JPS63317698A - 電気めっき液の金属イオン濃度と水素イオン濃度の制御装置 - Google Patents
電気めっき液の金属イオン濃度と水素イオン濃度の制御装置Info
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- JPS63317698A JPS63317698A JP15423387A JP15423387A JPS63317698A JP S63317698 A JPS63317698 A JP S63317698A JP 15423387 A JP15423387 A JP 15423387A JP 15423387 A JP15423387 A JP 15423387A JP S63317698 A JPS63317698 A JP S63317698A
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Landscapes
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は電気めっき液の金属イオン濃度と水素イオン濃
度をコントロールする装置に関するものである。
度をコントロールする装置に関するものである。
電気めっきは金属塩を溶解させた水溶液や非水溶液から
電気分解により陰極丘に金属隻を析出させるもので、め
っきする金属を陽極として用いることによりめっき液に
金属の補給が行なわれている。
電気分解により陰極丘に金属隻を析出させるもので、め
っきする金属を陽極として用いることによりめっき液に
金属の補給が行なわれている。
例えば、代表的なめっきである電気ニッケルめっきでは
、第3図に示すような、めっき槽21、金属ニッケル板
からなる可溶性陽極22、被めっき物である陰極23及
び一定の通電量の直流電流を供給する整流器24から概
略構成される電気ニッケルめっき装置が一般的に用いら
れている。なお1図中、25はめっき液を示す。
、第3図に示すような、めっき槽21、金属ニッケル板
からなる可溶性陽極22、被めっき物である陰極23及
び一定の通電量の直流電流を供給する整流器24から概
略構成される電気ニッケルめっき装置が一般的に用いら
れている。なお1図中、25はめっき液を示す。
めっき液の組成は一般的に次のものが使用される。
硫酸=ッ’7/Lz(NiSO4*8H20) 2B
Of20g/41塩化ニッケル(NiCIz・8H20
) 45±10g/lホウ酸(H3BO3)
40±5g/ 1その他に、めっき液の水素イ
オン濃度をPH3,8ないし4.2の範囲内に調整する
ための適当量の硫酸又は塩酸、そして更に他の目的の添
加物。
Of20g/41塩化ニッケル(NiCIz・8H20
) 45±10g/lホウ酸(H3BO3)
40±5g/ 1その他に、めっき液の水素イ
オン濃度をPH3,8ないし4.2の範囲内に調整する
ための適当量の硫酸又は塩酸、そして更に他の目的の添
加物。
該めっき液により上記の電気ニッケルめっき装置を用い
て一定の通電量で通電すると、可溶性陽極と陰、極では
次の反応が起こる。
て一定の通電量で通電すると、可溶性陽極と陰、極では
次の反応が起こる。
可溶性陽極 Ni+ 5O4−−−2e−−p旧So、
・(イ)Ni+2CI2−2e−−+旧012−(ロ
)陰 極 N;″”+2e =
N! ・・ (ハ)2H++ 2e−→)l、、
↑ ・・・(ニ)上記の式において、可溶性陽極におけ
る(イ)、 (ロ)式で示されるニッケルの溶解効率は
、通常、はぼ100%であるが、陰極では(ハ)式で示
されるニッケルの析出効率は97%程度であり、 (ニ
)式で示される水素ガスの発生が3%起こる。したがっ
て、めっき液中にはニッケルイオン(N; ++ )が
漸増する。また、(ニ)式で示されるように水素イオン
が水素ガスとなることにより水素イオン濃度が低下、即
ちP)l値が上昇する。
・(イ)Ni+2CI2−2e−−+旧012−(ロ
)陰 極 N;″”+2e =
N! ・・ (ハ)2H++ 2e−→)l、、
↑ ・・・(ニ)上記の式において、可溶性陽極におけ
る(イ)、 (ロ)式で示されるニッケルの溶解効率は
、通常、はぼ100%であるが、陰極では(ハ)式で示
されるニッケルの析出効率は97%程度であり、 (ニ
)式で示される水素ガスの発生が3%起こる。したがっ
て、めっき液中にはニッケルイオン(N; ++ )が
漸増する。また、(ニ)式で示されるように水素イオン
