JPH0674520B2 - Ｎｉ−Ｗ合金連続めっき用電解浴補給液 - Google Patents
Ｎｉ−Ｗ合金連続めっき用電解浴補給液Info
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- JPH0674520B2 JPH0674520B2 JP3030482A JP3048291A JPH0674520B2 JP H0674520 B2 JPH0674520 B2 JP H0674520B2 JP 3030482 A JP3030482 A JP 3030482A JP 3048291 A JP3048291 A JP 3048291A JP H0674520 B2 JPH0674520 B2 JP H0674520B2
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- bath
- electrolytic bath
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、物品表面にＮｉ−Ｗ合
金めっきを連続的に施すＮｉ−Ｗ合金連続めっき用電解
浴補給液に関する。
金めっきを連続的に施すＮｉ−Ｗ合金連続めっき用電解
浴補給液に関する。
【０００２】
【従来の技術】Ｎｉ−Ｗ合金は、表面光沢にすぐれ、か
つその耐久性に富み、耐酸、耐アルカリ等の耐薬品性、
機械的な硬度、強度も優秀であり、とくに高温ガラスと
の非粘着離型性にすぐれているところから、被めっき物
品たる金属製物品、たとえばテレビブラウン管前面内壁
成型用金型をはじめとする各種金型、ローラ、時計のケ
ース等に賞用せられている。
つその耐久性に富み、耐酸、耐アルカリ等の耐薬品性、
機械的な硬度、強度も優秀であり、とくに高温ガラスと
の非粘着離型性にすぐれているところから、被めっき物
品たる金属製物品、たとえばテレビブラウン管前面内壁
成型用金型をはじめとする各種金型、ローラ、時計のケ
ース等に賞用せられている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】前述のようなＮｉ−Ｗ
合金めっきにおいて電解浴液（以下単に電解浴とも略
す）として、ニッケル塩およびタングステン酸塩を含有
し、くえん酸を有機錯化剤としたホルト（Ｈｏｌｔ）
法、または酒石酸を有機錯化剤としたブレナー（Ｂｒｅ
ｎｎｅｒ）法などが知られている。ホルト法やブレナー
法では、陽極としてＮｉ（またはＷ）が単極として用い
られる。またくえん酸や酒石酸の安定化のために、電解
液のＰＨは苛性アルカリで９．０に調整されている。し
かし、陽極がＮｉ（またはＷ）の単極であるため、電解
が進行するに伴い、電解浴の中のＷ（またはＮｉ）の濃
度が低下し、連続的にめっきができず、工業的に好まし
い連続めっき手段の開発が望まれている。
合金めっきにおいて電解浴液（以下単に電解浴とも略
す）として、ニッケル塩およびタングステン酸塩を含有
し、くえん酸を有機錯化剤としたホルト（Ｈｏｌｔ）
法、または酒石酸を有機錯化剤としたブレナー（Ｂｒｅ
ｎｎｅｒ）法などが知られている。ホルト法やブレナー
法では、陽極としてＮｉ（またはＷ）が単極として用い
られる。またくえん酸や酒石酸の安定化のために、電解
液のＰＨは苛性アルカリで９．０に調整されている。し
かし、陽極がＮｉ（またはＷ）の単極であるため、電解
が進行するに伴い、電解浴の中のＷ（またはＮｉ）の濃
度が低下し、連続的にめっきができず、工業的に好まし
い連続めっき手段の開発が望まれている。
【０００４】本発明の目的は、このような要望に応える
べくなされたものであって、硫酸ニッケルおよびタング
ステン酸ナトリウムを含有し、くえん酸を有機錯化剤と
し、ＰＨを６±２にアンモニアで調整した電解浴中で、
ステンレスＳＵＳ材ならびにニッケル材を陽極とし、タ
ングステン酸含有液を補給しつつ電解することを特徴と
するＮｉ−Ｗ合金めっき用電解浴補給液を提供すること
である。
べくなされたものであって、硫酸ニッケルおよびタング
ステン酸ナトリウムを含有し、くえん酸を有機錯化剤と
し、ＰＨを６±２にアンモニアで調整した電解浴中で、
ステンレスＳＵＳ材ならびにニッケル材を陽極とし、タ
ングステン酸含有液を補給しつつ電解することを特徴と
するＮｉ−Ｗ合金めっき用電解浴補給液を提供すること
である。
【０００５】
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、硫酸ニッケ
