RU2008106490A - Способ и устройство для смешивания материалов и устройство управления смешиванием материалов - Google Patents

Способ и устройство для смешивания материалов и устройство управления смешиванием материалов Download PDF

Info

Publication number
RU2008106490A
RU2008106490A RU2008106490/28A RU2008106490A RU2008106490A RU 2008106490 A RU2008106490 A RU 2008106490A RU 2008106490/28 A RU2008106490/28 A RU 2008106490/28A RU 2008106490 A RU2008106490 A RU 2008106490A RU 2008106490 A RU2008106490 A RU 2008106490A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
time interval
minor
flow rate
final
range
Prior art date
Application number
RU2008106490/28A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2399082C2 (ru
Inventor
Роджер Филлип ВИЛЬЯМС (US)
Роджер Филлип ВИЛЬЯМС
Джон Кевин МАКЛАФЛИН (US)
Джон Кевин МАКЛАФЛИН
Original Assignee
Дзе Проктер Энд Гэмбл Компани (US)
Дзе Проктер Энд Гэмбл Компани
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Дзе Проктер Энд Гэмбл Компани (US), Дзе Проктер Энд Гэмбл Компани filed Critical Дзе Проктер Энд Гэмбл Компани (US)
Publication of RU2008106490A publication Critical patent/RU2008106490A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2399082C2 publication Critical patent/RU2399082C2/ru

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05DSYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
    • G05D11/00Control of flow ratio
    • G05D11/02Controlling ratio of two or more flows of fluid or fluent material
    • G05D11/13Controlling ratio of two or more flows of fluid or fluent material characterised by the use of electric means
    • G05D11/131Controlling ratio of two or more flows of fluid or fluent material characterised by the use of electric means by measuring the values related to the quantity of the individual components
    • G05D11/132Controlling ratio of two or more flows of fluid or fluent material characterised by the use of electric means by measuring the values related to the quantity of the individual components by controlling the flow of the individual components

Abstract

1. Способ смешивания материалов, содержащих по меньшей мере один основной материал и по меньшей мере один неосновной материал, причем упомянутые по меньшей мере один основной материал и по меньшей мере один неосновной материал смешивают, чтобы получить общий материал, содержащий операции, на которых: ! обеспечивают область слияния; ! подают по меньшей мере один основной материал в упомянутую область слияния; ! добавляют по меньшей мере один неосновной материал в упомянутую область слияния в непосредственной близости от упомянутого основного материала, за счет чего упомянутый основной материал и упомянутый по меньшей мере один неосновной материал приходят во взаимоотношение соприкосновения в первой пропорции и сохраняются в упомянутой области слияния; и ! изменяют количество упомянутого по меньшей мере одного основного материала и упомянутого по меньшей мере одного неосновного материала, добавленного в упомянутую область слияния в течение первого интервала времени, при этом поддерживают упомянутую первую пропорцию упомянутого по меньшей мере одного основного материала на соответствующей уставке и упомянутую пропорцию упомянутого по меньшей мере одного неосновного материала на соответствующей уставке в пределах мгновенной ошибки не более ± примерно пять процентов от полномасштабной скорости потока, причем упомянутый первый интервал времени составляет менее одной секунды. ! 2. Способ по п.1, отличающийся тем, что упомянутая мгновенная ошибка составляет не более ± примерно 3%. ! 3. Способ по п.2, отличающийся тем, что упомянутый первый интервал времени составляет не более чем примерно половину секунды. ! 4. С

Claims (16)

1. Способ смешивания материалов, содержащих по меньшей мере один основной материал и по меньшей мере один неосновной материал, причем упомянутые по меньшей мере один основной материал и по меньшей мере один неосновной материал смешивают, чтобы получить общий материал, содержащий операции, на которых:
обеспечивают область слияния;
подают по меньшей мере один основной материал в упомянутую область слияния;
добавляют по меньшей мере один неосновной материал в упомянутую область слияния в непосредственной близости от упомянутого основного материала, за счет чего упомянутый основной материал и упомянутый по меньшей мере один неосновной материал приходят во взаимоотношение соприкосновения в первой пропорции и сохраняются в упомянутой области слияния; и
изменяют количество упомянутого по меньшей мере одного основного материала и упомянутого по меньшей мере одного неосновного материала, добавленного в упомянутую область слияния в течение первого интервала времени, при этом поддерживают упомянутую первую пропорцию упомянутого по меньшей мере одного основного материала на соответствующей уставке и упомянутую пропорцию упомянутого по меньшей мере одного неосновного материала на соответствующей уставке в пределах мгновенной ошибки не более ± примерно пять процентов от полномасштабной скорости потока, причем упомянутый первый интервал времени составляет менее одной секунды.
2. Способ по п.1, отличающийся тем, что упомянутая мгновенная ошибка составляет не более ± примерно 3%.
3. Способ по п.2, отличающийся тем, что упомянутый первый интервал времени составляет не более чем примерно половину секунды.
4. Способ по п.1, отличающийся тем, что упомянутая операция добавления по меньшей мере одного неосновного материала в упомянутую область слияния состоит из операции непрерывного добавления по меньшей мере одного неосновного материала.
5. Устройство для смешивания по меньшей мере двух материалов, выполненное с возможностью реализации переходного процесса, при котором количество упомянутых материалов, смешанных в единицу времени, изменяется так, что становится либо больше, либо меньше чем предыдущая скорость смешивания упомянутых материалов, за счет чего упомянутый переходной процесс вырабатывает мгновенную ошибку и кумулятивную ошибку между командным сигналом, имеющим уставку, которая изменяется в момент Т=0, и измеренной скоростью потока, отличающееся тем, что упомянутая мгновенная ошибка составляет не более чем:
IE<A·M·exp(-t/τ),
где IE является мгновенной ошибкой в объеме за единицу времени, и
А является величиной изменения уставки в нулевой момент, нормированной к единице,
М является коэффициентом амплитуды в диапазоне от примерно 0,1 до примерно 0,5,
t является мгновенным временем в секундах, не превышающим примерно 1,5·τ,
τ является постоянной времени в диапазоне от примерно 0,1 до примерно 1,0 секунд.
6. Устройство по п.5, отличающееся тем, что τ равно 1, а Т лежит в пределах от 0 до примерно 0,5·τ.
7. Устройство по п.5, отличающееся тем, что τ равно 1, а Т лежит в пределах от 0 до примерно 3·τ.
8. Устройство по п.5, отличающееся тем, что М равно 0,5, τ равно 1, а Т лежит в пределах от 0 до примерно 2,0·τ.
9. Устройство по п.5, отличающееся тем, что М равно 0,5, τ равно 0,5, а Т лежит в пределах от 0 до примерно 2·τ.
10. Устройство по п.5, отличающееся тем, что М равно 0,25, τ равно 1, а Т лежит в пределах от 0 до примерно 1,5·τ.
11. Система управления для смешивания по меньшей мере двух текучих материалов, выполненная с возможностью реализации переходного процесса, длящегося не более одной секунды, в котором количество материалов, добавленных в единицу времени, изменяется так, что становится либо больше, либо меньше чем скорость добавления упомянутых материалов перед упомянутым переходным процессом, за счет чего упомянутый переходной процесс вырабатывает кумулятивную ошибку на интервале времени, заданную формулой:
СЕk=0,5·(IEk-1+IEk)·ΔТ)+CEk-1,
где СЕ является кумулятивной ошибкой в объеме,
k является индексом для определенного дискретного интервала времени в диапазоне от нуля до kfinal,
ΔT является дискретным интервалом времени в секундах, и
IE = [Командный сигнал для скорости потока]k - [Фактический командный сигнал]k,
причем Командный сигнал для скорости потока представляет собой желательную скорость потока, а
Фактическая скорость потока является результирующей скоростью потока в системе; и
переходной процесс между непрерывным временем t и дискретным временем задается формулой:
t=k·ΔТ,
где k представляет собой индекс для дискретного интервала времени ΔT,
t и ΔТ измеряются в секундах;
при этом для командного сигнала переходного процесса нормированной величины, равной единице, упомянутая кумулятивная ошибка за интервал времени от t=0 до t=Tfinal для Tfinal до примерно 5 с или менее, задается формулой:
CETfinal<0,50.
12. Устройство по п.11, в котором упомянутая кумулятивная ошибка задается формулой:
СЕTfinal<0,37.
13. Система по п.11, в котором Tfinal составляет до примерно 4 с.
14. Системапо п.11, в котором Tfinal составляет до примерно 3 с.
15. Системапо п.12, в котором Tfinal составляет до примерно 4 с.
16. Системапо п.12, в котором Tfinal составляет до примерно 3 с.
RU2008106490/28A 2005-09-01 2006-08-30 Способ и устройство для соединения материалов RU2399082C2 (ru)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US11/217,802 2005-09-01
US11/217,802 US20070047384A1 (en) 2005-09-01 2005-09-01 Control system for and method of combining materials

