PL218794B1 - Nowe niesymetrycznie (3,4) podstawione poli[1,1-dimetylo-1H-silole] z ugrupowaniami alifatycznymi lub alifatyczno-aromatycznymi oraz sposób ich wytwarzania - Google Patents
Nowe niesymetrycznie (3,4) podstawione poli[1,1-dimetylo-1H-silole] z ugrupowaniami alifatycznymi lub alifatyczno-aromatycznymi oraz sposób ich wytwarzaniaInfo
- Publication number
- PL218794B1 PL218794B1 PL391830A PL39183010A PL218794B1 PL 218794 B1 PL218794 B1 PL 218794B1 PL 391830 A PL391830 A PL 391830A PL 39183010 A PL39183010 A PL 39183010A PL 218794 B1 PL218794 B1 PL 218794B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- dimethyl
- silols
- pentyl
- phenyl
- butyl
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 12
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims description 8
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 13
- UEXCJVNBTNXOEH-UHFFFAOYSA-N Ethynylbenzene Chemical group C#CC1=CC=CC=C1 UEXCJVNBTNXOEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 12
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 9
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 8
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 claims description 8
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 8
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- CGHIBGNXEGJPQZ-UHFFFAOYSA-N 1-hexyne Chemical compound CCCCC#C CGHIBGNXEGJPQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 claims description 6
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical compound [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- WYEULPIUHWUNPR-UHFFFAOYSA-N 1,1-dimethylsilole Chemical class C[Si]1(C)C=CC=C1 WYEULPIUHWUNPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims description 5
- 238000009835 boiling Methods 0.000 claims description 5
- YVXHZKKCZYLQOP-UHFFFAOYSA-N hept-1-yne Chemical compound CCCCCC#C YVXHZKKCZYLQOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 5
- UBHZUDXTHNMNLD-UHFFFAOYSA-N dimethylsilane Chemical class C[SiH2]C UBHZUDXTHNMNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 claims description 4
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims description 4
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 claims description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 claims description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 claims description 2
- 150000001345 alkine derivatives Chemical group 0.000 claims 1
- 239000012429 reaction media Substances 0.000 claims 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 claims 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 13
- -1 hex-1-yn-1-yl (hept-1-yn-1-yl) dimethylsilane Chemical compound 0.000 description 12
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N Trichloro(2H)methane Chemical compound [2H]C(Cl)(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N 0.000 description 4
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 4
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 3
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000013256 coordination polymer Substances 0.000 description 2
- QLUMLEDLZDMGDW-UHFFFAOYSA-N sodium;1h-naphthalen-1-ide Chemical compound [Na+].[C-]1=CC=CC2=CC=CC=C21 QLUMLEDLZDMGDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004481 total suppression of sideband Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L zinc dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Zn+2] JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- MVNVMCKXRSSBIA-UHFFFAOYSA-N 1,1-dimethyl-3,4-diphenylsilole Chemical compound C=1[Si](C)(C)C=C(C=2C=CC=CC=2)C=1C1=CC=CC=C1 MVNVMCKXRSSBIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L Calcium chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Ca+2] UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005033 Fourier transform infrared spectroscopy Methods 0.000 description 1
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 235000011089 carbon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000002322 conducting polymer Substances 0.000 description 1
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000008240 homogeneous mixture Substances 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 238000002329 infrared spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- 238000005424 photoluminescence Methods 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 238000000425 proton nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 150000003967 siloles Chemical group 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 238000000859 sublimation Methods 0.000 description 1
- 230000008022 sublimation Effects 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 1
- PQDJYEQOELDLCP-UHFFFAOYSA-N trimethylsilane Chemical class C[SiH](C)C PQDJYEQOELDLCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011592 zinc chloride Substances 0.000 description 1
- 235000005074 zinc chloride Nutrition 0.000 description 1
Landscapes
- Silicon Polymers (AREA)
Description
Przedmiotem wynalazku są nowe niesymetrycznie (3,4) podstawione poli[1,1-dimetylo-1H-silole] z ugrupowaniami alifatycznymi lub alifatyczno-aromatycznymi, oraz sposób ich wytwarzania. Związki te posiadają właściwości foto- i elektroluminescencyjne, wykazują termo- i solwatochromizm, a po domieszkowaniu stanowią półprzewodniki.