が水素ガスとなることにより水素イオン濃度が低下、即
ちP)l値が上昇する。
そのため、めっき作業中、絶えず、pH値を測定し、そ
の結果によって硫酸等を加えてpH値を上記のp)13
.8〜4.2の管理範囲内に調節している。また、増加
したニッケルイオンはめっき液が被めっき物に付着して
汲み出されることにより排出されている。
の結果によって硫酸等を加えてpH値を上記のp)13
.8〜4.2の管理範囲内に調節している。また、増加
したニッケルイオンはめっき液が被めっき物に付着して
汲み出されることにより排出されている。
なお、PHの調節装置としては、pH:A整剤を添加す
ることによりpHを自動制御するpH7A節装置が特開
昭58−58189号で開示されている。
ることによりpHを自動制御するpH7A節装置が特開
昭58−58189号で開示されている。
しかしながら、上記したようにpHを調節するために硫
酸や他のpH調整剤を投入すると、めっき液中にそのよ
うなpH調整剤が増加してしまう問題がある。
酸や他のpH調整剤を投入すると、めっき液中にそのよ
うなpH調整剤が増加してしまう問題がある。
また、ニッケルイオンの漸増に関しては、最近、公害、
省資源対策として、めっきされた品物に付着して系外に
排出されていためっき液をほぼ完全に回収するため、そ
の漸増するニッケルイオンのためにめっき液濃度が増加
し、再結晶化の問題がある。
省資源対策として、めっきされた品物に付着して系外に
排出されていためっき液をほぼ完全に回収するため、そ
の漸増するニッケルイオンのためにめっき液濃度が増加
し、再結晶化の問題がある。
本発明は上記の問題点を解決するためのちので、pH調
整剤の使用を低減でき、電気めっき液の金属イオン濃度
と水素イオン潤度を容易にコントロールすることができ
る装置を提供することを目的とするものである。
整剤の使用を低減でき、電気めっき液の金属イオン濃度
と水素イオン潤度を容易にコントロールすることができ
る装置を提供することを目的とするものである。
本発明の電気めっき液の金属イオン濃度と水素イオン濃
度の制御装置は、可溶性陽極を備えた電気めっき装置に
用いるためのものであって、電気めっき液の水素イオン
濃度を測定する水素イオン濃度測定器と、該めっき液の
電解を行う不溶性陽極と、全めっき通電量は変えずに、
水素イオン濃度に応じて少なくとも不溶性陽極の通電電
流を制御する電流制御器とからなることを特徴とするも
のである。
度の制御装置は、可溶性陽極を備えた電気めっき装置に
用いるためのものであって、電気めっき液の水素イオン
濃度を測定する水素イオン濃度測定器と、該めっき液の
電解を行う不溶性陽極と、全めっき通電量は変えずに、
水素イオン濃度に応じて少なくとも不溶性陽極の通電電
流を制御する電流制御器とからなることを特徴とするも
のである。
本発明において、めっき液の水素イオン濃度の測定はめ
っき槽のめっき液中に電波が流れているため、該めっき
液を別の槽に汲み出して電気的に絶縁した状態で測定す
ることが好ましいが、電流が流れているめっき液の水素
イオン濃度を測定することができる型式の水素イオン濃
度測定器ではめっき槽のめっき液を直接測ってもよい。
っき槽のめっき液中に電波が流れているため、該めっき
液を別の槽に汲み出して電気的に絶縁した状態で測定す
ることが好ましいが、電流が流れているめっき液の水素
イオン濃度を測定することができる型式の水素イオン濃
度測定器ではめっき槽のめっき液を直接測ってもよい。
めっき槽と、可溶性陽極と、陰極と、直流電流を供給す
る整流器で構成される電気めっき装置において、整流器
に不溶性陽極を接続し、不溶性陽極と整流器の間、又は
それに加えて更に可溶性陽極と整流器の間に電流制御器
を接続し、電気めっきを行う。
る整流器で構成される電気めっき装置において、整流器
に不溶性陽極を接続し、不溶性陽極と整流器の間、又は
それに加えて更に可溶性陽極と整流器の間に電流制御器
を接続し、電気めっきを行う。
その際、水素イオン濃度測定器によって、めっき液の水
素イオン濃度を測定し、その水素イオン濃度に応じて電
気信号をTW、流制御器に送る。電流制u4器は、全体
のめっき通電量は変えずに、その信号によって不溶性陽
極、又は不溶性陽極と可溶性陽極の通電量を制御する。
素イオン濃度を測定し、その水素イオン濃度に応じて電
気信号をTW、流制御器に送る。電流制u4器は、全体
のめっき通電量は変えずに、その信号によって不溶性陽
極、又は不溶性陽極と可溶性陽極の通電量を制御する。
