RU2007145711A - Светочувствительная полимерная композиция - Google Patents

Светочувствительная полимерная композиция Download PDF

Info

Publication number
RU2007145711A
RU2007145711A RU2007145711/04A RU2007145711A RU2007145711A RU 2007145711 A RU2007145711 A RU 2007145711A RU 2007145711/04 A RU2007145711/04 A RU 2007145711/04A RU 2007145711 A RU2007145711 A RU 2007145711A RU 2007145711 A RU2007145711 A RU 2007145711A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
units
polymer composition
photosensitive polymer
thermoplastic elastomer
composition according
Prior art date
Application number
RU2007145711/04A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2376619C2 (ru
Inventor
Масахиро ФУДЗИВАРА (JP)
Масахиро ФУДЗИВАРА
Кендзи ДОИ (JP)
Кендзи ДОИ
Есифуми АРАКИ (JP)
Есифуми АРАКИ
Казуеси ЯМАЗАВА (JP)
Казуеси ЯМАЗАВА
Original Assignee
Асахи Касеи Кемикалз Корпорейшн (Jp)
Асахи Касеи Кемикалз Корпорейшн
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Асахи Касеи Кемикалз Корпорейшн (Jp), Асахи Касеи Кемикалз Корпорейшн filed Critical Асахи Касеи Кемикалз Корпорейшн (Jp)
Publication of RU2007145711A publication Critical patent/RU2007145711A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2376619C2 publication Critical patent/RU2376619C2/ru

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/033Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/106Binder containing

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Graft Or Block Polymers (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)

Abstract

1. Светочувствительная полимерная композиция, содержащая, по меньшей мере, термопластичный эластомер (a), фотополимеризуемый эластомер (b) и инициатор фотополимеризации (c), характеризующаяся тем, что термопластичный эластомер (a) содержит, по меньшей мере, звенья винилового ароматического углеводорода, звенья бутадиена и звенья алкилена, причем содержит звенья алкилена в количестве не менее 5 мас.% и не более 80 мас.% относительно общего количества звеньев бутадиена и звеньев алкилена. ! 2. Светочувствительная полимерная композиция по п.1, характеризующаяся тем, что термопластичный эластомер (a) содержит звенья алкилена в количестве не менее 10 мас.% и не более 50 мас.% относительно общего количества звеньев бутадиена и звеньев алкилена. ! 3. Светочувствительная полимерная композиция по п.1, характеризующаяся тем, что термопластичный эластомер (a) содержит звенья алкилена в количестве не менее 10 мас.% и не более 40 мас.% относительно общего количества звеньев бутадиена и звеньев алкилена. ! 4. Светочувствительная полимерная композиция согласно п.1, характеризующаяся тем, что термопластичный эластомер (a) содержит полимерный блок, в основном состоящий из звеньев винилового ароматического углеводорода, и полимерный блок, в основном состоящий из звеньев бутадиена и звеньев алкилена, а также содержит звенья алкилена в количестве не менее 5 мас.% и не более 80 мас.% относительно общего количества звеньев бутадиена и звеньев алкилена. ! 5. Светочувствительная полимерная композиция согласно п.1, характеризующаяся тем, что термопластичный эластомер (a) получен гидрированием полимерного блока, в основном состоящего из звеньев винилового

Claims (14)

