TWI299036B - - Google Patents

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TWI299036B
TWI299036B TW91100393A TW91100393A TWI299036B TW I299036 B TWI299036 B TW I299036B TW 91100393 A TW91100393 A TW 91100393A TW 91100393 A TW91100393 A TW 91100393A TW I299036 B TWI299036 B TW I299036B
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impurities
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Minako Horiba
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Showa Denko Kk
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1299036 A7 B7 五、發明説明(1) 發明技術領域 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本覓) 本發明係有關八氟化丙烷之精製方法、高純度八氟化 丙院之製造方法、高純度八氟化丙烷及其用途。 發明技術背景 目前半導體裝置製造過程中,爲了構成半導體回路而 於各種薄膜材料上形成回路圖型的方法之一爲,利用氣體 蝕刻薄膜材料以去除部分材料,又,爲了去除薄膜形成過 程中附著於反應容器內等之薄膜原料,而利用淸潔氣體等 去除附著物。該半導體裝置製造過程中適用的蝕刻氣體或 淸潔氣體之一爲,目前之八氟化丙烷(以下稱爲「FC -2 18」)° 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 另外,近年來隨著電器、電子機器的高性能化、小型 化、高密度配線化等,回路基板有電極微細化之傾向,又 ,爲了使蝕刻等方法進行更高精準度之回路圖型成形,而 需求能極力排除不純物之高純度蝕刻氣體。既使蝕刻氣體 僅含微量不純物,仍會成爲微細圖型形成時產生較寬幅線 ,或增加具有高密度集成回路之製品缺陷的要因。 又,利用淸潔氣體去除附著物之過程中,爲了提供高 純度、品質之裝置,需儘可能減少淸潔後半導體裝置製造 過程中殘留不純物,因此需求實質不含不純物之高純度淸 潔氣體。. 目前已知之製造F C - 2 1 8的方法如,將1 一氯化 丙烷電解氟化之方法(美國專利第3 7 0 9 8 0 0號公報 本紙張尺度適用中.國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐)
GC944B 1299036 A7 B7 五、發明説明(2 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) )、三氟五氯化丙烷與三氟化錳反應(美國專利第 2 5 7 8 7 2 1號公報)、丙烷或丙烯等與氟化氫及氯反 應之方法(美國專利第5 2 0 0 8 3號公報)等。但,前 述方法均使用含氯化合物原料等,因此會生成含氯化合物 之副產物,而混入F C - 2 1 8中成爲不純物。 又,使用不含氯之原料製造FC-218的方法如, 將丙烷電解氟化之方法(美國專利第3 8 4 0 0 4 4 5號 公報)等,但裝置極複雜且收穫率低,故不利於工業生產 〇 已知之將六氟丙烷(以下稱爲「FC — 12 16」) 氟化以製造F C - 2 1 8之方法如,利用不活性氣體及反 應生成氣體稀釋下,使F C - 1 2 1 6與氟氣反應之方法 (特公昭6 2 — 6 1 6 8 2號公報)、於氟化氫中將f C —1 2 1 6電解氟化之方法(特公昭6 2 — 6 1 1 1 5號 公報)、使含三氟化鈷、三氟化錳及二氟化銀中所選出至 少一種之高級次金屬氟化物反應的方法(特公昭 62-54777號公報)等。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 已知之製造F C — 1 2 1 6的方法如,利用氯二氟化 甲院(以下稱爲「H C F C - .2 2」)熱分解之製造方法 ’或將碳數3之過鹵化氯氟化碳氟化後進行脫鹵化,而製 121 6之方法(美國專利第5057634號 公報)等。 但,上述F C — 1 2 1 6之製造方法一般使用含氯化 合物之原料,因此所得F c- 1 2 1 6中一般含有含氯化 003447 — 本.·,氏張尺度適用中國國家標準(CNS ) M規格(21〇><297公釐) -5- 1299036 A7 ____B7 五、發明説明(3 ) 合物之不純物,結果以F C - 1 2 1 6爲原料製得之F c —2 1 8中含有未反應FC-1 2 1 6及含氯化合物。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁} 因此需由F C - 2 1 8去除含氯化合物或未反應 一 1 2 1 6等氟化碳不純物。 其例如,由F C - 2 1 8蒸餾去除等。即,基於ρ c 一 2 1 8所含不純物之沸點不同於F C - 2 1 8理論,而 能進行蒸餾分離。