ル、タングステン酸ナトリウムを含有し、くえん酸を有
機錯化剤とし、ＰＨを６±２にアンモニアで調整された
電解浴中で、ステンレス材ならびにニッケル材を陽極と
し、タングステン含有液を補給しつつ電解するＮｉ−Ｗ
合金の連続めっき方法に用いるＮｉ−Ｗ合金めっき用補
給液であって、パラタングステン酸アンモニウム１００
ｇ／リットルとくえん酸５０〜２００ｇ／リットルとを
含有することを特徴とするＮｉ−Ｗ合金めっき用電解浴
補給液である。
ル、タングステン酸ナトリウムを含有し、くえん酸を有
機錯化剤とし、ＰＨを６±２にアンモニアで調整された
電解浴中で、ステンレス材ならびにニッケル材を陽極と
し、タングステン含有液を補給しつつ電解するＮｉ−Ｗ
合金の連続めっき方法に用いるＮｉ−Ｗ合金めっき用補
給液であって、パラタングステン酸アンモニウム１００
ｇ／リットルとくえん酸５０〜２００ｇ／リットルとを
含有することを特徴とするＮｉ−Ｗ合金めっき用電解浴
補給液である。
【０００７】
【０００８】
【作用】硫酸ニッケル、タングステン酸ナトリウムを含
有し、くえん酸を有機錯化剤とし、ＰＨ６±２にアンモ
ニアで調整された電解浴中で、ステンレス材ならびにニ
ッケル材を陽極とし、タングステン含有液を補給しつつ
電解するＮｉ−Ｗ合金の連続めっき方法に用いるＮｉ−
Ｗ合金めっき用補給液は、パラタングステン酸アンモニ
ウム１００ｇ／リットルとくえん酸５０〜２００ｇ／リ
ットルとを含有する。
有し、くえん酸を有機錯化剤とし、ＰＨ６±２にアンモ
ニアで調整された電解浴中で、ステンレス材ならびにニ
ッケル材を陽極とし、タングステン含有液を補給しつつ
電解するＮｉ−Ｗ合金の連続めっき方法に用いるＮｉ−
Ｗ合金めっき用補給液は、パラタングステン酸アンモニ
ウム１００ｇ／リットルとくえん酸５０〜２００ｇ／リ
ットルとを含有する。
【０００９】本発明に使用する電解浴が、Ｎｉ塩および
Ｗ酸塩を含有し有機錯化剤としてくえん酸を選用する点
においては前述ホルト法に近似するが、ホルト法は陽極
がＮｉないしＷの単極である点において、また浴のＰＨ
が約９．０の高値である点において、本発明と相違す
る。有機錯化剤としてくえん酸を選用した理由は、得ら
れるめっき層中のＷ含量を、酒石酸系電解浴の場合の最
高３５％にくらべて最高６２％にも及ぼさしめることが
可能であるからである。
Ｗ酸塩を含有し有機錯化剤としてくえん酸を選用する点
においては前述ホルト法に近似するが、ホルト法は陽極
がＮｉないしＷの単極である点において、また浴のＰＨ
が約９．０の高値である点において、本発明と相違す
る。有機錯化剤としてくえん酸を選用した理由は、得ら
れるめっき層中のＷ含量を、酒石酸系電解浴の場合の最
高３５％にくらべて最高６２％にも及ぼさしめることが
可能であるからである。
【００１０】本発明に使用する電解浴液中のＮｉ塩の形
態としては、塩化ニッケル、硝酸ニッケルのような形で
使用不可能ではないが、電流効果が優れている点で硫酸
ニッケルないし硫酸ニッケル・アンモニウム複塩Ｎｉ
（ＳＯ4）・（ＮＨ4）2ＳＯ4・６Ｈ2 Ｏが最良である。
同じく電解浴中のタングステン酸の塩としては、そのア
ルカリ金属の塩、なかんずくナトリウム塩の形態で使用
するがよい。タングステン酸塩をアンモニウム塩の形態
ではなくＮａ2ＷＯ4 ・２Ｈ2Ｏのようなアルカリ金属塩
として使用した場合には、浴中のＮａ濃度は連続めっき
操作中、被めっき体に付着して持ち出される以外には不
変ともいうことができるから、その建浴時における濃度
を基準として補給液の添加時期を定めることができる。
態としては、塩化ニッケル、硝酸ニッケルのような形で
使用不可能ではないが、電流効果が優れている点で硫酸
ニッケルないし硫酸ニッケル・アンモニウム複塩Ｎｉ
（ＳＯ4）・（ＮＨ4）2ＳＯ4・６Ｈ2 Ｏが最良である。
同じく電解浴中のタングステン酸の塩としては、そのア
ルカリ金属の塩、なかんずくナトリウム塩の形態で使用
するがよい。タングステン酸塩をアンモニウム塩の形態
ではなくＮａ2ＷＯ4 ・２Ｈ2Ｏのようなアルカリ金属塩
として使用した場合には、浴中のＮａ濃度は連続めっき
操作中、被めっき体に付着して持ち出される以外には不
変ともいうことができるから、その建浴時における濃度
を基準として補給液の添加時期を定めることができる。
【００１１】かくて、本発明方法に適した電解浴を例示
すれば次のとおりである。
すれば次のとおりである。
