JPH04214892A - Ni−W合金連続めっき用電解浴補給液 - Google Patents
Ni−W合金連続めっき用電解浴補給液Info
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- JPH04214892A JPH04214892A JP3048291A JP3048291A JPH04214892A JP H04214892 A JPH04214892 A JP H04214892A JP 3048291 A JP3048291 A JP 3048291A JP 3048291 A JP3048291 A JP 3048291A JP H04214892 A JPH04214892 A JP H04214892A
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- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、物品表面にNi−W合
金めっきを連続的に施すNi−W合金連続めっき用電解
浴液および補給液に関する。
金めっきを連続的に施すNi−W合金連続めっき用電解
浴液および補給液に関する。
【0002】
【従来の技術】Ni−W合金は、表面光沢にすぐれ、か
つその耐久性に富み、耐酸、耐アルカリ等の耐薬品性、
機械的な硬度、強度も優秀であり、とくに高温ガラスと
の非粘着離型性にすぐれているところから、被めっき物
品たる金属製物品、たとえばテレビブラウン管前面内壁
成型用金型をはじめとする各種金型、ローラ、時計のケ
ース等に賞用せられている。
つその耐久性に富み、耐酸、耐アルカリ等の耐薬品性、
機械的な硬度、強度も優秀であり、とくに高温ガラスと
の非粘着離型性にすぐれているところから、被めっき物
品たる金属製物品、たとえばテレビブラウン管前面内壁
成型用金型をはじめとする各種金型、ローラ、時計のケ
ース等に賞用せられている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】前述のようなNi−W
合金めっきにおいて電解浴液(単に電解浴とも略す)と
して、ニッケル塩およびタングステン酸塩を含有し、く
えん酸を有機錯化剤としたホルトHolt法、同じく酒
石酸を有機錯化剤としたブレナーBrenner法など
が知られている。しかし、そのいずれもがバツチシステ
ムであるに止まり、工業的に好ましい連続めっき手段の
開発が望まれている。
合金めっきにおいて電解浴液(単に電解浴とも略す)と
して、ニッケル塩およびタングステン酸塩を含有し、く
えん酸を有機錯化剤としたホルトHolt法、同じく酒
石酸を有機錯化剤としたブレナーBrenner法など
が知られている。しかし、そのいずれもがバツチシステ
ムであるに止まり、工業的に好ましい連続めっき手段の
開発が望まれている。
【0004】本発明は、このような要望に応えるべくな
されたものであって、ニッケル塩およびタングステン酸
を含有し、くえん酸を有機錯化剤とした電解浴中で、ス
テンレスSUS材ならびにニッケル材を陽極とし、タン
グステン酸含有液を補給しつつ電解することを特徴とす
るNi−W合金めっき用電解浴液および補給液を提供す
ることである。
されたものであって、ニッケル塩およびタングステン酸
を含有し、くえん酸を有機錯化剤とした電解浴中で、ス
テンレスSUS材ならびにニッケル材を陽極とし、タン
グステン酸含有液を補給しつつ電解することを特徴とす
るNi−W合金めっき用電解浴液および補給液を提供す
ることである。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は、ニッケル塩、
タングステン酸塩を含有し、くえん酸を有機錯化剤とし
た電解浴中で、ステンレス材ならびにニッケル材を陽極
とし、タングステン含有液を補給しつつ電解するNi−
W合金の連続めっき方法に用いるNi−W合金めっき用
電解浴液であって、硫酸ニッケル60±20g/リット
ル,タングステン酸ナトリウム70±30g/リットル
,くえん酸100±30g/リットルを含有し、アンモ
ニアによりPH6±2に調整されていることを特徴とす
るNi−W合金連続めっき用電解浴液である。
タングステン酸塩を含有し、くえん酸を有機錯化剤とし
た電解浴中で、ステンレス材ならびにニッケル材を陽極
とし、タングステン含有液を補給しつつ電解するNi−
W合金の連続めっき方法に用いるNi−W合金めっき用
電解浴液であって、硫酸ニッケル60±20g/リット
ル,タングステン酸ナトリウム70±30g/リットル
,くえん酸100±30g/リットルを含有し、アンモ
ニアによりPH6±2に調整されていることを特徴とす
るNi−W合金連続めっき用電解浴液である。
【0006】また本発明は、ニッケル塩、タングステン
酸塩を含有し、くえん酸を有機錯化剤とした電解浴中で
、ステンレス材ならびにニッケル材を陽極とし、タング
ステン含有液を補給しつつ電解するNi−W合金の連続
めっき方法に用いるNi−W合金めっき用補給液であっ
て、パラタングステン酸アンモニウム100g/リット
ルとくえん酸50〜200g/リットルとを含有するこ
