RU2011138995A

RU2011138995A - Система нанесения покрытия на основе обратной литографии с держателем подложки оптимизированной по плотности высокоинтенсивной установки обратной литографии (hula) в конической камере для осаждения

Info

Publication number: RU2011138995A
Application number: RU2011138995/02A
Authority: RU
Inventors: Пинг ЧАНГ; Грегг УОЛЛЕС
Original assignee: Ферэутек (Сша) Корпорэйшн
Priority date: 2009-04-28
Filing date: 2010-04-22
Publication date: 2013-06-10
Also published as: US8926755B2; KR101235539B1; CA2757872C; US20100272893A1; CN102405302A; CA2757872A1; EP2425033A2; KR20110039373A; RU2538064C2; WO2010129180A3; TWI503432B; MY160386A; EP2425033B1; WO2010129180A2; TW201103996A; SG175247A1; JP5774579B2; EP2425033A4; JP2012525503A; CN102405302B

Abstract

1. Аппарат для осаждения материала на подложку путем выпаривания, используя процесс обратной литографии, и данный аппарат включает:- корпус конической формы с купольным верхом, нижнее отверстие и боковую стену, которая сходится от купольного верха по направлению к нижнему отверстию;- источник напыления, расположенный рядом с низом и спрямленный с первой осью, которая проходит через центральную точку купольного верха;- центральный куполообразный элемент, расположенный выше источника напыления рядом с купольным верхом, имеющим центральную точку, спрямленную с первой осью, где центральный куполообразный элемент вращается относительно центральной точки;- один или несколько орбитальных элементов в форме купола, расположенных выше источника напыления рядом с купольным верхом и на постоянном радиусе от центральной точки купольного верха, где один или несколько элементов в форме купола вращаются относительно первой оси, и где каждый орбитальный куполообразный элемент одновременно вращается относительно второй оси, которая проходит через центральную точку орбитального куполообразного элемента; причем один или несколько орбитальных элементов в форме купола преимущественно одинаковы по диаметру и вогнутости с центральным элементом в форме купола;- маску для улучшения равномерности осаждения, расположенную между источником напыления и центральным куполообразным элементом; причем маска для улучшения равномерности осаждения эксплутационно находится в зацеплении для использования только с центральным элементом в форме купола; и один или несколько положений для приема пластин, расположенных внутри одного �

Claims

1. Аппарат для осаждения материала на подложку путем выпаривания, используя процесс обратной литографии, и данный аппарат включает:

- корпус конической формы с купольным верхом, нижнее отверстие и боковую стену, которая сходится от купольного верха по направлению к нижнему отверстию;

- источник напыления, расположенный рядом с низом и спрямленный с первой осью, которая проходит через центральную точку купольного верха;

- центральный куполообразный элемент, расположенный выше источника напыления рядом с купольным верхом, имеющим центральную точку, спрямленную с первой осью, где центральный куполообразный элемент вращается относительно центральной точки;

- один или несколько орбитальных элементов в форме купола, расположенных выше источника напыления рядом с купольным верхом и на постоянном радиусе от центральной точки купольного верха, где один или несколько элементов в форме купола вращаются относительно первой оси, и где каждый орбитальный куполообразный элемент одновременно вращается относительно второй оси, которая проходит через центральную точку орбитального куполообразного элемента; причем один или несколько орбитальных элементов в форме купола преимущественно одинаковы по диаметру и вогнутости с центральным элементом в форме купола;

- маску для улучшения равномерности осаждения, расположенную между источником напыления и центральным куполообразным элементом; причем маска для улучшения равномерности осаждения эксплутационно находится в зацеплении для использования только с центральным элементом в форме купола; и один или несколько положений для приема пластин, расположенных внутри одного или каждого из нескольких орбитальных элементов в форме купола и центрального куполообразного элемента для приема пластины вовнутрь.

2. Аппарат по п.1, где одно или несколько положений приема пластин преимущественно ортогональны по отношению к источнику напыления.

3. Аппарат по п.1, далее включающий опорную конструкцию, которая позиционирует и вращает один или несколько орбитальных элементов в форме купола и центральный куполообразный элемент относительно первой оси.

4. Аппарат по п.3, где опорная конструкция позиционирует один или несколько орбитальных элементов в форме купола и центральный куполообразный элемент, где дуги, образованные одним или несколькими орбитальными элементами в форме купола и центральным куполообразным элементом, совпадают с окружностью сферы с центром на первой оси, и расположенной на источнике напыления.

5. Аппарат по п.3, где опорная конструкция включает систему привода, которая вращает один или несколько орбитальных элементов в форме купола относительно их соответствующей второй оси.

6. Аппарат по п.1, где один или несколько орбитальных элементов в форме купола равны шести орбитальным элементам в форме купола.