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2008106490A true RU2008106490A (ru) 2009-10-10
RU2399082C2 RU2399082C2 (ru) 2010-09-10

Family

ID=37709704

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2008106490/28A RU2399082C2 (ru) 2005-09-01 2006-08-30 Способ и устройство для соединения материалов

Country Status (11)

Country Link
US (2) US20070047384A1 (ru)
EP (1) EP1920303B1 (ru)
JP (1) JP5068756B2 (ru)
CN (1) CN101288034B (ru)
AR (1) AR057112A1 (ru)
BR (1) BRPI0615949A2 (ru)
CA (1) CA2620339C (ru)
MX (1) MX2008003040A (ru)
RU (1) RU2399082C2 (ru)
WO (1) WO2007026316A2 (ru)
ZA (2) ZA200801714B (ru)

Families Citing this family (227)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8240908B2 (en) * 2005-09-01 2012-08-14 The Procter & Gamble Company Control system for and method of combining materials
US20080031085A1 (en) * 2005-09-01 2008-02-07 Mclaughlin Jon K Control system for and method of combining materials
US8616760B2 (en) 2005-09-01 2013-12-31 The Procter & Gamble Company Control system for and method of combining materials
US20070047384A1 (en) * 2005-09-01 2007-03-01 Mclaughlin Jon K Control system for and method of combining materials
KR101155749B1 (ko) * 2007-03-21 2012-06-21 콜게이트-파아므올리브캄파니 점토를 함유하는 구조화된 조성물
US20100055052A1 (en) * 2008-08-26 2010-03-04 James Albert Berta Processing System for Oral Care Compositions
EP2403631B1 (en) 2009-03-06 2013-09-04 Colgate-Palmolive Company Apparatus and method for filling a container with at least two components of a composition
BR112012015733A2 (pt) 2009-12-23 2019-04-24 Colgate Palmolive Co composições visualmente padronizadas e orientadas
WO2011156576A1 (en) 2010-06-09 2011-12-15 The Procter & Gamble Company Semi-continuous feed production of liquid personal care compositions
US9423801B2 (en) 2010-12-22 2016-08-23 Colgate-Palmolive Company Continuous manufacturing system
US20130023129A1 (en) 2011-07-20 2013-01-24 Asm America, Inc. Pressure transmitter for a semiconductor processing environment
US10714315B2 (en) 2012-10-12 2020-07-14 Asm Ip Holdings B.V. Semiconductor reaction chamber showerhead
US9867763B2 (en) 2013-05-10 2018-01-16 Noxell Corporation Modular emulsion-based product differentiation
SG11201605053QA (en) * 2014-02-06 2016-08-30 Praxair Technology Inc Improved dynamics gas blending system and process for producing mixtures with minimal variation within tolerance limits and increased gas utilization
US10683571B2 (en) * 2014-02-25 2020-06-16 Asm Ip Holding B.V. Gas supply manifold and method of supplying gases to chamber using same
US11015245B2 (en) 2014-03-19 2021-05-25 Asm Ip Holding B.V. Gas-phase reactor and system having exhaust plenum and components thereof
US10941490B2 (en) 2014-10-07 2021-03-09 Asm Ip Holding B.V. Multiple temperature range susceptor, assembly, reactor and system including the susceptor, and methods of using the same
BR112017015329A2 (pt) 2015-01-20 2018-01-09 Montag Invest Llc sistema de medição para particulado sólido.
US9993779B2 (en) 2015-01-20 2018-06-12 Montag Investments, LLC Metering system for solid particulate
US9681602B2 (en) 2015-01-20 2017-06-20 Montag Investments, LLC Single particulate metering system with variable rate controls
US10088350B2 (en) 2015-01-20 2018-10-02 Montag Investments, LLC Modulated metering system
US9781878B2 (en) 2015-01-20 2017-10-10 Montag Investments, LLC Metering system with variable discharge
US10569972B2 (en) 2015-01-20 2020-02-25 Montag Investments, LLC Metering system for solid particulate
US10276355B2 (en) 2015-03-12 2019-04-30 Asm Ip Holding B.V. Multi-zone reactor, system including the reactor, and method of using the same
US10458018B2 (en) 2015-06-26 2019-10-29 Asm Ip Holding B.V. Structures including metal carbide material, devices including the structures, and methods of forming same
US10211308B2 (en) 2015-10-21 2019-02-19 Asm Ip Holding B.V. NbMC layers
US11139308B2 (en) 2015-12-29 2021-10-05 Asm Ip Holding B.V. Atomic layer deposition of III-V compounds to form V-NAND devices
US10529554B2 (en) 2016-02-19 2020-01-07 Asm Ip Holding B.V. Method for forming silicon nitride film selectively on sidewalls or flat surfaces of trenches
US10367080B2 (en) 2016-05-02 2019-07-30 Asm Ip Holding B.V. Method of forming a germanium oxynitride film
US11453943B2 (en) 2016-05-25 2022-09-27 Asm Ip Holding B.V. Method for forming carbon-containing silicon/metal oxide or nitride film by ALD using silicon precursor and hydrocarbon precursor
US10612137B2 (en) 2016-07-08 2020-04-07 Asm Ip Holdings B.V. Organic reactants for atomic layer deposition
US9859151B1 (en) 2016-07-08 2018-01-02 Asm Ip Holding B.V. Selective film deposition method to form air gaps
KR102532607B1 (ko) 2016-07-28 2023-05-15 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 가공 장치 및 그 동작 방법
US9812320B1 (en) 2016-07-28 2017-11-07 Asm Ip Holding B.V. Method and apparatus for filling a gap
US9887082B1 (en) 2016-07-28 2018-02-06 Asm Ip Holding B.V. Method and apparatus for filling a gap
US11532757B2 (en) 2016-10-27 2022-12-20 Asm Ip Holding B.V. Deposition of charge trapping layers
US10714350B2 (en) 2016-11-01 2020-07-14 ASM IP Holdings, B.V. Methods for forming a transition metal niobium nitride film on a substrate by atomic layer deposition and related semiconductor device structures
KR102546317B1 (ko) 2016-11-15 2023-06-21 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기체 공급 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치
KR20180068582A (ko) 2016-12-14 2018-06-22 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치