とを特徴とするNi−W合金めっき用補給液である。
酸塩を含有し、くえん酸を有機錯化剤とした電解浴中で
、ステンレス材ならびにニッケル材を陽極とし、タング
ステン含有液を補給しつつ電解するNi−W合金の連続
めっき方法に用いるNi−W合金めっき用補給液であっ
て、パラタングステン酸アンモニウム100g/リット
ルとくえん酸50〜200g/リットルとを含有するこ
とを特徴とするNi−W合金めっき用補給液である。
【0007】
【作用】ニッケル塩、タングステン酸塩を含有し、くえ
ん酸を有機錯化剤とした電解浴中で、ステンレス材なら
びにニッケル材を陽極とし、タングステン含有液を補給
しつつ電解するNi−W合金の連続めっき方法に用いる
Ni−W合金めっき用電解浴液は、硫酸ニッケル60±
20g/リットル,タングステン酸ナトリウム70±3
0g/リットル,くえん酸100±30g/リットルを
含有し、アンモニアによりPH6±2に調整されている
。
ん酸を有機錯化剤とした電解浴中で、ステンレス材なら
びにニッケル材を陽極とし、タングステン含有液を補給
しつつ電解するNi−W合金の連続めっき方法に用いる
Ni−W合金めっき用電解浴液は、硫酸ニッケル60±
20g/リットル,タングステン酸ナトリウム70±3
0g/リットル,くえん酸100±30g/リットルを
含有し、アンモニアによりPH6±2に調整されている
。
【0008】また、ニッケル塩、タングステン酸塩を含
有し、くえん酸を有機錯化剤とした電解浴中で、ステン
レス材ならびにニッケル材を陽極とし、タングステン含
有液を補給しつつ電解するNi−W合金の連続めっき方
法に用いるNi−W合金めっき用補給液は、パラタング
ステン酸アンモニウム100g/リットルとくえん酸5
0〜200g/リットルとを含有する。
有し、くえん酸を有機錯化剤とした電解浴中で、ステン
レス材ならびにニッケル材を陽極とし、タングステン含
有液を補給しつつ電解するNi−W合金の連続めっき方
法に用いるNi−W合金めっき用補給液は、パラタング
ステン酸アンモニウム100g/リットルとくえん酸5
0〜200g/リットルとを含有する。
【0009】本発明に使用する電解浴が、Ni塩および
W酸塩を含有し有機錯化剤としてくえん酸を選用する点
においては前述ホルト法に近似するが、ホルト法は陽極
がNiないしWの単極である点において不溶性陽極たる
SUS材ならびに溶解性陽極としてNi材を用いる点に
おいて、また浴のPHが約9.0の高値でない点におい
て相違する。有機錯化剤としてくえん酸を選用した理由
は、得られるめっき層中のW含量を、酒石酸系電解浴の
場合の最高35%にくらべて最高62%にも及ぼさしめ
ることが可能であるからである。
W酸塩を含有し有機錯化剤としてくえん酸を選用する点
においては前述ホルト法に近似するが、ホルト法は陽極
がNiないしWの単極である点において不溶性陽極たる
SUS材ならびに溶解性陽極としてNi材を用いる点に
おいて、また浴のPHが約9.0の高値でない点におい
て相違する。有機錯化剤としてくえん酸を選用した理由
は、得られるめっき層中のW含量を、酒石酸系電解浴の
場合の最高35%にくらべて最高62%にも及ぼさしめ
ることが可能であるからである。
【0010】本発明に使用する電解浴液中のNi塩の形
態としては、塩化ニッケル、硝酸ニッケルのような形で
使用不可能ではないが、電流効果が優れている点で硫酸
ニッケルないし硫酸ニッケル・アンモニウム複塩Ni(
SO4)・(NH4)2SO4・6H2 Oが最良であ
る。 同じく電解浴中のタングステン酸の塩としては、そのア
ルカリ金属の塩、なかんずくナトリウム塩の形態で使用
するがよい。タングステン酸塩をアンモニウム塩の形態
ではなくNa2WO4 ・2H2Oのようなアルカリ金
属塩として使用した場合には、浴中のNa濃度は連続め
っき操作中、被めっき体に付着して持ち出される以外に
は不変ともいうことができるから、その建浴時における
濃度を基準として補給液の添加時期を定めることができ
る。
態としては、塩化ニッケル、硝酸ニッケルのような形で
使用不可能ではないが、電流効果が優れている点で硫酸
ニッケルないし硫酸ニッケル・アンモニウム複塩Ni(
SO4)・(NH4)2SO4・6H2 Oが最良であ
る。 同じく電解浴中のタングステン酸の塩としては、そのア
ルカリ金属の塩、なかんずくナトリウム塩の形態で使用
するがよい。タングステン酸塩をアンモニウム塩の形態
ではなくNa2WO4 ・2H2Oのようなアルカリ金
属塩として使用した場合には、浴中のNa濃度は連続め
っき操作中、被めっき体に付着して持ち出される以外に
は不変ともいうことができるから、その建浴時における
濃度を基準として補給液の添加時期を定めることができ
る。
【0011】かくて、本発明方法に適した電解浴を例示
すれば次のとおりである。
すれば次のとおりである。
【0012】
くえん酸 ………………………………………
100±30g/リットル Ni塩(NiSO4
・6H2Oとして) ……… 60±20g/リットル
W酸塩(Na2WO4・2H2Oとして) …
… 70±30g/リットル PH(NH4OH
による調整) ………………… 6±2 アルカ
リ金属イオン(Na+ ) ………… 0.42±0.