但,如表1所示般,不純物混入量多, 且其中氯五氟化乙烷(以下稱爲「CFC— 1 1 5」、 FC— 1216、二氯二氟化甲烷(以下稱爲「CFC — 1 2」)及H C F C - 2 2之沸點近似f c — 2 1 8,故 利用蒸餾分離不純物時,非常難得到高純度F C 一 2 1 8 表1 化合物名 構造式 沸點(°c ) 八氟化丙烷(FC-218) CF3CF2CF3 -36.7 氯五氟化乙烷(CFC-115) CCIF2CF3 -38.7 六氟化丙烯(FC-1216) CF3CF = CF2 -31 二氯二氟化甲烷(CFC-12) CC12F2 -29.8 氯二氟化甲烷(HCFC-22) CHC1F2 -41 因此有萃取蒸餾法、膜分離法、吸附分離法等蒸餾分 離以外之精製方法。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 但,萃取蒸餾法會有設備成本高、過程複雜等問題, -6 - 1299036 Α7 Β7 五、發明説明(4 ) 又,目前並無具備F C - 2 1 8與不純物分離時所需特性 之適當且實用的膜,故膜分離法很難將F C - 2 1 8中不 純物含量高純度精製爲1質量p p m以下。 如表2所示般,FC — 218與FC— 115、FC - 1 2 1 6之分子徑(安定型構造時之計算値)幾乎無差別, 且F C - 2 1 8與不純物無沸點差,又,F C - 2 1 8與 不純物之構造及物性相似,因此使用已知之吸附劑,例如 活性碳、矽膠、沸石(分子篩)、分子篩分離碳(以下稱 爲「M S C」)等吸附劑之吸附分離法,很難將不純物高 純度精製。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁} 訂
表2 化合物名 分子徑(計算値) 八氟化丙烷(FC-218) 4.9 〜6·1 A 氯五氟化乙烷(CFC-115) 4.3 〜5.6 A 六氟化丙烷(FCM216) 4.9〜5·9 A 經濟部智慧財產局員工消費合作社印制 其中雖可利用活性碳及M S C等吸附去餘不純物之一 的FC— 1 2 1 6,但很難分離FC— 1 1 5等含氯化合 物。 故以目前精製方法很難得到F C - 1 1 5等氯化合物 等之氟化碳不純物含量低於1質量P P m的高純度F C -2 18° 爲了解決上述問題,經本發明者們專心硏究後發現, -7 - 1299036 A7 __ B7 五、發明説明(5 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 將含有氯化合物等不純物之粗八氟化丙烷接觸含有氧化鐵 及鹼土類金屬化合物之不純物分解劑後,再接觸吸附劑時 ,易實質去除不純物。 具體而言即,將含有CFC - 1 1 5、 FC-1216、CFC— 12、CFC— 13 (氯三贏 化甲烷)、H C F C - 2 2等氟化碳不純物例如1 〇至 10,000質量ppm的FC — 2 18接觸不純物分解 劑後,再接觸吸附劑時,可將不純物減至低於1質量 ppm之FC-2 18精製方法,而完成本發.明。 發明目的 爲了解決目前技術所產生之問題,本發明之目的爲, 提供一種能實質由含不純物之粗八氟化丙烷去除不純物的 八氟化丙烷精製方法。 又,本發明之目的爲,含上述精製步驟之八氟化丙烷 製造方法、高純度八氟化丙烷及其用途。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 發明槪.要 本發明之八氟化丙烷精製方法的特徵爲,加熱下將含 不純物之粗八氟化丙院接觸不純物分解劑後,再接觸吸附 著,而由粗八氟化丙烷實質去除不純物。 該不純物分解劑較佳爲,由氧化鐵及鹼土類金屬化合 物所形成。 該氧化鐵又以三氧化二鐵爲佳,又,該三氧化二鐵較 本^周國家標準(CNS ) M規格(21〇X297公釐) 8 1299036 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明説明(6 ) 佳爲r -氫氧化氧化鐵及/或r -三氧化二鐵。 鹼土類金屬化合物較佳爲,鎂、鈣、緦及鋇中任何一 種鹼土類金屬之氧化物、氫氧化物及碳酸鹽中所選出至少 ~種。 該不純物分解劑中,對不純物分解劑之氧化鐵含量較 佳爲5至40質量%,鹼土類金屬化合物含量較佳爲60 至Θ 5質量%。 不純物分解劑又以平均粒徑1 0 〇 # m以下之氧化鐵 粉末及,平均粒徑1 0 0 // m以下之鹼土類金屬化合物粉 末所形成的粒劑爲佳。 該不純物分解劑之粒劑較佳爲,平均粒徑0 · 5至 1 0 m m 〇 又,粗八氟化丙烷接觸不純物分解劑之溫度較佳爲 2 5 0 °C 至 3 8 0。。。 吸附劑較佳爲,活性碳、分子篩及分子篩分離碳中所 選出至少1種。 粗八氟化丙烷之不純物含量可爲1 0至1 0,000 質量ρ p m。 不純物較佳爲,氯五氟化乙烷、六氟化丙烯、氯三氟 化甲烷、二氯二氯化甲烷及氯二氟化甲烷中所選出至少一 種之化合物。 實質去除不純物之八氟化丙烷中殘留的不純物濃度可 低於1質量P P m。 本發明之八氟化丙烷製造方法的特徵爲,製造含不純 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本辦件&|卷1中國國家標準(匚奶)八4規格(210'/297公董) -9 - 1299036 A7 _B7 五、發明説明(7 ) 物之粗八氟化丙烷後,加熱下將粗八氟化丙烷接觸不純物 分解劑,再接觸吸附劑,而得實質去除不純物之八氟化丙 烷。 該含不純物之粗八氟化丙烷的製造步驟可爲,將六氟 化丙烯氟化。又,不純物可爲氯五氟化乙烷、六氟化丙烯 、氯三氟化甲烷、二氯二氟化甲烷及二氟化甲烷中所選出 至少一種之化合物。 本發明之八氟化丙烷的特徵爲,氯化合物含量低於 0·0001質量%,且純度爲99·9999質量%以 上。 本發明之氣體的特徵爲,含有上述八氟化丙烷。 