RU2014110367A - Способ изготовления системы со слоем низкой излучательной способности - Google Patents
Способ изготовления системы со слоем низкой излучательной способности Download PDFInfo
- Publication number
- RU2014110367A RU2014110367A RU2014110367/03A RU2014110367A RU2014110367A RU 2014110367 A RU2014110367 A RU 2014110367A RU 2014110367/03 A RU2014110367/03 A RU 2014110367/03A RU 2014110367 A RU2014110367 A RU 2014110367A RU 2014110367 A RU2014110367 A RU 2014110367A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- low emissivity
- layer
- electromagnetic radiation
- heat treatment
- substrate
- Prior art date
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract 3
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract 21
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 claims abstract 18
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract 15
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract 12
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims abstract 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims abstract 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims abstract 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims abstract 2
- 239000005336 safety glass Substances 0.000 claims abstract 2
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 claims abstract 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims 6
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 claims 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 claims 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 claims 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims 1
- 238000007669 thermal treatment Methods 0.000 abstract 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
-
- E—FIXED CONSTRUCTIONS
- E04—BUILDING
- E04B—GENERAL BUILDING CONSTRUCTIONS; WALLS, e.g. PARTITIONS; ROOFS; FLOORS; CEILINGS; INSULATION OR OTHER PROTECTION OF BUILDINGS
- E04B1/00—Constructions in general; Structures which are not restricted either to walls, e.g. partitions, or floors or ceilings or roofs
- E04B1/62—Insulation or other protection; Elements or use of specified material therefor
- E04B1/74—Heat, sound or noise insulation, absorption, or reflection; Other building methods affording favourable thermal or acoustical conditions, e.g. accumulating of heat within walls
- E04B1/76—Heat, sound or noise insulation, absorption, or reflection; Other building methods affording favourable thermal or acoustical conditions, e.g. accumulating of heat within walls specifically with respect to heat only
- E04B1/78—Heat insulating elements
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/06—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with metals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3657—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the multilayer coating having optical properties
- C03C17/366—Low-emissivity or solar control coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C23/00—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments
- C03C23/0005—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments by irradiation
- C03C23/001—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments by irradiation by infrared light
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C23/00—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments
- C03C23/0005—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments by irradiation
- C03C23/0015—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments by irradiation by visible light
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C23/00—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments
- C03C23/0005—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments by irradiation
- C03C23/0025—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments by irradiation by a laser beam
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/14—Metallic material, boron or silicon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/58—After-treatment
- C23C14/5806—Thermal treatment
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/30—Aspects of methods for coating glass not covered above
- C03C2218/32—After-treatment
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Architecture (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Civil Engineering (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Acoustics & Sound (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
Abstract
1. Способ изготовления системы со слоем с низкой излучательной способностью на по меньшей мере одной стороне субстрата, включающий стадии:- получения субстрата,- формирования по меньшей мере одного прозрачного металлического слоя, отражающего ИК излучение и обозначаемого в дальнейшем как слой с низкой излучательной способностью, на по меньшей мере одной стороне субстрата системы со слоем с низкой излучательной способностью, с использованием методов нанесения,- последующей краткой термообработки по меньшей мере одного нанесенного слоя с использованием электромагнитного облучения, избегая, при этом, непосредственного нагрева всего субстрата,характеризующийся тем, что по меньшей мере один слой с низкой излучательной способностью кратко термически обрабатывают, где электромагнитное излучение, используемое для краткой термообработки, регулируют таким образом, чтобы поверхностное сопротивление и, таким образом, поглощение в инфракрасной области спектра и/или пропускание в видимой области спектра и/или спектральное отражение системы со слоем с низкой излучательной способностью принимали значения, характерные для обычных термически обработанных систем безопасного стекла со слоем с низкой излучательной способностью.2. Способ по п. 1, характеризующийся тем, что стадию краткой термообработки слоя с низкой излучательной способностью с использованием электромагнитного излучения осуществляют при такой эмиссионной длине волны электромагнитного излучения, при которой электромагнитное излучение по меньшей мере частично поглощается нанесенным слоем с низкой излучательной способностью.3. Способ по п. 1, хара�
Claims (18)
1. Способ изготовления системы со слоем с низкой излучательной способностью на по меньшей мере одной стороне субстрата, включающий стадии:
- получения субстрата,
- формирования по меньшей мере одного прозрачного металлического слоя, отражающего ИК излучение и обозначаемого в дальнейшем как слой с низкой излучательной способностью, на по меньшей мере одной стороне субстрата системы со слоем с низкой излучательной способностью, с использованием методов нанесения,
- последующей краткой термообработки по меньшей мере одного нанесенного слоя с использованием электромагнитного облучения, избегая, при этом, непосредственного нагрева всего субстрата,
характеризующийся тем, что по меньшей мере один слой с низкой излучательной способностью кратко термически обрабатывают, где электромагнитное излучение, используемое для краткой термообработки, регулируют таким образом, чтобы поверхностное сопротивление и, таким образом, поглощение в инфракрасной области спектра и/или пропускание в видимой области спектра и/или спектральное отражение системы со слоем с низкой излучательной способностью принимали значения, характерные для обычных термически обработанных систем безопасного стекла со слоем с низкой излучательной способностью.