US11447861B2 (en) 2016-12-15 2022-09-20 Asm Ip Holding B.V. Sequential infiltration synthesis apparatus and a method of forming a patterned structure
US11581186B2 (en) 2016-12-15 2023-02-14 Asm Ip Holding B.V. Sequential infiltration synthesis apparatus
KR20180070971A (ko) 2016-12-19 2018-06-27 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치
US10269558B2 (en) 2016-12-22 2019-04-23 Asm Ip Holding B.V. Method of forming a structure on a substrate
US11390950B2 (en) 2017-01-10 2022-07-19 Asm Ip Holding B.V. Reactor system and method to reduce residue buildup during a film deposition process
US10468261B2 (en) 2017-02-15 2019-11-05 Asm Ip Holding B.V. Methods for forming a metallic film on a substrate by cyclical deposition and related semiconductor device structures
US10529563B2 (en) 2017-03-29 2020-01-07 Asm Ip Holdings B.V. Method for forming doped metal oxide films on a substrate by cyclical deposition and related semiconductor device structures
US10770286B2 (en) 2017-05-08 2020-09-08 Asm Ip Holdings B.V. Methods for selectively forming a silicon nitride film on a substrate and related semiconductor device structures
JP6899926B2 (ja) 2017-06-08 2021-07-07 ザ プロクター アンド ギャンブル カンパニーThe Procter & Gamble Company 調整可能な容積のアセンブリを使用して容器を充填する方法
EP3634864B1 (en) 2017-06-08 2021-07-21 The Procter & Gamble Company Container filling assembly
US11306395B2 (en) 2017-06-28 2022-04-19 Asm Ip Holding B.V. Methods for depositing a transition metal nitride film on a substrate by atomic layer deposition and related deposition apparatus
KR20190009245A (ko) 2017-07-18 2019-01-28 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 반도체 소자 구조물 형성 방법 및 관련된 반도체 소자 구조물
US10541333B2 (en) 2017-07-19 2020-01-21 Asm Ip Holding B.V. Method for depositing a group IV semiconductor and related semiconductor device structures
US11374112B2 (en) 2017-07-19 2022-06-28 Asm Ip Holding B.V. Method for depositing a group IV semiconductor and related semiconductor device structures
US11018002B2 (en) 2017-07-19 2021-05-25 Asm Ip Holding B.V. Method for selectively depositing a Group IV semiconductor and related semiconductor device structures
US10590535B2 (en) 2017-07-26 2020-03-17 Asm Ip Holdings B.V. Chemical treatment, deposition and/or infiltration apparatus and method for using the same
US10770336B2 (en) 2017-08-08 2020-09-08 Asm Ip Holding B.V. Substrate lift mechanism and reactor including same
US10692741B2 (en) 2017-08-08 2020-06-23 Asm Ip Holdings B.V. Radiation shield
US11769682B2 (en) 2017-08-09 2023-09-26 Asm Ip Holding B.V. Storage apparatus for storing cassettes for substrates and processing apparatus equipped therewith
US11139191B2 (en) 2017-08-09 2021-10-05 Asm Ip Holding B.V. Storage apparatus for storing cassettes for substrates and processing apparatus equipped therewith
US11830730B2 (en) 2017-08-29 2023-11-28 Asm Ip Holding B.V. Layer forming method and apparatus
US11056344B2 (en) 2017-08-30 2021-07-06 Asm Ip Holding B.V. Layer forming method
US11295980B2 (en) 2017-08-30 2022-04-05 Asm Ip Holding B.V. Methods for depositing a molybdenum metal film over a dielectric surface of a substrate by a cyclical deposition process and related semiconductor device structures
KR102491945B1 (ko) 2017-08-30 2023-01-26 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치
US10658205B2 (en) 2017-09-28 2020-05-19 Asm Ip Holdings B.V. Chemical dispensing apparatus and methods for dispensing a chemical to a reaction chamber
US10403504B2 (en) 2017-10-05 2019-09-03 Asm Ip Holding B.V. Method for selectively depositing a metallic film on a substrate
US11022879B2 (en) 2017-11-24 2021-06-01 Asm Ip Holding B.V. Method of forming an enhanced unexposed photoresist layer
KR102597978B1 (ko) 2017-11-27 2023-11-06 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 배치 퍼니스와 함께 사용하기 위한 웨이퍼 카세트를 보관하기 위한 보관 장치
US11639811B2 (en) 2017-11-27 2023-05-02 Asm Ip Holding B.V. Apparatus including a clean mini environment
US10731108B2 (en) 2017-12-01 2020-08-04 The Procter & Gamble Cincinnati Processes of making liquid detergent compositions that include zwitterionic surfactant
US10872771B2 (en) 2018-01-16 2020-12-22 Asm Ip Holding B. V. Method for depositing a material film on a substrate within a reaction chamber by a cyclical deposition process and related device structures
TWI799494B (zh) 2018-01-19 2023-04-21 荷蘭商Asm 智慧財產控股公司 沈積方法
WO2019142055A2 (en) 2018-01-19 2019-07-25 Asm Ip Holding B.V. Method for depositing a gap-fill layer by plasma-assisted deposition
US11081345B2 (en) 2018-02-06 2021-08-03 Asm Ip Holding B.V. Method of post-deposition treatment for silicon oxide film
CN111699278B (zh) 2018-02-14 2023-05-16 Asm Ip私人控股有限公司 通过循环沉积工艺在衬底上沉积含钌膜的方法
US10896820B2 (en) 2018-02-14 2021-01-19 Asm Ip Holding B.V. Method for depositing a ruthenium-containing film on a substrate by a cyclical deposition process
KR102636427B1 (ko) 2018-02-20 2024-02-13 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 방법 및 장치
US10975470B2 (en) 2018-02-23 2021-04-13 Asm Ip Holding B.V. Apparatus for detecting or monitoring for a chemical precursor in a high temperature environment
US11473195B2 (en) 2018-03-01 2022-10-18 Asm Ip Holding B.V. Semiconductor processing apparatus and a method for processing a substrate
US11629406B2 (en) 2018-03-09 2023-04-18 Asm Ip Holding B.V. Semiconductor processing apparatus comprising one or more pyrometers for measuring a temperature of a substrate during transfer of the substrate
US11114283B2 (en) 2018-03-16 2021-09-07 Asm Ip Holding B.V. Reactor, system including the reactor, and methods of manufacturing and using same