15mol/リットル なおPHが上記のとおり弱酸性であるから、従来のアン
モニアアルカリ性電解浴に比して電解槽付近のアンモニ
ア臭発生による環境衛生汚染の心配は甚しく改善せられ
る。
100±30g/リットル Ni塩(NiSO4
・6H2Oとして) ……… 60±20g/リットル
W酸塩(Na2WO4・2H2Oとして) …
… 70±30g/リットル PH(NH4OH
による調整) ………………… 6±2 アルカ
リ金属イオン(Na+ ) ………… 0.42±0.
15mol/リットル なおPHが上記のとおり弱酸性であるから、従来のアン
モニアアルカリ性電解浴に比して電解槽付近のアンモニ
ア臭発生による環境衛生汚染の心配は甚しく改善せられ
る。
【0013】従来技術では、PH6よりも高い条件では
遊離NH4+が生じ、一部はニッケルアンミン錯体など
となるけれども、大部分はアンモニアガスとして大気中
に放出されていた。
遊離NH4+が生じ、一部はニッケルアンミン錯体など
となるけれども、大部分はアンモニアガスとして大気中
に放出されていた。
【0014】しかしながら、PH6以下ではNH4+が
ニッケルくえん酸錯体に配位結合し、ニッケルくえん酸
アンミン混合錯体を形成するためアンモニアガスが発生
せず、アンモニア臭を防止することができるためである
。
ニッケルくえん酸錯体に配位結合し、ニッケルくえん酸
アンミン混合錯体を形成するためアンモニアガスが発生
せず、アンモニア臭を防止することができるためである
。
【0015】次に本発明において、陽極としてSUS材
とNi材との2極を採る理由を述べる。
とNi材との2極を採る理由を述べる。
【0016】それは基本的には、タングステン合金めっ
きにおける金属析出の電流効率が100%ではなく、必
らず水素ガスの生成反応を伴うことによる。このような
タングステン合金めっき反応においても、目的組成を有
する合金めっき層を得るためには、浴中の金属濃度を最
適値に維持することが必要である。そのためには、少な
くとも陰極における水素ガス生成電流に相当する電流だ
けは不溶性陽極から供給し、同時にニッケルとタングス
テンの陰極析出によるめっき浴中の濃度低下をなんらか
の形で補なわねばならない。ところで、金属タングステ
ンは、現在の自由世界圏において可溶性陽極として工業
的に使用可能な形態では供給されない。また非常に高価
でもある。かくて、陰極での水素とW放電に相当する電
流は、不溶性の陽極から供給することが必要である。
きにおける金属析出の電流効率が100%ではなく、必
らず水素ガスの生成反応を伴うことによる。このような
タングステン合金めっき反応においても、目的組成を有
する合金めっき層を得るためには、浴中の金属濃度を最
適値に維持することが必要である。そのためには、少な
くとも陰極における水素ガス生成電流に相当する電流だ
けは不溶性陽極から供給し、同時にニッケルとタングス
テンの陰極析出によるめっき浴中の濃度低下をなんらか
の形で補なわねばならない。ところで、金属タングステ
ンは、現在の自由世界圏において可溶性陽極として工業
的に使用可能な形態では供給されない。また非常に高価
でもある。かくて、陰極での水素とW放電に相当する電
流は、不溶性の陽極から供給することが必要である。
【0017】くえん酸のような有機錯化剤を含むめっき
浴における不溶性陽極の使用によって生ずる問題は、不
溶性陽極における有機酸の分解、変質と、それによるめ
っき層の脆化であり、これが従来法をバッチシステムに
止めた理由に外ならない。
浴における不溶性陽極の使用によって生ずる問題は、不
溶性陽極における有機酸の分解、変質と、それによるめ
っき層の脆化であり、これが従来法をバッチシステムに
止めた理由に外ならない。
【0018】ステンレス材を陽極として用いた理由は、
本発明者が、くえん酸の非分解触媒性にすぐれた不溶性
陽極として、ステンレス材を実験的に見出したからであ
る。不溶性陽極としてのSUS材は、従来のめっきに頻
用せられる白金、ニッケル、グラファイト、鉛などに比
して、電解浴中のくえん酸を、分解・変質せしめる速度
が著しく小さく、グラファイト陽極の場合の約1/5と
いう好成績を与える。
本発明者が、くえん酸の非分解触媒性にすぐれた不溶性
陽極として、ステンレス材を実験的に見出したからであ
る。不溶性陽極としてのSUS材は、従来のめっきに頻
用せられる白金、ニッケル、グラファイト、鉛などに比
して、電解浴中のくえん酸を、分解・変質せしめる速度
が著しく小さく、グラファイト陽極の場合の約1/5と
いう好成績を与える。
【0019】また、陽極としてNiを用いる理由は、N
iの陰極析出による浴中濃度の低下を補充するためであ
るが、この補充をNiSO4 水溶液のような薬液の形