本發明之蝕刻氣體的特徵爲,由上述氣體所形成。 本發明之淸潔氣體的特徵爲,由上述氣體所形成。 發明之具體說明 〔精製方法〕 本發明之八氟化丙烷精製方法爲,加熱下將含不純物 之粗八氟化丙烷接觸不純物分解劑後,再接觸吸附劑,而 由粗八氟化丙烷實質去除不純物之方法。下面將先詳細說 明該精製方法。又,本說明書中,粗八氟化丙烷係指,未 經本發明之精製步驟的含不純物之八氟化丙烷。該實質去 除係指,全部不含或幾乎未含不純物。 不純物分解劑 本紙張尺度適用中國男L家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 0094^Γ -ίο- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁} *1^^. -訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1299036 Α7 Β7 五、發明説明(8 ) 本發明又以使用氧化鐵及鹼土類金屬化合物所形成之 不純物分解劑爲佳。 該氧化鐵如,氧化亞鐵、三氧化二鐵等,其中又以三 氧化二鐵爲佳。三氧化二鐵中又以r — F e〇〇H ( r — 氫氧化氧化鐵)、r 一 Fe2〇3 (r —氧化鐵)爲佳,更 佳爲γ — Fe〇〇:H〇 又,該氧化鐵可單獨使用或複數倂用。 推測7 — F e〇〇H或γ — F e2〇3比a — F e2〇3 更適用之原因係與氧化鐵活性有關。即,τ — F e〇〇Η 或r - F e 2 Ο 3具有較高反應性,且對氯化合物之活性依 序爲,r — Fe〇〇H>r — Fe2〇3>a — Fe〇〇H > F e 2〇3》α _ F e 2〇3。又,推測對氯化合物之活性 差異係因,r-Fe〇〇H或r — Fe2〇3中鐵原子與氧 原子之鍵結能比r 一 F e〇〇Η等小。 本發明所使用之鹼土類金屬化合物較佳爲,鹼土類金 屬之氫氧化物、氧化物或碳酸鹽。該鹼土類金屬如,鎂、 鈣、緦或鋇。 該鹼土類金屬化合物又以鈣之氫氧化物或氧化物爲佳 ,更佳爲氫氧化鈣。又,可單獨使用或複數倂用。 本發明所使用之不純物分解劑中,對不純物分解劑全 質量之上述氧化鐵含量爲5至40質量%,鹼土類金屬化 合物含量爲6 0至9 5質量%,又以氧化鐵2 0至3 0質 量%、鹼土類金屬化合物7 0至8 0質量%爲佳。 當不純物分解劑中,氧化鐵及鹼土類金屬化合物之含 本紙張尺〇^37魯5瀋標準(匚奶)八4規格(210\297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -11 - 1299036 A7 B7 五、發明説明(9 ) 量爲上述範圍時,如後述般可有效進行不純物分解及去除 不純物分解所產生之分解生成物,又,能極限活用氧化鐵 及鹼土類金屬化合物特性,而進行有效率精製。 構成不純物分解劑之氧化鐵及鹼土類金屬化合物形狀 並無特別限制,但各自較佳爲粒子狀。氧化鐵及驗土類金 屬之形狀爲松子狀時,添加則,即未形成不純物分解劑之 前,其平均粒子徑又以各自1 0 0 // m以下爲佳,更佳爲 1 ◦ // m以下,特佳爲1 // m以下,又,其下限値較佳爲 0 · 〇1 至 100//1T1,更佳爲 0 _ 〇1 至 lOym,特 佳爲0 · 01至l//m。 氧化鐵及鹼土類金屬化合物之粒子平均粒徑爲1 〇 〇 // m以下時,可得更高純度之八氟化丙烷及有效率進行精 製。其因推測爲,當不純物分解劑接觸不純物時,會因氧 化鐵及驗土類金屬化合物爲微粉狀,而能增加比表面積且 氧化鐵及鹼土類金屬化合物相互間易分散,故可增加含不 純物之粗八氟化丙烷與氧化鐵及鹼土類金屬的接觸面積及 機會。 於不影響粗八氟化丙烷中不純物之分解能力下,氧化 鐵及鹼土類金屬化合物中不純物濃度及不純物種類並無特 別限制。 又,不純物分解劑之形狀並無限定,可爲任何能有效 進行精製之形狀,但以粒子形狀之不純物分解劑粒劑爲佳 。該粒劑之具體形狀如,顆粒狀、球狀等。粒劑之平均粒 徑較佳爲〇 · 5至1 0 m m,更佳爲1至5 m m。 本紙.國家標準(CNS ) Α4規格(210父297公釐了 ---ί--1------ (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) ,ιτ 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -12- 1299036 A7 B7 五、發明説明(10) 粒劑之平均粒徑爲上述範圍時,可增加粗八氟化丙烷 所含氟化碳等不純物與不純物分解劑之接觸機會,且有效 率進行不純物分解及去除。不純物分解劑之平均粒徑大於 1 0 m m時,相對地會減少有關氣體吸附擴散之表面積, 而減緩擴散速度,又,小於〇 . 5 m m時,相對地會增加 有關吸附擴散之表面積,而加速擴散速度,但會增加處理 用氣體量及差壓。 由氧化鐵及鹼土類金屬化合物形成不純物分解劑之製 法可爲,添加氧化鐵及鹼土類金屬化合物粉末後混合,並 無限定。製造粒劑(造粒)時,只需依上述添加比率加水 即可充分造粒。又,氧化鐡或鹼金屬化合物之粒徑較粗時 ,可添加水及粘合劑進行造粒。不影響所得不純物分解劑 之性能下,所使用之粘合劑的種類及量並無限定,可爲無 機系粘合劑,例如粘土、石膏等,或有機系粘合劑,例如 甲基纖維素、聚乙烯醇、澱粉等已知之物。 該粒狀不純物分解劑之製法如,混合氧化鐵及鹼土類 金屬化合物後,加入適量的水混煉,再將混煉物造粒,而 得粒狀粒劑。 調製粒劑所需之混煉機可同時進行混合及造粒,或分 開進行混合及造粒。該混煉機如,同時進行混合及造粒用 之漢氏混合機、縱型混合機等,或利用漢氏混合機、V型 混合機等混合後,再利用皿型造粒機、鼓式造粒機等造粒 〇 爲了提高所得粒劑之硬度較佳爲,於空氣或氮氣等不 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 衣·