KR102646467B1 (ko) 2018-03-27 2024-03-11 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 상에 전극을 형성하는 방법 및 전극을 포함하는 반도체 소자 구조
US11088002B2 (en) 2018-03-29 2021-08-10 Asm Ip Holding B.V. Substrate rack and a substrate processing system and method
US11230766B2 (en) 2018-03-29 2022-01-25 Asm Ip Holding B.V. Substrate processing apparatus and method
TW202344708A (zh) 2018-05-08 2023-11-16 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 藉由循環沉積製程於基板上沉積氧化物膜之方法及相關裝置結構
KR102596988B1 (ko) 2018-05-28 2023-10-31 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 방법 및 그에 의해 제조된 장치
TW202013553A (zh) 2018-06-04 2020-04-01 荷蘭商Asm 智慧財產控股公司 水氣降低的晶圓處置腔室
US11718913B2 (en) 2018-06-04 2023-08-08 Asm Ip Holding B.V. Gas distribution system and reactor system including same
US11286562B2 (en) 2018-06-08 2022-03-29 Asm Ip Holding B.V. Gas-phase chemical reactor and method of using same
US10797133B2 (en) 2018-06-21 2020-10-06 Asm Ip Holding B.V. Method for depositing a phosphorus doped silicon arsenide film and related semiconductor device structures
KR102568797B1 (ko) 2018-06-21 2023-08-21 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 시스템
JP2021529254A (ja) 2018-06-27 2021-10-28 エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー 金属含有材料ならびに金属含有材料を含む膜および構造体を形成するための周期的堆積方法
KR20210027265A (ko) 2018-06-27 2021-03-10 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 금속 함유 재료를 형성하기 위한 주기적 증착 방법 및 금속 함유 재료를 포함하는 막 및 구조체
US10612136B2 (en) 2018-06-29 2020-04-07 ASM IP Holding, B.V. Temperature-controlled flange and reactor system including same
US10755922B2 (en) 2018-07-03 2020-08-25 Asm Ip Holding B.V. Method for depositing silicon-free carbon-containing film as gap-fill layer by pulse plasma-assisted deposition
US10388513B1 (en) 2018-07-03 2019-08-20 Asm Ip Holding B.V. Method for depositing silicon-free carbon-containing film as gap-fill layer by pulse plasma-assisted deposition
US11053591B2 (en) 2018-08-06 2021-07-06 Asm Ip Holding B.V. Multi-port gas injection system and reactor system including same
US11430674B2 (en) 2018-08-22 2022-08-30 Asm Ip Holding B.V. Sensor array, apparatus for dispensing a vapor phase reactant to a reaction chamber and related methods
KR20200030162A (ko) 2018-09-11 2020-03-20 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 박막 증착 방법
US11024523B2 (en) 2018-09-11 2021-06-01 Asm Ip Holding B.V. Substrate processing apparatus and method
US11049751B2 (en) 2018-09-14 2021-06-29 Asm Ip Holding B.V. Cassette supply system to store and handle cassettes and processing apparatus equipped therewith
CN110970344A (zh) 2018-10-01 2020-04-07 Asm Ip控股有限公司 衬底保持设备、包含所述设备的系统及其使用方法
US11232963B2 (en) 2018-10-03 2022-01-25 Asm Ip Holding B.V. Substrate processing apparatus and method
KR102592699B1 (ko) 2018-10-08 2023-10-23 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 지지 유닛 및 이를 포함하는 박막 증착 장치와 기판 처리 장치
KR102605121B1 (ko) 2018-10-19 2023-11-23 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법
KR102546322B1 (ko) 2018-10-19 2023-06-21 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법
USD948463S1 (en) 2018-10-24 2022-04-12 Asm Ip Holding B.V. Susceptor for semiconductor substrate supporting apparatus
US11087997B2 (en) 2018-10-31 2021-08-10 Asm Ip Holding B.V. Substrate processing apparatus for processing substrates
KR20200051105A (ko) 2018-11-02 2020-05-13 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 지지 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치
US11572620B2 (en) 2018-11-06 2023-02-07 Asm Ip Holding B.V. Methods for selectively depositing an amorphous silicon film on a substrate
US11031242B2 (en) 2018-11-07 2021-06-08 Asm Ip Holding B.V. Methods for depositing a boron doped silicon germanium film
US10818758B2 (en) 2018-11-16 2020-10-27 Asm Ip Holding B.V. Methods for forming a metal silicate film on a substrate in a reaction chamber and related semiconductor device structures
US10847366B2 (en) 2018-11-16 2020-11-24 Asm Ip Holding B.V. Methods for depositing a transition metal chalcogenide film on a substrate by a cyclical deposition process
US11217444B2 (en) 2018-11-30 2022-01-04 Asm Ip Holding B.V. Method for forming an ultraviolet radiation responsive metal oxide-containing film
KR102636428B1 (ko) 2018-12-04 2024-02-13 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치를 세정하는 방법
US11158513B2 (en) 2018-12-13 2021-10-26 Asm Ip Holding B.V. Methods for forming a rhenium-containing film on a substrate by a cyclical deposition process and related semiconductor device structures
JP2020096183A (ja) 2018-12-14 2020-06-18 エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー 窒化ガリウムの選択的堆積を用いてデバイス構造体を形成する方法及びそのためのシステム
TWI819180B (zh) 2019-01-17 2023-10-21 荷蘭商Asm 智慧財產控股公司 藉由循環沈積製程於基板上形成含過渡金屬膜之方法
KR20200091543A (ko) 2019-01-22 2020-07-31 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치
CN111524788B (zh) 2019-02-01 2023-11-24 Asm Ip私人控股有限公司 氧化硅的拓扑选择性膜形成的方法
JP2020136678A (ja) 2019-02-20 2020-08-31 エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー 基材表面内に形成された凹部を充填するための方法および装置
JP2020136677A (ja) 2019-02-20 2020-08-31 エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー 基材表面内に形成された凹部を充填するための周期的堆積方法および装置
KR102626263B1 (ko) 2019-02-20 2024-01-16 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 처리 단계를 포함하는 주기적 증착 방법 및 이를 위한 장치
KR20200102357A (ko) 2019-02-20 2020-08-31 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 3-d nand 응용의 플러그 충진체 증착용 장치 및 방법
TW202100794A (zh) 2019-02-22 2021-01-01 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 基材處理設備及處理基材之方法