【００１２】 くえん酸 ……………………………………… １００±３０ｇ／リットル Ｎｉ塩（ＮｉＳＯ4・６Ｈ2Ｏとして） ……… ６０±２０ｇ／リットル Ｗ酸塩（Ｎａ2ＷＯ4・２Ｈ2Ｏとして） …… ７０±３０ｇ／リットル ＰＨ（ＮＨ4ＯＨによる調整） ………………… ６±２ アルカリ金属イオン（Ｎａ+ ） ………… ０．４２±０．１５ｍｏｌ／リッ トル なおＰＨが上記のとおり弱酸性であるから、従来のアン
モニアアルカリ性電解浴に比して電解槽付近のアンモニ
ア臭発生による環境衛生汚染の心配は甚しく改善せられ
る。
モニアアルカリ性電解浴に比して電解槽付近のアンモニ
ア臭発生による環境衛生汚染の心配は甚しく改善せられ
る。
【００１３】従来技術では、ＰＨ６よりも高い条件では
遊離ＮＨ4 +が生じ、一部はニッケルアンミン錯体などと
なるけれども、大部分はアンモニアガスとして大気中に
放出されていた。
遊離ＮＨ4 +が生じ、一部はニッケルアンミン錯体などと
なるけれども、大部分はアンモニアガスとして大気中に
放出されていた。
【００１４】しかしながら、ＰＨ６以下ではＮＨ4 +がニ
ッケルくえん酸錯体に配位結合し、ニッケルくえん酸ア
ンミン混合錯体を形成するためアンモニアガスが発生せ
ず、アンモニア臭を防止することができるためである。
ッケルくえん酸錯体に配位結合し、ニッケルくえん酸ア
ンミン混合錯体を形成するためアンモニアガスが発生せ
ず、アンモニア臭を防止することができるためである。
【００１５】次に本発明において、陽極としてＳＵＳ材
とＮｉ材との２極を採る理由を述べる。
とＮｉ材との２極を採る理由を述べる。
【００１６】それは基本的には、タングステン合金めっ
きにおける金属析出の電流効率が１００％ではなく、必
らず水素ガスの生成反応を伴うことによる。このような
タングステン合金めっき反応においても、目的組成を有
する合金めっき層を得るためには、浴中の金属濃度を最
適値に維持することが必要である。そのためには、少な
くとも陰極における水素ガス生成電流に相当する電流だ
けは不溶性陽極から供給し、同時にニッケルとタングス
テンの陰極析出によるめっき浴中の濃度低下をなんらか
の形で補なわねばならない。ところで、金属タングステ
ンは、現在の自由世界圏において可溶性陽極として工業
的に使用可能な形態では供給されない。また非常に高価
でもある。かくて、陰極での水素とＷ放電に相当する電
流は、不溶性の陽極から供給することが必要である。
きにおける金属析出の電流効率が１００％ではなく、必
らず水素ガスの生成反応を伴うことによる。このような
タングステン合金めっき反応においても、目的組成を有
する合金めっき層を得るためには、浴中の金属濃度を最
適値に維持することが必要である。そのためには、少な
くとも陰極における水素ガス生成電流に相当する電流だ
けは不溶性陽極から供給し、同時にニッケルとタングス
テンの陰極析出によるめっき浴中の濃度低下をなんらか
の形で補なわねばならない。ところで、金属タングステ
ンは、現在の自由世界圏において可溶性陽極として工業
的に使用可能な形態では供給されない。また非常に高価
でもある。かくて、陰極での水素とＷ放電に相当する電
流は、不溶性の陽極から供給することが必要である。
【００１７】前記の理由によって、可溶性のＮｉ陽極と
ともに不溶性陽極を用いることが考えられ、従来から一
般に広く用いられている白金、グラファイト、鉛などを
不溶性陽極として用いることが試みられたが、これらの
不溶性陽極は、有機錯化剤として添加しているくえん酸
を分解し、その分解生成物によって電解浴を変質させ、
めっき層を脆化する。このため従来法では、不溶性陽極
が用いられず、連続的めっきを困難にしていた理由に外
ならない。
ともに不溶性陽極を用いることが考えられ、従来から一
般に広く用いられている白金、グラファイト、鉛などを
不溶性陽極として用いることが試みられたが、これらの
不溶性陽極は、有機錯化剤として添加しているくえん酸
を分解し、その分解生成物によって電解浴を変質させ、
めっき層を脆化する。このため従来法では、不溶性陽極
が用いられず、連続的めっきを困難にしていた理由に外
ならない。
【００１８】本発明者は鋭意研究し、くえん酸の非分解
性に優れた不溶性陽極として、ステンレス材を使用し
た。不溶性陽極としてステンレス材を用いると、電解浴
中のくえん酸の分解速度は著しく小さくなり、グラファ
イト陽極の場合の約１／５という好成績を与える。
性に優れた不溶性陽極として、ステンレス材を使用し
た。不溶性陽極としてステンレス材を用いると、電解浴