W literaturze znany jest 3,4-difenylo-1,1-dimetylo-1H-silol, który w pozycjach 2,5 posiada atomy fluorowców (J. Chem. Soc. Dalton Trans., 1998, 3693-3702), trimetylosilany (niezbędne do przeprowadzenia reakcji polimeryzacji). Nie udało się jednak znaleźć w dostępnej literaturze przykładów podstawionych siloli, które w pozycjach 2, 5 pierścienia heterocyklicznego posiadałyby atom wodoru oraz ulegały rekcji polimeryzacji w mieszaninie dichlorometanu w obecności bezwodnego chlorku żelaza (III). Wśród dostępnych metod polimeryzacji w których uzyskuje się poli(silone) spolimeryzowane w pozycjach 2,5' pojawiają się reakcje prowadzone w obecności np. chlorku cynku (J. Am. Chem. Soc. 1999, 121, 10420-10421), lub też reakcje w których pierścienie silolowe łączą się z sobą wykorzystując atomy krzemu. (J. Am. Chem. Soc. 2011, 133, 7764-7785). Znane są także przykłady polimerów przewodzących bazujących na połączeniach silolu z tiofenem, w których atomy krzemu i siarki stanowią elementy skondensowanych trójpierścieniowych układów aromatycznych (Chem. Mater., Vol. 15, No. 18, 2003, 3496-3500). W dostępnej literaturze nie udało się znaleźć informacji na temat poli(siloli) z dwoma różnymi podstawnikami w pozycjach 3,4. W związku z powyższym przedmiotem niniejszego zgłoszenia patentowego są nowe niesymetrycznie (3,4) podstawione poli[1,1-dimetylo-1H-silole] z ugrupowaniami alifatycznymi lub alifatyczno-aromatycznymi stanowią związki o ogólnym wzorze 1, w którym R1 i R2 oznacza odpowiednio butyl i pentyl, butyl i fenyl lub pentyl i fenyl, a n liczbę całkowitą 20-50.
Sposób wytwarzania nowych niesymetrycznie (3,4) podstawionych poli[1,1-dimetylo-1H-siloli] z ugrupowaniami alifatycznymi lub alifatyczno-aromatycznymi o ogólnym wzorze 1, w którym R1 i R2 oznacza odpowiednio butyl i pentyl, butyl i fenyl lub pentyl i fenyl, a n liczbę całkowitą 20-50 odznacza się tym, że najpierw mieszaninę hept-1-ynu i heks-1-ynu lub hept-1-ynu i fenyloacetylenu lub heks-1-yn i fenyloacetylen o określonym składzie poddaje się reakcji z roztworem butylolitu w temperaturze poniżej 277 K, a wytworzony produkt reakcji z dichlodimetylosilanem. Reakcję prowadzi się w temperaturze poniżej 283 K, otrzymując niesymetrycznie podstawiony dialkinylodimetylosilan, który poddaje się destylacji pod zmniejszonym ciśnieniem. Następnie naftalen poddaje się reakcji z metalicznym sodem korzystnie w obecności tetrahydrofuranu jako rozpuszczalnika. Wytworzony w ten sposób naftalenid sodowy w kolejnym etapie poddaje się reakcji z niesymetrycznie podstawionym dialkinylodimetylosilanem, a następnie całość zobojętnia wodnym roztworem słabego kwasu organicznego, korzystnie 5% roztworem kwasu octowego. Otrzymany niesymetrycznie (3,4) podstawiony 1,1-dimetylo-1H-silol oczyszcza się w znany sposób.
W ostatnim etapie tak wytworzony niesymetrycznie (3,4) podstawiony 1,1-dimetylo-1H-silol poddaje się reakcji polimeryzacji wobec bezwodnego chlorku żelaza (III) i chlorku metylenu, poniżej temperatury wrzenia rozpuszczalnika organicznego. Tak wytworzony niesymetrycznie (3,4) podstawiony poli[1,1-dimetylo-1H-silol] oczyszcza się.