KR20200108243A (ko) 2019-03-08 2020-09-17 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. SiOC 층을 포함한 구조체 및 이의 형성 방법
KR20200108242A (ko) 2019-03-08 2020-09-17 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 실리콘 질화물 층을 선택적으로 증착하는 방법, 및 선택적으로 증착된 실리콘 질화물 층을 포함하는 구조체
KR20200108248A (ko) 2019-03-08 2020-09-17 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. SiOCN 층을 포함한 구조체 및 이의 형성 방법
JP2020167398A (ja) 2019-03-28 2020-10-08 エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー ドアオープナーおよびドアオープナーが提供される基材処理装置
KR20200116855A (ko) 2019-04-01 2020-10-13 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 반도체 소자를 제조하는 방법
US11447864B2 (en) 2019-04-19 2022-09-20 Asm Ip Holding B.V. Layer forming method and apparatus
KR20200125453A (ko) 2019-04-24 2020-11-04 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기상 반응기 시스템 및 이를 사용하는 방법
KR20200130121A (ko) 2019-05-07 2020-11-18 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 딥 튜브가 있는 화학물질 공급원 용기
KR20200130118A (ko) 2019-05-07 2020-11-18 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 비정질 탄소 중합체 막을 개질하는 방법
KR20200130652A (ko) 2019-05-10 2020-11-19 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 표면 상에 재료를 증착하는 방법 및 본 방법에 따라 형성된 구조
JP2020188255A (ja) 2019-05-16 2020-11-19 エーエスエム アイピー ホールディング ビー.ブイ. ウェハボートハンドリング装置、縦型バッチ炉および方法
USD947913S1 (en) 2019-05-17 2022-04-05 Asm Ip Holding B.V. Susceptor shaft
USD975665S1 (en) 2019-05-17 2023-01-17 Asm Ip Holding B.V. Susceptor shaft
USD935572S1 (en) 2019-05-24 2021-11-09 Asm Ip Holding B.V. Gas channel plate
USD922229S1 (en) 2019-06-05 2021-06-15 Asm Ip Holding B.V. Device for controlling a temperature of a gas supply unit
KR20200141003A (ko) 2019-06-06 2020-12-17 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 가스 감지기를 포함하는 기상 반응기 시스템
KR20200143254A (ko) 2019-06-11 2020-12-23 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 개질 가스를 사용하여 전자 구조를 형성하는 방법, 상기 방법을 수행하기 위한 시스템, 및 상기 방법을 사용하여 형성되는 구조
USD944946S1 (en) 2019-06-14 2022-03-01 Asm Ip Holding B.V. Shower plate
USD931978S1 (en) 2019-06-27 2021-09-28 Asm Ip Holding B.V. Showerhead vacuum transport
KR20210005515A (ko) 2019-07-03 2021-01-14 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치용 온도 제어 조립체 및 이를 사용하는 방법
JP2021015791A (ja) 2019-07-09 2021-02-12 エーエスエム アイピー ホールディング ビー.ブイ. 同軸導波管を用いたプラズマ装置、基板処理方法
CN112216646A (zh) 2019-07-10 2021-01-12 Asm Ip私人控股有限公司 基板支撑组件及包括其的基板处理装置
KR20210010307A (ko) 2019-07-16 2021-01-27 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치
KR20210010816A (ko) 2019-07-17 2021-01-28 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 라디칼 보조 점화 플라즈마 시스템 및 방법
KR20210010820A (ko) 2019-07-17 2021-01-28 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 실리콘 게르마늄 구조를 형성하는 방법
US11643724B2 (en) 2019-07-18 2023-05-09 Asm Ip Holding B.V. Method of forming structures using a neutral beam
CN112242296A (zh) 2019-07-19 2021-01-19 Asm Ip私人控股有限公司 形成拓扑受控的无定形碳聚合物膜的方法
CN112309843A (zh) 2019-07-29 2021-02-02 Asm Ip私人控股有限公司 实现高掺杂剂掺入的选择性沉积方法
CN112309899A (zh) 2019-07-30 2021-02-02 Asm Ip私人控股有限公司 基板处理设备
CN112309900A (zh) 2019-07-30 2021-02-02 Asm Ip私人控股有限公司 基板处理设备
US11587815B2 (en) 2019-07-31 2023-02-21 Asm Ip Holding B.V. Vertical batch furnace assembly
US11587814B2 (en) 2019-07-31 2023-02-21 Asm Ip Holding B.V. Vertical batch furnace assembly
US11227782B2 (en) 2019-07-31 2022-01-18 Asm Ip Holding B.V. Vertical batch furnace assembly
KR20210018759A (ko) 2019-08-05 2021-02-18 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 화학물질 공급원 용기를 위한 액체 레벨 센서
USD965044S1 (en) 2019-08-19 2022-09-27 Asm Ip Holding B.V. Susceptor shaft
USD965524S1 (en) 2019-08-19 2022-10-04 Asm Ip Holding B.V. Susceptor support
JP2021031769A (ja) 2019-08-21 2021-03-01 エーエスエム アイピー ホールディング ビー.ブイ. 成膜原料混合ガス生成装置及び成膜装置
USD940837S1 (en) 2019-08-22 2022-01-11 Asm Ip Holding B.V. Electrode
KR20210024423A (ko) 2019-08-22 2021-03-05 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 홀을 구비한 구조체를 형성하기 위한 방법
USD979506S1 (en) 2019-08-22 2023-02-28 Asm Ip Holding B.V. Insulator
USD930782S1 (en) 2019-08-22 2021-09-14 Asm Ip Holding B.V. Gas distributor
USD949319S1 (en) 2019-08-22 2022-04-19 Asm Ip Holding B.V. Exhaust duct
KR20210024420A (ko) 2019-08-23 2021-03-05 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 비스(디에틸아미노)실란을 사용하여 peald에 의해 개선된 품질을 갖는 실리콘 산화물 막을 증착하기 위한 방법
US11286558B2 (en) 2019-08-23 2022-03-29 Asm Ip Holding B.V. Methods for depositing a molybdenum nitride film on a surface of a substrate by a cyclical deposition process and related semiconductor device structures including a molybdenum nitride film
KR20210029090A (ko) 2019-09-04 2021-03-15 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 희생 캡핑 층을 이용한 선택적 증착 방법
KR20210029663A (ko) 2019-09-05 2021-03-16 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치
US11562901B2 (en) 2019-09-25 2023-01-24 Asm Ip Holding B.V. Substrate processing method
CN112593212B (zh) 2019-10-02 2023-12-22 Asm Ip私人控股有限公司 通过循环等离子体增强沉积工艺形成拓扑选择性氧化硅膜的方法
TW202129060A (zh) 2019-10-08 2021-08-01 荷蘭商Asm Ip控股公司 基板處理裝置、及基板處理方法
KR20210043460A (ko) 2019-10-10 2021-04-21 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 포토레지스트 하부층을 형성하기 위한 방법 및 이를 포함한 구조체
KR20210045930A (ko) 2019-10-16 2021-04-27 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 실리콘 산화물의 토폴로지-선택적 막의 형성 방법
US11637014B2 (en) 2019-10-17 2023-04-25 Asm Ip Holding B.V. Methods for selective deposition of doped semiconductor material
KR20210047808A (ko) 2019-10-21 2021-04-30 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 막을 선택적으로 에칭하기 위한 장치 및 방법