2. Способ по п. 1, характеризующийся тем, что стадию краткой термообработки слоя с низкой излучательной способностью с использованием электромагнитного излучения осуществляют при такой эмиссионной длине волны электромагнитного излучения, при которой электромагнитное излучение по меньшей мере частично поглощается нанесенным слоем с низкой излучательной способностью.
3. Способ по п. 1, характеризующийся тем, что стадию краткой термообработки слоя с низкой излучательной способностью осуществляют при эмиссионной длине волны электромагнитного излучения в интервале от 250 нм до менее чем 500 нм и/или в интервале от более 500 до 1000 нм.
4. Способ по п. 3, характеризующийся тем, что стадию краткой термообработки слоя с низкой излучательной способностью осуществляют при эмиссионной длине волны электромагнитного излучения в интервале от 250 до 350 нм и/или в интервале от 650 до 850 нм.
5. Способ по пп. 1, 2, 3 или 4, характеризующийся тем, что электромагнитное излучение, используемое для краткой термообработки, регулируют таким образом, чтобы слой с низкой излучательной способностью получал предопределенную энергию в области облучения.
6. Способ по пп. 1, 2, 3 или 4, характеризующийся тем, что электромагнитное излучение, используемое для краткой термообработки, регулируют таким образом, чтобы оно имело линейное распределение интенсивности перпендикулярно направлению перемещения субстрата.
7. Способ по п. 6, характеризующийся тем, что длина линейного распределения интенсивности электромагнитного излучения, используемого для краткой термообработки соответствует по меньшей мере ширине нанесенного на субстрат слоя с низкой излучательной способностью в направлении продольной части линейного распределения интенсивности электромагнитного излучения.
8. Способ по п. 6, характеризующийся тем, что как длина, так и плотность энергии линейного распределения интенсивности электромагнитного излучения, используемого для краткой термообработки, могут изменяться.
9. Способ по любому из пп. 1, 2, 3 или 4, характеризующийся тем, что электромагнитное облучение слоя с низкой излучательной способностью осуществляют с использованием одного или нескольких лазеров.
10. Способ по п. 9, характеризующийся тем, что энергия, подводимая энергия, получаемая слоем с низкой излучательной способностью в области облучения, регулируется отношением плотности энергии линейных лазеров, используемых в процессе облучения.
11. Способ по п. 9, характеризующийся тем, что по меньшей мере один линейный лазер сфокусирован на плоскости поверхности субстрата на стороне покрытия с низкой излучательной способностью, и по меньшей мере один линейный лазер расфоркусирован.
12. Способ по любому из пп. 1, 2, 3 или 4, характеризующийся тем, что электромагнитное облучение слоя с низкой излучательной способностью осуществляют непрерывно испускающими диодами посредством газоразрядной лампы непрерывного излучения или посредством электронного луча.
13. Способ по п. 12, характеризующийся тем, что электромагнитное облучение, используемое для краткой термообработки, регулируют таким образом, чтобы оно имело линейное распределение интенсивности перпендикулярно направлению перемещения субстрата.
14. Способ по п. 12, характеризующийся тем, что как длина, так и плотность энергии линейного распределения интенсивности электромагнитного излучения, используемого для краткой термообработки, могут изменяться.
15. Способ по пп. 1, 2, 3 или 4, характеризующийся тем, что он включает на стадии формирования по меньшей мере одного слоя с низкой излучательной способностью несколько слоев для формирования системы слоев с низкой излучательной способностью.
16. Способ по пп. 1, 2, 3 или 4, характеризующийся тем, что по меньшей мере один слой с низкой излучательной способностью включает серебро или состоит из серебра.
17. Способ по пп. 1, 2, 3 или 4, характеризующийся тем, что он осуществляется в рамках действующей установки для нанесения покрытия методом напыления в вакууме.