例えば1価の金属Meを、硫醜塩及び塩酸塩を用いてめ
っきすると、電極では次の反応が起きる。
っきすると、電極では次の反応が起きる。
可溶性陽極
2Me+5O4−−−2e−+MezSO4(イ′)M
e+ CI−−e−+MeC1(口′)陰極 にe”+e−→Me (ハ′
)2H” +2e−−+H2↑ (ニ
)全通重量は変えないため、陰極の反応は一定である。
e+ CI−−e−+MeC1(口′)陰極 にe”+e−→Me (ハ′
)2H” +2e−−+H2↑ (ニ
)全通重量は変えないため、陰極の反応は一定である。
したがって、 (ニ)式の反応により水素イオンH+が
消費され、pH値が増大し、 (ハ′)式の反応により
金属Meが析出する。一方、可溶性電極では (イ′)
(口′)式の反応により金属)Isが溶解し、めっき液
中へ金属イオンMe が供給されるが、 (ハ′)式
の反応より消費される金属イオンMe+より (ニ)式
の反応の分だけ供給量が多く、したがって金属イオンM
e+が漸増する。
消費され、pH値が増大し、 (ハ′)式の反応により
金属Meが析出する。一方、可溶性電極では (イ′)
(口′)式の反応により金属)Isが溶解し、めっき液
中へ金属イオンMe が供給されるが、 (ハ′)式
の反応より消費される金属イオンMe+より (ニ)式
の反応の分だけ供給量が多く、したがって金属イオンM
e+が漸増する。
他方、不溶性陽極では次式:
%式%()
の反応が起きる。 (へ)式の反応はあまり起こらず、
(ホ)式の反応が主に起きるため、酸(H+)が供給
され、pH値が減少する。また、全通電量が一定である
ため、不溶性陽極へ通電すると、その分、可溶性陽極へ
の通電量が減少し、金属イオンMe+の供給が減少する
。その結果、電気めっき液中の金属・fオンMe+と水
素イオンH+の濃度をコントロールすることができる。
(ホ)式の反応が主に起きるため、酸(H+)が供給
され、pH値が減少する。また、全通電量が一定である
ため、不溶性陽極へ通電すると、その分、可溶性陽極へ
の通電量が減少し、金属イオンMe+の供給が減少する
。その結果、電気めっき液中の金属・fオンMe+と水
素イオンH+の濃度をコントロールすることができる。
本発明を実施例により図面を参照して説明する。
実施例1
本実施例は本発明を電気ニッケルめっきに適用したもの
である。その装置は、第1図に示すように、めっき槽l
とpH測定槽2を有し、めっき液3はめっき槽lからめ
っき槽1に設けられたオーバーフロ一槽12を経てPH
測定槽へ落下し、次いでめっき液のろ過機用のポンプ4
によってめっき槽lへ戻されて循環し1両槽のめっき液
が電気的に絶縁されている。そして。
である。その装置は、第1図に示すように、めっき槽l
とpH測定槽2を有し、めっき液3はめっき槽lからめ
っき槽1に設けられたオーバーフロ一槽12を経てPH
測定槽へ落下し、次いでめっき液のろ過機用のポンプ4
によってめっき槽lへ戻されて循環し1両槽のめっき液
が電気的に絶縁されている。そして。
めっき槽1のめっき液3にはフェライトからなる3本の
不溶性陽極8、ニッケル金属板からなる可溶性陽極9及
び被めっき物かりなる陰極10が浸漬され、その不溶性
陽極8は電流制御器6を介し、可溶性陽極9は直接、一
定の直流電流を供給する整流器11のプラス側に接続さ
れ、陰極10は該整流器11のマイナス側に接続されて
いる。一方、pH測定槽2にはpHJ11定器5が取り
付けられ、該pHJ11定器5から測定により得られた
p)Iに応じた電気信号が電流制御器6に送られるよう
になっている。
不溶性陽極8、ニッケル金属板からなる可溶性陽極9及
び被めっき物かりなる陰極10が浸漬され、その不溶性
陽極8は電流制御器6を介し、可溶性陽極9は直接、一
定の直流電流を供給する整流器11のプラス側に接続さ
れ、陰極10は該整流器11のマイナス側に接続されて
いる。一方、pH測定槽2にはpHJ11定器5が取り
付けられ、該pHJ11定器5から測定により得られた
p)Iに応じた電気信号が電流制御器6に送られるよう
になっている。
めっき液として、次の組成のものを用いる。
硫酸ニッケル(旧5o4−6H20) 280±20
g/l塩化ニッケル(NiC12−OH20) 45
±10g/交ホウ酸(H3BO3)
40± 5g/lその他に、めっき液の水素イオン濃度
をpH3,8ないし4.2の範囲内に調整するための適
当酸の硫酸、並びに平滑剤、光沢剤、応力減少剤及び界
面活性剤。
