RU2015120063A - Композиция, чернила для импринтинга и способ импринтинга - Google Patents
Композиция, чернила для импринтинга и способ импринтинга Download PDFInfo
- Publication number
- RU2015120063A RU2015120063A RU2015120063A RU2015120063A RU2015120063A RU 2015120063 A RU2015120063 A RU 2015120063A RU 2015120063 A RU2015120063 A RU 2015120063A RU 2015120063 A RU2015120063 A RU 2015120063A RU 2015120063 A RU2015120063 A RU 2015120063A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- composition
- formula
- imprinting
- ink
- compound
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims 8
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract 15
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract 12
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims abstract 10
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims abstract 10
- 239000007859 condensation product Substances 0.000 claims abstract 9
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 6
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 6
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 6
- BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N butan-2-ol Chemical compound CCC(C)O BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 6
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 6
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 claims abstract 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 5
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 4
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract 4
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims abstract 4
- 150000003138 primary alcohols Chemical class 0.000 claims abstract 4
- 150000003333 secondary alcohols Chemical class 0.000 claims abstract 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims abstract 2
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 2
- 239000000047 product Substances 0.000 claims abstract 2
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 2
- -1 silane compound Chemical class 0.000 claims 5
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 claims 2
- TUEYHEWXYWCDHA-UHFFFAOYSA-N ethyl 5-methylthiadiazole-4-carboxylate Chemical compound CCOC(=O)C=1N=NSC=1C TUEYHEWXYWCDHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 239000000463 material Substances 0.000 claims 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims 2
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 claims 2
- RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-(2-ethoxyethoxy)ethane Chemical compound CCOCCOCCOCC RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical compound COCCOCCO SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- WFSMVVDJSNMRAR-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-ethoxyethoxy)ethoxy]ethanol Chemical compound CCOCCOCCOCCO WFSMVVDJSNMRAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 claims 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims 1
- XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol monoethyl ether Chemical compound CCOCCOCCO XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229940075557 diethylene glycol monoethyl ether Drugs 0.000 claims 1
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 claims 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 claims 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims 1
- 239000005543 nano-size silicon particle Substances 0.000 claims 1
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 claims 1
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 claims 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims 1
- JLGLQAWTXXGVEM-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol monomethyl ether Chemical compound COCCOCCOCCO JLGLQAWTXXGVEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 abstract 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 abstract 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/06—Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
- B32B27/08—Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/28—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising synthetic resins not wholly covered by any one of the sub-groups B32B27/30 - B32B27/42
- B32B27/283—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising synthetic resins not wholly covered by any one of the sub-groups B32B27/30 - B32B27/42 comprising polysiloxanes
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B3/00—Layered products comprising a layer with external or internal discontinuities or unevennesses, or a layer of non-planar shape; Layered products comprising a layer having particular features of form
- B32B3/26—Layered products comprising a layer with external or internal discontinuities or unevennesses, or a layer of non-planar shape; Layered products comprising a layer having particular features of form characterised by a particular shape of the outline of the cross-section of a continuous layer; characterised by a layer with cavities or internal voids ; characterised by an apertured layer