中のくえん酸の分解速度は著しく小さくなり、グラファ
イト陽極の場合の約１／５という好成績を与える。
【００１９】また、陽極としてＮｉを用いる理由は、Ｎ
ｉの陰極析出による浴中濃度の低下を補充するためであ
るが、この補充をＮｉＳＯ4 水溶液のような薬液の形で
行うと、長期連続電解に伴う薬液補充によって、めっき
浴中にＳＯ4 2- が蓄積してめっきの品質に問題を生じた
からである。
ｉの陰極析出による浴中濃度の低下を補充するためであ
るが、この補充をＮｉＳＯ4 水溶液のような薬液の形で
行うと、長期連続電解に伴う薬液補充によって、めっき
浴中にＳＯ4 2- が蓄積してめっきの品質に問題を生じた
からである。
【００２０】上述したところにより、不溶性陽極に使用
するステンレスＳＵＳ材とは、クロム１０％以上を含有
する耐蝕性鉄−クロム合金を指称し、Ｎｉ，Ｓｉ，Ｍ
ｏ，ＷないしＮｂを含むものが包含される。具体的には
ＳＵＳ ３０４，同４３１，同３１６など広く供用でき
る。このうち、ＳＵＳ ３１６のようにＭｏを含有する
ものは、消耗率が低いすぐれた材料として注目される。
するステンレスＳＵＳ材とは、クロム１０％以上を含有
する耐蝕性鉄−クロム合金を指称し、Ｎｉ，Ｓｉ，Ｍ
ｏ，ＷないしＮｂを含むものが包含される。具体的には
ＳＵＳ ３０４，同４３１，同３１６など広く供用でき
る。このうち、ＳＵＳ ３１６のようにＭｏを含有する
ものは、消耗率が低いすぐれた材料として注目される。
【００２１】また溶解性陽極としてのＮｉ材としては、
鉄Ｆｅ、銅Ｃｕ、鉛Ｐｂなどの不純物をほとんど含まな
いものが適当とされ、電気ニッケルアノード、ＳＫニッ
ケルアノード、デボラライズドニッケールアノードなど
の名称のもとに市販されているニッケルめっき用のもの
がそのまま使用できる。
鉄Ｆｅ、銅Ｃｕ、鉛Ｐｂなどの不純物をほとんど含まな
いものが適当とされ、電気ニッケルアノード、ＳＫニッ
ケルアノード、デボラライズドニッケールアノードなど
の名称のもとに市販されているニッケルめっき用のもの
がそのまま使用できる。
【００２２】本発明においても、電解が進行するに伴い
電解浴中のＮｉおよびＷ濃度は当然減少する。このうち
Ｎｉは、前記のとおり溶解性陽極から供給されるが、Ｗ
は別途何らかの形態で補給されなければならない。本発
明にあたつては、これをＷ含有補給液の形で電解浴中に
補給する。補給に使用する好ましいＷの形態は、典型的
にはパラタングステン酸アンモニウム（ＮＨ４）１０Ｗ
１２Ｏ４１・５Ｈ２Ｏまたは５（ＮＨ４）２Ｏ・１２Ｗ
Ｏ３・５Ｈ２Ｏである。このものは勿論常温では固体で
あり、補給に当たっては、溶液の形態、特に補給によっ
て電解浴を薄めないように濃厚な溶液として行うべきで
ある。
電解浴中のＮｉおよびＷ濃度は当然減少する。このうち
Ｎｉは、前記のとおり溶解性陽極から供給されるが、Ｗ
は別途何らかの形態で補給されなければならない。本発
明にあたつては、これをＷ含有補給液の形で電解浴中に
補給する。補給に使用する好ましいＷの形態は、典型的
にはパラタングステン酸アンモニウム（ＮＨ４）１０Ｗ
１２Ｏ４１・５Ｈ２Ｏまたは５（ＮＨ４）２Ｏ・１２Ｗ
Ｏ３・５Ｈ２Ｏである。このものは勿論常温では固体で
あり、補給に当たっては、溶液の形態、特に補給によっ
て電解浴を薄めないように濃厚な溶液として行うべきで
ある。
【００２３】パラタングステン酸アンモニウムは、常温
で約５０ｇ／リットルまでは、容易に水に溶解する。と
ころが、これをくえん酸の水溶液として溶解させるなら
ば、約１００ｇ／リットルの濃厚な水溶液とすることが
できる。その際使用するくえん酸の量は５０〜２００ｇ
／リットルが適当とされる。というのは、補給液中のく
えん酸は、上記のとおり、沈澱防止剤として働くばかり
ではなく、電解間に消耗されたくえん酸の補充の役割を
果たすものであるが、その消耗率は、電流密度、ステン
レス陽極の電流密度などの操業条件に支配される。
で約５０ｇ／リットルまでは、容易に水に溶解する。と
ころが、これをくえん酸の水溶液として溶解させるなら
ば、約１００ｇ／リットルの濃厚な水溶液とすることが
できる。その際使用するくえん酸の量は５０〜２００ｇ
／リットルが適当とされる。というのは、補給液中のく
えん酸は、上記のとおり、沈澱防止剤として働くばかり
ではなく、電解間に消耗されたくえん酸の補充の役割を
果たすものであるが、その消耗率は、電流密度、ステン
レス陽極の電流密度などの操業条件に支配される。
【００２４】したがって、好ましい補給液は、パラタン