1. Светочувствительная полимерная композиция, содержащая, по меньшей мере, термопластичный эластомер (a), фотополимеризуемый эластомер (b) и инициатор фотополимеризации (c), характеризующаяся тем, что термопластичный эластомер (a) содержит, по меньшей мере, звенья винилового ароматического углеводорода, звенья бутадиена и звенья алкилена, причем содержит звенья алкилена в количестве не менее 5 мас.% и не более 80 мас.% относительно общего количества звеньев бутадиена и звеньев алкилена.
2. Светочувствительная полимерная композиция по п.1, характеризующаяся тем, что термопластичный эластомер (a) содержит звенья алкилена в количестве не менее 10 мас.% и не более 50 мас.% относительно общего количества звеньев бутадиена и звеньев алкилена.
3. Светочувствительная полимерная композиция по п.1, характеризующаяся тем, что термопластичный эластомер (a) содержит звенья алкилена в количестве не менее 10 мас.% и не более 40 мас.% относительно общего количества звеньев бутадиена и звеньев алкилена.
4. Светочувствительная полимерная композиция согласно п.1, характеризующаяся тем, что термопластичный эластомер (a) содержит полимерный блок, в основном состоящий из звеньев винилового ароматического углеводорода, и полимерный блок, в основном состоящий из звеньев бутадиена и звеньев алкилена, а также содержит звенья алкилена в количестве не менее 5 мас.% и не более 80 мас.% относительно общего количества звеньев бутадиена и звеньев алкилена.
5. Светочувствительная полимерная композиция согласно п.1, характеризующаяся тем, что термопластичный эластомер (a) получен гидрированием полимерного блока, в основном состоящего из звеньев винилового ароматического углеводорода, и полимерного блока, в основном состоящего из звеньев бутадиена.
6. Светочувствительная полимерная композиция согласно п.1, характеризующаяся тем, что количество звеньев винилового ароматического углеводорода в термопластичном эластомере (a) составляет не менее 10 мас.% и не более 40 мас.%.
7. Светочувствительная полимерная композиция согласно п.1, характеризующаяся тем, что количество звеньев бутадиена с ненасыщенными связями в 1,2-позициях, содержащихся в термопластичном эластомере (a), составляет не менее 1 мас.% и не более 70 мас.%.
8. Светочувствительная полимерная композиция согласно п.1, характеризующаяся тем, что количество звеньев бутадиена и звеньев бутилена с ненасыщенными связями в 1,2-позициях, содержащихся в термопластичном эластомере (a), находится в диапазоне от не менее 20 мас.% до не менее 80 мас.%.
9. Светочувствительная полимерная композиция согласно п.1, характеризующаяся тем, что светочувствительная полимерная композиция содержит термопластичный эластомер (a) в количестве не менее 10 мас.% и не более 85 мас.%, фотополимеризуемый ненасыщенный мономер (b) в количестве не менее 0,5 мас.% и не более 50 мас.% и инициатор фотополимеризации (c) в количестве не менее 0,1 мас.% и не более 45 мас.% при просуммированных количествах термопластичного эластомера (a), фотополимеризуемого ненасыщенного мономера (b) и инициатора фотополимеризации (c).
10. Светочувствительная полимерная композиция согласно п.1, характеризующаяся тем, что светочувствительная полимерная композиция содержит каучук с сопряженными диенами, содержащий звенья с ненасыщенными связями в 1,2-позициях в количестве не менее 40 мол.% и имеющий вязкость не более 2000 Па·с при 30°C.
11. Светочувствительная полимерная композиция согласно п.10, характеризующаяся тем, что все виды каучуков с сопряженными ненасыщенными связями в светочувствительной полимерной композиции содержат звенья с ненасыщенными связями в 1,2-позициях в количестве, в среднем, не менее 40 мол.% и имеют вязкость не более 2000 Па·с при 30°C.
12. Светочувствительная полимерная композиция согласно п.1, характеризующаяся тем, что светочувствительная полимерная композиция содержит каучук с сопряженными диенами, который имеет вязкость не более 2000 Па·с при 30°C, в количестве не менее 4 мас.ч. и не более 40 мас.ч. относительно 100 мас.ч. суммарного количества термопластичного эластомера (a), фотополимеризуемого ненасыщенного эластомера (b) и инициатора фотополимеризации (с).
13. Необработанная пластина для флексографии, имеющая слой, содержащий светочувствительную полимерную композицию согласно пп.1-12.
14. Необработанная пластина для флексографии согласно п.13, дополнительно содержащая слой, защищающий от ультрафиолетового излучения, расположенный на слое светочувствительной полимерной композиции.
RU2007145711/04A 2005-05-11 2006-04-28 Светочувствительная полимерная композиция RU2376619C2 (ru)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005138108 2005-05-11
JP2005-138108 2005-05-11
JP2005-300275 2005-10-14
JP2005300275 2005-10-14