- B32B3/263—Layered products comprising a layer with external or internal discontinuities or unevennesses, or a layer of non-planar shape; Layered products comprising a layer having particular features of form characterised by a particular shape of the outline of the cross-section of a continuous layer; characterised by a layer with cavities or internal voids ; characterised by an apertured layer characterised by a layer having non-uniform thickness
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y40/00—Manufacture or treatment of nanostructures
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L83/00—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L83/04—Polysiloxanes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L83/00—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L83/04—Polysiloxanes
- C08L83/06—Polysiloxanes containing silicon bound to oxygen-containing groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D11/00—Inks
- C09D11/02—Printing inks
- C09D11/10—Printing inks based on artificial resins
- C09D11/101—Inks specially adapted for printing processes involving curing by wave energy or particle radiation, e.g. with UV-curing following the printing
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D11/00—Inks
- C09D11/02—Printing inks
- C09D11/10—Printing inks based on artificial resins
- C09D11/102—Printing inks based on artificial resins containing macromolecular compounds obtained by reactions other than those only involving unsaturated carbon-to-carbon bonds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0002—Lithographic processes using patterning methods other than those involving the exposure to radiation, e.g. by stamping
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/075—Silicon-containing compounds
- G03F7/0757—Macromolecular compounds containing Si-O, Si-C or Si-N bonds
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y10/00—Nanotechnology for information processing, storage or transmission, e.g. quantum computing or single electron logic
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Nanotechnology (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
- Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
Abstract
1. Композиция для формирования чернил для импринтинга, содержащаярастворенный продукт конденсации:по меньшей мере одного из первого силана формулы 1 и второго силана формулы 2; исоединения формулы 3:Формула 1Формула 2; иФормула 3где R-Rпо отдельности выбирают из группы, состоящей из C-Cлинейных или разветвленных алкильных групп и фенильной группы, и где n представляет собой положительное целое число, характеризующееся значением по меньшей мере 2;композиция дополнительно содержитпротонную кислоту, такую, что композиция характеризуется рН в диапазоне 3-5; исистему органических растворителей, содержащую первичный или вторичный спирт и воду.2. Композиция по п. 1, где растворенный продукт конденсации содержит первый и второй силановые соединения в молярном соотношении 1:5-5:1.3. Композиция по п. 1, где n составляет 2, 3, 4 или 5.4. Композиция по п. 1, гдерастворенный продукт конденсации образуется из силана, содержащегося в композиции в количестве 1-20 мас.% из расчета на массу силанов в полностью конденсированном состоянии, и соединения формулы 3, содержащегося в композиции в количестве 1-10 мас.% в расчете на общий вес композиции до образования указанного продукта конденсации; исистема органических растворителей характеризуется содержанием в композиции 25-98 мас.% в расчете на общий вес указанной композиции.5. Композиция по п. 1, где первое соединение представляет собой метилтриметоксисилан, и второе соединение представляет собой тетраметоксисилан.6. Композиция по п. 1, где система органических растворителей содержит по меньшей мере одно соединение из 1-пропанола, 2-пропанола, 1-бутанола, 2-бутанола и 1-метокси-2-пропанола.7. Композиция по п. 6, где система органических растворителей
Claims (24)
1. Композиция для формирования чернил для импринтинга, содержащая
растворенный продукт конденсации:
по меньшей мере одного из первого силана формулы 1 и второго силана формулы 2; и
соединения формулы 3:
Формула 1
Формула 2
Формула 3
где R1-R9 по отдельности выбирают из группы, состоящей из C1-C6 линейных или разветвленных алкильных групп и фенильной группы, и где n представляет собой положительное целое число, характеризующееся значением по меньшей мере 2;
композиция дополнительно содержит
протонную кислоту, такую, что композиция характеризуется рН в диапазоне 3-5; и
систему органических растворителей, содержащую первичный или вторичный спирт и воду.
2. Композиция по п. 1, где растворенный продукт конденсации содержит первый и второй силановые соединения в молярном соотношении 1:5-5:1.
3. Композиция по п. 1, где n составляет 2, 3, 4 или 5.
4. Композиция по п. 1, где
растворенный продукт конденсации образуется из силана, содержащегося в композиции в количестве 1-20 мас.% из расчета на массу силанов в полностью конденсированном состоянии, и соединения формулы 3, содержащегося в композиции в количестве 1-10 мас.% в расчете на общий вес композиции до образования указанного продукта конденсации; и
система органических растворителей характеризуется содержанием в композиции 25-98 мас.% в расчете на общий вес указанной композиции.
5. Композиция по п. 1, где первое соединение представляет собой метилтриметоксисилан, и второе соединение представляет собой тетраметоксисилан.