18. Покрытие с низкой излучательной способностью, полученное способом по любому из пп. 1-17.
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE102011081281.4 | 2011-08-19 | ||
| DE102011081281 | 2011-08-19 | ||
| DE102011089884.0A DE102011089884B4 (de) | 2011-08-19 | 2011-12-23 | Niedrigemittierende Beschichtung und Verfahren zur Herstellung eines niedrigemittierenden Schichtsystems |
| DE102011089884.0 | 2011-12-23 | ||
| PCT/EP2012/066174 WO2013026819A1 (de) | 2011-08-19 | 2012-08-20 | Verfahren zur herstellung eines niedrigemittierenden schichtsystems |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2014110367A true RU2014110367A (ru) | 2015-09-27 |
| RU2577562C2 RU2577562C2 (ru) | 2016-03-20 |
Family
ID=47625162
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2014110367/03A RU2577562C2 (ru) | 2011-08-19 | 2012-08-20 | Способ изготовления системы со слоем низкой излучательной способности |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US9453334B2 (ru) |
| EP (2) | EP2744764A1 (ru) |
| CN (2) | CN103987674A (ru) |
| DE (2) | DE102011089884B4 (ru) |
| EA (1) | EA201400222A1 (ru) |
| RU (1) | RU2577562C2 (ru) |
| WO (2) | WO2013026819A1 (ru) |
Families Citing this family (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8815059B2 (en) * | 2010-08-31 | 2014-08-26 | Guardian Industries Corp. | System and/or method for heat treating conductive coatings using wavelength-tuned infrared radiation |
| DE102014105300A1 (de) * | 2014-03-12 | 2015-09-17 | Von Ardenne Gmbh | Prozessieranordnung und Verfahren zum Betreiben einer Prozessieranordnung |
| FR3022904B1 (fr) | 2014-06-27 | 2016-07-01 | Saint Gobain | Procede d'activation de couche sur substrat verrier |
| DE102014116244A1 (de) * | 2014-07-07 | 2016-01-07 | Von Ardenne Gmbh | Beschichtungsanordnung |
| FR3025936B1 (fr) * | 2014-09-11 | 2016-12-02 | Saint Gobain | Procede de recuit par lampes flash |
| EP3209812A1 (en) * | 2014-10-22 | 2017-08-30 | AGC Glass Europe | Manufacturing of substrates coated with a conductive layer |
| DE102015105203A1 (de) * | 2015-04-07 | 2016-10-13 | Von Ardenne Gmbh | Verfahren zum Bearbeiten einer Schichtenstruktur und Verfahren zum Herstellen einer elektrisch hochleitfähigen Kupferschicht auf einem lichtdurchlässigen Substrat |
| US10011524B2 (en) * | 2015-06-19 | 2018-07-03 | Guardian Glass, LLC | Coated article with sequentially activated low-E coating, and/or method of making the same |
| US11220455B2 (en) * | 2017-08-04 | 2022-01-11 | Vitro Flat Glass Llc | Flash annealing of silver coatings |
| ES2967924T3 (es) * | 2017-08-04 | 2024-05-06 | Vitro Flat Glass Llc | Recocido por destellos de revestimientos de semiconductor y de óxido conductor transparente |
| FR3070387A1 (fr) * | 2017-08-30 | 2019-03-01 | Saint-Gobain Glass France | Dispositif de traitement thermique ameliore |
| US10822270B2 (en) | 2018-08-01 | 2020-11-03 | Guardian Glass, LLC | Coated article including ultra-fast laser treated silver-inclusive layer in low-emissivity thin film coating, and/or method of making the same |
| DE102019134818A1 (de) * | 2019-02-16 | 2020-08-20 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung eingetragener Verein | Verfahren zum Erhöhen der Festigkeit eines Glassubstrates |
| FR3105212A1 (fr) | 2019-12-20 | 2021-06-25 | Saint-Gobain Glass France | Procédé de traitement thermique rapide de couches minces sur substrats en verre trempé |
| FR3111842A1 (fr) | 2020-06-26 | 2021-12-31 | Commissariat A L'energie Atomique Et Aux Energies Alternatives | Procede d’elaboration et de controle de la qualite d’un empilement oxyde/metal/oxyde |
Family Cites Families (27)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6294219B1 (en) * | 1998-03-03 | 2001-09-25 | Applied Komatsu Technology, Inc. | Method of annealing large area glass substrates |