で行うと、長期連続電解に伴う薬液補充によって、めっ
き浴中にSO42− が蓄積してめっきの品質に問題を
生じたからである。
iの陰極析出による浴中濃度の低下を補充するためであ
るが、この補充をNiSO4 水溶液のような薬液の形
で行うと、長期連続電解に伴う薬液補充によって、めっ
き浴中にSO42− が蓄積してめっきの品質に問題を
生じたからである。
【0020】上述したところにより、不溶性陽極に使用
するステンレスSUS材とは、クロム10%以上を含有
する耐蝕性鉄−クロム合金を指称し、Ni,Si,Mo
,WないしNbを含むものが包含される。具体的にはS
US 304,同431,同316など広く供用でき
る。このうち、SUS 316のようにMoを含有す
るものは、消耗率が低いすぐれた材料として注目される
。
するステンレスSUS材とは、クロム10%以上を含有
する耐蝕性鉄−クロム合金を指称し、Ni,Si,Mo
,WないしNbを含むものが包含される。具体的にはS
US 304,同431,同316など広く供用でき
る。このうち、SUS 316のようにMoを含有す
るものは、消耗率が低いすぐれた材料として注目される
。
【0021】また溶解性陽極としてのNi材としては、
鉄Fe、銅Cu、鉛Pbなどの不純物をほとんど含まな
いものが適当とされ、電気ニッケルアノード、SKニッ
ケルアノード、デボラライズドニッケールアノードなど
の名称のもとに市販されているニッケルめっき用のもの
がそのまま使用できる。
鉄Fe、銅Cu、鉛Pbなどの不純物をほとんど含まな
いものが適当とされ、電気ニッケルアノード、SKニッ
ケルアノード、デボラライズドニッケールアノードなど
の名称のもとに市販されているニッケルめっき用のもの
がそのまま使用できる。
【0022】本発明においても、電解間電解浴中のNi
およびW濃度は当然減少する。このNiは前記のとおり
溶解性陽極から供給されるが、Wは別途なんらかの形態
で補給されなければならない。本発明にあっては、これ
をW含有補給液の形で電解浴液中に補給して行くのであ
る。補給に使用する好ましいタングステンの形態は、典
型的にはパラタングステン酸アンモニウム(NH4)1
0W12O41・5H2Oないし5(NH4)2O・1
2WO3・5H2Oである。このものは、むろん常温固
体であるから、補給に当っては、溶液の形態、とくに補
給される電解浴を薄めないように濃厚な溶液として補給
されるべきである。
およびW濃度は当然減少する。このNiは前記のとおり
溶解性陽極から供給されるが、Wは別途なんらかの形態
で補給されなければならない。本発明にあっては、これ
をW含有補給液の形で電解浴液中に補給して行くのであ
る。補給に使用する好ましいタングステンの形態は、典
型的にはパラタングステン酸アンモニウム(NH4)1
0W12O41・5H2Oないし5(NH4)2O・1
2WO3・5H2Oである。このものは、むろん常温固
体であるから、補給に当っては、溶液の形態、とくに補
給される電解浴を薄めないように濃厚な溶液として補給
されるべきである。
【0023】パラタングステン酸アンモニウムは、常温
で約50g/リットルまでは、容易に水に溶解する。と
ころが、これをくえん酸の水溶液として溶解させるなら
ば、約100g/リットルの濃厚な水溶液とすることが
できる。その際使用するくえん酸の量は50〜200g
/リットルが適当とされる。というのは、補給液中のく
えん酸は、上記のとおり、沈澱防止剤として働くばかり
ではなく、電解間に消耗されたくえん酸の補充の役割を
果たすものであるが、その消耗率は、電流密度、ステン
レス陽極の電流密度などの操業条件に支配される。
で約50g/リットルまでは、容易に水に溶解する。と
ころが、これをくえん酸の水溶液として溶解させるなら
ば、約100g/リットルの濃厚な水溶液とすることが
できる。その際使用するくえん酸の量は50〜200g
/リットルが適当とされる。というのは、補給液中のく
えん酸は、上記のとおり、沈澱防止剤として働くばかり
ではなく、電解間に消耗されたくえん酸の補充の役割を
果たすものであるが、その消耗率は、電流密度、ステン
レス陽極の電流密度などの操業条件に支配される。
【0024】したがって、好ましい補給液は、パラタン
グステン酸アンモニウム100g/リットルに対し、く
えん酸量は50〜200g/リットルの幅をもつことに
なる。該補給液のPHは、補給液としての性質上1〜6
程度にアンモニアによって調整されるがよい。
グステン酸アンモニウム100g/リットルに対し、く
えん酸量は50〜200g/リットルの幅をもつことに
なる。該補給液のPHは、補給液としての性質上1〜6
程度にアンモニアによって調整されるがよい。
【0025】上述した補給液の補給時期は、電解浴中の
