RU2015117784A - Устройство и способ нанесения электролитического покрытия на объект - Google Patents

Устройство и способ нанесения электролитического покрытия на объект Download PDF

Info

Publication number
RU2015117784A
RU2015117784A RU2015117784A RU2015117784A RU2015117784A RU 2015117784 A RU2015117784 A RU 2015117784A RU 2015117784 A RU2015117784 A RU 2015117784A RU 2015117784 A RU2015117784 A RU 2015117784A RU 2015117784 A RU2015117784 A RU 2015117784A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
source
electrolyte
direct current
electrolytic bath
electrolytic
Prior art date
Application number
RU2015117784A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2635058C2 (ru
Inventor
Дагмар ЛОРЕНЦ
Клаус МЕННИНГЕН
Маркус РААБ
Original Assignee
Машиненфабрик Нихофф Гмбх Унд Ко. Кг
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Машиненфабрик Нихофф Гмбх Унд Ко. Кг filed Critical Машиненфабрик Нихофф Гмбх Унд Ко. Кг
Publication of RU2015117784A publication Critical patent/RU2015117784A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2635058C2 publication Critical patent/RU2635058C2/ru

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D17/00Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
    • C25D17/007Current directing devices
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D17/00Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
    • C25D17/10Electrodes, e.g. composition, counter electrode
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D21/00Processes for servicing or operating cells for electrolytic coating
    • C25D21/12Process control or regulation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D21/00Processes for servicing or operating cells for electrolytic coating
    • C25D21/12Process control or regulation
    • C25D21/14Controlled addition of electrolyte components
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/30Electroplating: Baths therefor from solutions of tin
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/18Electroplating using modulated, pulsed or reversing current
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D7/00Electroplating characterised by the article coated
    • C25D7/06Wires; Strips; Foils
    • C25D7/0607Wires
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D7/00Electroplating characterised by the article coated
    • C25D7/06Wires; Strips; Foils
    • C25D7/0614Strips or foils
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D7/00Electroplating characterised by the article coated
    • C25D7/06Wires; Strips; Foils

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Automation & Control Theory (AREA)
  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)

Claims (41)

1. Устройство для нанесения электролитического покрытия на объект, имеющее:
электролитическую ванну (10) с электролитом (12);
первый источник (16) постоянного тока;
по меньшей мере один растворимый анод (14), который, по меньшей мере частично, погружен в электролит (12) в электролитической ванне (10) и имеет электропроводное соединение с положительным полюсом первого источника (16) постоянного тока; и
по меньшей мере один катодный вывод (20), который электропроводно соединен с отрицательным полюсом первого источника (16) постоянного тока, и с которым электропроводно соединяется покрываемый объект (18), погруженный в электролит (12) в электролитической ванне (10),
отличающееся
вторым источником (24) постоянного тока, выполненным с возможностью эксплуатации независимо от первого источника (16) постоянного тока; и
по меньшей мере одним нерастворимым анодом (22), который, по меньшей мере частично, погружен в электролит (12) в электролитической ванне (10) и имеет электропроводное соединение с положительным полюсом второго источника (24) постоянного тока.
2. Устройство по п. 1,
отличающееся тем, что
сила тока второго источника (24) постоянного тока может регулироваться независимо от силы тока первого источника (16) постоянного тока.
3. Устройство по п. 1 или 2,
отличающееся тем, что
предусмотрено управляющее устройство (26) для регулирования первого источника (16) постоянного тока и/или второго источника (24) постоянного тока в зависимости по меньшей мере от одного электролитического параметра электролита (12) в электролитической ванне (10).
4. Устройство по п. 3,
отличающееся тем, что
предусмотрено измерительное устройство (28) для регистрации по меньшей мере одного электролитического параметра электролита (12) в электролитической ванне (10).
5. Устройство по п. 1,
отличающееся тем, что
оно выполнено как устройство непрерывной обработки для непрерывного нанесения электролитического покрытия на объект.
6. Способ нанесения электролитического покрытия на объект, содержащий этапы, на которых:
погружают покрываемый объект (18) в электролитическую ванну (10) с электролитом (12), в которую, по меньшей мере частично, погружены по меньшей мере один растворимый анод (14), который имеет электропроводное соединение с положительным полюсом первого источника (16) постоянного тока, и по меньшей мере один нерастворимый анод (22), который имеет электропроводное соединение с положительным полюсом второго источника (24) постоянного тока;
создают электропроводное соединение покрываемого объекта (18) с отрицательным полюсом первого источника (16) постоянного тока и отрицательным полюсом второго источника (24) постоянного тока; и
эксплуатируют второй источник (24) постоянного тока независимо от первого источника (16) постоянного тока.
7. Способ по п. 6,
отличающийся тем, что
силу тока первого источника (16) постоянного тока и силу тока второго источника (24) постоянного тока регулируют по-разному относительно друг друга.
8. Способ по п. 6,
отличающийся тем, что
общую силу тока первого источника (16) постоянного тока и второго источника (24) постоянного тока поддерживают по существу постоянной.
9. Способ по одному из пп. 6-8,
отличающийся тем, что
первый источник (16) постоянного тока и/или второй источник (24) постоянного тока регулируют в зависимости по меньшей мере от одного электролитического параметра электролита (12) в электролитической ванне (10).
10. Способ по п. 9,
отличающийся тем, что
по меньшей мере один электролитический параметр электролита (12) в электролитической ванне (10) регистрируют регулярно или непрерывно.
11. Способ по п. 6,
отличающийся тем, что
электролитическое покрытие непрерывно наносят на объект (18) поточным способом.
12. Применение устройства по одному из пп. 1-5 для нанесения электролитического покрытия на проволоку
13. Применение способа по одному из пп. 6-11 для нанесения электролитического покрытия на проволоку.
RU2015117784A 2012-12-18 2013-12-09 Устройство и способ нанесения электролитического покрытия на объект RU2635058C2 (ru)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102012024758.3 2012-12-18
DE102012024758.3A DE102012024758B4 (de) 2012-12-18 2012-12-18 Vorrichtung und Verfahren zum elektrolytischen Beschichten eines Gegenstandes und deren Verwendung
PCT/EP2013/003710 WO2014094998A1 (de) 2012-12-18 2013-12-09 Vorrichtung und verfahren zum elektrolytischen beschichten eines gegenstandes

