RU2002127780A - Способ очистки октафторпропана, способ его получения и его применения - Google Patents
Способ очистки октафторпропана, способ его получения и его примененияInfo
- Publication number
- RU2002127780A RU2002127780A RU2002127780/04A RU2002127780A RU2002127780A RU 2002127780 A RU2002127780 A RU 2002127780A RU 2002127780/04 A RU2002127780/04 A RU 2002127780/04A RU 2002127780 A RU2002127780 A RU 2002127780A RU 2002127780 A RU2002127780 A RU 2002127780A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- octafluoropropane
- purification
- impurities
- crude
- decomposing agent
- Prior art date
Links
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims 2
- QYSGYZVSCZSLHT-UHFFFAOYSA-N Octafluoropropane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F QYSGYZVSCZSLHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 27
- 229960004065 perflutren Drugs 0.000 claims 27
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims 18
- 238000000746 purification Methods 0.000 claims 9
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims 8
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N Iron(III) oxide Chemical compound O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 7
- 229910000460 iron oxide Inorganic materials 0.000 claims 6
- 150000001341 alkaline earth metal compounds Chemical class 0.000 claims 4
- HCDGVLDPFQMKDK-UHFFFAOYSA-N Hexafluoropropylene Chemical compound FC(F)=C(F)C(F)(F)F HCDGVLDPFQMKDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 claims 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims 3
- VOPWNXZWBYDODV-UHFFFAOYSA-N Chlorodifluoromethane Chemical compound FC(F)Cl VOPWNXZWBYDODV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- RFCAUADVODFSLZ-UHFFFAOYSA-N Chloropentafluoroethane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)Cl RFCAUADVODFSLZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 239000004340 Chloropentafluoroethane Substances 0.000 claims 2
- AFYPFACVUDMOHA-UHFFFAOYSA-N Chlorotrifluoromethane Chemical compound FC(F)(F)Cl AFYPFACVUDMOHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- PXBRQCKWGAHEHS-UHFFFAOYSA-N Dichlorodifluoromethane Chemical compound FC(F)(Cl)Cl PXBRQCKWGAHEHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 239000004338 Dichlorodifluoromethane Substances 0.000 claims 2
- 235000019406 chloropentafluoroethane Nutrition 0.000 claims 2
- 229940042935 dichlorodifluoromethane Drugs 0.000 claims 2
- 235000019404 dichlorodifluoromethane Nutrition 0.000 claims 2
- 239000008187 granular material Substances 0.000 claims 2
- 239000002808 molecular sieve Substances 0.000 claims 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims 2
- 229910001860 alkaline earth metal hydroxide Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910000287 alkaline earth metal oxide Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 claims 1
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium(0) Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 claims 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 claims 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 claims 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims 1
- 238000003682 fluorination reaction Methods 0.000 claims 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxyl anion Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 1
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 claims 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 1
- CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N strontium Chemical compound [Sr] CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 1
Claims (20)
1. Способ очистки октафторпропана, включающий стадию приведения неочищенного октафторпропана, содержащего примеси, в контакт с агентом, разлагающим примеси, при повышенной температуре, а затем с адсорбентом, чтобы по существу удалить указанные примеси из указанного неочищенного октафторпропана.
2. Способ очистки октафторпропана по п.1, отличающийся тем, что указанный агент, разлагающий примеси, включает оксид железа и соединение щелочноземельного металла.
3. Способ очистки октафторпропана по п.2, отличающийся тем, что указанный оксид железа представляет собой оксид железа (III).
4. Способ очистки октафторпропана по п.3, отличающийся тем, что указанный оксид железа (III) представляет собой γ-гидроксиоксид железа и/или γ-оксид железа (III).
5. Способ очистки октафторпропана по любому из пп.2-4, отличающийся тем, что указанное соединение щелочноземельного металла представляет собой по меньшей мере одно соединение, выбранное из группы, состоящей из оксидов, гидроксидов и карбонатов щелочноземельных металлов магния, кальция, стронция и бария.
6. Способ очистки октафторпропана по любому из пп.1-5, отличающийся тем, что указанный агент, разлагающий примеси, содержит от 5 до 40 мас.% оксида железа и от 60 до 95 мас.% соединения щелочноземельного металла, в расчете на полную массу агента, разлагающего примеси.
7. Способ очистки октафторпропана по любому из пп.1-6, отличающийся тем, что указанный агент, разлагающий примеси, представляет собой гранулы, включающие порошок указанного оксида железа со средним размером частиц 100 мкм или менее и порошок указанного соединения щелочноземельного металла со средним размером частиц 100 мкм или менее.
8. Способ очистки октафторпропана по любому из пп.1-7, отличающийся тем, что указанный агент, разлагающий примеси, представляет собой гранулы со средним размером частиц от 0,5 до 10 мм.
9. Способ очистки октафторпропана по любому из пп.1-8, отличающийся тем, что указанный неочищенный октафторпропан приводят в контакт с указанным агентом, разлагающим примеси, при температуре от 250 до 380°С.
10. Способ очистки октафторпропана по любому из пп.1-9, отличающийся тем, что указанный адсорбент представляет собой по меньшей мере одно вещество, выбранное из группы, состоящей из активированного угля, молекулярных сит и углеродных молекулярных сит.
11. Способ очистки октафторпропана по любому из пп.1-10, отличающийся тем, что указанный неочищенный октафторпропан содержит указанные примеси в количестве от 10 до 10000 м.д. по массе.
12. Способ очистки октафторпропана по п.11, отличающийся тем, что указанные примеси представляют собой по меньшей мере одно соединение, выбранное из группы, состоящей из хлорпентафторэтана, гексафторпропена, хлортрифторметана, дихлордифторметана и хлордифторметана.