W含量が、建浴時のそれよりも減少した時点である。む
ろん、電解浴中のW量測定手段にとくに限定はない。し
かし、好ましい手段は、たとえば、常時電解槽から電解
液の一部を抜き取り、その旋光度を測定することによっ
てWを所定量たとえば0.21mol/リットルに維持
するに足る量をポンピングすることによって実施する。 後述実施例に示したように、めっき層に移行することに
よって減少した浴中のWは、前記補給液の補給によって
補充されるのみならず、本発明者が実験的に見出した好
ましいNa+ 浴濃度0.42mol/リットルが保持
できる。しかしW酸塩をそのアンモニウム塩の形態でな
く最もありふれたNa2WO4 ・2H2Oの形態で浴
中のWの減少に見合う量だけ補給してやれば浴中のNa
+ は最適濃度、前記0.42mol/リットルよりも
増加してしまう。したがって、この場合には抜き採った
電解液からNa+ を除去し、しかる後に除去後の電解
液をめっき槽へ循環することによって解決でき、そのよ
うなNa+ 除去手段としてイオン交換樹脂の使用も不
可能ではない。しかしそれは装置的・経済的負担をあま
りに大ならしめることになるので、既述したパラタング
ステン酸アンモニウム補給液使用の有利さに及ばない。
W含量が、建浴時のそれよりも減少した時点である。む
ろん、電解浴中のW量測定手段にとくに限定はない。し
かし、好ましい手段は、たとえば、常時電解槽から電解
液の一部を抜き取り、その旋光度を測定することによっ
てWを所定量たとえば0.21mol/リットルに維持
するに足る量をポンピングすることによって実施する。 後述実施例に示したように、めっき層に移行することに
よって減少した浴中のWは、前記補給液の補給によって
補充されるのみならず、本発明者が実験的に見出した好
ましいNa+ 浴濃度0.42mol/リットルが保持
できる。しかしW酸塩をそのアンモニウム塩の形態でな
く最もありふれたNa2WO4 ・2H2Oの形態で浴
中のWの減少に見合う量だけ補給してやれば浴中のNa
+ は最適濃度、前記0.42mol/リットルよりも
増加してしまう。したがって、この場合には抜き採った
電解液からNa+ を除去し、しかる後に除去後の電解
液をめっき槽へ循環することによって解決でき、そのよ
うなNa+ 除去手段としてイオン交換樹脂の使用も不
可能ではない。しかしそれは装置的・経済的負担をあま
りに大ならしめることになるので、既述したパラタング
ステン酸アンモニウム補給液使用の有利さに及ばない。
【0026】つぎにNi材陽極は、電解による浴のNi
濃度の減少を補償する意味で、ある一定速度で溶解し、
濃度が不足した場合には、溶解速度を増し、過剰の場合
には減速させてやる必要がある。これがため前記旋光度
測定のために抜き取った電解液を、吸光度セルに導いて
、その明るさを測光し、これを電圧に変換し、予め別途
用意しておいた電解浴の明るさと変調電圧との関係を基
礎とするNi材陽極ホイスター基礎本制御部に導き、サ
ーボモータに連動させて、該陽極を上・下させ、浴への
浸漬度を調整することによって、溶解速度を制御するが
よい。このNi材陽極ホイスターの吸光度による制御に
よって、本発明方法が2陽極法であるにもかかわらず、
陽極回路を2つ設ける必要をなくしているという利点を
伴うのである。
濃度の減少を補償する意味で、ある一定速度で溶解し、
濃度が不足した場合には、溶解速度を増し、過剰の場合
には減速させてやる必要がある。これがため前記旋光度
測定のために抜き取った電解液を、吸光度セルに導いて
、その明るさを測光し、これを電圧に変換し、予め別途
用意しておいた電解浴の明るさと変調電圧との関係を基
礎とするNi材陽極ホイスター基礎本制御部に導き、サ
ーボモータに連動させて、該陽極を上・下させ、浴への
浸漬度を調整することによって、溶解速度を制御するが
よい。このNi材陽極ホイスターの吸光度による制御に
よって、本発明方法が2陽極法であるにもかかわらず、
陽極回路を2つ設ける必要をなくしているという利点を
伴うのである。
【0027】さらにまた、Ni材陽極の不動態化を防止
するには、該陽極電位測定装置を付設し、予め定めたし
きい値を基準にして、該陽極表面に接触させるCL−の
量を加減することによって行うがよい。
するには、該陽極電位測定装置を付設し、予め定めたし
きい値を基準にして、該陽極表面に接触させるCL−の
量を加減することによって行うがよい。
【0028】
【実施例】上述した本発明を実施するに適した装置とし
て、本発明者が創作した図1装置を用いて行った実施例
につき述べる。
て、本発明者が創作した図1装置を用いて行った実施例
につき述べる。
【0029】図中符(1)は電解槽であって、この中に
入れた電解浴液(2)の組成は次のとおりである。