| US6408649B1 (en) * | 2000-04-28 | 2002-06-25 | Gyrotron Technology, Inc. | Method for the rapid thermal treatment of glass and glass-like materials using microwave radiation |
| US6673462B2 (en) * | 2001-04-27 | 2004-01-06 | Central Glass Company, Limited | Frequency selective plate and method for producing same |
| US7232615B2 (en) * | 2001-10-22 | 2007-06-19 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Coating stack comprising a layer of barrier coating |
| JP2004172331A (ja) * | 2002-11-20 | 2004-06-17 | Ushio Inc | 電気伝導性制御方法 |
| US6835657B2 (en) | 2002-12-02 | 2004-12-28 | Applied Materials, Inc. | Method for recrystallizing metal in features of a semiconductor chip |
| US7582161B2 (en) * | 2006-04-07 | 2009-09-01 | Micron Technology, Inc. | Atomic layer deposited titanium-doped indium oxide films |
| DE102006047472A1 (de) * | 2006-10-05 | 2008-04-10 | Fhr Anlagenbau Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur oberflächennahen Behandlung von flächigen Substraten |
| FR2911130B1 (fr) * | 2007-01-05 | 2009-11-27 | Saint Gobain | Procede de depot de couche mince et produit obtenu |
| US20080169064A1 (en) * | 2007-01-11 | 2008-07-17 | Ushio Denki Kabushiki Kaisha | Surface-treating apparatus |
| US7800081B2 (en) * | 2007-11-08 | 2010-09-21 | Applied Materials, Inc. | Pulse train annealing method and apparatus |
| US20090263944A1 (en) * | 2008-04-17 | 2009-10-22 | Albert Chin | Method for making low Vt gate-first light-reflective-layer covered dual metal-gates on high-k CMOSFETs |
| EP2347032B1 (en) * | 2008-10-17 | 2017-07-05 | Ncc Nano, Llc | Method for reducing thin films on low temperature substrates |
| DE102009033417C5 (de) * | 2009-04-09 | 2022-10-06 | Interpane Entwicklungs-Und Beratungsgesellschaft Mbh | Verfahren und Anlage zur Herstellung eines beschichteten Gegenstands mittels Tempern |
| FR2946639B1 (fr) * | 2009-06-12 | 2011-07-15 | Saint Gobain | Procede de depot de couche mince et produit obtenu. |
| FR2950878B1 (fr) * | 2009-10-01 | 2011-10-21 | Saint Gobain | Procede de depot de couche mince |
| WO2011066256A1 (en) * | 2009-11-25 | 2011-06-03 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Screen-printable quaternary chalcogenide compositions |
| US10000965B2 (en) * | 2010-01-16 | 2018-06-19 | Cardinal Cg Company | Insulating glass unit transparent conductive coating technology |
| RU2558063C2 (ru) * | 2010-01-16 | 2015-07-27 | КАРДИНАЛ СиДжи КОМПАНИ | Высококачественные низкоэмиссионные покрытия, низкоэмиссионные стеклопакеты и способы их изготовления |
| US10060180B2 (en) * | 2010-01-16 | 2018-08-28 | Cardinal Cg Company | Flash-treated indium tin oxide coatings, production methods, and insulating glass unit transparent conductive coating technology |
| US10000411B2 (en) * | 2010-01-16 | 2018-06-19 | Cardinal Cg Company | Insulating glass unit transparent conductivity and low emissivity coating technology |
| FR2963342B1 (fr) * | 2010-07-27 | 2012-08-03 | Saint Gobain | Procede d'obtention d'un materiau comprenant un substrat muni d'un revetement |
| US20120156827A1 (en) * | 2010-12-17 | 2012-06-21 | General Electric Company | Method for forming cadmium tin oxide layer and a photovoltaic device |
| FR2969391B1 (fr) * | 2010-12-17 | 2013-07-05 | Saint Gobain | Procédé de fabrication d'un dispositif oled |
| FR2972447B1 (fr) * | 2011-03-08 | 2019-06-07 | Saint-Gobain Glass France | Procede d'obtention d'un substrat muni d'un revetement |
| TWI566300B (zh) * | 2011-03-23 | 2017-01-11 | 斯克林集團公司 | 熱處理方法及熱處理裝置 |
| FR2981346B1 (fr) * | 2011-10-18 | 2014-01-24 | Saint Gobain | Procede de traitement thermique de couches d'argent |
-
2011