7. Аппарат для напыления на основе осаждения, используя процесс обратной литографии, причем данный аппарат включает:

- источник напыления;

- каркас, установленный для вращения относительно первой оси, которая проходит через источник напыления;

- центральный куполообразный держатель пластин, прикрепленный к каркасу, где центральная точка центрального куполообразного держателя выравнена с первой осью;

- орбитальный куполообразный держатель пластин, прикрепленный к каркасу в положении, смещенном от первой оси, и вращающийся относительно второй оси, которая проходит через центральную точку орбитального куполообразного держателя и источник напыления; и

- множество положений пластин на центральном куполообразном держателе пластин на орбитальном куполообразном держателе пластин, где каждое положение пластин смещено от первой оси и второй оси, причем каждое из множества положений пластин конфигурировано так, чтобы сориентировать поверхность подложки пластины, установленной внутри, преимущественно ортогонально по отношению к радиальной оси, проходящей через положение пластины к источнику напыления во время ротации относительно первой оси и второй оси.

8. Аппарат по п.7, далее включающий корпус конической формы с куполообразным верхом, нижним отверстием и боковой стеной, которая конвергирует (сходится) от куполообразного верха по направлению к нижнему отверстию, конусообразный корпус, включающий источник напыления рядом с нижним отверстием и каркасом, центральным куполообразным держателем пластин и орбитальным куполообразным держателем пластин рядом с куполообразным верхом.

9. Аппарат по п.7, где каркас включает систему привода, которая вращает центральный куполообразный держатель пластин и орбитальный куполообразный держатель пластин относительно первой оси и орбитальный куполообразный держатель относительно второй оси.

10. Аппарат по п.7, где центральный куполообразный держатель пластин и орбитальный куполообразный держатель пластин имеют постоянный радиус относительно источника напыления.

11. Аппарат по п.7, где каждое из множества положений пластин - это отверстие для приема пластин.

12. Аппарат для напыления на основе осаждения, используя процесс обратной литографии, и данный аппарат включает:

- источник напыления;

- центральное устройство для позиционирования одной или нескольких пластин, где центр каждой или нескольких пластин находится на равном расстоянии от источника напыления, это устройство для позиционирования вращает одну или несколько пластин относительно первой оси, которая проходит через источник напыления;

- орбитальное устройство для позиционирования одной или нескольких пластин, которое смещено от центрального устройства для позиционирования, и где центр каждой или нескольких пластин орбитального устройства для позиционирования находится на равном расстоянии от источника напыления, причем орбитальное устройств для позиционирования вращает одну или несколько пластин относительно второй оси, которая проходит через источник напыления; и

- устройство для вращения центрального устройства для позиционирования и орбитального устройства для позиционирования относительно первой оси и для вращения орбитального устройства для позиционирования относительно второй оси.

13. Аппарат по п.12, где центральное устройство для позиционирования, орбитальное устройство для позиционирования и устройство для вращения вращают одну или несколько пластин относительно первой оси и второй оси одновременно.

14. Аппарат по п.12, далее включающий корпус конической формы с куполообразным верхом, нижним отверстием и боковой стеной, что конвергирует (сходится) от куполообразного верха по направлению к нижнему отверствию, корпус конической формы, включающий источник напыления рядом с нижним отверстием и центральное устройство для позиционирования, орбитальное устройство для позиционирования и устройство для вращения рядом с куполообразным верхом.

15. Аппарат по п.12, где орбитальное устройство включает шесть орбитальных элементов в форме купола.

16. Аппарат по п.12, где центральное устройство включает один центральный элемент в форме купола.

17. Метод эффективного нанесения покрытия на пластину на основе обратной литографии, включающий:

- выпаривание материала из источника;

- вращение центрального куполообразного элемента, который расположен на расстоянии от источника относительно первой оси, которая проходит через центр центрального куполообразного элемента и источник; затем вращение центрального куполообразного элемента, имеющего установленную на нем пластину, который отклоняется от первой оси и имеет поверхность, которая расположена преимущественно ортогонально к источнику; и

- вращение орбитального куполообразного элемента, который отклоняется от центрального куполообразного элемента относительно первой оси и вращение орбитального куполообразного элемента относительно второй оси, которая проходит через центр орбитального куполообразного элемента и источник; вращение орбитального куполообразного элемента, имеющего установленную на нем пластину, который отклонен от второй оси, и имеющего поверхность, которая расположена преимущественно ортогонально к источнику, где центральный куполообразный элемент и орбитальный куполообразный элемент совпадают с окружностью сферы, имеющей центр на первой оси и расположенной у источника.

18. Метод по п.17, где вращение центрального куполообразного элемента и орбитального элемента в форме купола относительно первой оси и орбитального куполообразного элемента относительно второй оси происходит одновременно.

19. Метод по п.17, далее включающий прохождение этапов выпаривания материала, вращение центрального куполообразного элемента и вращение орбитального элемента в форме купола внутри конусообразного корпуса с купольным верхом, нижним отверстием и боковой стеной, которая сходится от купольного верха по направлению к нижнему отверстию, где выпаривание материала осуществляется рядом с нижним отверстием, а вращение центрального куполообразного элемента и орбитального куполообразного элемента осуществляется рядом с купольным верхом.