g/l塩化ニッケル(NiC12−OH20) 45
±10g/交ホウ酸(H3BO3)
40± 5g/lその他に、めっき液の水素イオン濃度
をpH3,8ないし4.2の範囲内に調整するための適
当酸の硫酸、並びに平滑剤、光沢剤、応力減少剤及び界
面活性剤。
めっき液3のpHが3.8ないし4.2の範囲内におい
て、整流器11によって可溶性陽極9に一定の通電量で
通電する。すると電極では次の反応が起きる。
て、整流器11によって可溶性陽極9に一定の通電量で
通電する。すると電極では次の反応が起きる。
可溶性陽極 sr+so、−−2e−+Ni504−・
(イ)Ni+ 2012−2e →NiCl2 ・
・・ (ロ)陰 極 Ni+++2e−−+
Ni ・・・(ハ)2H” + 2e−” H2
↑ ・・・(ニ)したがって、 (ニ)式の反応により
水素イオン濃度が低下し、 pH値がと昇するとともに
、(ニ)式の反応が起きる分だけ、 (ハ)式で示され
るニッケルの析出が減少し、めっき液3中のニッケルイ
オン濃度が漸増する。それと同時にめっき液3のpHを
pH測定器5によって測定し、pHに応じた電気信号を
電流制御器6に送る。電流制御器6では、ある一定のp
Hにおいて不溶性陽極8を整流器11に接続する。モし
てpHの上昇に従って接続する不溶性陽極8の本数を増
やす、不溶性陽極8では電解電流が流れ、次式の反応が
起きる。
(イ)Ni+ 2012−2e →NiCl2 ・
・・ (ロ)陰 極 Ni+++2e−−+
Ni ・・・(ハ)2H” + 2e−” H2
↑ ・・・(ニ)したがって、 (ニ)式の反応により
水素イオン濃度が低下し、 pH値がと昇するとともに
、(ニ)式の反応が起きる分だけ、 (ハ)式で示され
るニッケルの析出が減少し、めっき液3中のニッケルイ
オン濃度が漸増する。それと同時にめっき液3のpHを
pH測定器5によって測定し、pHに応じた電気信号を
電流制御器6に送る。電流制御器6では、ある一定のp
Hにおいて不溶性陽極8を整流器11に接続する。モし
てpHの上昇に従って接続する不溶性陽極8の本数を増
やす、不溶性陽極8では電解電流が流れ、次式の反応が
起きる。
2H20+ 2SO4−−−4e−−402t + 2
H2SO,i (ホ)2C1−−2e−→C12↑
(へ)しかし、 (へ)式の反応はあまり
起きず5主として(ホ)式の反応が起き、酸(H+)が
供給され、pH値が減少する。また、全通重量が一定で
あるため、不溶性陽極8を接続すると、不溶性陽極8へ
電流が流れる分だけ、可溶性陽極9への通電量が減少し
、ニッケルイオンの供給量が減少する。不溶性陽極8へ
の通M1着は電流制御器6による整流器11への不溶性
陽極の接続本数、即ち接続面積の増大に従って増大する
。
H2SO,i (ホ)2C1−−2e−→C12↑
(へ)しかし、 (へ)式の反応はあまり
起きず5主として(ホ)式の反応が起き、酸(H+)が
供給され、pH値が減少する。また、全通重量が一定で
あるため、不溶性陽極8を接続すると、不溶性陽極8へ
電流が流れる分だけ、可溶性陽極9への通電量が減少し
、ニッケルイオンの供給量が減少する。不溶性陽極8へ
の通M1着は電流制御器6による整流器11への不溶性
陽極の接続本数、即ち接続面積の増大に従って増大する
。
上記の不溶性陽極8への通電によりPHが低下したら、
不溶性陽極の接続本数を減らす、このようにしてp)I
を3.8ないし4.2の管理範囲内にコントロールする
。その結果、めっき液中のニッケルイオン濃度もコント
ロールされる。
不溶性陽極の接続本数を減らす、このようにしてp)I
を3.8ないし4.2の管理範囲内にコントロールする
。その結果、めっき液中のニッケルイオン濃度もコント
ロールされる。
なお、本実施例では不溶性陽極としてフェライトを用い
たが、白金、酸化鉛又は黒鉛などを使用することができ
る。
たが、白金、酸化鉛又は黒鉛などを使用することができ
る。
実施例2
本実施例は不溶性陽極と可溶性陽極への通電iを制御す
るためのものである。
るためのものである。
本実施例で使用する装置は、実施例1と同様にオーバー
フロ一槽12を取り付けためっき槽1、pH測定槽2及
びポンプ4を有し、実施例1と同様にめっき液3が循環
し、めっき槽1とpH測定槽2のめっき液が互いに電気
的に絶縁されている。めっき槽1のめっき液3申には実
施例1と同様の不溶性陽極8、可溶性陽極9及び陰極1
0が各々1本ずつ浸漬され、可溶性陽極9は主整流器1
1aのプラス側に電流制gIl器6a紮介して接続され