- 2011-12-23 DE DE102011089884.0A patent/DE102011089884B4/de active Active
-
2012
- 2012-01-18 DE DE102012200665.6A patent/DE102012200665B4/de active Active
- 2012-08-20 WO PCT/EP2012/066174 patent/WO2013026819A1/de active Application Filing
- 2012-08-20 CN CN201280040499.8A patent/CN103987674A/zh active Pending
- 2012-08-20 EP EP12756405.2A patent/EP2744764A1/de not_active Ceased
- 2012-08-20 EP EP12756404.5A patent/EP2744763A1/de not_active Withdrawn
- 2012-08-20 RU RU2014110367/03A patent/RU2577562C2/ru active
- 2012-08-20 US US14/237,951 patent/US9453334B2/en active Active
- 2012-08-20 CN CN201280040483.7A patent/CN103889915A/zh active Pending
- 2012-08-20 US US14/238,742 patent/US20140197350A1/en not_active Abandoned
- 2012-08-20 WO PCT/EP2012/066172 patent/WO2013026817A1/de active Application Filing
- 2012-08-20 EA EA201400222A patent/EA201400222A1/ru unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| WO2013026819A1 (de) | 2013-02-28 |
| CN103987674A (zh) | 2014-08-13 |
| US9453334B2 (en) | 2016-09-27 |
| EA201400222A1 (ru) | 2014-08-29 |
| CN103889915A (zh) | 2014-06-25 |
| RU2577562C2 (ru) | 2016-03-20 |
| US20140199496A1 (en) | 2014-07-17 |
| EP2744764A1 (de) | 2014-06-25 |
| US20140197350A1 (en) | 2014-07-17 |
| EP2744763A1 (de) | 2014-06-25 |
| DE102011089884B4 (de) | 2016-03-10 |
| DE102012200665B4 (de) | 2016-06-02 |
| DE102012200665A1 (de) | 2013-02-21 |
| DE102011089884A1 (de) | 2013-02-21 |
| WO2013026817A1 (de) | 2013-02-28 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| RU2014110367A (ru) | Способ изготовления системы со слоем низкой излучательной способности | |
| JP6309078B2 (ja) | 低減されたデブリ生成を有するレーザ生成プラズマｅｕｖ源 | |
| RU2430832C2 (ru) | Способ обработки инфракрасным лазерным излучением с заданной длиной волны и предназначенная для этого система | |
| US10882781B2 (en) | Method for obtaining a substrate coated with a functional layer by using a sacrificial layer | |
| JP6054890B2 (ja) | 被覆物を備えた基材を得る方法 | |
| CN105658592B (zh) | 制造涂覆有包括导电透明氧化物膜的叠层的基底的方法 | |
| RU2666808C2 (ru) | Окно с обработанным уф-излучением низкоэмиссионным покрытием и способ его изготовления | |
| JP6139600B2 (ja) | 太陽電池の後処理装置 | |
| EA022598B1 (ru) | Способ нанесения тонкого слоя на подложку | |
| JP6553595B2 (ja) | コーティングを備えた基材の製造方法 | |
| Emelyanov et al. | Femtosecond laser induced crystallization of hydrogenated amorphous silicon for photovoltaic applications | |
| JP2014509296A (ja) | 真空断熱ガラスユニット向け可変赤外線素子を組み込んだ局所加熱技術、及び／又は局所加熱装置 | |
| Zimakov et al. | Bistable behavior of a continuous optical discharge as a laser beam propagation effect | |
| JP6900327B2 (ja) | 逐次的に活性化された低ｅコーティングを有する被覆物品、及び／又はその製造方法 | |
| JP2023126975A (ja) | エネルギー制御コーティング構造、装置、及びそれらの製造方法 | |
| Komlenok et al. | High-damage-threshold antireflection coatings on diamond for CW and pulsed CO2 lasers | |
| Hassanein et al. | Analysis, simulation, and experimental studies of YAG and CO [sub] 2 [/sub] laser-produced plasma for EUV lithography sources | |
| Rahmonberdievich | Physical principles of dry vegetables fruit products under the influence of Infrared | |
| US20090176033A1 (en) | Manufacturing Optical Elements With Refractive Functions | |
| Bergel'son et al. | Parameters of a plasma formed by the action of microsecond laser pulses on an aluminum target in vacuum | |
| Marchenko | Spectroscopy and energy balance of the Nd 2 O 3 selective emission upon the laser thermal excitation | |
| JP2006269451A (ja) | レーザによる成膜装置 | |
| Lotin et al. | The quantum confinement effect observed in the multiple quantum wells Mg 0.27 Zn 0.73 O/ZnO | |
| Papanyan et al. | XUV spectroscopy of laser plasma from molecular coated metal targets | |
| Alekseev et al. | Asymmetric gratings on surfaces of glass waveguides |