グステン酸アンモニウム１００ｇ／リットルに対し、く
えん酸量は５０〜２００ｇ／リットルの幅をもつことに
なる。該補給液のＰＨは、補給液としての性質上１〜６
程度にアンモニアによって調整されるがよい。
グステン酸アンモニウム１００ｇ／リットルに対し、く
えん酸量は５０〜２００ｇ／リットルの幅をもつことに
なる。該補給液のＰＨは、補給液としての性質上１〜６
程度にアンモニアによって調整されるがよい。
【００２５】上述した補給液の補給時期は、電解浴中の
Ｗ含量が、建浴時のそれよりも減少した時点である。む
ろん、電解浴中のＷ量測定手段にとくに限定はない。し
かし、好ましい手段は、たとえば、常時電解槽から電解
液の一部を抜き取り、その旋光度を測定することによっ
てＷを所定量たとえば０．２１ｍｏｌ／リットルに維持
するに足る量をポンピングすることによって実施する。
後述実施例に示したように、めっき層に移行することに
よって減少した浴中のＷは、前記補給液の補給によって
補充されるのみならず、本発明者が実験的に見出した好
ましいＮａ+ 浴濃度０．４２ｍｏｌ／リットルが保持で
きる。しかしＷ酸塩をそのアンモニウム塩の形態でなく
最もありふれたＮａ2ＷＯ4 ・２Ｈ2Ｏの形態で浴中のＷ
の減少に見合う量だけ補給してやれば浴中のＮａ+ は最
適濃度、前記０．４２ｍｏｌ／リットルよりも増加して
しまう。したがって、この場合には抜き採った電解液か
らＮａ+ を除去し、しかる後に除去後の電解液をめっき
槽へ循環することによって解決でき、そのようなＮａ+
除去手段としてイオン交換樹脂の使用も不可能ではな
い。しかしそれは装置的・経済的負担をあまりに大なら
しめることになるので、既述したパラタングステン酸ア
ンモニウム補給液使用の有利さに及ばない。
Ｗ含量が、建浴時のそれよりも減少した時点である。む
ろん、電解浴中のＷ量測定手段にとくに限定はない。し
かし、好ましい手段は、たとえば、常時電解槽から電解
液の一部を抜き取り、その旋光度を測定することによっ
てＷを所定量たとえば０．２１ｍｏｌ／リットルに維持
するに足る量をポンピングすることによって実施する。
後述実施例に示したように、めっき層に移行することに
よって減少した浴中のＷは、前記補給液の補給によって
補充されるのみならず、本発明者が実験的に見出した好
ましいＮａ+ 浴濃度０．４２ｍｏｌ／リットルが保持で
きる。しかしＷ酸塩をそのアンモニウム塩の形態でなく
最もありふれたＮａ2ＷＯ4 ・２Ｈ2Ｏの形態で浴中のＷ
の減少に見合う量だけ補給してやれば浴中のＮａ+ は最
適濃度、前記０．４２ｍｏｌ／リットルよりも増加して
しまう。したがって、この場合には抜き採った電解液か
らＮａ+ を除去し、しかる後に除去後の電解液をめっき
槽へ循環することによって解決でき、そのようなＮａ+
除去手段としてイオン交換樹脂の使用も不可能ではな
い。しかしそれは装置的・経済的負担をあまりに大なら
しめることになるので、既述したパラタングステン酸ア
ンモニウム補給液使用の有利さに及ばない。
【００２６】つぎにＮｉ材陽極は、電解による浴のＮｉ
濃度の減少を補償する意味で、ある一定速度で溶解し、
濃度が不足した場合には、溶解速度を増し、過剰の場合
には減速させてやる必要がある。これがため前記旋光度
測定のために抜き取った電解液を、吸光度セルに導い
て、その明るさを測光し、これを電圧に変換し、予め別
途用意しておいた電解浴の明るさと変調電圧との関係を
基礎とするＮｉ材陽極ホイスター基礎本制御部に導き、
サーボモータに連動させて、該陽極を上・下させ、浴へ
の浸漬度を調整することによって、溶解速度を制御する
がよい。このＮｉ材陽極ホイスターの吸光度による制御
によって、本発明方法が２陽極法であるにもかかわら
ず、陽極回路を２つ設ける必要をなくしているという利
点を伴うのである。
濃度の減少を補償する意味で、ある一定速度で溶解し、
濃度が不足した場合には、溶解速度を増し、過剰の場合
には減速させてやる必要がある。これがため前記旋光度
測定のために抜き取った電解液を、吸光度セルに導い
て、その明るさを測光し、これを電圧に変換し、予め別
途用意しておいた電解浴の明るさと変調電圧との関係を
基礎とするＮｉ材陽極ホイスター基礎本制御部に導き、
サーボモータに連動させて、該陽極を上・下させ、浴へ
の浸漬度を調整することによって、溶解速度を制御する
がよい。このＮｉ材陽極ホイスターの吸光度による制御
によって、本発明方法が２陽極法であるにもかかわら