Uzyskane rezultaty wskazują, że reakcja homopolimeryzacji przebiega w preferowanym położeniu 2,5'. Produkty końcowe wykazują zjawisko solwato- i termochromizmu oraz fotoluminescencji. Zależności prądowo-napięciowe wskazują na „omowy charakter badanych polimerów, także w wyższych temperaturach. Przewodnictwo elektryczne właściwe form polimerów wynosi 22-58 nS/m w stanie natywnym i rośnie o 1-4 rzędów wielkości w wyniku domieszkowania parami jodu.
Istotną zaletą sposobu według wynalazku jest prosta synteza i łatwa dostępność surowców. Otrzymane produkty dają się łatwo wydzielić z mieszanin poreakcyjnych i odznaczają się dużym stopniem czystości.
Sposób według wynalazku, nie ograniczając jego zakresu ochrony, został bliżej przedstawiony w niżej podanym przykładzie. Widma IR rejestrowano na spektrofotometrze FTIR Perkin Elmer Spek1 13 trum 2000, widma 1H NMR w CDCl3 rejestrowano na aparacie Varian Gemini 2000, zaś 13C NMR CP/TOSS na aparacie Brucker AMX 300.
P r z y k ł a d. Wytwarzanie niesymetrycznie (3,4) podstawionych poli[1,1-dimetylo-1H-siloli]
Etap 1. Otrzymywanie niesymetrycznie podstawionych dialkinylodimetylosilanów.
Do kolby dwuszyjnej o pojemności 250 ml umieszczonej w łaźni lodowej pod chłodnicą zwrotną na stoliku mieszadła magnetycznego, wprowadza się odpowiednio: I 4,201 g (42,81 mmol) hept-1PL 218 794 B1
-ynu i 3,685 g (43,51 mmol) heks-1-ynu, II: 4,257 g (40,84 mmol) fenyloacetylenu i 4,097 g (42,60 mmol) hept-1-ynu lub III: 4,418 g (42,6 mmol) fenyloacetylenu i 3,621 g (42,36 mmol) heks-1-ynu oraz 50 ml bezwodnego tetrahydrofuranu. Całość zamyka się w środowisku gazu obojętnego, korzystnie argonu, a następnie stopniowo w czasie 4 godzin wprowadza się odpowiednio I: 54,0 ml, II: 54,7 ml, lub III: 54,0 ml 1,6 M roztworu butylolitu w heksanie, przez cały czas utrzymując temperaturę poniżej 277 K. Następnie intensywnie mieszany roztwór pozostawia się w łaźni lodowej na kolejne 30 minut. W wyniku reakcji otrzymuje się klarowne jasnożółte roztwory, które przenosi się do kolby stożkowej i zamyka szczelnie gumowym stoperem.
Do kolejnej kolby dwuszyjnej o pojemności 250 ml umieszczonej pod chłodnicą zwrotną w łaźnia aceton/suchy lód na stoliku mieszadła magnetycznego wprowadza się 30 ml bezwodnego tetrahydrofuranu, oraz I: 5,573 g (43,18 mmol), II: 5,357 g (41,51 mmol) lub III: 5,563 g (43,10 mmol) dichlorodimetylosilanu. Do intensywnie mieszanego roztworu o temperaturze poniżej 223 K wprowadza się w czasie 6 godzin otrzymane w poprzedniej reakcji mieszaniny. Następnie całość intensywnie miesza się przez kolejną godzinę w temperaturze pokojowej, otrzymując mlecznobiały mętny roztwór, do którego dodaje się 70 ml eteru dietylowego, oraz 80 ml wody. Całość przenosi się do rozdzielacza i oddziela warstwę organiczną, którą następnie suszy się przez okres 24 godzin nad bezwodnym chlorkiem wapnia. W końcowym etapie oddestylowuje się eter dietylowy oraz tetrahydrofuran, a pozostałość poddaje destylacji pod zmniejszonym ciśnieniem zbierając frakcję wrzącą odpowiednio w I: 384-391 K, II: 413-418 K, lub III: 408-414 K. W rezultacie otrzymuje się odpowiednio: I: 4,916 g (20,97 mmol) heks-1-yn-1-ylo(hept-1-yn-1-ylo)dimetylosilanu, II: 2,815 g (11,06 mmol) (fenyloetynylo)(hept-1-yn-1-ylo)dimetylosilanu lub III: 3,784 g (15,74 mmol) (fenyloetynylo)(heks-1-yn-1-ylo)dimetylosilanu. Stanowi to wydajność odpowiednio I: 49%, II: 27% oraz III: 37%.