US11646205B2 (en) 2019-10-29 2023-05-09 Asm Ip Holding B.V. Methods of selectively forming n-type doped material on a surface, systems for selectively forming n-type doped material, and structures formed using same
KR20210054983A (ko) 2019-11-05 2021-05-14 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 도핑된 반도체 층을 갖는 구조체 및 이를 형성하기 위한 방법 및 시스템
US11501968B2 (en) 2019-11-15 2022-11-15 Asm Ip Holding B.V. Method for providing a semiconductor device with silicon filled gaps
KR20210062561A (ko) 2019-11-20 2021-05-31 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판의 표면 상에 탄소 함유 물질을 증착하는 방법, 상기 방법을 사용하여 형성된 구조물, 및 상기 구조물을 형성하기 위한 시스템
CN112951697A (zh) 2019-11-26 2021-06-11 Asm Ip私人控股有限公司 基板处理设备
KR20210065848A (ko) 2019-11-26 2021-06-04 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 제1 유전체 표면과 제2 금속성 표면을 포함한 기판 상에 타겟 막을 선택적으로 형성하기 위한 방법
CN112885692A (zh) 2019-11-29 2021-06-01 Asm Ip私人控股有限公司 基板处理设备
CN112885693A (zh) 2019-11-29 2021-06-01 Asm Ip私人控股有限公司 基板处理设备
JP2021090042A (ja) 2019-12-02 2021-06-10 エーエスエム アイピー ホールディング ビー.ブイ. 基板処理装置、基板処理方法
KR20210070898A (ko) 2019-12-04 2021-06-15 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치
CN112992667A (zh) 2019-12-17 2021-06-18 Asm Ip私人控股有限公司 形成氮化钒层的方法和包括氮化钒层的结构
KR20210080214A (ko) 2019-12-19 2021-06-30 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 상의 갭 피처를 충진하는 방법 및 이와 관련된 반도체 소자 구조
KR20210095050A (ko) 2020-01-20 2021-07-30 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 박막 형성 방법 및 박막 표면 개질 방법
TW202130846A (zh) 2020-02-03 2021-08-16 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 形成包括釩或銦層的結構之方法
TW202146882A (zh) 2020-02-04 2021-12-16 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 驗證一物品之方法、用於驗證一物品之設備、及用於驗證一反應室之系統
US11776846B2 (en) 2020-02-07 2023-10-03 Asm Ip Holding B.V. Methods for depositing gap filling fluids and related systems and devices
US11781243B2 (en) 2020-02-17 2023-10-10 Asm Ip Holding B.V. Method for depositing low temperature phosphorous-doped silicon
KR20210116249A (ko) 2020-03-11 2021-09-27 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 록아웃 태그아웃 어셈블리 및 시스템 그리고 이의 사용 방법
KR20210116240A (ko) 2020-03-11 2021-09-27 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 조절성 접합부를 갖는 기판 핸들링 장치
KR20210117157A (ko) 2020-03-12 2021-09-28 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 타겟 토폴로지 프로파일을 갖는 층 구조를 제조하기 위한 방법
KR20210124042A (ko) 2020-04-02 2021-10-14 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 박막 형성 방법
TW202146689A (zh) 2020-04-03 2021-12-16 荷蘭商Asm Ip控股公司 阻障層形成方法及半導體裝置的製造方法
TW202145344A (zh) 2020-04-08 2021-12-01 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 用於選擇性蝕刻氧化矽膜之設備及方法
US11821078B2 (en) 2020-04-15 2023-11-21 Asm Ip Holding B.V. Method for forming precoat film and method for forming silicon-containing film
KR20210132605A (ko) 2020-04-24 2021-11-04 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 냉각 가스 공급부를 포함한 수직형 배치 퍼니스 어셈블리
KR20210132600A (ko) 2020-04-24 2021-11-04 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 바나듐, 질소 및 추가 원소를 포함한 층을 증착하기 위한 방법 및 시스템
US11898243B2 (en) 2020-04-24 2024-02-13 Asm Ip Holding B.V. Method of forming vanadium nitride-containing layer
KR20210134226A (ko) 2020-04-29 2021-11-09 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 고체 소스 전구체 용기
KR20210134869A (ko) 2020-05-01 2021-11-11 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. Foup 핸들러를 이용한 foup의 빠른 교환
KR20210141379A (ko) 2020-05-13 2021-11-23 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 반응기 시스템용 레이저 정렬 고정구
KR20210143653A (ko) 2020-05-19 2021-11-29 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치
KR20210145078A (ko) 2020-05-21 2021-12-01 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 다수의 탄소 층을 포함한 구조체 및 이를 형성하고 사용하는 방법
TW202201602A (zh) 2020-05-29 2022-01-01 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 基板處理方法
TW202218133A (zh) 2020-06-24 2022-05-01 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 形成含矽層之方法
TW202217953A (zh) 2020-06-30 2022-05-01 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 基板處理方法
TW202219628A (zh) 2020-07-17 2022-05-16 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 用於光微影之結構與方法
TW202204662A (zh) 2020-07-20 2022-02-01 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 用於沉積鉬層之方法及系統
US11725280B2 (en) 2020-08-26 2023-08-15 Asm Ip Holding B.V. Method for forming metal silicon oxide and metal silicon oxynitride layers
USD990534S1 (en) 2020-09-11 2023-06-27 Asm Ip Holding B.V. Weighted lift pin
USD1012873S1 (en) 2020-09-24 2024-01-30 Asm Ip Holding B.V. Electrode for semiconductor processing apparatus
TW202229613A (zh) 2020-10-14 2022-08-01 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 於階梯式結構上沉積材料的方法
TW202217037A (zh) 2020-10-22 2022-05-01 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 沉積釩金屬的方法、結構、裝置及沉積總成
TW202223136A (zh) 2020-10-28 2022-06-16 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 用於在基板上形成層之方法、及半導體處理系統
TW202235675A (zh) 2020-11-30 2022-09-16 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 注入器、及基板處理設備
CN114639631A (zh) 2020-12-16 2022-06-17 Asm Ip私人控股有限公司 跳动和摆动测量固定装置
TW202231903A (zh) 2020-12-22 2022-08-16 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 過渡金屬沉積方法、過渡金屬層、用於沉積過渡金屬於基板上的沉積總成
USD980813S1 (en) 2021-05-11 2023-03-14 Asm Ip Holding B.V. Gas flow control plate for substrate processing apparatus
USD980814S1 (en) 2021-05-11 2023-03-14 Asm Ip Holding B.V. Gas distributor for substrate processing apparatus
USD981973S1 (en) 2021-05-11 2023-03-28 Asm Ip Holding B.V. Reactor wall for substrate processing apparatus
USD990441S1 (en) 2021-09-07 2023-06-27 Asm Ip Holding B.V. Gas flow control plate

