RU2390579C2 - Способ нанесения покрытия на внутреннюю поверхность трубы - Google Patents

Способ нанесения покрытия на внутреннюю поверхность трубы Download PDF

Info

Publication number
RU2390579C2
RU2390579C2 RU2008131791/02A RU2008131791A RU2390579C2 RU 2390579 C2 RU2390579 C2 RU 2390579C2 RU 2008131791/02 A RU2008131791/02 A RU 2008131791/02A RU 2008131791 A RU2008131791 A RU 2008131791A RU 2390579 C2 RU2390579 C2 RU 2390579C2
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
target
pipe
length
magnetic field
electrodes
Prior art date
Application number
RU2008131791/02A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2008131791A (ru
Inventor
Виктор Алексеевич Быстрик (RU)
Виктор Алексеевич Быстрик
Николай Александрович Бычков (RU)
Николай Александрович Бычков
Михаил Владимирович Атаманов (RU)
Михаил Владимирович Атаманов
Владимир Иванович Мирошниченко (RU)
Владимир Иванович Мирошниченко
Олег Иосифович Обрезков (RU)
Олег Иосифович Обрезков
Геннадий Иванович Соленов (RU)
Геннадий Иванович Соленов
Original Assignee
Закрытое акционерное общество "ЭЛКАМ-нефтемаш"
Виктор Алексеевич Быстрик
Николай Александрович Бычков
Михаил Владимирович Атаманов
Владимир Иванович Мирошниченко
Олег Иосифович Обрезков
Геннадий Иванович Соленов
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Закрытое акционерное общество "ЭЛКАМ-нефтемаш", Виктор Алексеевич Быстрик, Николай Александрович Бычков, Михаил Владимирович Атаманов, Владимир Иванович Мирошниченко, Олег Иосифович Обрезков, Геннадий Иванович Соленов filed Critical Закрытое акционерное общество "ЭЛКАМ-нефтемаш"
Priority to RU2008131791/02A priority Critical patent/RU2390579C2/ru
Publication of RU2008131791A publication Critical patent/RU2008131791A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2390579C2 publication Critical patent/RU2390579C2/ru

Links

Images

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Plasma Technology (AREA)

Abstract

Изобретение относится к способам нанесения металлических покрытий на внутреннюю поверхность длинномерных труб вакуумным распылением металлов в магнитном поле. Способ включает коаксиальное размещение в вакуумной камере электродов, инициирование вакуумного электрического разряда между электродами путем создания разности потенциалов, воздействие плазмы разряда на наружную поверхность мишени при наложении на разрядную зону скрещенного с электрическим магнитного поля и осаждение материала покрытия на внутреннюю поверхность трубы. В качестве одного из электродов используют обрабатываемую трубу, а в качестве второго - мишень, размещаемую внутри трубы, длина которой не меньше длины обрабатываемой поверхности. При этом магнитное поле создают на всей длине мишени путем пропускания электрического тока через мишень или через мишень и проводник, расположенный в полости, выполненной в мишени. Изобретение обеспечивает возможность нанесения равномерного покрытия на внутреннюю поверхность длинномерной трубы малого диаметра. 1 з.п. ф-лы, 4 ил.