、1T 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1299036 A7 B7 五、發明説明(11) 活性氣體氣流中,以1 0 0至1 5 0 t乾燥3至5小時, 以使水分蒸發。又,乾燥後不純物分解劑所含水分量可利 用風環乾燥機,以1 1 0 °C乾燥2至3小時,而減量爲1 質量%以下。 使用不純物分解劑係因,粗八氟化丙烷中氟化碳等不 純物會與不純物分解劑中鹼土類金屬化合物反應而分解。 即,C F C - 1 1 5之不純物會與不純物分解劑中鹼土類 金屬之氫氧化物、氧化物或碳酸鹽反應,而生成鹼土類金 屬之氟化物及氯化物,且生成一氧化碳及水等。其後所生 成之一氧化碳及水會與觸媒用之鐵反應,而生成氫或甲烷 。因此,連續反應下,CFC—115中氯會受所生成之 水取代,而得五氟化乙烷(以下稱爲「HFC - 125」 )。又,同樣反應機構下,可由CFC — 11 5生成FC —1 1 14。即,例如由CFC — 1 1 5生成HFC-1 2 5後,可將H F脫離H F C - 1 2 5 ,而得F C — 1 1 1 4。所生成之氧化碳的分子徑小於C F C - 1 1 5 (分子徑4 . 3至5 · 6Α),例如HFC - 125之分 子徑爲3·4至4·9Α、 FC-1114之分子徑爲 3 · 5至4 · 9Α時,因與八氟化丙烷之分子徑(4 . 9 至6 · 1 A )的分子徑差比C F C - 1 1 5與八氟化丙烷 之分子徑差更明顯,故接觸不純物分解劑後接觸吸附劑時 易去除,。又,八氟化丙烷爲較安定之化合物,因此,例如 加熱至2 5 0 C至3 8 0 C下接觸不純物分解劑,亦不會 分解。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 一 009456 -14- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1299036 A7 _______ 五、發明説明(12) 吸附劑 本發明之精製方法爲,加熱下將粗八氟化丙烷接觸不 純物分解劑後,再接觸吸附劑。 所使用之吸附劑可爲已知之吸附劑,較佳如活性碳、 沸石(分子篩)或分子篩分離碳等。又,所使用之活性碳 、分子篩分離碳等可經酸處理、熱處理、水蒸氣處理等前 處理。 又以具有4 A至7 A之細孔徑的分子篩、分子篩分離 碳爲佳,更佳爲分子篩分離碳5 A。 該吸附劑可爲市售之物,又,可單獨使用或複數倂用 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 粗八氟化丙烷之精製方法 本發明之八氟化丙烷精製方法係由,加熱下將含不純 物之粗八氟化丙烷接觸不純物分解劑之步驟(精製步驟1 )及,接觸吸附劑之步驟(精製步驟2 )所構成。適用本 發明精製方法之粗八氟化丙烷可爲,已知方法製得之物或 市售物。 (精製步驟1 ) 利用不純物分解劑之粗八氟化丙烷中氟化碳等不純物 的分解反應操作例如,將不純物分解劑塡入分解反應器中 ,再將粗八氟化丙烷供給分解反應器,而使粗八氟化丙烷 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 009457 -15- 1299036 A7 B7 五、發明説明(彳3) 接觸不純物分解劑,又,接觸方法並無特別限制,較佳如 ,利用固定床之流通法進行連續操作等。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 反應壓力可於加壓或不加壓下利用一般易處理之壓力 處理,但以表壓0至2MP a爲佳,更佳爲〇至IMP a ο 分解反應器之大小(容積)及空間速度,於粗八氟化 丙烷與不純物分解劑之間具有某程度接觸時間下,並無特 別限制,但分解反應器中粗八氟化丙烷之滯留時間較佳設 疋爲1至30 s e c,更佳爲4至30 s e c。 分解反應器中分解反應溫度較佳爲2 5 0 °C至3 8 0 °C,更佳爲2 8 0 °C至3 6 0 °C。分解反應溫度爲該範圍 時,不會產生不純物分解劑分解,而可維持其活性。當分 解反應溫度低於2 5 0 °C時,因無法提高不純物分解劑之 活性而難進行分解,又,分解反應溫度超過3 8 0 °C時, 熱會造成不純物分解劑本身分解,而無法進行粗八氟化丙 烷中不純物分解。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 (精製步驟2 ) 將精製步驟1所生成或殘留之氟化碳等不純物再接觸 吸附劑以實質去除後,可得高純度之八氟化丙烷。 吸附操作方式例如將吸附劑塡入吸附塔中,再供給分 解反應後之粗八氟化丙烷。此時所使用之吸附操作方法並 無限定,可使用已知之方法,較佳如,利用固定床之流通 法進行連續操作。 本紙笔各國家標準(CNS ) A4規格(210X297公 -16- 1299036 A7 A7 B7 五、發明説明(14) 將精製步驟1所得之粗八氟化丙烷接觸吸附劑時,可 爲氣相或液相。但,氣相接觸法之線速度較佳爲1至1 〇 m / m i η,更佳爲1至5 m /m i η,液相接觸法之線 速度較佳爲0 · 2至5m/Hr,更佳爲〇 · 5至2m/ Hr 〇 壓力可爲,以一般易處理之壓力處理,無需特別加壓 ,較佳爲表壓0至2 Μ P a。 吸附操作溫度可爲一般室溫程度,無需加溫或冷卻。 當吸附劑具有飽和吸附能時,可再生使用。