6. Композиция по п. 1, где система органических растворителей содержит по меньшей мере одно соединение из 1-пропанола, 2-пропанола, 1-бутанола, 2-бутанола и 1-метокси-2-пропанола.
7. Композиция по п. 6, где система органических растворителей дополнительно содержит 1-этокси-2-(2-этоксиэтокси)этан.
8. Композиция по п. 1, где соединение формулы 3 выбирают из монометилового эфира диэтиленгликоля, моноэтилового эфира диэтиленгликоля, монометилового эфира триэтиленгликоля, моноэтилового эфира триэтиленгликоля, монометилового эфира тетраэтиленгликоля и моноэтилового эфира тетраэтиленгликоля.
9. Композиция по п. 1, где композиция характеризуется содержанием воды 5-20 моль на моль кремния в указанной композиции.
10. Композиция по п. 1, где рН композиции составляет в диапазоне 3,5-4,5 и более предпочтительно 4.
11. Композиция по п. 1, в где протонную кислоту выбирают из уксусной кислоты, муравьиной кислоты и соляной кислоты (HCl).
12. Композиция по п. 1, дополнительно содержащая наночастицы, такие как кремниевые наночастицы.
13. Композиция по п. 1, дополнительно содержащая люминесцентное соединение, такое как люминофор или люминесцентный краситель.
14. Чернила для импринтинга, содержащие композицию, которая включает
растворенный продукт конденсации:
по меньшей мере одного из первого силанового соединения формулы 1 и второго силанового соединения формулы 2; и
соединения формулы 3:
формула 1
формула 2
Формула 3
где R1-R9 по отдельности выбирают из группы, состоящей из C1-C6 линейных или разветвленных алкильных групп и фенильной группы, и где n представляет собой положительное целое число, характеризующееся значением по меньшей мере 2;
композиция дополнительно содержит
протонную кислоту, такую, что композиция характеризуется рН в диапазоне 3-5; и
систему органических растворителей, содержащую первичный или вторичный спирт и воду,
и где чернила для импринтинга дополнительно содержат одно соединение из фотокислотного генератора, фотоинициатора и термокислотного генератора.
15. Чернила для импринтинга по п. 14, где фотокислотный генератор представляет собой продукт под торговым названием
Irgacure PAG 103.
16. Чернила для импринтинга по п. 14, дополнительно содержащие сенсибилизирующий агент для сенсибилизации фотокислотного генератора.
17. Чернила для импринтинга по п. 14, где фотокислотный генератор или термокислотный генератор характеризуются содержанием в составе чернил 1-10% масс. в расчете на вес силановых соединений в полностью конденсированном состоянии.
18. Способ формирования слоя с нанесенным узором на субстрате, включающий:
нанесение чернил для импринтинга на субстрат;
импринтинг нанесенных чернил для импринтинга с использованием стампа, несущего указанный узор;
отверждение чернил для импринтинга путем активации одного из фотокислотного генератора, фотоинициатора и термокислотного генератора в указанной композиции; и
удаление стампа после отверждения.
19. Способ по п. 18, где указанная активация фотокислотного генератора или фотоинициатора включает облучение чернил для импринтинга с УФ-излучением, характеризующимся длиной волны не менее 350 нм.
20. Применение чернил для импринтинга для технологического процесса импринтинга, при этом чернила для импринтинга содержат композицию, которая включает:
растворенный продукт конденсации:
по меньшей мере одного из первого силанового соединения Формулы 1 и второго силанового соединения Формулы 2; и
соединения Формулы 3:
Формула 1
Формула 2
Формула 3
где R1-R9 по отдельности выбирают из группы, состоящей из C1-C6 линейных или разветвленных алкильных групп и фенильной группы, и где n представляет собой положительное целое число, характеризующееся значением по меньшей мере 2;
композиция дополнительно содержит:
протонную кислоту, такую, что композиция характеризуется рН в диапазоне 3-5, и
систему органических растворителей, содержащую первичный или вторичный спирт и воду.