Family Cites Families (77)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2729061A (en) * 1952-06-04 1956-01-03 Bendix Aviat Corp Fuel-air ratio control system for a ram-jet engine
US2927871A (en) * 1956-03-26 1960-03-08 Bethlehem Steel Corp Control of pickling baths
US3081069A (en) * 1959-09-14 1963-03-12 Et Oakes Corp Mixing apparatus
US3097764A (en) 1960-02-09 1963-07-16 Union Carbide Corp Proportioning system
US3565286A (en) 1968-10-18 1971-02-23 Cryogenic Technology Inc Liquid programming and pumping apparatus
US3572959A (en) * 1969-05-01 1971-03-30 American Standard Inc Coupling controller
US3674177A (en) 1970-10-07 1972-07-04 Honeywell Inc Indicating means for an automatic dispenser control system
US3675901A (en) 1970-12-09 1972-07-11 Phillips Petroleum Co Method and apparatus for mixing materials
US3882799A (en) * 1971-12-10 1975-05-13 Thermasan Corp Waste disposal system and method
US3847375A (en) 1972-10-12 1974-11-12 Basf Ag Method and apparatus for mixing liquids
US4015366A (en) * 1975-04-11 1977-04-05 Advanced Decision Handling, Inc. Highly automated agricultural production system
US4170319A (en) 1977-05-31 1979-10-09 Massachusetts Institute Of Technology Apparatus for controlling fluid flow in a fluid delivery and mixing system utilizing positive displacement devices
US4209258A (en) * 1978-02-14 1980-06-24 Oakes W Peter Automatic continuous mixer apparatus
CA1096630A (en) 1978-05-26 1981-03-03 David J. Tookey Static mixer
FI59494C (fi) * 1979-05-31 1981-08-10 Antti Niemi Foerfarande och anordning foer processreglering
US4222448A (en) * 1979-06-29 1980-09-16 Owens-Corning Fiberglas Corporation Automatic batch weighing system
US4328549A (en) * 1980-01-11 1982-05-04 Olin Corporation Process flow computer control system
US4390822A (en) * 1981-07-31 1983-06-28 Bernard Wechsler Ratio control system
US4586825A (en) 1982-06-22 1986-05-06 Asadollah Hayatdavoudi Fluid agitation system
US4493286A (en) 1983-07-25 1985-01-15 Koppers Company, Inc. Method and apparatus for applying a multi-component adhesive
US4869595A (en) 1983-08-01 1989-09-26 James M. Montgomery, Consulting Engineers, Inc. Hydraulic diffusion flash mixing
US4571319A (en) 1984-04-05 1986-02-18 General Motors Corporation Method and apparatus for producing polymer articles having different properties in different regions of the articles
FR2577658B1 (fr) 1985-02-14 1987-03-06 Alsthom Atlantique Dispositif d'homogeneisation d'un fluide transporte dans une canalisation
JPS6298001A (ja) 1985-10-23 1987-05-07 Nikki Denso Kk 油圧出力制御機構
US4668097A (en) * 1985-11-01 1987-05-26 Magnetic Peripherals Inc. Epoxy mixing system
NO157510C (no) 1985-11-29 1988-03-30 Nodest Vei As Fremgangsmaate og anordning for blanding av grusmaterialer og bitumen.
JPS62152018A (ja) * 1985-12-25 1987-07-07 Yokogawa Electric Corp 混合制御装置
US4794806A (en) * 1987-02-13 1989-01-03 Nicoli David F Automatic dilution system
US5011293A (en) * 1989-10-12 1991-04-30 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army Emulsifier mixing cell
EP0452530A1 (de) * 1990-04-20 1991-10-23 BRAN + LUEBBE GmbH Mischvorrichtung
US5228594A (en) 1990-11-30 1993-07-20 Aeroquip Corporation Metered liquid dispensing system
US5423607A (en) 1991-05-03 1995-06-13 Dolco Packaging Corp. Method for blending diverse blowing agents
DE59204320D1 (de) 1991-07-30 1995-12-21 Sulzer Chemtech Ag Einmischvorrichtung kleiner Fluidmengen.
CA2107523C (en) 1993-10-01 2004-05-04 Gary D. Langeman Plural component delivery system
AUPM657894A0 (en) 1994-06-30 1994-07-21 Hood, Max George Method and apparatus for cement blending
US5670854A (en) 1994-12-14 1997-09-23 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Control system for an induction motor
US5590976A (en) * 1995-05-30 1997-01-07 Akzo Nobel Ashpalt Applications, Inc. Mobile paving system using an aggregate moisture sensor and method of operation
US5547275A (en) * 1995-08-17 1996-08-20 Dart Industries Inc. Shaker and blender
EP0766996B1 (de) * 1995-10-05 2000-03-08 Sulzer Chemtech AG Mischeinrichtung zum Mischen eines niedrigviskosen Fluids in ein hochviskoses Fluid
US5818719A (en) * 1995-12-29 1998-10-06 Kimberly-Clark, Worldwide, Inc. Apparatus for controlling the registration of two continuously moving layers of material
JP3354411B2 (ja) * 1996-10-31 2002-12-09 株式会社日立ユニシアオートモティブ 直噴式ガソリン内燃機関の燃料噴射制御装置
US5996650A (en) * 1996-11-15 1999-12-07 Oden Corporation Net mass liquid filler
US5857589A (en) 1996-11-20 1999-01-12 Fluid Research Corporation Method and apparatus for accurately dispensing liquids and solids
GB9624729D0 (en) 1996-11-28 1997-01-15 Smeaton Ian Fluid injection device
US6220747B1 (en) 1997-08-14 2001-04-24 Michael Gosselin Proportional pump system for viscous fluids
US6120172A (en) 1998-11-09 2000-09-19 General Electric Company System and method for providing raw mix proportioning control in a cement plant
US6113256A (en) 1998-11-09 2000-09-05 General Electric Company System and method for providing raw mix proportioning control in a cement plant with a fuzzy logic supervisory controller
SE512949C2 (sv) * 1999-04-15 2000-06-12 Haegglund Konsult Ab Reglersystem och förfarande för kvotstyrning jämte användning av ett reglersystem
US6331317B1 (en) 1999-11-12 2001-12-18 Alkermes Controlled Therapeutics Ii Inc. Apparatus and method for preparing microparticles
EP1250634B1 (en) * 2000-01-11 2014-05-07 Therakos, Inc. System and apparatus for proportioning fluid flow
US6675901B2 (en) * 2000-06-01 2004-01-13 Schlumberger Technology Corp. Use of helically wound tubular structure in the downhole environment
US7905653B2 (en) * 2001-07-31 2011-03-15 Mega Fluid Systems, Inc. Method and apparatus for blending process materials
KR100746414B1 (ko) * 2000-07-31 2007-08-03 셀레리티 인크. 공정 재료의 배합 방법 및 장치
US6550960B2 (en) 2000-10-11 2003-04-22 The Procter & Gamble Company Apparatus for in-line mixing and process of making such apparatus
DE60227441D1 (de) * 2001-03-27 2008-08-21 Nissan Motor Vorrichtung und Verfahren zur Steuerung des Luft-Kraftstoff-Verhältnises einer Brennkraftmaschine
US6591697B2 (en) * 2001-04-11 2003-07-15 Oakley Henyan Method for determining pump flow rates using motor torque measurements
US6712496B2 (en) 2001-07-26 2004-03-30 The Procter & Gamble Company Auger fed mixer apparatus and method of using
US6743006B2 (en) 2001-11-09 2004-06-01 The Procter & Gamble Company Die for extruding flowable materials and having a static mixer therein
JP2003200332A (ja) 2001-12-27 2003-07-15 Fanuc Ltd 歯車加工用制御装置
US6776584B2 (en) * 2002-01-09 2004-08-17 Itt Manufacturing Enterprises, Inc. Method for determining a centrifugal pump operating state without using traditional measurement sensors
US6793192B2 (en) 2002-03-04 2004-09-21 The Procter & Gamble Company Process of making integral three-dimensional articles, and mold for making such articles
US6740281B2 (en) 2002-03-04 2004-05-25 The Procter & Gamble Company Three-dimensional articles of indeterminate axial length
US6799882B2 (en) * 2002-05-01 2004-10-05 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Mixing apparatus for injecting fluid into a gas stream
US7344298B2 (en) * 2002-07-19 2008-03-18 Celerity, Inc. Method and apparatus for blending process materials
JP2004108183A (ja) * 2002-09-17 2004-04-08 Denso Corp 内燃機関の空燃比制御装置
US7351749B2 (en) * 2002-12-16 2008-04-01 Unilever Home & Personal Care Usa, Division Of Conopco, Inc. Process for manufacture of personal care products utilizing a concentrate water phase
US20040116539A1 (en) 2002-12-16 2004-06-17 Unilever Home & Personal Care Usa, Division Of Conopco, Inc. Late variant addition process for personal care products
US6863475B2 (en) * 2003-04-30 2005-03-08 Shell Oil Company Apparatus for injecting fluids
CN1798602A (zh) 2003-06-02 2006-07-05 陶氏康宁公司 用于制备成分和色彩均匀的液体硅树脂弹性体的设备
US7066724B2 (en) 2003-07-11 2006-06-27 Urethane International Llc Apparatus for flatproofing a tire and wheel assembly
US7026772B2 (en) 2004-01-14 2006-04-11 International Rectifier Corporation Position sensorless drive for permanent magnet synchronous motors
US20070044824A1 (en) 2005-09-01 2007-03-01 Scott William Capeci Processing system and method of processing
US20080031085A1 (en) 2005-09-01 2008-02-07 Mclaughlin Jon K Control system for and method of combining materials
US8240908B2 (en) 2005-09-01 2012-08-14 The Procter & Gamble Company Control system for and method of combining materials
US20070047384A1 (en) 2005-09-01 2007-03-01 Mclaughlin Jon K Control system for and method of combining materials
US8616760B2 (en) 2005-09-01 2013-12-31 The Procter & Gamble Company Control system for and method of combining materials
US7945411B2 (en) * 2006-03-08 2011-05-17 Itt Manufacturing Enterprises, Inc Method for determining pump flow without the use of traditional sensors