入れた電解浴液(2)の組成は次のとおりである。
【0030】
くえん酸 ……………………… 100g/リットルN
iSO4・6H2O …………… 70g/リットルN
a2WO4・2H2O …………… 70g/リットル
PH(NH4OHで調整) ……… 6.0Na+濃度
……………… 0.42mol/リットル該電解浴は
70℃に保たれ、その中に陰極(3)として100×5
0×0.3mmの鉄板を懸吊し、これと対向する位置に
、SUS材陽極(4)ならびにNi材陽極(5)を懸吊
し、これら電極は電源(7)とリード線(7a),(7
b)により図示のとおりで結ばれている。
iSO4・6H2O …………… 70g/リットルN
a2WO4・2H2O …………… 70g/リットル
PH(NH4OHで調整) ……… 6.0Na+濃度
……………… 0.42mol/リットル該電解浴は
70℃に保たれ、その中に陰極(3)として100×5
0×0.3mmの鉄板を懸吊し、これと対向する位置に
、SUS材陽極(4)ならびにNi材陽極(5)を懸吊
し、これら電極は電源(7)とリード線(7a),(7
b)により図示のとおりで結ばれている。
【0031】SUS材陽極(4)の材質はSUS 3
04で、その形状はφ1mm針金を方形に編んだ65×
50mmの寸法のものである。Ni材陽極(5)は市販
電気ニッケルアノードで、断面10×10mm、長さ7
0mmの角棒であって、後述するサーボモータ(14)
により、上下に浸漬高さが調整される。Ni材陽極(5
)には常法とおり陽極バツグ(6)がカバーされる。こ
の場合バツグ(6)の材料としては東洋濾紙KK製#N
o.2を用いた。
04で、その形状はφ1mm針金を方形に編んだ65×
50mmの寸法のものである。Ni材陽極(5)は市販
電気ニッケルアノードで、断面10×10mm、長さ7
0mmの角棒であって、後述するサーボモータ(14)
により、上下に浸漬高さが調整される。Ni材陽極(5
)には常法とおり陽極バツグ(6)がカバーされる。こ
の場合バツグ(6)の材料としては東洋濾紙KK製#N
o.2を用いた。
【0032】電解浴液は、管路(8a)を経てポンプ(
10)により常時抜き取られ、冷却器(9)で常温にま
で冷却され管(8b)、ポンプ(10)、管路(8c)
を経て650nmの吸光度セル(11)、管路(8d)
、555nmの旋光セル(15)で旋光度を測定したの
ち、管路(8e)を経て電解槽(1)へ循環する。
10)により常時抜き取られ、冷却器(9)で常温にま
で冷却され管(8b)、ポンプ(10)、管路(8c)
を経て650nmの吸光度セル(11)、管路(8d)
、555nmの旋光セル(15)で旋光度を測定したの
ち、管路(8e)を経て電解槽(1)へ循環する。
【0033】前述した吸光度セル(11)で測定した吸
光度と、建浴時の吸光度との偏差は、変調電圧としてコ
ントロール電圧発生回路(12)から取り出され、Ni
陽極ホイスタ基本制御回路(13)において、建浴時の
基準電圧に合致すべく、サーボモータ(14)を駆動さ
せ、それによってNi陽極(5)は、浴(2)への浸漬
度を変え、常に建浴時のNi濃度に等しいNi濃度が保
持できるよう溶解度が加減される。
光度と、建浴時の吸光度との偏差は、変調電圧としてコ
ントロール電圧発生回路(12)から取り出され、Ni
陽極ホイスタ基本制御回路(13)において、建浴時の
基準電圧に合致すべく、サーボモータ(14)を駆動さ
せ、それによってNi陽極(5)は、浴(2)への浸漬
度を変え、常に建浴時のNi濃度に等しいNi濃度が保
持できるよう溶解度が加減される。
【0034】他方、旋光セル(15)では、旋光セルを
通った偏向光が第2の偏光板を介して、光スイッチ機構
(16)に導かれる。光スイッチ機構に入る光強度が、
建浴時の電解浴(2)についての基準値よりも強くなっ
た場合、光スイッチ機構(16)がポンプ(17)を作
動させ、補給液槽(18)中の補給液が、管路(19)
から電解槽へ補給される。この補給によって、光スイッ
チ機構(16)へ入る光強度が基準値と等しくなると、
ポンプ(17)は停止する。
通った偏向光が第2の偏光板を介して、光スイッチ機構
(16)に導かれる。光スイッチ機構に入る光強度が、
建浴時の電解浴(2)についての基準値よりも強くなっ
た場合、光スイッチ機構(16)がポンプ(17)を作
動させ、補給液槽(18)中の補給液が、管路(19)
から電解槽へ補給される。この補給によって、光スイッ
チ機構(16)へ入る光強度が基準値と等しくなると、
ポンプ(17)は停止する。
【0035】本実施例に用いた補給液の組成は下記のと
おりであった。
おりであった。
【0036】
(NH4)10W12O41・5H2O ……