ず、陽極回路を２つ設ける必要をなくしているという利
点を伴うのである。
【００２７】さらにまた、Ｎｉ材陽極の不動態化を防止
するには、該陽極電位測定装置を付設し、予め定めたし
きい値を基準にして、該陽極表面に接触させるＣＬ-の
量を加減することによって行うがよい。
するには、該陽極電位測定装置を付設し、予め定めたし
きい値を基準にして、該陽極表面に接触させるＣＬ-の
量を加減することによって行うがよい。
【００２８】
【実施例】上述した本発明を実施するに適した装置とし
て、本発明者が創作した図１装置を用いて行った実施例
につき述べる。
て、本発明者が創作した図１装置を用いて行った実施例
につき述べる。
【００２９】図中符（１）は電解槽であって、この中に
入れた電解浴液（２）の組成は次のとおりである。
入れた電解浴液（２）の組成は次のとおりである。
【００３０】 くえん酸 ……………………… １００ｇ／リットル ＮｉＳＯ4・６Ｈ2Ｏ …………… ７０ｇ／リットル Ｎａ2ＷＯ4・２Ｈ2Ｏ …………… ７０ｇ／リットル ＰＨ（ＮＨ4ＯＨで調整） ……… ６．０ Ｎａ+濃度 ……………… ０．４２ｍｏｌ／リットル 該電解浴は７０℃に保たれ、その中に陰極（３）として
１００×５０×０．３ｍｍの鉄板を懸吊し、これと対向
する位置に、ＳＵＳ材陽極（４）ならびにＮｉ材陽極
（５）を懸吊し、これら電極は電源（７）とリード線
（７ａ），（７ｂ）により図示のとおりで結ばれてい
る。
１００×５０×０．３ｍｍの鉄板を懸吊し、これと対向
する位置に、ＳＵＳ材陽極（４）ならびにＮｉ材陽極
（５）を懸吊し、これら電極は電源（７）とリード線
（７ａ），（７ｂ）により図示のとおりで結ばれてい
る。
【００３１】ＳＵＳ材陽極（４）の材質はＳＵＳ ３０
４で、その形状はφ１ｍｍ針金を方形に編んだ６５×５
０ｍｍの寸法のものである。Ｎｉ材陽極（５）は市販電
気ニッケルアノードで、断面１０×１０ｍｍ、長さ７０
ｍｍの角棒であって、後述するサーボモータ（１４）に
より、上下に浸漬高さが調整される。Ｎｉ材陽極（５）
には常法とおり陽極バツグ（６）がカバーされる。この
場合バツグ（６）の材料としては東洋濾紙ＫＫ製＃Ｎ
ｏ．２を用いた。
４で、その形状はφ１ｍｍ針金を方形に編んだ６５×５
０ｍｍの寸法のものである。Ｎｉ材陽極（５）は市販電
気ニッケルアノードで、断面１０×１０ｍｍ、長さ７０
ｍｍの角棒であって、後述するサーボモータ（１４）に
より、上下に浸漬高さが調整される。Ｎｉ材陽極（５）
には常法とおり陽極バツグ（６）がカバーされる。この
場合バツグ（６）の材料としては東洋濾紙ＫＫ製＃Ｎ
ｏ．２を用いた。
【００３２】電解浴液は、管路（８ａ）を経てポンプ
（１０）により常時抜き取られ、冷却器（９）で常温に
まで冷却され管（８ｂ）、ポンプ（１０）、管路（８
ｃ）を経て６５０ｎｍの吸光度セル（１１）、管路（８
ｄ）、５５５ｎｍの旋光セル（１５）で旋光度を測定し
たのち、管路（８ｅ）を経て電解槽（１）へ循環する。
（１０）により常時抜き取られ、冷却器（９）で常温に
まで冷却され管（８ｂ）、ポンプ（１０）、管路（８
ｃ）を経て６５０ｎｍの吸光度セル（１１）、管路（８
ｄ）、５５５ｎｍの旋光セル（１５）で旋光度を測定し
たのち、管路（８ｅ）を経て電解槽（１）へ循環する。
【００３３】前述した吸光度セル（１１）で測定した吸
光度と、建浴時の吸光度との偏差は、変調電圧としてコ
ントロール電圧発生回路（１２）から取り出され、Ｎｉ
陽極ホイスタ基本制御回路（１３）において、建浴時の
基準電圧に合致すべく、サーボモータ（１４）を駆動さ
せ、それによってＮｉ陽極（５）は、浴（２）への浸漬
度を変え、常に建浴時のＮｉ濃度に等しいＮｉ濃度が保
持できるよう溶解度が加減される。
光度と、建浴時の吸光度との偏差は、変調電圧としてコ
ントロール電圧発生回路（１２）から取り出され、Ｎｉ
陽極ホイスタ基本制御回路（１３）において、建浴時の
基準電圧に合致すべく、サーボモータ（１４）を駆動さ
せ、それによってＮｉ陽極（５）は、浴（２）への浸漬
度を変え、常に建浴時のＮｉ濃度に等しいＮｉ濃度が保
持できるよう溶解度が加減される。
【００３４】他方、旋光セル（１５）では、旋光セルを
通った偏向光が第２の偏光板を介して、光スイッチ機構
（１６）に導かれる。光スイッチ機構に入る光強度が、
建浴時の電解浴（２）についての基準値よりも強くなっ
た場合、光スイッチ機構（１６）がポンプ（１７）を作
動させ、補給液槽（１８）中の補給液が、管路（１９）