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2007145711A true RU2007145711A (ru) 2009-06-20
RU2376619C2 RU2376619C2 (ru) 2009-12-20

Family

ID=37396444

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2007145711/04A RU2376619C2 (ru) 2005-05-11 2006-04-28 Светочувствительная полимерная композиция

Country Status (6)

Country Link
US (1) US7785765B2 (ru)
EP (1) EP1881370B1 (ru)
JP (1) JP4482032B2 (ru)
BR (1) BRPI0614073A2 (ru)
RU (1) RU2376619C2 (ru)
WO (1) WO2006120935A1 (ru)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4748812B2 (ja) * 2005-11-21 2011-08-17 旭化成イーマテリアルズ株式会社 フレキソ印刷版
DE102007006378A1 (de) * 2007-02-08 2008-08-14 Flint Group Germany Gmbh Fotopolymerisierbare zylindrische endlos-nahtlose Flexodruckelemente und daraus hergestellte harte Flexodruckformen
JP5553826B2 (ja) * 2009-04-10 2014-07-16 日本曹達株式会社 耐溶剤性に優れるフレキソ印刷用感光性樹脂組成物
JP5697461B2 (ja) * 2011-01-17 2015-04-08 ユニチカ株式会社 ポリエステルフィルム、および感光性樹脂構造体
JP6121189B2 (ja) * 2013-02-14 2017-04-26 旭化成株式会社 印刷版用感光性樹脂組成物
US9678429B2 (en) 2015-08-18 2017-06-13 Macdermid Printing Solutions, Llc Method of creating hybrid printing dots in a flexographic printing plate

Family Cites Families (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3803457A1 (de) 1988-02-05 1989-08-17 Basf Ag Flaechenfoermiges lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial
US4894315A (en) * 1988-08-30 1990-01-16 E. I. Du Pont De Nemours And Company Process for making flexographic printing plates with increased flexibility
JPH0480068A (ja) * 1990-07-23 1992-03-13 Dainippon Printing Co Ltd 共巻熱転写シート
US5135837A (en) * 1990-09-05 1992-08-04 E. I. Du Pont De Nemours And Company Photosensitive elastomeric element having improved solvent resistance
US5603872A (en) * 1991-02-14 1997-02-18 Baxter International Inc. Method of binding recognizing substances to liposomes
TW209877B (ru) * 1991-11-04 1993-07-21 Shell Internat Res Schappej B V
JPH06194833A (ja) * 1992-12-25 1994-07-15 Toyo Ink Mfg Co Ltd 感光性樹脂組成物、その製造方法及びフレキソ印刷用原版
US5397822A (en) * 1993-08-18 1995-03-14 General Electric Company Thermoplastic compositions containing polyphenylene ether resin and characterized by improved elongation and flexibility employing a blend of multiblock copolymers
JPH07271031A (ja) * 1994-03-28 1995-10-20 Japan Synthetic Rubber Co Ltd 感光性樹脂組成物
JP3510393B2 (ja) 1994-08-10 2004-03-29 シエル・インターナシヨナル・リサーチ・マートスハツペイ・ベー・ヴエー 光硬化性エラストマー組成物から得られるフレキソグラフ印刷プレート
JPH1031303A (ja) * 1994-09-29 1998-02-03 Nippon Zeon Co Ltd 感光性組成物及び感光性ゴム版
JPH0940728A (ja) * 1995-07-31 1997-02-10 Nippon Paint Co Ltd 変性ブロック共重合体およびその応用
DE19628541A1 (de) 1996-07-16 1998-01-22 Du Pont Deutschland Strahlungsempfindliche Zusammensetzung und ein diese enthaltendes strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial
JPH10221850A (ja) * 1997-02-12 1998-08-21 Nippon Paint Co Ltd 水現像性感光組成物及びその製造方法
DE19715169A1 (de) * 1997-04-11 1998-10-15 Basf Drucksysteme Gmbh Lichtempfindliches Gemisch und daraus hergestelltes Aufzeichungungsmaterial
JP4080068B2 (ja) 1997-09-16 2008-04-23 旭化成ケミカルズ株式会社 フレキソ印刷版用感光性構成体
EP0908778B1 (en) 1997-09-16 2002-11-27 Asahi Kasei Kabushiki Kaisha Photosensitive element for flexographic printing
JP4044687B2 (ja) 1998-11-24 2008-02-06 旭化成ケミカルズ株式会社 感光性エラストマー組成物
AU2001250391A1 (en) 2000-03-16 2001-09-24 Kraton Polymers Research B.V. Polymeric composition
US6720373B2 (en) * 2001-07-13 2004-04-13 Dow Corning Corporation High solids emulsions of curable elastomeric polymers
JP5058431B2 (ja) * 2002-10-23 2012-10-24 株式会社クラレ 硬化性樹脂組成物および該硬化性樹脂組成物を用いたフレキソ印刷版材
EP1555571B1 (en) 2002-10-23 2009-01-14 Kuraray Co., Ltd. Cured material and flexographic plate using the same
US20040234886A1 (en) 2003-03-12 2004-11-25 Rudolph Michael Lee Photosensitive element for use as flexographic printing plate
US7241540B2 (en) * 2004-04-27 2007-07-10 Kraton Polymers U.S. Llc Photocurable compositions and flexographic printing plates comprising the same