……… 100g/リットル くえん酸 ………
……………………………… 110g/リットル
PH(NH4OHで調整) …………………………
5なお、Ni材陽極(5)には、その表面不動態防止の
ため、CL− イオンの必要最小量が補給せられる。図
中、符(20)は、その先端がNi材陽極(5)に接触
したNi材陽極の電位測定用電解液導管であって、その
他端は、電位測定部(21)に液絡している。測定され
た電位が30秒以上1.1Vを示した場合、しきいスイ
ッチ(22)がポンプ(24)を作動させ、NH4CL
水溶液が、その貯槽(23)からテフロン製管路(25
)を経てNi陽極に供給され、電位が1.0Vに下れば
ポンプ(24)は停止する。
……… 100g/リットル くえん酸 ………
……………………………… 110g/リットル
PH(NH4OHで調整) …………………………
5なお、Ni材陽極(5)には、その表面不動態防止の
ため、CL− イオンの必要最小量が補給せられる。図
中、符(20)は、その先端がNi材陽極(5)に接触
したNi材陽極の電位測定用電解液導管であって、その
他端は、電位測定部(21)に液絡している。測定され
た電位が30秒以上1.1Vを示した場合、しきいスイ
ッチ(22)がポンプ(24)を作動させ、NH4CL
水溶液が、その貯槽(23)からテフロン製管路(25
)を経てNi陽極に供給され、電位が1.0Vに下れば
ポンプ(24)は停止する。
【0037】本例では180AH/リットルまでの浴寿
命テストを行ったが。タングステン補給液中になんらの
Na+が含有されておらず、CL−イオンの供給も必要
最小限であり、浴液の基本組成が乱されることなく、W
含量44%の合金組成・外観のほぼ一定しためっき層が
連続して得られた。
命テストを行ったが。タングステン補給液中になんらの
Na+が含有されておらず、CL−イオンの供給も必要
最小限であり、浴液の基本組成が乱されることなく、W
含量44%の合金組成・外観のほぼ一定しためっき層が
連続して得られた。
【0038】本発明は以上のように構成されるから、未
だ試みられたことのないNi−W合金めっきの少なくと
も確認された180AH/リットルの連続化が可能とな
ったのである。しかも本発明によればめっき層中のW含
量は最高62%にも及ぶ低温かつ弱酸性電解浴に起因し
て、NH3 揮発に伴う環境汚染問題は消滅したのであ
る。なお電流効率は60%の好成績である。
だ試みられたことのないNi−W合金めっきの少なくと
も確認された180AH/リットルの連続化が可能とな
ったのである。しかも本発明によればめっき層中のW含
量は最高62%にも及ぶ低温かつ弱酸性電解浴に起因し
て、NH3 揮発に伴う環境汚染問題は消滅したのであ
る。なお電流効率は60%の好成績である。
【0039】
【発明の効果】本発明によれば、Ni−W合金めっき用
電解浴液を、硫酸ニッケル60±20g/リットル、タ
ングステン酸ナトリウム70±30g/リットル、くえ
ん酸100g±30g/リットルをアンモニアによって
PH6±2に調整し、Ni−W合金めっき用補給液をパ
ラタングステン酸アンモニム100g/リットルとくえ
ん酸50〜200g/リットルとから調整することによ
って、連続めっきが可能となった。PHが6±2である
ので、NH3 揮発に伴う環境汚染を防止することがで
きる。
電解浴液を、硫酸ニッケル60±20g/リットル、タ
ングステン酸ナトリウム70±30g/リットル、くえ
ん酸100g±30g/リットルをアンモニアによって
PH6±2に調整し、Ni−W合金めっき用補給液をパ
ラタングステン酸アンモニム100g/リットルとくえ
ん酸50〜200g/リットルとから調整することによ
って、連続めっきが可能となった。PHが6±2である
ので、NH3 揮発に伴う環境汚染を防止することがで
きる。
【図1】本発明の一実施例の装置の説明図である。
1 電解槽
2 電解浴
3 陰極
4 ステンレス材陽極
5 Ni材陽極
6 陽極バツグ
7 めっき電源
8(a,b,c,c,d,e) 電解液循環管路9
冷却器 10 ポンプ 11 吸光度セル 12 コントロール電圧発生回路 13 ニッケルホイスタ基本制御回路14 サーボ
モータ 15 旋光度セル 16 光スイッチ機構 17 ポンプ 18 補給液槽 19 管路 20 センサーチューブ 21 電位測定部 22 しきいスイッチ 23 NH4 CL水溶液貯槽
冷却器 10 ポンプ 11 吸光度セル 12 コントロール電圧発生回路 13 ニッケルホイスタ基本制御回路14 サーボ
モータ 15 旋光度セル 16 光スイッチ機構 17 ポンプ 18 補給液槽 19 管路 20 センサーチューブ 21 電位測定部 22 しきいスイッチ 23 NH4 CL水溶液貯槽