から電解槽へ補給される。この補給によって、光スイッ
チ機構（１６）へ入る光強度が基準値と等しくなると、
ポンプ（１７）は停止する。
通った偏向光が第２の偏光板を介して、光スイッチ機構
（１６）に導かれる。光スイッチ機構に入る光強度が、
建浴時の電解浴（２）についての基準値よりも強くなっ
た場合、光スイッチ機構（１６）がポンプ（１７）を作
動させ、補給液槽（１８）中の補給液が、管路（１９）
から電解槽へ補給される。この補給によって、光スイッ
チ機構（１６）へ入る光強度が基準値と等しくなると、
ポンプ（１７）は停止する。
【００３５】本実施例に用いた補給液の組成は下記のと
おりであった。
おりであった。
【００３６】 （ＮＨ4）10Ｗ12Ｏ41・５Ｈ2Ｏ …………… １００ｇ／リットル くえん酸 ……………………………………… １１０ｇ／リットル ＰＨ（ＮＨ4ＯＨで調整） ………………………… ５ なお、Ｎｉ材陽極（５）には、その表面不動態防止のた
め、ＣＬ- イオンの必要最小量が補給せられる。図中、
符（２０）は、その先端がＮｉ材陽極（５）に接触した
Ｎｉ材陽極の電位測定用電解液導管であって、その他端
は、電位測定部（２１）に液絡している。測定された電
位が３０秒以上１．１Ｖを示した場合、しきいスイッチ
（２２）がポンプ（２４）を作動させ、ＮＨ4ＣＬ水溶
液が、その貯槽（２３）からテフロン製管路（２５）を
経てＮｉ陽極に供給され、電位が１．０Ｖに下ればポン
プ（２４）は停止する。
め、ＣＬ- イオンの必要最小量が補給せられる。図中、
符（２０）は、その先端がＮｉ材陽極（５）に接触した
Ｎｉ材陽極の電位測定用電解液導管であって、その他端
は、電位測定部（２１）に液絡している。測定された電
位が３０秒以上１．１Ｖを示した場合、しきいスイッチ
（２２）がポンプ（２４）を作動させ、ＮＨ4ＣＬ水溶
液が、その貯槽（２３）からテフロン製管路（２５）を
経てＮｉ陽極に供給され、電位が１．０Ｖに下ればポン
プ（２４）は停止する。
【００３７】本例では１８０ＡＨ／リットルまでの浴寿
命テストを行ったが。タングステン補給液中になんらの
Ｎａ+が含有されておらず、ＣＬ-イオンの供給も必要最
小限であり、浴液の基本組成が乱されることなく、Ｗ含
量４４％の合金組成・外観のほぼ一定しためっき層が連
続して得られた。
命テストを行ったが。タングステン補給液中になんらの
Ｎａ+が含有されておらず、ＣＬ-イオンの供給も必要最
小限であり、浴液の基本組成が乱されることなく、Ｗ含
量４４％の合金組成・外観のほぼ一定しためっき層が連
続して得られた。
【００３８】本発明は以上のように構成されるから、未
だ試みられたことのないＮｉ−Ｗ合金めっきの少なくと
も確認された１８０ＡＨ／リットルの連続化が可能とな
ったのである。しかも本発明によればめっき層中のＷ含
量は最高６２％にも及ぶ低温かつ弱酸性電解浴に起因し
て、ＮＨ3 揮発に伴う環境汚染問題は消滅したのであ
る。なお電流効率は６０％の好成績である。
だ試みられたことのないＮｉ−Ｗ合金めっきの少なくと
も確認された１８０ＡＨ／リットルの連続化が可能とな
ったのである。しかも本発明によればめっき層中のＷ含
量は最高６２％にも及ぶ低温かつ弱酸性電解浴に起因し
て、ＮＨ3 揮発に伴う環境汚染問題は消滅したのであ
る。なお電流効率は６０％の好成績である。
【００３９】
【発明の効果】本発明によれば、硫酸ニッケル、タング
ステン酸ナトリウムを含有し、くえん酸を有機錯化剤と
し、ＰＨを６±２にアンモニアで調整された電解浴液
で、ステンレス材ならびにニッケル材を陽極として電解
するＮｉ−Ｗ合金めっき方法に用いる補給液を、パラタ
ングステン酸アンモニウム１００ｇ／リットルとくえん
酸５０〜２００ｇ／リットルとを含む溶液で行うことに
よって、連続めっきが可能となった。
ステン酸ナトリウムを含有し、くえん酸を有機錯化剤と
し、ＰＨを６±２にアンモニアで調整された電解浴液
で、ステンレス材ならびにニッケル材を陽極として電解
するＮｉ−Ｗ合金めっき方法に用いる補給液を、パラタ
ングステン酸アンモニウム１００ｇ／リットルとくえん
酸５０〜２００ｇ／リットルとを含む溶液で行うことに
よって、連続めっきが可能となった。
【図１】本発明の一実施例の装置の説明図である。
１ 電解槽 ２ 電解浴 ３ 陰極 ４ ステンレス材陽極 ５ Ｎｉ材陽極 ６ 陽極バツグ ７ めっき電源 ８（ａ，ｂ，ｃ，ｃ，ｄ，ｅ） 電解液循環管路 ９ 冷却器 １０ ポンプ １１ 吸光度セル １２ コントロール電圧発生回路 １３ ニッケルホイスタ基本制御回路 １４ サーボモータ １５ 旋光度セル １６ 光スイッチ機構 １７ ポンプ １８ 補給液槽 １９ 管路 ２０ センサーチューブ ２１ 電位測定部 ２２ しきいスイッチ ２３ ＮＨ4 ＣＬ水溶液貯槽