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2015117784A true RU2015117784A (ru) 2017-01-23
RU2635058C2 RU2635058C2 (ru) 2017-11-08

Family

ID=49841627

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2015117784A RU2635058C2 (ru) 2012-12-18 2013-12-09 Устройство и способ нанесения электролитического покрытия на объект

Country Status (9)

Country Link
US (1) US10047449B2 (ru)
EP (1) EP2935661A1 (ru)
JP (1) JP6169719B2 (ru)
CN (1) CN104685112A (ru)
BR (1) BR112015012707A2 (ru)
DE (1) DE102012024758B4 (ru)
MX (1) MX348141B (ru)
RU (1) RU2635058C2 (ru)
WO (1) WO2014094998A1 (ru)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104313657A (zh) * 2014-11-10 2015-01-28 临安振有电子有限公司 Hdi印制线路板通孔的电沉积装置
JP6423320B2 (ja) * 2015-06-25 2018-11-14 田中貴金属工業株式会社 めっき装置及びめっき方法
TWI698554B (zh) * 2015-10-20 2020-07-11 香港商亞洲電鍍器材有限公司 電鍍機器及電鍍方法
CN114174560A (zh) * 2019-08-05 2022-03-11 Sms集团有限公司 用于借助于脉冲技术电解涂覆导电的带材和/或织物的方法和设备
US20220178045A1 (en) * 2020-12-08 2022-06-09 Honeywell International Inc. Electroplating shield device and methods of fabricating the same
RU2751355C1 (ru) * 2021-02-26 2021-07-13 Акционерное общество "Саратовское предприятие промышленной электроники и энергетики" (АО "Промэлектроника") Способ нанесения гальванического покрытия на прецизионные металлические нити и установка для его реализации