21. Способ по п. 18, включающий применение стампа, несущего узор, в котором несущая узор часть стампа содержит каучуковый материал.
22. Способ по п. 21, где каучуковый материал представляет собой полидиметилсилоксан.
23. Способ по п. 22, где чернила для импринтинга подвергают УФ-облучению, характеризующемуся длиной волны больше чем 250 нм, и где облучение происходит через стамп.
24. Субстрат, содержащий слой с нанесенным узором, получаемым путем осуществления способа, включающего
нанесение чернил для импринтинга на субстрат;
импринтинг нанесенных чернил для импринтинга с использованием стампа, несущего указанный узор;
отверждение чернил для импринтинга путем активации одного из фотокислотного генератора, фотоинициатора и термокислотного генератора в указанной композиции; и
удаление стампа после отверждения.
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP12198958 | 2012-12-21 | ||
| EP12198958.6 | 2012-12-21 | ||
| PCT/IB2013/060930 WO2014097096A1 (en) | 2012-12-21 | 2013-12-13 | Composition, imprinting ink and imprinting method |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2015120063A true RU2015120063A (ru) | 2016-12-20 |
| RU2632456C2 RU2632456C2 (ru) | 2017-10-04 |
Family
ID=47471589
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2015120063A RU2632456C2 (ru) | 2012-12-21 | 2013-12-13 | Композиция, чернила для импринтинга и способ импринтинга |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US10946625B2 (ru) |
| EP (1) | EP2904058B1 (ru) |
| JP (1) | JP5897234B1 (ru) |
| CN (1) | CN104870576B (ru) |
| BR (1) | BR112015014923B1 (ru) |
| DK (1) | DK2904058T3 (ru) |
| RU (1) | RU2632456C2 (ru) |
| WO (1) | WO2014097096A1 (ru) |
Families Citing this family (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR3029529A1 (fr) * | 2014-12-03 | 2016-06-10 | Commissariat Energie Atomique | Encre sol-gel luminescente pour marquer un substrat, procede de realisation d'une encre sol-gel luminescente et procede de marquage d'un substrat par une encre sol-gel luminescente. |
| WO2017067838A1 (en) * | 2015-10-20 | 2017-04-27 | Koninklijke Philips N.V. | Imprinting ink composition, imprinting method, optical element lighting device, optical sensor and photovoltaic device |
| US11609499B2 (en) * | 2016-02-24 | 2023-03-21 | Nissan Chemical Corporation | Silicon-containing coating agent for pattern reversal |
| JP6545401B2 (ja) | 2016-04-06 | 2019-07-17 | コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェＫｏｎｉｎｋｌｉｊｋｅ Ｐｈｉｌｉｐｓ Ｎ．Ｖ． | インプリントリソグラフィースタンプの作製方法及び使用方法 |
| EP3481562A4 (en) * | 2016-07-08 | 2019-06-26 | University of Massachusetts | MODELING NANOSTRUCTURES USING PRINT LITHOGRAPHY |
| CN106226846B (zh) * | 2016-09-07 | 2017-11-07 | 山东科技大学 | 一种基于反转压印纳米成型技术的力响应性光子晶体材料的制备方法 |
| CN106291776B (zh) * | 2016-09-07 | 2018-01-30 | 山东科技大学 | 一种基于纳米成型技术的力响应性光子晶体材料的制备方法 |
| CN106226847B (zh) * | 2016-09-07 | 2017-12-19 | 山东科技大学 | 一种力响应性纳米量级光子晶体材料的制备方法 |