此時所使 用之吸附劑再生法可爲,將高溫之氮氣等不活性氣體通過 吸附劑,而使吸附劑所吸附之氟化碳等不純物及八氟化丙 烷脫離。 吸附劑再生用之不活性氣體溫度中,使用沸石鹼吸附 劑時較佳爲2 0至6 0 0 t,使用活性碳及分子篩分離碳 吸附劑時較佳爲1 0 0至4 0 0 °C。 〔八氟化丙烷之製造方法〕 本發明適用之製造方法可爲,製造粗八氟化丙烷後, 組合使用上述精製方法。具體而言即,製造粗八氟化丙烷 後,組合使用精製步驟1及精製步驟2。 該粗八氟化丙烷之合成方法並無限定,可採用已知之 方法。例如利用上述將1 -氯化丙烷電解氟化之方法(美 國專利第3 7 0 9 8 0 〇號公報)、使三氟五氯化丙烷與 三氟化錳反應(美國專利第2 5 7 8 7 2 1號公報)、使 本矣國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
、1T 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -17- 1299036 A7 B7 五、發明説明(15) 丙烷或丙烯等與氟化氫及氯反應之方法(美國專利第 5 2 0 0 8 3號公報)等已知方法,製造粗八氟化丙烷。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 又,含不純物之粗八氟化丙烷的製造步驟可採用,將 六氟化丙嫌氟化而製造粗八氟化丙院之方法。例如,可利 用不活性氣體及反應生成氣體稀釋下,使F c 一 1 2 1 6 與氟氣反應之方法(特公昭6 2 - 6 1 6 8 2號公報)、 於氟化氫中將F C - 1 2 1 6電解氟化之方法(特公昭 6 2 - 6 1 1 1 5號)、使含有三氟化鈷、三氟化錳及二 氟化銀中所選出至少一種之高次金屬氟化物反應之方法( 特公昭6 2 - 5 4 7 7 7號公報)等已知方法,製造粗八 氟化丙烷。 其後針所得粗八氟化丙烷進行上述精製步驟1及精製 步驟2,可得實質去除不純物之八氟化丙烷。 〔高純度八氟化丙烷〕 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 利用本發明之精製方法,可有效去除粗八氟化丙烷中 氟化碳等不純物,特別是氯五氟化乙烷(C F C - 1 1 5 )、六氟化丙烯(FC - 1216)、二氯二氟化甲烷( CFC— 12)、氯三氟化甲烷(CFC— 13)、氯二 氟化甲烷(HCFC - 22)等,又,特別是能實質去除 目前精製方法難去除之CFC — 1 1 5、CFC— 1 2、 CFC - 13、HCFC - 22等氯化合物不純物,因此 可得局純度八氟化丙院。 粗八氟化丙烷所含之不純物含量一般爲1 0至 -18- 本紙張^0為;|^^1家標準(€奶)八4規格(21〇/297公釐) 1299036 A7 B7 五、發明説明(16) 10, 0 0 0質量P P m,但,利用本發明之精製方法可 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 將八氟化丙烷中所含之不純物去除至低於1質量P P m ( 0 · 0 0 0 1質量% ),而使精製後所得八氟化丙烷之純 度爲99. 9999質量%以上。 該八氟化丙烷純度之定義爲,由1 0 0質量%減去八 氟化丙烷以外之氟化碳成分的差値。又,可利用(1 )氣 相色譜(G C )之T C D法、F I D法(均含有預切法) 、E C D法或(2 )氣相色譜質量分析計(G C □ M S ) 等分析機器進行純度9 9 · 9 9 9 9質量%以上八氟化丙 烷製品分析。 〔用途〕 因本發明之精製方法或製造方法所得的八氟化丙烷可 實質去除不純物,故適用爲半導體裝置製造步驟中,蝕刻 步驟之蝕刻氣體。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 具體而S即,適用爲L S I或T F Τ等半導體之製造 過程中,利用濺射法或鍍著法等形成薄膜或厚膜後,形成 回路圖型用蝕刻氣體。 又,適用爲半導體裝置製造步驟中,淸潔步驟之淸潔 氣體。 具體而曰即,去除薄膜或厚膜形成用裝置中,裝置內 壁、夾具等堆積不要的堆積物用之淸潔步驟。該不要之堆 積物係產生微片之原因,因此製造良質膜時.需隨時去除, 又以本發明之八氟化丙烷作爲淸潔氣體爲佳。 本續國家標準(格(2獻297公釐)---—-- -19- 1299036 A7 B7 五、發明説明(17) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本發明之氣體爲,含有高純度八氟化丙烷之氣體。該 氣體可單獨含有八氟化丙烷,或另含有適當的其他氣體。 該其他氣體如,H e、N e、A r、〇2等,又,其添加量 並無特別限定,例如以本發明之高純度八氟化丙烷作爲蝕 刻氣體或淸潔氣體時,會因蝕刻對象之化合物種類、厚度 等而異,且可因應淸潔對象之附著量、厚度等作決定。 發明效果 利用本發明之八氟化丙烷精製方法或製造方法,可實 質去除目前難去除之氯化合物等不純物,而易得高純度八 氟化丙烷。又,本發明精製方法所製得之八氟化丙烷實質 不含不純物,故適用爲半導體裝置製造流程等之鈾刻氣體 或淸潔氣體。 實施例 下面將以實施例說明本發明,但非限於此例。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 實施例1至3 〔調製粗八氟化丙烷〕 利用F C - 1 2 1 6與高級次金屬氟化物反應之方法 ,調製八氟化丙烷。 將氯化鈷成形爲錠劑狀(5 m m 0 X 5 m m )後,依 序利用H F、F 2氣體使其氟化,得C o F 3。