、不溶性陽極8は副整流器11bのプラス側に上記電流
制御器6aを介して接続され、陰極lOは主整流器11
aと副整流器ttbのマイナス側に接続されている。一
方、PH測定462には実施例1と同様にpH測定器5
が取り付けられ。
フロ一槽12を取り付けためっき槽1、pH測定槽2及
びポンプ4を有し、実施例1と同様にめっき液3が循環
し、めっき槽1とpH測定槽2のめっき液が互いに電気
的に絶縁されている。めっき槽1のめっき液3申には実
施例1と同様の不溶性陽極8、可溶性陽極9及び陰極1
0が各々1本ずつ浸漬され、可溶性陽極9は主整流器1
1aのプラス側に電流制gIl器6a紮介して接続され
、不溶性陽極8は副整流器11bのプラス側に上記電流
制御器6aを介して接続され、陰極lOは主整流器11
aと副整流器ttbのマイナス側に接続されている。一
方、PH測定462には実施例1と同様にpH測定器5
が取り付けられ。
pHI定器5からの信号がL記電流制御器6aに送られ
るようになっている。
るようになっている。
めっき液3の組成を実施例1と同様の組成としてめっき
を行う、全体のめっき通電量は一定とし、可溶性陽極9
と不溶性陽極8への通″11を量の振り分は比率を、め
っき液3のpH値に応じて予め設定しておき、 PR測
定器5からのpH値に応じた信号により電流制御器8a
でその通電量の振り分は比率に従って可溶性陽極9と不
溶性陽極8へ通電する。
を行う、全体のめっき通電量は一定とし、可溶性陽極9
と不溶性陽極8への通″11を量の振り分は比率を、め
っき液3のpH値に応じて予め設定しておき、 PR測
定器5からのpH値に応じた信号により電流制御器8a
でその通電量の振り分は比率に従って可溶性陽極9と不
溶性陽極8へ通電する。
通″irL量は、可溶性陽極側は、
主整流器通電量二全めっき通電量−(全めっき通電看×
撮り分は比率) で表わされ、不溶性陽極側は。
撮り分は比率) で表わされ、不溶性陽極側は。
副整流器通電量=全めっき通電、lx振り分は比率
で表わされる。
上記の振り分は比率はpH管理範囲内の中央値のpHに
おいて、 (ニ)式の水素イオンが消費される反応効率
(0,03%)とし、 pl(の増大に従って増大する
ように設定しておくことにより、(ホ)式で示される水
素イオンがほぼL肥効率で生成されるため、はぼ一定の
pHとなり、たとえpHが上昇しても、水素イオンの生
成が増大してPHが低下するため、常にP)IをpH管
理範囲内にコントロールすることができる。また、その
結果、ニッケルイオン濃度も常に一定の範囲内にコント
ロールされる。
おいて、 (ニ)式の水素イオンが消費される反応効率
(0,03%)とし、 pl(の増大に従って増大する
ように設定しておくことにより、(ホ)式で示される水
素イオンがほぼL肥効率で生成されるため、はぼ一定の
pHとなり、たとえpHが上昇しても、水素イオンの生
成が増大してPHが低下するため、常にP)IをpH管
理範囲内にコントロールすることができる。また、その
結果、ニッケルイオン濃度も常に一定の範囲内にコント
ロールされる。
本発明の電気めっき液の金属イオン濃度と水素イオン濃
度の制御装置は、−上記構成としたので、電極反応によ
りpHを調節するため、硫酸などのpH調節剤の使用を
削減することができ、pH’及び金属イオン濃度を容易
にコントロールできる。更に、pH調節作業が削減され
る。
度の制御装置は、−上記構成としたので、電極反応によ
りpHを調節するため、硫酸などのpH調節剤の使用を
削減することができ、pH’及び金属イオン濃度を容易
にコントロールできる。更に、pH調節作業が削減され
る。
第1図は本発明の実施例1の電気めっき装との構成図、
第2図は本発明の実施例2の電気めっき装置の構成図、
第3図は従来の電気めっき装置の構成図を表わす。
図中、
3・・・めっき液 5・・・p HiMIII定
器6・・・′1!流制御器 8・・・不溶性陽極9
・・・可溶性陽極 10・・・陰極第1図 第2図 第3図
器6・・・′1!流制御器 8・・・不溶性陽極9
・・・可溶性陽極 10・・・陰極第1図 第2図 第3図
Claims (1)
- 可溶性陽極を備えた電気めっき装置に用いるためのもの
であって、電気めっき液の水素イオン濃度を測定する水
素イオン濃度測定器と、該めっき液の電解を行う不溶性
陽極と、全めっき通電量は変えずに、水素イオン濃度に
応じて少なくとも不溶性陽極の通電電流を制御する電流
制御器とからなることを特徴とする電気めっき液の金属