| US10877192B2 (en) * | 2017-04-18 | 2020-12-29 | Saudi Arabian Oil Company | Method of fabricating smart photonic structures for material monitoring |
| US20190198720A1 (en) * | 2017-12-22 | 2019-06-27 | Lumileds Llc | Particle systems and patterning for monolithic led arrays |
| WO2019188522A1 (ja) * | 2018-03-27 | 2019-10-03 | 富士フイルム株式会社 | インクジェットインク組成物及びその製造方法、並びに画像形成方法 |
| EP3582004A1 (en) * | 2018-06-13 | 2019-12-18 | Koninklijke Philips N.V. | Imprinting composition and method of forming a patterned layer using the same |
| US20210325777A1 (en) | 2020-04-20 | 2021-10-21 | Applied Materials, Inc. | Methods for increasing the refractive index of high-index nanoimprint lithography films |
| EP3929658A1 (en) * | 2020-06-23 | 2021-12-29 | Koninklijke Philips N.V. | Imprinting method and patterned layer |
Family Cites Families (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1660240A2 (en) | 2003-08-19 | 2006-05-31 | Nanoopto Corporation | Sub-micron-scale patterning method and system |
| RU2339668C2 (ru) * | 2004-06-28 | 2008-11-27 | Кэнон Кабусики Кайся | Водные чернила, струйный способ записи, чернильный картридж, блок записи, струйное устройство записи и способ формирования изображения |
| JP3793222B2 (ja) * | 2004-07-02 | 2006-07-05 | キヤノン株式会社 | インクジェット用インク、インクセット、インクジェット記録方法、インクカートリッジ、記録ユニット、及びインクジェット記録装置 |
| JP2008007623A (ja) | 2006-06-29 | 2008-01-17 | Chisso Corp | ナノインプリント用組成物 |
| CN101535892A (zh) * | 2006-11-01 | 2009-09-16 | 皇家飞利浦电子股份有限公司 | 凹凸层和制作凹凸层的压印方法 |
| JP2010519362A (ja) | 2007-02-26 | 2010-06-03 | エイゼット・エレクトロニック・マテリアルズ・ユーエスエイ・コーポレイション | シロキサンポリマーの製造方法 |
| CN101910295B (zh) | 2007-11-01 | 2012-08-29 | 陶氏环球技术有限责任公司 | 原位湿气生成和用于硅烷-官能化树脂交联的多官能醇的使用 |
| JP5433152B2 (ja) * | 2008-01-18 | 2014-03-05 | 東京応化工業株式会社 | 室温インプリント用膜形成組成物、並びに構造体の製造方法及び構造体 |
| US9429837B2 (en) * | 2008-05-20 | 2016-08-30 | Asml Netherlands B.V. | Aqueous curable imprintable medium and patterned layer forming method |
| KR101749349B1 (ko) * | 2008-05-21 | 2017-07-03 | 닛산 가가쿠 고교 가부시키 가이샤 | 아미노산 발생제 및 이를 포함하는 폴리실록산 조성물 |
| RU2497850C2 (ru) | 2008-06-06 | 2013-11-10 | Конинклейке Филипс Электроникс Н.В. | Силиконовый каучуковый материал для мягкой литографии |
| JP2011082347A (ja) | 2009-10-07 | 2011-04-21 | Fujifilm Corp | インプリント用硬化性組成物、硬化物の製造方法および硬化物 |
| JP5882583B2 (ja) * | 2010-02-04 | 2016-03-09 | 東京応化工業株式会社 | エアギャップ形成用シリカ系被膜形成材料及びエアギャップ形成方法 |
| EP2692776B1 (en) | 2011-03-30 | 2017-02-22 | Asahi Kasei Kabushiki Kaisha | Organopolysiloxane, method for producing same, and curable resin composition containing organopolysiloxane |
| JP5729865B2 (ja) | 2011-03-31 | 2015-06-03 | 旭化成ケミカルズ株式会社 | オルガノポリシロキサンを含有する光硬化性樹脂組成物およびその用途 |
-
2013
- 2013-12-13 CN CN201380067330.6A patent/CN104870576B/zh active Active
- 2013-12-13 WO PCT/IB2013/060930 patent/WO2014097096A1/en active Application Filing
- 2013-12-13 US US14/443,181 patent/US10946625B2/en active Active