將所得 C o F 3 480g塡入鎳製反應器(lOOmmex 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) C09462 -20- 1299036 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明説明(彳8) 1 0 0 0 m m )中,於反應溫度2 7 0 °C。常壓下,以流 通法將F C - 1 2 1 6導入反應器。收集反應生成物之粗 八氟化丙烷後,以氣相色譜進行不純物定量。又,‘氣相色 譜分析之分析條件如下所示。 機器本體G C - 1 4 B ((股)島津製作所製) 載氣 He 檢驗器 氫焰離子化檢驗器(F I D ) 試料量 0.22 定量方法 絕對檢量線法 結果所得粗八氟化丙烷之不純物組成中 CFC—115爲770質量ppm、 FC-1216爲 2〇〇質量?口111、〇厂(:一13爲20質量??!^、 CFC - 1 2 及 HCFC — 22 各爲 1 0 質量 PPm。 〔調製不純物分解管〕 所使用之氧化鐵及鹼土類金屬化合物所形成的不純物 分解劑爲,依r — F e〇〇Η (石原產業(股)製)/ Ca (〇Η) 2 (吉澤石灰工業(股)製)=30/70質 量% (實施例1 )、 r — F e 2〇3 (戶田工業(股)製) / C a (〇 Η) 2=20/80 質量% (實施例 2)、7 — Fe〇〇H/CaC〇3 (奧多摩工業(股)製)=20/ 8 〇質量% (實施例3 )比率添加後加水造粒,再以 1 0 5 °C乾燥處理2小時,篩選後得粒徑〇 · 8 5至 2 · 8 m m之粒劑。將所得不純物分解劑1 · 9 g以層高 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂· 本紙張尺家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -21 - 1299036 A7 B7 五、發明説明(19) 8 c m (容積1 5 4 )方式塡入內徑1 6 m m之不錄鋼管 (反應管)後,3 0 0 °C下於氮氣流中處理3小時以上, 得具有不純物分解劑之不純物分解管。 .〔調製吸附塔〕 所使用之吸附劑爲M S C — 5 A (商品名,味之素( 股)製)。將吸附劑M S C — 5 A 7 1 g塡入外徑1 / 2英寸之不銹鋼管(吸附塔,內徑1 1 m m X胃胃1 5 0 c m,容積1 3 Ο α )後,依序進行6 〇 下1小時、 1 6 0。(:下7小時合計8小時之氮氣流處理,再1將具有吸 附劑之吸附塔接連於塡充不純物分解劑之不純物分解管後 方。 〔精製粗八氟化丙烷〕 ’ 將所得粗八氟化丙烷以壓力0 · 7 Μ P a、不純物分 解管中空間速度6 5 0 H r _ 1、吸附塔中線速度1 m/ m i η方式,以氣相流通。又,不純物分解管中分解反應 溫度爲3 5 0 °C。收集通過不純物分解管及吸附塔之八氟 化丙烷,再以上述條件進行氣相色譜定量。 實施例1中,八氟化丙烷開始流通起2小時、5小時 、1 0小時後,不純物分解管出口及吸附塔出口所得八氟 化丙烷中,·所含氟化碳等不純物類之含量如表3所示。 因不純物分解管出口處幾乎未驗出入口氣體所含之氟 化碳等不純物之CFC—115、 FC—1216、 本紙張家標準(CNS) A4規格(210X297公釐1 ' -22- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
*1T 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1299036 7 A7 B7 五、發明説明(20) CFC— 12、CFC— 13 及 HCFc — 22,但驗出 H F C — 1 2 5、f C — 1 1 1 4等。故能吸附去除不純 物分解管出口處之氟化碳等不純物(分解生成物),因此 能去除八氟化丙烷中C F C — 1 1 5、 F C — 1 2 1 6、 CFC- 12、CFC- 13 及 HCFC - 22° 八氟化丙烷開始流通起2小時、5小時後吸附塔出口 之八氟化丙烷中C F C - 1 1 5的濃度變化及吸附轉效爲 止之C F C - 1 1 5去除量如表6所示,又,以吸附塔出 口驗出1質量P P m之氟化碳等不純物的時間作爲吸附轉 效時間,再以此時爲止之C F C - 1 1 5流通量作爲 CFC—115去除量。 氧化鐵爲r 一 F e 2〇3時(實施例2 )及鹼土類金屬 化合物爲C a C〇3時(實施例3 )亦能發揮優良之C F C - 1 1 5去除效果,可精製得到高純度八氟化丙烷。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 ,.國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -23 1299036 B7 五、發明説明(21 ) 表3 不純物分解管出口及吸附塔出口之 經時間的各不純物濃度變化(實施例1 ) 時間 各不純物濃度變化(質量ppm) (Hr) CFC-115 FC-1216 CFC-12 CFC-13 HCFC-22 HFC-125 FC-1114 供給 770 200 10 20 10 0 0 試料 不 純 2 0 0 0 0 0 3 0 出物 5 0 0 0 0 0 108 0 口分 10 0 0 0 0 0 13 16 解 管 吸 2 0 0 0 0 0 0 0 出 附 5 0 0 0 0 0 0 0 P 塔 10 0 0 0 0 0 0 0 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 紙 :本 比較例1 除了未進行氟化碳等不純物之分解步驟以外,其他同 實施例1進行八氟化丙烷中氟化碳等不純物之吸附去除試 驗。