Etap 2. Otrzymywanie niesymetrycznie (3,4) podstawionych 1,1-dimetylo-1H-siloli
Do kolby dwuszyjnej jak w etapie 1, wprowadza się odpowiednio I: 5,929 g (46,26 mmol), II: 3,009 g (23,48 mmol) lub III: 3,775 g (29,30 mmol) naftalenu, oraz 50 ml bezwodnego tetrahydrofuranu. Następnie dodaje się I: 1,071 g (46,57 mmol), II: 0,533 g (23,17 mmol) lub III: 0,734 g (31,91 mmol) metalicznego sodu. Całość intensywnie miesza się w temperaturze pokojowej w atmosferze argonu przez 60 minut. W rezultacie otrzymuje się intensywnie ciemnozielony roztwór naftalenidu sodowego. Następnie mieszaninę reakcyjną umieszcza się w łaźni lodowej, i w czasie 1 godziny małymi porcjami dodaje odpowiednio I: 4,618 g (19,70 mmol) heks-1-yn-1-ylo(hept-1-yn-1-ylo)dimetylosilanu, II: 1,525 g (5,994 mmol) (fenyloetynylo)(hept-1-yn-1-ylo)dimetylosilanu lub III: 3,464 g (14,41 mmol) (fenyloetynylo)(heks-1-yn-1-ylo)dimetylosilanu w 10 ml bezwodnego tetrahydrofuranu. Otrzymany roztwór miesza się intensywnie w temperaturze pokojowej przez kolejne 60 minut. Wytworzoną pomarańczowo-czerwoną mieszaninę ochładza się w łaźni lodowej, a następnie dodaje 10 ml 5% roztworu słabego kwasu organicznego korzystnie kwasu octowego. Następnie do kolby reakcyjnej utrzymanej w temperaturze pokojowej dodaje się 100 ml eteru dietylowego i całość sączy się otrzymując klarowny roztwór barwy jasnożółtej. W końcowym etapie roztwór poddaje się destylacji prostej celem usunięcia rozpuszczalników organicznych, oraz usuwa naftalen drogą sublimacji. W rezultacie otrzymuje się odpowiednio I: 3,286 g (13,90 mmol) 3-butylo-1,1-dimetylo-4-pentylo-1H-silolu (W=70,56%), II: 1,186 g (4,624 mmol) 4-fenylo-1,1-dimetylo-3-pentylo-1H-silolu (W=77,14%) oraz III: 1,568 g (6,468 mmol) 3-butylo-4-fenylo-1,1-dimetylo-1H-silolu (W = 44,89%).
Etap 3. Otrzymywanie niesymetrycznie (3,4) podstawionych poli[1,1-dimetylo-1H-siloli]
Wytworzone w etapie 2 układy niesymetrycznie (3,4) podstawione 1,1-dimetylo-1H-silole poddaje się reakcji homopolimeryzacji w obecności bezwodnego chlorku żelaza (III). Do kolby trójszyjnej o pojemności 250 ml wprowadza się odpowiednio I: 2,257 g (14,03 mmol), II: 2,039 g (12,57 mmol) lub III: 4,272 g (26,34 mmol) bezwodnego chlorku żelaza (III), a następnie dodaje 40 ml chlorku metylenu. Całość umieszcza się na stoliku mieszadła magnetycznego pod chłodnicą zwrotną i intensywnie mieszając doprowadza do temperatury poniżej temperatury wrzenia rozpuszczalnika organicznego. Osobno w kolbie Elenmeyer'a rozpuszcza się w 40 ml chlorku metylenu odpowiednio I: 0,8215 (3,475 mmol) 3-butylo-1,1-dimetylo-4-pentylo-1H-silolu, II: 1,186 g (4,624 mmol) 4-fenylo-1,1-dimetylo-3-pentylo-1H-silolu oraz III: 1,568 g (6,468 mmol) 3-butylo-4-fenylo-1,1-dimetylo-1H-silolu. Tak przygotowaną jednorodną mieszaninę wprowadza się przez czas 2 godzin do reaktora z chlorkiem żelaza (III). Następnie mieszaninę reakcyjną utrzymuje się poniżej temperatury wrzenia rozpuszczalnika organicznego przez 5 godzin, po czym chłodzi do temperatury pokojowej i dodaje 100 ml metanolu w celu wytrącenia polimeru. Całość miesza się w temperaturze pokojowej przez kolejną godzinę. Następnie zawartość reaktora przesącza się, a otrzymany polimer przemywa gorącą wodą z roztworem słabego
PL 218 794 B1 kwasu organicznego, korzystnie kwasem octowym, do czasu, aż przesącz wykaże ujemny wynik próby na jony Fe3+. Następnie całość przemywa się dwukrotnie 10 ml amoniaku, oraz 10 ml metanolu i suszy w temperaturze 333 K przez okres 48 godzin. W rezultacie otrzymuje się w zależności od sposobu odpowiednio I: 0,431 g (W=52,89%) poli[3-butylo-1,1-dimetylo-4-pentylo-1H-silolu], II: 0,280 g (W=25,89%) poli[4-fenylo-1,1-dimetylo-3-pentylo-1H-silolu] lub III: 0,701 g (W=45,08%) poli[3-butylo-4-fenylo-1,1-dimetylo-1H-silolu].