- 2013-12-13 DK DK13824202.9T patent/DK2904058T3/en active
- 2013-12-13 RU RU2015120063A patent/RU2632456C2/ru active
- 2013-12-13 EP EP13824202.9A patent/EP2904058B1/en active Active
- 2013-12-13 JP JP2015547252A patent/JP5897234B1/ja active Active
- 2013-12-13 BR BR112015014923-5A patent/BR112015014923B1/pt active IP Right Grant
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP2904058B1 (en) | 2016-05-25 |
| EP2904058A1 (en) | 2015-08-12 |
| WO2014097096A1 (en) | 2014-06-26 |
| US20150291815A1 (en) | 2015-10-15 |
| CN104870576B (zh) | 2017-09-12 |
| DK2904058T3 (en) | 2016-08-22 |
| JP5897234B1 (ja) | 2016-03-30 |
| CN104870576A (zh) | 2015-08-26 |
| RU2632456C2 (ru) | 2017-10-04 |
| BR112015014923A2 (pt) | 2017-07-11 |
| JP2016511701A (ja) | 2016-04-21 |
| US10946625B2 (en) | 2021-03-16 |
| BR112015014923B1 (pt) | 2021-11-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| RU2015120063A (ru) | Композиция, чернила для импринтинга и способ импринтинга | |
| US8425790B2 (en) | Ink-jet ink composition for etching resist | |
| US9567277B2 (en) | Reagent for enhancing generation of chemical species | |
| US9650357B2 (en) | Reagent for enhancing generation of chemical species | |
| JP5516869B2 (ja) | 光カチオン重合増感剤組成物、光感応性酸発生剤組成物、光カチオン重合性組成物及び該光カチオン重合組成物を重合してなる重合物 | |
| TWI531618B (zh) | Radiation - hardened polysiloxane composition | |
| WO2014208103A1 (en) | Reagent for enhancing generation of chemical species | |
| EP1662322A2 (en) | Positive type photo-sensitive siloxane composition, curing film formed by the composition and device with the curing film | |
| KR20200129037A (ko) | 감방사선성 조성물, 표시 장치용 절연막, 표시 장치, 표시 장치용 절연막의 형성 방법 및, 실세스퀴옥산 | |
| EP3078717B1 (en) | Photobase generator | |
| TW201437765A (zh) | 負型感光性矽氧烷組成物 | |
| WO2015053397A1 (ja) | 光カチオン硬化性塗料組成物及び塗膜形成方法、その塗装物品 | |
| JP2013170227A (ja) | 光重合性組成物 | |
| Lalevee et al. | Acylgermanes: Excited state processes and reactivity | |
| DE2233514C3 (de) | Photopolymerisierbare, gegebenenfalls Füllstoffe enthaltende Organopolysiloxanformmassen und deren Verwendung zur Herstellung von Druckplatten und ätzmittelbeständigen Reservagen | |
| KR20200018414A (ko) | 광 또는 열경화 방법, 및 경화성 수지 조성물 | |
| WO2019102655A1 (ja) | シロキサン樹脂組成物、硬化膜および表示装置 | |
| KR20140075046A (ko) | 자외선 경화형 유기실록산 수지를 포함한 평탄화막의 형성방법 및 이로부터 형성된 평탄화막 | |
| JP4478928B2 (ja) | 蛍光発光性硬化物用の組成物および蛍光発光性硬化物 | |
| KR20220139241A (ko) | 네거티브형 감방사선성 수지 조성물, 유기 el 소자용 절연막, 유기 el 소자용 절연막의 형성 방법 및 유기 el 장치 | |
| Lalevée et al. | Surface modification of a UV curable acrylate coating: In situ introduction of hydrophobic properties | |
| GB2501039A (en) | Printing ink | |
| CA3221506A1 (en) | Hybrid uv-led radiation curable protective varnishes for security documents | |
| OA21413A (en) | Cationic UV-LED radiation curable protective varnishes for security documents. | |
| CN117069942A (zh) | 聚硅氧烷类化合物、皮膜形成用组合物、层叠体、触控面板以及固化皮膜的形成方法 |