イオン濃度と水素イオン濃度の制御装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15423387A JPS63317698A (ja) | 1987-06-20 | 1987-06-20 | 電気めっき液の金属イオン濃度と水素イオン濃度の制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15423387A JPS63317698A (ja) | 1987-06-20 | 1987-06-20 | 電気めっき液の金属イオン濃度と水素イオン濃度の制御装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63317698A true JPS63317698A (ja) | 1988-12-26 |
Family
ID=15579758
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15423387A Pending JPS63317698A (ja) | 1987-06-20 | 1987-06-20 | 電気めっき液の金属イオン濃度と水素イオン濃度の制御装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63317698A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB2234260A (en) * | 1989-07-24 | 1991-01-30 | Omi Int Corp | Cyanide-free copper electroplating process |
GB2249107A (en) * | 1990-10-22 | 1992-04-29 | Enthone Omi Inc | Electrodepositing nickel using sacrificial anode and insoluble iron anode inhibits nickel ion build-up |
JPH06146087A (ja) * | 1992-11-12 | 1994-05-27 | Nobuyasu Doi | 電気メッキ法 |
JP2015537123A (ja) * | 2012-12-18 | 2015-12-24 | マシーネンファブリーク・ニーホフ・ゲーエムベーハー・ウント・コー・カーゲー | 物体の電解コーティングのためのデバイス及び方法 |
WO2019164920A1 (en) * | 2018-02-23 | 2019-08-29 | Lam Research Corporation | Electroplating system with inert and active anodes |
-
1987
- 1987-06-20 JP JP15423387A patent/JPS63317698A/ja active Pending
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB2234260A (en) * | 1989-07-24 | 1991-01-30 | Omi Int Corp | Cyanide-free copper electroplating process |
GB2234260B (en) * | 1989-07-24 | 1994-01-12 | Omi Int Corp | Electroplating process |
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WO2019164920A1 (en) * | 2018-02-23 | 2019-08-29 | Lam Research Corporation | Electroplating system with inert and active anodes |
CN111936675A (zh) * | 2018-02-23 | 2020-11-13 | 朗姆研究公司 | 具有惰性和活性阳极的电镀系统 |
CN111936675B (zh) * | 2018-02-23 | 2024-05-10 | 朗姆研究公司 | 具有惰性和活性阳极的电镀系统 |
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