверхность трубы 5. При этом получают покрытие равномерной толщины за счет создания равномерного магнитного поля по всей длине обрабатываемой поверхности.
Таким образом, использование предлагаемого устройства для нанесения покрытия на внутреннюю поверхность трубы позволяет получить равномерное покрытие на внутренней поверхности длинномерной трубы малого диаметра.

Claims (3)

1. Устройство для нанесения покрытия на внутреннюю поверхность трубы, содержащее коаксиально размещенные в вакуумной камере электроды с проходными изоляторами, соединенные с источником постоянного тока, причем одним из электродов является обрабатываемая труба, а вторым - мишень, длина которой не меньше длины обрабатываемой поверхности, и источник магнитного поля, скрещиваемого с электрическим полем, отличающийся тем, что упомянутый источник магнитного поля выполнен в виде источника тока, электрически соединенного с мишенью или с мишенью и проводником, расположенным в полости, выполненной в мишени.
2. Устройство по п.1, отличающееся тем, что источник магнитного поля выполнен в виде источника переменного тока.
3. Устройство по п.1, отличающееся тем, что вокруг проходных изоляторов установлены заземляющие кольца.
RU2008131790/02A 2008-08-04 2008-08-04 Устройство для нанесения покрытия на внутреннюю поверхность трубы RU2402637C2 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2008131790/02A RU2402637C2 (ru) 2008-08-04 2008-08-04 Устройство для нанесения покрытия на внутреннюю поверхность трубы

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2008131790/02A RU2402637C2 (ru) 2008-08-04 2008-08-04 Устройство для нанесения покрытия на внутреннюю поверхность трубы

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2008131790A RU2008131790A (ru) 2010-02-10
RU2402637C2 true RU2402637C2 (ru) 2010-10-27

Family

ID=42123445

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2008131790/02A RU2402637C2 (ru) 2008-08-04 2008-08-04 Устройство для нанесения покрытия на внутреннюю поверхность трубы

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2402637C2 (ru)

Also Published As

Publication number Publication date
RU2008131790A (ru) 2010-02-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US11728135B2 (en) Electric pressure systems for control of plasma properties and uniformity
JP3846970B2 (ja) イオン化スパッタリング装置
KR20090042955A (ko) Ecr 플라즈마 소스
US9984857B2 (en) Plasma generation device
KR101594636B1 (ko) 고주파 안테나 유닛 및 플라즈마 처리장치
CN104024471B (zh) 溅射装置
KR20140145621A (ko) 마이크로파 플라스마 발생 장치 및 그 작동 방법
JPWO2008007784A1 (ja) 容量結合型磁気中性線プラズマスパッタ装置
US8157976B2 (en) Apparatus for cathodic vacuum-arc coating deposition
TW201009104A (en) Sputtering apparatus
CN109295426B (zh) 一种超宽且均匀的磁过滤系统和圆柱电弧靶及真空设备
JP2002512310A (ja) 誘導結合プラズマ堆積で形成された金属膜の均一性を強化する小直径コイル
JP2003073814A (ja) 製膜装置
RU2402637C2 (ru) Устройство для нанесения покрытия на внутреннюю поверхность трубы
RU2390579C2 (ru) Способ нанесения покрытия на внутреннюю поверхность трубы
US11049697B2 (en) Single beam plasma source
RU2007123690A (ru) Способ ионно-плазменного нанесения многокомпонентных пленочных покрытий и установка для его осуществления
CN102296274B (zh) 用于阴极弧金属离子源的屏蔽装置
JP2006131929A (ja) 圧力勾配型イオンプレーティング式成膜装置および成膜方法
RU2607398C2 (ru) Способ нанесения покрытий путем плазменного напыления и устройство для его осуществления
TWI659445B (zh) 射頻(rf)-濺鍍沉積源、沉積設備及其之組裝方法
RU159075U1 (ru) Устройство для получения многокомпонентных многослойных покрытий
RU2634534C2 (ru) Устройство для нанесения покрытий в вакууме
RU2171314C2 (ru) Плазматрон для лазерно-плазменного нанесения покрытия
US20220013324A1 (en) Single beam plasma source