其後同實施例1利用氣相色譜,使通過M S C - 5 A 吸附劑前後之不純物濃度定量。 八氟化丙烷開始流通起1小時、5小時及1 〇小時後 吸附塔出口之八氟化丙烷中氟化碳等不純物的濃度變化如 國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -24· 1299036 A7 ___ B7 五、發明説明(22) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 表4所示。結果C F C - 1 1 5幾乎與八氟化丙烷開始流 通的同時吸附轉效,而僅吸附劑未吸附去除C f C -115。又,cpC—12、CFC— 13 及 HCFC — 2 2均於5至1 0小時後吸附轉效,故吸附去除能力較低 〇 利用本發明精製方法(實施例1 )之FC - 1 2 1 6 去除量及,僅利用吸附精製(比較例1 )之F C - 1 2 1 6去 除量如表5所示。又,以吸附塔出口驗出八氟化丙烷中 F C - 1 2 1 6濃度爲1質量p p m之時間爲吸附轉效點 ,再以此時爲止之FC-1216流通量作爲去除量。由 實施例1及比較例1之結果得知,F C - 1 2 1 6可利用 吸附法去除,但因實施例1般吸附步驟前進行分解步驟, 故雖不淸楚F C - 1 2 1 6本身是否分解,卻能完全去除 ,因此能有效提升目前吸附精製法之F C - 1 2 1 6去除 量。 表4 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 吸附塔出口的各不純物之濃度變化(比較例1 ) 經時間 各不純物濃度變化(質量ppm) (Hr) CFC-115 FCM216 CFC-12 CFC-13 HCFC-22 供給試料 700 200 10 20 10 1 39 0 0 0 0 5. 487 0 5 4 0 10 700 0 10 15 5 &&〇^10^.國國家標準(〇奶)八4規格(21〇/297公釐) -25- 1299036 A7 B7 五、發明説明(23) 表5 FC-1216之除去量 FC-1216 除去量(mg) 實施例1 400 比較例1 210 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 比較例2至4 除了使用添加不同之氧化鐵及鹼土類金屬化合物作爲 不純物分解劑外,其他同實施例1至3之條件進行試驗。 所使用之不純物分解劑爲,r 一 F e 0〇Η = 1 〇 〇 質量% (比較例2 )、r — F e 2〇3 = 1 0 0質量% (比 較例3 )、c a (〇Η ) 2 = 1 〇 〇質量% (比,較例4 ), 其後同實施例1至3使八氟化丙烷通過。又,以吸附塔出 口驗出之八氟化丙烷中氟化碳不純物濃度爲1質量p p m 的時間爲吸附轉效點。 結果,八氟化丙烷開始流通起2小時、5小時後吸附 塔出口之八氟化丙烷中C F C - 1 1 5的濃度變化及吸附 轉效爲止之CFC — 1 1 5去除量如表6所示。 僅使用氧化鐵(比較例2、3 )時,將無法保持而破 壞不純物分解劑之形狀,故吸附塔出口之C F C - 1 1 5 會太早吸附轉效,又,僅使用鹼土類金屬化合物(比較例 4)時,幾乎無法進行CFC— 1 1 5分解反應,故 C F C - 1 1 5去除量極少。因此得知,不使用以適當比 率混合氧化鐵及鹼土類金屬化合物而得之不純物分解劑時 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 、11 ^1. 本紙^國家標準( €叫八4規格(210父297公釐) -26- 1299036 A7 B7 五、發明説明(24) ,幾乎無法分解CFC - 1 1 5,而無法有效去除CFC — 115。 表6 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 各試驗之吸附塔出口的C F C - 1 1 5濃度變化及去除量 不純物分解劑組成 經過時間 FC-115 FC-115 (質量%) (時間) 濃度變化 去除量 (質量ppm) (mg) 供給試料 770 實施例1 T 一 F e〇〇Η 3 0 2 〇 C a (OH) 2 70 5 〇 70 5 實施例2 7" — F e 2 〇 3 20 2 0 C a (OH) 2 80 5 0 6 0 0 實施例3 — F e 0 0 H 20 2 〇 C a C 0 3 8 0 5 0 5 8 5 比較例1 僅吸著劑 2 13 0 (MSC-5A) 5 3 5 5 10 比較例2 7 — F e 0 0 H 1〇0 2 6 0 5 2 3 5 8 5 比較例3 7 — F e 2 〇 3 1〇〇 2 100 5 295 40 比較例4 C a (OH) 2 10 0 2 110 5 3 5 0 15 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) .— t ^1! (0灿)八4規格(21(^ 297公釐) -27 1299036 A7 B7 五、發明説明(25) 參考例1至2 除了分解溫度外,其他同實施例1之條件進行試驗。 分解溫度分別爲,2 4 0 t (參考例1 )、4 〇 〇 t (參 考例2 )。 結果八氟化丙烷開始流通起2小時、5小時及1 0小 時後吸附塔出口之C F C - 1 1 5濃度變化如表7所示。 