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US1465034A (en) 1921-11-03 1923-08-14 Frank L Antisell Process for the electrolytic deposition of copper
FR2392502A1 (fr) 1977-05-24 1978-12-22 Wonder Procede et dispositif pour fabriquer des electrodes negatives, notamment en cadmium ou en zinc, pour generateurs electrochimiques et electrodes negatives ainsi obtenues
US4169780A (en) * 1977-05-24 1979-10-02 Societe Les Piles Wonder Process and apparatus for making negative electrodes, in particular in cadmium or zinc, for electrochemical generators, and the negative electrodes thus obtained
DE3012168A1 (de) 1980-03-27 1981-10-01 Schering Ag Berlin Und Bergkamen, 1000 Berlin Verfahren zur galvanischen abscheidung von kupferniederschlaegen
US4514266A (en) * 1981-09-11 1985-04-30 Republic Steel Corporation Method and apparatus for electroplating
JPS6386886A (ja) * 1986-09-29 1988-04-18 Nippon Steel Corp 電気合金めつき帯鋼の製造方法
JPS63317698A (ja) * 1987-06-20 1988-12-26 Toyota Motor Corp 電気めっき液の金属イオン濃度と水素イオン濃度の制御装置
CN87211969U (zh) * 1987-08-22 1988-07-20 北京高熔金属材料厂 钨丝镀金用连续电镀装置
US5228965A (en) * 1990-10-30 1993-07-20 Gould Inc. Method and apparatus for applying surface treatment to metal foil
JPH04191394A (ja) * 1990-11-26 1992-07-09 Furukawa Electric Co Ltd:The 銅被覆鋼線の製造方法
JPH04284691A (ja) * 1991-03-13 1992-10-09 Arumetsukusu:Kk プリント配線板の電気めっき方法
US5100517A (en) 1991-04-08 1992-03-31 The Goodyear Tire & Rubber Company Process for applying a copper layer to steel wire
DE4235227A1 (de) 1992-10-13 1994-04-14 Galvanotechnik Juergen Rossman Verfahren zur Metallkonzentrations-Stabilisierung im Elektrolyten eines sauren Kupferbades bei der Verkupferung von Tiefdruckzylindern in der Druckindustrie
JP2943551B2 (ja) * 1993-02-10 1999-08-30 ヤマハ株式会社 メッキ方法及びその装置
DE19539865A1 (de) 1995-10-26 1997-04-30 Lea Ronal Gmbh Durchlauf-Galvanikanlage
CN1477238A (zh) * 2002-08-20 2004-02-25 株式会社Smc 电镀装置
RU2431000C2 (ru) * 2009-06-22 2011-10-10 Николай Иванович Толкачев Способ электролитического никелирования

Also Published As

Publication number Publication date
DE102012024758B4 (de) 2024-02-01
JP6169719B2 (ja) 2017-07-26
MX2015004743A (es) 2015-07-23
US10047449B2 (en) 2018-08-14
MX348141B (es) 2017-05-30
BR112015012707A2 (pt) 2017-07-11
CN104685112A (zh) 2015-06-03
WO2014094998A1 (de) 2014-06-26
DE102012024758A1 (de) 2014-06-18
JP2015537123A (ja) 2015-12-24
EP2935661A1 (de) 2015-10-28
US20150284867A1 (en) 2015-10-08
RU2635058C2 (ru) 2017-11-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2015117784A (ru) Устройство и способ нанесения электролитического покрытия на объект
EA201491434A1 (ru) Устройство для регулирования мощности в ваннах электролитического извлечения металлов
WO2016087675A3 (en) An electrochemical device for releasing ions
MY172597A (en) Metal-film forming apparatus and metal-film forming method
WO2014156310A8 (ja) 金属被膜の成膜装置および成膜方法
TW201614110A (en) Plating method
JP2015537123A5 (ru)
GB201304128D0 (en) Wet capacitor cathode containing a conductive coating formed anodic electrochemical polymerization of a colloidal suspension
EP3073715A3 (en) Electronic device and control method thereof
EP2835451A3 (en) Method of removing a metal detail from a substrate
EA201591921A1 (ru) Электролитическая ячейка для электровыделения металлов
EA201491016A1 (ru) Способ промышленного электрорафинирования меди
PH12015502423A1 (en) Zinc alloy plating method
MX2019002691A (es) Metodos para revestir un sustrato electricamente conductivo y composiciones electrodepositables relacionadas, que incluyen particulas de carbono grafenico.
WO2015025211A3 (en) Film formation system and film formation method for forming metal film
EP3150743A3 (en) Bismuth electroplating baths and methods of electroplating bismuth on a substrate
IN2014KN01651A (ru)
IN2014DN09889A (ru)
CN105432156B8 (zh) 微制造群组电镀技术
RU2015146338A (ru) Способ электролитно-плазменной обработки изделий, изготовленных с применением аддитивных технологий и устройство для его осуществления
RU2008115739A (ru) Способ микродугового оксидирования
WO2010133222A3 (de) Verfahren und vorrichtung zum steuern von elektrochemischen oberflächenprozessen
PH12018502416A1 (en) Method for monitoring the total amount of brighteners in an acidic copper/copper alloy plating bath and controlled process for plating
EP3644416A4 (en) METAL OXIDE COATED WITH CONDUCTIVE POLYMER, ELECTRODE FOR ELECTROCHEMICAL ELEMENT THEREOF AND PROCESS FOR THE MANUFACTURE OF CONDUCTIVE POLYMER COATED METAL OXIDE
CN203247323U (zh) 高克重电镀锌层装置