13. Способ очистки октафторпропана по п.12, отличающийся тем, что после того, как примеси по существу удалены, концентрация примесей, оставшихся в октафторпропане, составляет менее, чем 1 м.д. по массе.
14. Способ получения октафторпропана, включающий стадии получения неочищенного октафторпропана, содержащего примеси, и приведения указанного неочищенного октафторпропана в контакт с агентом, разлагающим примеси, при повышенной температуре, а затем с адсорбентом, с получением октафторпропана, из которого примеси по существу удалены.
15. Способ получения октафторпропана по п.14, отличающийся тем, что стадия получения неочищенного октафторпропана, содержащего примеси, представляет собой фторирование гексафторпропена.
16. Способ получения октафторпропана по п.14 или 15, отличающийся тем, что указанная примесь представляет собой по меньшей мере одно соединение, выбранное из группы, состоящей из хлорпентафторэтана, гексафторпропена, хлортрифторметана, дихлордифторметана и хлордифторметана.
17. Октафторпропан, содержащий менее чем 0,0001% по массе соединений хлора и имеющий чистоту 99,9999% по массе или более.
18. Газ, включающий октафторпропан по п.17.
19. Травильный газ, включающий газ по п.18.
20. Очищающий газ, включающий газ по п.18.
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001-6458 | 2001-01-15 | ||
| JP2001006458A JP4767422B2 (ja) | 2001-01-15 | 2001-01-15 | オクタフルオロプロパンの精製方法および製造方法並びにその用途 |
| US60/264,320 | 2001-01-29 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2002127780A true RU2002127780A (ru) | 2004-04-10 |
| RU2245317C2 RU2245317C2 (ru) | 2005-01-27 |
Family
ID=18874345
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2002127780/04A RU2245317C2 (ru) | 2001-01-15 | 2002-01-11 | Способ очистки октафторпропана |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4767422B2 (ru) |
| RU (1) | RU2245317C2 (ru) |
| TW (1) | TWI299036B (ru) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007176842A (ja) * | 2005-12-27 | 2007-07-12 | Showa Denko Kk | オクタフルオロプロパンの製造方法 |
| CN105092759A (zh) * | 2015-08-11 | 2015-11-25 | 苏州优谱德精密仪器科技有限公司 | 用于石油化工的气质联用分析设备 |
| CN113877313B (zh) * | 2021-10-25 | 2022-06-17 | 上海杰视医疗科技有限公司 | 一种医用级全氟丙烷的纯化装置及纯化方法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| ATE108429T1 (de) * | 1988-11-22 | 1994-07-15 | Du Pont | Verfahren zur reinigung von gesättigten halokohlenwasserstoffen. |
| JPH0656713A (ja) * | 1991-04-27 | 1994-03-01 | Hoechst Ag | クロロフルオロ炭化水素の精製方法 |
-
2001
- 2001-01-15 JP JP2001006458A patent/JP4767422B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2002
- 2002-01-11 RU RU2002127780/04A patent/RU2245317C2/ru not_active IP Right Cessation
- 2002-01-14 TW TW91100393A patent/TWI299036B/zh not_active IP Right Cessation
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR20200096846A (ko) | 포름알데히드 산화를 촉진하기 위한 망가니즈 촉매 및 그의 제조 및 용도 | |
| AU2002252500B2 (en) | Method of absorbing metals and organic compounds from vaporous streams | |
| RU2245316C2 (ru) | Способ очистки октафторциклобутана, способ его получения и его применения | |
| EP1351908B1 (en) | Process for preparing octafluoropropane | |
| US6921519B2 (en) | Decomposition of fluorine containing compounds | |
| JP2581642B2 (ja) | エッチング排ガス除害剤及び排ガス処理方法 | |
| RU2002127780A (ru) | Способ очистки октафторпропана, способ его получения и его применения | |
| JP3340510B2 (ja) | 有害ガスの浄化方法 | |
| CN1751011A (zh) | 纯化(氢)卤化碳的方法 | |
| US7691351B2 (en) | Method for treatment of a gas stream containing silicon tetrafluoride and hydrogen chloride | |
| KR20200135655A (ko) | 산성 가스 제거용 흡착제 및 이의 제조방법 | |
| WO2022059301A1 (ja) | オクタフルオロシクロブタンの精製方法 | |
| RU2245317C2 (ru) | Способ очистки октафторпропана | |
| KR100684201B1 (ko) | 불소 포함 배기가스의 처리방법 및 이의 방법을 사용하기위한 흡착 컬럼 장치 | |
| JP2004202421A (ja) | 有害ガスの浄化方法 | |
| JP3908819B2 (ja) | フロンの回収方法 | |
| JP3502424B2 (ja) | エッチング排ガスの処理剤 | |
| JPH0999216A (ja) | 有害ガスの浄化剤 | |
| KR100338322B1 (ko) | 반도체 제조공정에서 발생되는 불화수소 가스의 정화방법 | |
| JP2004181300A (ja) | 酸化性ガス及び酸性ガスの処理剤並びに該処理剤を用いた無害化方法 | |
| JP2005081328A (ja) | ハロゲンガス吸収材、ハロゲンガスの除去方法およびハロゲンガス処理装置 | |
| JPH11276883A (ja) | 塩化水素吸着剤とその製造・再生方法及び塩化水素除去方法 | |
| JPS62279824A (ja) | 希ガスハライドエキシマ−レ−ザ−ガスの精製法 | |
| RU2091363C1 (ru) | Способ очистки галогенуглеводородов этанового ряда | |
| JP3051002B2 (ja) | ＨＣＦＣ−１４１ｂ回収方法 |