Description

Изобретение относится к области нанесения покрытия вакуумным распылением металлов с использованием магнитного поля и может быть использовано для нанесения металлического покрытия на внутреннюю поверхность длинномерной трубы.
Известен способ нанесения покрытия на внутреннюю поверхность трубы, реализованный магнетртонной распылительной системой (Б.С.Данилин, В.К.Сырчин "Магнетронные распылительные системы". М.: "Радио и связь", 1982 г., стр.45, рис 35в), включающий коаксиальное размещение в вакуумной камере электродов, в качестве одного из которых используют подложку, а в качестве второго - мишень, инициирование вакуумного электрического разряда между электродами путем создания разности потенциалов и воздействие плазмы разряда на подложку при наложении на разрядную зону скрещенного с электрическим магнитного поля. Магнитное поле создают магнитной системой - катушками индуктивности, расположенными внутри мишени.
Такой способ не применим для нанесения покрытий на внутреннюю поверхность длинномерной трубы из-за ограниченной длины катушек индуктивности, а также - на внутреннюю поверхность трубы малого диаметра, что объясняется большими габаритами катушек индуктивности. Кроме того, получаемое покрытие имеет неравномерную толщину из-за концевого эффекта магнитной системы.
Наиболее близким к заявляемому и принятым в качестве прототипа является способ вакуумной обработки внутренней поверхности труб (RU 2039845 МПК6 С23С 14/35, опубл. 1995 г.), включающий коаксиальное размещение в вакуумной камере электродов, в качестве одного из которых используют обрабатываемую трубу, а в качестве второго - мишень, длина которой не меньше длины обрабатываемой поверхности, инициирование вакуумного электрического разряда между электродами путем создания разности потенциалов и воздействие плазмы разряда на наружную поверхность мишени при наложении на разрядную зону скрещенного с электрическим магнитного поля.
Такой способ позволяет наносить покрытия на внутреннюю поверхность неферромагнитной трубы малого диаметра. Для нанесения покрытия на внутреннюю поверхность ферромагнитной трубы необходимо создание мощного магнитного поля, кроме того, ограничена длина обрабатываемой поверхности трубы и получаемое покрытие имеет неравномерную толщину по описанным выше причинам.
Задачей предлагаемого изобретения является создание способа, обеспечивающего возможность нанесения равномерного покрытия на внутреннюю поверхность длинномерной трубы малого диаметра (порядка 20-40 мм).
Поставленная задача решается усовершенствованием способа нанесения покрытия на внутреннюю поверхность трубы, включающего коаксиальное размещение в вакуумной камере электродов, в качестве одного из которых используют обрабатываемую трубу, а в качестве второго - мишень, длина которой не меньше длины обрабатываемой поверхности, инициирование вакуумного электрического разряда между электродами путем создания разности потенциалов и воздействие плазмы разряда на наружную поверхность мишени при наложении на разрядную зону скрещенного с электрическим магнитного поля.
Это усовершенствование заключается в том, что магнитное поле создают пропусканием электрического тока через мишень или через мишень и проводник, расположенный в полости, выполненной в мишени, что позволяет получить магнитное поле требуемой мощности вокруг мишени на всей ее длине (не меньшей длины обрабатываемой поверхности), при этом мишень или мишень, в полости которой расположен проводник, имеет диаметр, позволяющий расположить их коаксиально внутри обрабатываемой трубы малого диаметра и получить покрытие равномерной толщины.
Кроме того, магнитное поле могут создавать пропусканием переменного электрического тока, что позволяет снизить тепловое воздействие на один из проходных изоляторов, установленных в стенках вакуумной камеры.
Изобретение поясняется чертежами, где на фиг.1 схематично изображена реализующая предлагаемый способ магнетронная распылительная система, на фиг.2 - выносной элемент А на фиг.1 с мишенью, по которой пропускают электрический ток, на фиг.3 - выносной элемент А с мишенью, в полости которой расположен проводник, на фиг.4 - выносной элемент А с мишенью, в полости которой с зазором расположен проводник. Стрелками показано направление потока охлаждающей жидкости.
Способ осуществляется следующим образом. В вакуумной камере 1 с проходными изоляторами 2 и 3 коаксиально размещают электроды 4 и 5. В качестве электрода 4 используют обрабатываемую трубу, а в качестве электрода 5 - мишень, длина которой не меньше длины обрабатываемой поверхности. Инициируют вакуумный электрический разряда между электродами 4 и 5 путем создания разности потенциалов (к обрабатываемой трубе 4 прикладывают положительный потенциал, а к мишени 5 - отрицательный от источника постоянного тока 6). Плазма разряда воздействует на наружную поверхность мишени 5 при наложении на разрядную зону скрещенного с электрическим магнитного поля. Магнитное поле создают пропусканием электрического тока через мишень 5 (фиг.2). В случае, когда мишень 5 имеет большое электрическое сопротивление, магнитное поле создают пропусканием электрического тока через мишень 5 и проводник 7 (фиг.3, 4). Проводник 7 расположен в полости 8, выполненной в мишени 5 (в варианте на фиг.4 проводник 7 расположен в полости мишени 5 с зазором, по которому подают охлаждающую жидкость для более интенсивного охлаждения мишени 5). В приведенном варианте в качестве источника электрического тока используют источник переменного тока 9. В вакуумную камеру подают инертный газ (например, аргон) и осуществляют охлаждение мишени 5 при подаче охлаждающей жидкости.
За счет бомбардировки поверхности мишени 5 ионами газа, образующимися в плазме разряда, и их локализации у поверхности мишени 5, происходит распыление ее материала и осаждение на внутреннюю поверхность трубы 4. При этом получают покрытие равномерной толщины за счет создания равномерного магнитного поля по всей длине обрабатываемой поверхности.
Предложенным способом было нанесено покрытие из меди на трубу из стали длиной 2300 мм с диаметром внутренней поверхности 45 мм, использовалась мишень, выполненная из медной трубки с диаметром наружной поверхности 16 мм. Давление в вакуумной камере (1-5)102 Па, разность потенциалов между мишенью и обрабатываемой трубой 400-600 В, ток разряда до 20 А. Магнитное поле получали пропусканием через мишень или по проводнику и мишени переменного тока напряжением 6 В и силой тока 1000 А. В результате получили покрытие толщиной 10 мкм за 80 минут.
Таким образом, использование предлагаемого способа позволяет получить равномерное покрытие на внутренней поверхности длинномерной трубы малого диаметра.