Also Published As

Publication number Publication date
US20070047384A1 (en) 2007-03-01
EP1920303A2 (en) 2008-05-14
WO2007026316A3 (en) 2007-10-18
CN101288034B (zh) 2011-08-03
BRPI0615949A2 (pt) 2011-05-31
JP2009507290A (ja) 2009-02-19
US8616761B2 (en) 2013-12-31
RU2399082C2 (ru) 2010-09-10
CA2620339C (en) 2015-02-17
MX2008003040A (es) 2008-03-25
AR057112A1 (es) 2007-11-14
US20100046321A1 (en) 2010-02-25
WO2007026316A2 (en) 2007-03-08
ZA200801714B (en) 2009-10-28
ZA200801952B (en) 2009-08-26
EP1920303B1 (en) 2018-04-25
JP5068756B2 (ja) 2012-11-07
CN101288034A (zh) 2008-10-15
CA2620339A1 (en) 2007-03-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2008106490A (ru) Способ и устройство для смешивания материалов и устройство управления смешиванием материалов
DE60144057D1 (de) Homeotropische orientierungsschicht
ATE344019T1 (de) Selbstemulgierende wirkstofformulierung und verwendung dieser formulierung
EP0754675A3 (de) Dentalmaterialien auf der Basis von flüssig-kristallinen Monomeren
ATE323143T1 (de) Polymere, flüssige erdverfestigungszusammensetzung und verfahren zu deren gebrauch
ATE524040T1 (de) Schleifenleistungssteuerung für offene und geschlossene schleifen mit differenzialmessung
JPS5915350B2 (ja) 塩化ビニル共重合体の水性分散液を含有する水硬性建材組成物
DE69507174D1 (de) Wasserbeständige Gipszusammensetzung und Emulsion zu ihrer Herstellung
RU2008151429A (ru) Способ управления и управляющая система для клапана регулирования расхода
DE69532529D1 (de) Klonierung und regulation eines rezeptors fur endothelialzell-protein c/ aktiviertes protein c
Metzger Effects of temperature on stream aeration
EA199800334A1 (ru) Повторно диспергируемая в воде порошкообразная композиция пленкообразующих полимеров, полученных из этиленненасыщенных мономеров
PT1261822E (pt) Valvula misturadora com regulacao de temperatura
DE60012923D1 (de) Steuerung der schmelzenhöhe zur züchtung halbleitermaterialen aus einer schmelze
DE60335329D1 (de) Redispergierbares Kunststoffpulver
KR850000968A (ko) 피부 보호 조성물의 제조 방법
DE60043050D1 (de) Mittels kalk verbesserter grundmörtel, verfahren z mithilfe desselben
DK103589D0 (da) Polymerpraeparat til frembringelse af kompatibilitet mellem mindst to uforligelige termoplastiske polymerer og fremgangsmaade til fremstilling af termoplastiske legeringer dermed
WO2002008138A3 (en) Cement fluid loss additive
SE0004072D0 (sv) Styrning av metallflöde
Berger et al. Phase field modeling applied to reactive air brazing: Investigating reaction kinetics with focus on oxygen exchange
JPS57103017A (en) Method for controlling rate of supply of liquid, powder, granule or their mixture
Koak et al. Upper-critical-solution-temperature behavior of the system polystyrene+ methylcyclohexane. Influence of CO2 on the liquid-liquid equilibria
Canosa et al. Dynamic viscosities of the binary mixtures (methyl acetate or methanol+ 2-methyl-2-butanol) and the ternary mixtures (methyl acetate+ methanol+ 2-propanol, or 2-butanol, or 2-methyl-2-butanol) atT= 298.15 K
Ohgaku et al. Investigation of Interaction between a Dislocation and a Br—Ion in NaCl: Br—Single Crystals

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A The patent is invalid due to non-payment of fees

Effective date: 20120831