Claims (2)
- 【請求項1】 ニッケル塩、タングステン酸塩を含有
し、くえん酸を有機錯化剤とした電解浴中で、ステンレ
ス材ならびにニッケル材を陽極とし、タングステン含有
液を補給しつつ電解するNi−W合金の連続めっき方法
に用いるNi−W合金めっき用電解浴液であって、硫酸
ニッケル60±20g/リットル,タングステン酸ナト
リウム70±30g/リットル,くえん酸100±30
g/リットルを含有し、アンモニアによりPH6±2に
調整されていることを特徴とするNi−W合金連続めっ
き用電解浴液。 - 【請求項2】 ニッケル塩、タングステン酸塩を含有
し、くえん酸を有機錯化剤とした電解浴中で、ステンレ
ス材ならびにニッケル材を陽極とし、タングステン含有
液を補給しつつ電解するNi−W合金の連続めっき方法
に用いるNi−W合金めっき用補給液であって、パラタ
ングステン酸アンモニウム100g/リットルとくえん
酸50〜200g/リットルとを含有することを特徴と
するNi−W合金めっき用補給液。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP3030482A JPH0674520B2 (ja) | 1991-02-25 | 1991-02-25 | Ni−W合金連続めっき用電解浴補給液 |
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JP3030482A JPH0674520B2 (ja) | 1991-02-25 | 1991-02-25 | Ni−W合金連続めっき用電解浴補給液 |
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JP25199983A Division JPS60135593A (ja) | 1983-12-23 | 1983-12-23 | Ni―W合金連続めつき方法およびその装置 |
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JPH04214892A true JPH04214892A (ja) | 1992-08-05 |
JPH0674520B2 JPH0674520B2 (ja) | 1994-09-21 |
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JP3030482A Expired - Fee Related JPH0674520B2 (ja) | 1991-02-25 | 1991-02-25 | Ni−W合金連続めっき用電解浴補給液 |
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011184785A (ja) * | 2010-03-11 | 2011-09-22 | Okuno Chemical Industries Co Ltd | 電気ニッケル−タングステンめっき浴用タングステン補給液 |
JP2013049913A (ja) * | 2011-08-31 | 2013-03-14 | Vantec:Kk | アルカリ水電解用電極の製造方法 |
JP2016211033A (ja) * | 2015-05-07 | 2016-12-15 | 新日鐵住金株式会社 | 電気鉄族金属−タングステン合金めっき浴用タングステン供給液の調合方法 |
CN109234788A (zh) * | 2018-08-03 | 2019-01-18 | 诚亿电子(嘉兴)有限公司 | 除胶再生机可视化检查方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS5357138A (en) * | 1976-11-04 | 1978-05-24 | Hitachi Chemical Co Ltd | Electrolyte for tungsten type alloy plating |
JPS60135593A (ja) * | 1983-12-23 | 1985-07-18 | Shimizu Shoji Kk | Ni―W合金連続めつき方法およびその装置 |
-
1991
- 1991-02-25 JP JP3030482A patent/JPH0674520B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
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JPH0674520B2 (ja) | 1994-09-21 |
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