Analiza IR (KBr, cm-1): ok. 1260 (nożycowe symetryczne Si-CH3); ok. 1385 (nożycowe asymetryczne Si-CH3); 2956 (rozciągające Si-CH3), 1631-1453 (drgania szkieletowe); 2929-2861 (-CH2drgania symetryczne i asymetryczne); 1456 (drgania nożycowe -CH2-); 1350-1150 (-CH3 drgania wachlarzowe i skręcające), 870-690 (drgania zginające protony poza płaszczyznę pierścienia), 702 oraz 763 (pasma drgań aromatycznych)
Analiza 1H NMR (CDCl3, ppm): 0,0-0,2 (Si-CH3); 1,0-1,4 (-CH3; -CH2-); 1,4-1,6 (-CH2-), 6,5-8,0 (protony pierścieni aromatycznych)
Analiza 13C NMR (CP/TOSS, ppm): 6-16 (CH3 alif.); 17-26 (-CH2- alif.); 25-32 (-CH2- alif.); 120-160 (węgle pierścieni aromatycznych).
Claims (4)
1. Nowe niesymetrycznie (3,4) podstawione poli[1,1-dimetylo-1H-silole] z ugrupowaniami alifatycznymi lub alifatyczno-aromatycznymi o ogólnym wzorze 1, w którym R1 i R2 oznacza odpowiednio butyl i pentyl, butyl i fenyl lub pentyl i fenyl, a n liczbę całkowitą 20-50.
2. Sposób wytwarzania nowych niesymetrycznie (3,4) podstawionych poli[1,1-dimetylo-1H-siloli] z ugrupowaniami alifatycznymi lub alifatyczno-aromatycznymi o ogólnym wzorze 1, w którym R oznacza odpowiednio butyl i pentyl, butyl i fenyl lub pentyl i fenyl, a n liczbę całkowitą 20-50, znamienny tym, że najpierw mieszaninę hept-1-yn i heks-1-yn lub hept-1-yn i fenyloacetylen lub heks-1-yn i fenyloacetylen o odpowiednim składzie poddaje się reakcji z roztworem butylolitu w temperaturze poniżej 277 K, a wytworzony produkt reakcji z dichlorodimetylosilanem, tak otrzymany produkt oczyszcza się i poddaje reakcji z mieszaniną sodu i naftalenu w THF-ie, który po reakcji zobojętnia się roztworem słabego kwasu organicznego otrzymując niesymetrycznie (3,4) podstawiony 1,1-dimetylo-1H-silol, otrzymany produkt poddaje się reakcji polimeryzacji wobec bezwodnego chlorku żelaza (III) i chlorku metylenu, poniżej temperatury wrzenia rozpuszczalnika organicznego, a wytworzony produkt oczyszcza się.
3. Sposób według zastrz. 2, znamienny tym, że jako środowisko reakcji syntezy niesymetrycznie podstawionych dialkinylodimetylosilanów stosuje się bezwodny tetrahydrofuran.