Also Published As

Publication number Publication date
WO2006120935A1 (ja) 2006-11-16
JP4482032B2 (ja) 2010-06-16
JPWO2006120935A1 (ja) 2008-12-18
BRPI0614073A2 (pt) 2016-11-01
EP1881370B1 (en) 2012-09-19
US7785765B2 (en) 2010-08-31
EP1881370A4 (en) 2010-03-24
EP1881370A1 (en) 2008-01-23
RU2376619C2 (ru) 2009-12-20
US20090068593A1 (en) 2009-03-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2007145711A (ru) Светочувствительная полимерная композиция
KR100753261B1 (ko) 광경화성 조성물 및 이를 함유하는 플렉소그래피 인쇄판
US8703382B2 (en) Photosensitive resin composition for flexographic printing having excellent solvent resistance
JP4748812B2 (ja) フレキソ印刷版
KR100607582B1 (ko) 광경화성 중합체 조성물 및 이를 함유한 플렉서 인쇄판
JP4675334B2 (ja) フレキソ印刷用感光性樹脂組成物
EP1676879A3 (en) Dynamic vulcanization of non-nitrile rubbers in fluoroplastic polymers
TW200510935A (en) Photopolymerizable compositions and flexographic printing plates derived therefrom
EP2006737A9 (en) Photosensitive resin composition for flexographic printing
TWI401297B (zh) 光硬化性組成物
KR910018176A (ko) 광경화성 부재 및 그로 부터 제조된 플렉소그래픽 인쇄판
JP2013245256A (ja) エラストマー組成物
KR20110066857A (ko) 감방사선성 수지 조성물, 및 액정 표시 소자용의 스페이서 및 그 형성 방법
CA2502204A1 (en) Curable resin composition and flexographic plate material using the same
GB2064151A (en) Photopolymerisable composition
WO2001090818A1 (en) Process for preparing flexographic printing plates
EP1498454A4 (en) THERMOPLASTIC ELASTOMER COMPOSITION, SHEETS AND CORRESPONDING LAMINATES
WO2020105259A9 (ja) 水現像性フレキソ印刷原版
JPWO2019130784A1 (ja) フレキソ印刷版原版
US20210070087A1 (en) Block copolymer for photosensitive printing plate material having excellent abrasion resistance and method for producing same
TW200504142A (en) Transparent flexible composition
JP2013028681A (ja) 光硬化性樹脂組成物及びシール材
CN116909061A (zh) 液晶密封剂、液晶显示面板的制造方法及液晶显示面板
TH44181A (th) ไฮโดรจีเนเทดบล็อคโคพอลิเมอร์
TH59228B (th) ไฮโดรจีเนเทดบล็อคโคพอลิเมอร์

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A The patent is invalid due to non-payment of fees

Effective date: 20120429