Claims (1)
- 【請求項１】 硫酸ニッケル、タングステン酸ナトリウ
ムを含有し、くえん酸を有機錯化剤とし、ＰＨを６±２
にアンモニアで調整された電解浴中で、ステンレス材な
らびにニッケル材を陽極とし、タングステン含有液を補
給しつつ電解するＮｉ−Ｗ合金の連続めっき方法に用い
るＮｉ−Ｗ合金めっき用補給液であって、パラタングス
テン酸アンモニウム１００ｇ／リットルとくえん酸５０
〜２００ｇ／リットルとを含有することを特徴とするＮ
ｉ−Ｗ合金めっき用電解浴補給液。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3030482A JPH0674520B2 (ja) | 1991-02-25 | 1991-02-25 | Ｎｉ−Ｗ合金連続めっき用電解浴補給液 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3030482A JPH0674520B2 (ja) | 1991-02-25 | 1991-02-25 | Ｎｉ−Ｗ合金連続めっき用電解浴補給液 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25199983A Division JPS60135593A (ja) | 1983-12-23 | 1983-12-23 | Ｎｉ―Ｗ合金連続めつき方法およびその装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04214892A JPH04214892A (ja) | 1992-08-05 |
| JPH0674520B2 true JPH0674520B2 (ja) | 1994-09-21 |
Family
ID=12305062
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3030482A Expired - Fee Related JPH0674520B2 (ja) | 1991-02-25 | 1991-02-25 | Ｎｉ−Ｗ合金連続めっき用電解浴補給液 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0674520B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5513938B2 (ja) * | 2010-03-11 | 2014-06-04 | 奥野製薬工業株式会社 | 電気ニッケル−タングステンめっき浴用タングステン補給液 |
| JP5802085B2 (ja) * | 2011-08-31 | 2015-10-28 | 株式会社バンテック | アルカリ水電解用電極の製造方法 |
| JP6464913B2 (ja) * | 2015-05-07 | 2019-02-06 | 新日鐵住金株式会社 | 電気鉄族金属−タングステン合金めっき浴用タングステン補給液の調合方法 |
| CN109234788A (zh) * | 2018-08-03 | 2019-01-18 | 诚亿电子（嘉兴）有限公司 | 除胶再生机可视化检查方法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5357138A (en) * | 1976-11-04 | 1978-05-24 | Hitachi Chemical Co Ltd | Electrolyte for tungsten type alloy plating |
| JPS60135593A (ja) * | 1983-12-23 | 1985-07-18 | Shimizu Shoji Kk | Ｎｉ―Ｗ合金連続めつき方法およびその装置 |
-
1991
- 1991-02-25 JP JP3030482A patent/JPH0674520B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04214892A (ja) | 1992-08-05 |
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