由此得知,2 4 0 °C之過低溫度下無法提升不純物分解劑 之活性,而無法使C F C — 1 1 5分解,又,4 0 0 t:之 過高溫度下會因熱而使不純物分解劑本身分解,故使吸附 塔出口之C F C — 1 1 5會太早吸附轉效。參考例1、參 考例2之C F C — 1 1 5去除量均約爲1 〇 m g ,故去除 量少。 表7 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) Μ '承 部 智 慧 財 產 局 消 費 合 作 社 印 製 因分解溫度之吸附塔出口的C F C - 1 1 5濃度變化 經過時間 C F C — 1 1 5濃度變化(質量p p 111 ) (時間) 實施例1 參考例1 參考例2 ( 3 5 0。。) ( 2 4 0。。) (4 0 0 °C ) 供給試料 7 7 0 7 7 0 7 7 0 2 〇 3 5 0 2 6 0 5 0 5 3 0 5 0 0 10 0 7 0 0 7 0 0 國家標準(€灿)八4規格(210父297公釐) 28

Claims (1)

1299036 A8 B8 C8 D8 s;n 詹正丨 六、申請專利範圍1 第91100393號專利申請案 中文申請專利範圍修正本 -η- W, ' 煩 請 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 民國95年2月10日修正,¾ 1 · 一種八氟化丙烷之精製方法,其特徵爲,在 ΐ t ·- 2 5 Ot至3 8 範圍之溫度下將含不純物之粗八氟化i 丙烷接觸由氧化鐵及鹼土金屬化合物所成之不純物分解劑二 後,再接觸由活性碳、分子篩及分子篩分離碳中所選出至α 少1種吸附劑,而由粗八氟化丙烷中實質去除不純物。 .ί 2 ·如申請專利範圍第1項之八氟化丙烷之精製方法> ,其中,氧化鐵爲三氧化二鐵。 S 訂 3 ·如申請專利範圍第2項之八氟化丙烷之精製方法 ,其中,三氧化二鐵爲r一氫氧化氧化鐵及/或r一三氧 化二鐵。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 4 ·如申請專利範圍第1項之八氟化丙烷之精製方法 ,其中,鹼土類金屬化合物爲由鎂、鈣、緦及鋇中任何一 種鹼土金屬的氧化物、氫氧化物及碳酸鹽中所選出之至少 一種。 5 ·如申請專利範圍第1項之八氟化丙烷之精製方法 ,其中,不純物分解劑中,相對於不純物分解劑,氧化鐵 含量爲5至4 0質量%,鹼土金屬化合物含量爲6 0至 9 5質量%。 6 ·如申請專利範圍第5項之八氟化丙烷之精製方法 ,其中,不純物分解劑係由平均粒徑1 0 0 // m以下之氧 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210Χ297公釐) 1299036 A8 B8 C8 D8 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 請 先 閲 之 注 I 旁 六、申請專利範圍2 化鐵粉末、及平均粒徑1 0 粉末所成之粒劑。 7 ·如申請專利範圍第 ,其中,不純物分解劑爲平 劑。 8 ·如申請專利範圍第 丙烷之精製方法,其中,粗 10, 000質量ppm。 9 ·如申請專利範圍第 ,其中,不純物爲氯五氟化 甲烷、二氯二氟化甲烷及氯 之化合物。 1 〇 ·如申請專利範圍 法,其中,實質去除不純物 物濃度係低於1質量p p m 1 1 · 一種八氟化丙烷 含不純物之粗八氟化丙烷後 之溫度下,將粗八氟化丙烷 合物之不純物分解劑,再接 分離碳中所選出至少1種吸 八氟化丙烷。 1 2 ·如申請專利範圔 方法,其中,含不純物之粗 氟化丙烯氟化。 0 // m以下之驗土金屬化合物 1項之八氟化丙烷之精製方法 均粒徑0 · 5至1 〇 m m之粒 1至7項中任何一項之八氟化 八氟化丙烷含有不純物1 0至 8項之八氟化丙烷之精製方法 乙烷、六氟化丙烯、氯三氟化 二氟化甲烷中所選出至少一種 第9項之八氟化丙烷之精製方 之八氟化丙烷中所殘留的不純 之製造方法,其特徵爲,製造 ,在250 °C至380°C範圍 接觸含有氧化鐵及鹼土金屬化 觸由活性碳、分子篩及分子篩 附劑,而得實質去除不純物之 第1 1項之八氟化丙烷之製造 八氟化丙烷的製造步驟爲將六 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(公釐) 1299036 A8 B8 C8 D8 六、申讀專利範圍3 1 3 ·如申請專利範圍第1 1或1 2項之八氟化丙烷 之製造方法,其中,不純物爲氯五氟化乙烷、六氟化丙烯 、氯三氟化甲烷、二氯二氟化甲烷及氯二氟化甲烷中所選 出至少1種之化合物。 14 · 一種八氟化丙烷,其特徵爲,在250 °C至 3 8 0 °C範圍之溫度下將含不純物之粗八氟化丙烷接觸由 氧化鐵及鹼土金屬化合物所成之不純物分解劑後,再接觸 由活性碳、分子篩及分子篩分離碳中所選出至少1種吸附 劑,而由粗八氟化丙烷中實質去除不純物之氯化合物含量 低於0 · 000 1質量%,且純度爲99 · 9999質量 %以上之八氟化丙烷。 1 5 · —種氣體,其特徵爲含有如申請專利範圍第 1 4項之八氟化丙烷。 1 6 · —種蝕刻氣體,其特徵爲由如申請專利範圍第 1 5項之氣體所成者。 1 7 · —種清潔氣體,其特徵爲由如申請專利範圍第 15項之氣體所成者。 請 先 閲 I 項 再 頁 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -3-
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