Claims (2)

1. Способ нанесения покрытия на внутреннюю поверхность трубы, включающий коаксиальное размещение в вакуумной камере электродов, в качестве одного из которых используют обрабатываемую трубу, а в качестве второго - мишень, размещаемую внутри трубы, и длина которой не меньше длины обрабатываемой поверхности, инициирование вакуумного электрического разряда между электродами путем создания разности потенциалов, воздействие плазмы разряда на наружную поверхность мишени при наложении на разрядную зону скрещенного с электрическим магнитного поля и осаждение материала покрытия на внутреннюю поверхность трубы, отличающийся тем, что магнитное поле создают на всей длине мишени путем пропускания электрического тока через мишень или через мишень и проводник, расположенный в полости, выполненной в мишени.
2. Способ по п.1, отличающийся тем, что магнитное поле создают пропусканием переменного электрического тока.
RU2008131791/02A 2008-08-04 2008-08-04 Способ нанесения покрытия на внутреннюю поверхность трубы RU2390579C2 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2008131791/02A RU2390579C2 (ru) 2008-08-04 2008-08-04 Способ нанесения покрытия на внутреннюю поверхность трубы

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2008131791/02A RU2390579C2 (ru) 2008-08-04 2008-08-04 Способ нанесения покрытия на внутреннюю поверхность трубы

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2008131791A RU2008131791A (ru) 2010-02-10
RU2390579C2 true RU2390579C2 (ru) 2010-05-27

Family

ID=42123446

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2008131791/02A RU2390579C2 (ru) 2008-08-04 2008-08-04 Способ нанесения покрытия на внутреннюю поверхность трубы

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2390579C2 (ru)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109735812A (zh) * 2018-09-06 2019-05-10 中国科学院金属研究所 一种大长径比管件内腔磁控溅射设备和制备α-Ta涂层的方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109735812A (zh) * 2018-09-06 2019-05-10 中国科学院金属研究所 一种大长径比管件内腔磁控溅射设备和制备α-Ta涂层的方法

Also Published As

Publication number Publication date
RU2008131791A (ru) 2010-02-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7520965B2 (en) Magnetron sputtering apparatus and method for depositing a coating using same
US7879203B2 (en) Method and apparatus for cathodic arc ion plasma deposition
US20160326635A1 (en) Remote Arc Discharge Plasma Assisted Processes
WO2009110226A1 (ja) 高周波アンテナユニット及びプラズマ処理装置
SE519931C2 (sv) Anordning och förfarande för pulsad, starkt joniserad magnetronsputtering
CA2651512A1 (en) Electrode systems and methods of using electrodes
US10337099B2 (en) Apparatus and method for coating inner wall of metal tube
CN104451562A (zh) 一种长管件内壁镀膜的电弧离子镀装置
JP5232190B2 (ja) 真空処理プロセスのためのソース
TWI548766B (zh) Sputtering device
US8157976B2 (en) Apparatus for cathodic vacuum-arc coating deposition
CN109295426B (zh) 一种超宽且均匀的磁过滤系统和圆柱电弧靶及真空设备
RU2390579C2 (ru) Способ нанесения покрытия на внутреннюю поверхность трубы
US11049697B2 (en) Single beam plasma source
RU2402637C2 (ru) Устройство для нанесения покрытия на внутреннюю поверхность трубы
CN111394707B (zh) 一种等离子体源及其用于镀膜的装置、系统和方法
RU2362838C2 (ru) Устройство для нанесения нанокластерного покрытия
RU159075U1 (ru) Устройство для получения многокомпонентных многослойных покрытий
WO2014022075A1 (en) Device for the elimination of liquid droplets from a cathodic arc plasma source
RU2510428C1 (ru) Электродуговой испаритель металлов и сплавов
US9111734B2 (en) Systems and method of coating an interior surface of an object
US11851746B2 (en) Pulsed cathodic arc deposition
US4598663A (en) Apparatus for treating the inside surface of an article with an electric glow discharge
RU2622549C2 (ru) Способ получения покрытия из карбида титана на внутренней поверхности медного анода генераторной лампы
RU183138U1 (ru) Составная мишень для получения нанокомпозитов при магнетронном распылении