4. Sposób według zastrz. 2, znamienny tym, że reakcję substytucji dichlorodimetylosilanu przez mieszaninę terminalnych alkinów prowadzi się w temperaturze poniżej 223 K.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL391830A PL218794B1 (pl) | 2010-07-14 | 2010-07-14 | Nowe niesymetrycznie (3,4) podstawione poli[1,1-dimetylo-1H-silole] z ugrupowaniami alifatycznymi lub alifatyczno-aromatycznymi oraz sposób ich wytwarzania |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL391830A PL218794B1 (pl) | 2010-07-14 | 2010-07-14 | Nowe niesymetrycznie (3,4) podstawione poli[1,1-dimetylo-1H-silole] z ugrupowaniami alifatycznymi lub alifatyczno-aromatycznymi oraz sposób ich wytwarzania |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL391830A1 PL391830A1 (pl) | 2012-01-16 |
| PL218794B1 true PL218794B1 (pl) | 2015-01-30 |
Family
ID=45510187
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL391830A PL218794B1 (pl) | 2010-07-14 | 2010-07-14 | Nowe niesymetrycznie (3,4) podstawione poli[1,1-dimetylo-1H-silole] z ugrupowaniami alifatycznymi lub alifatyczno-aromatycznymi oraz sposób ich wytwarzania |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| PL (1) | PL218794B1 (pl) |
-
2010
- 2010-07-14 PL PL391830A patent/PL218794B1/pl not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| PL391830A1 (pl) | 2012-01-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Compton et al. | tert-Butyl-Substituted Poly (ferrocenylene persulfides) | |
| TWI549927B (zh) | 新穎的螺聯茀化合物 | |
| TW200418864A (en) | Preparation of 2,2'-di(3,4-ethylenedioxythiophene)s | |
| CN104918979B (zh) | 反应性化合物 | |
| US20150197606A1 (en) | Thermosetting resins with enhanced cure characteristics containing organofunctional silane moieties | |
| TWI314565B (en) | Method for producing a dendrimer, thiophene compound, and method for producing a thiophene compound | |
| CN103467742A (zh) | 聚乙烯撑硫化物及其制备方法 | |
| PL218794B1 (pl) | Nowe niesymetrycznie (3,4) podstawione poli[1,1-dimetylo-1H-silole] z ugrupowaniami alifatycznymi lub alifatyczno-aromatycznymi oraz sposób ich wytwarzania | |
| JP2001247576A (ja) | チオフェン誘導体およびその重合体 | |
| US3519611A (en) | Aromatic polymers containing pyrazole units and process therefor | |
| TWI646129B (zh) | 聚合物 | |
| Wong et al. | Synthesis and characterisation of new oligoacetylenic silanes | |
| PL218774B1 (pl) | Nowe poli[1,1-dietylo-1H-silole] z ugrupowaniami alifatycznymi lub aromatycznymi oraz sposób ich wytwarzania | |
| PL218773B1 (pl) | Nowe poli[1,1-dipentylo-1h-silole] z ugrupowaniami alifatycznymi lub aromatycznymi oraz sposób ich wytwarzania | |
| PL218568B1 (pl) | Nowe kopolimery alifatycznie podstawionego silolu i aromatycznie podstawionego tiofenu o zmiennym składzie merów oraz sposób ich wytwarzania | |
| KR20130131774A (ko) | 길만시약 화합물을 이용한 헤테로 융합고리 화합물의 신규한 제조방법 | |
| PL221530B1 (pl) | Funkcjonalizowane oktawinylosilseskwioksany klatkowe oraz sposób otrzymywania funkcjonalizowanych oktawinylosilseskwioksanów klatkowych | |
| PL218542B1 (pl) | Nowe kopolimery aromatycznie podstawionego silolu i alifatycznie podstawionego tiofenu o zmiennym składzie merów oraz sposób ich wytwarzania | |
| JP4257434B2 (ja) | シリル置換基を有する新規カルバゾール誘導体 | |
| CN116444524B (zh) | 一种侧链含季铵盐基团的小分子热电性能助剂及其制备方法与应用 | |
| JPWO2006009123A1 (ja) | ポリカルボシラン及びその製造方法 | |
| KR102799317B1 (ko) | 유기 발광 소자 | |
| JP5980659B2 (ja) | カルバゾール基を有するポリマー、カルバゾール基を有するモノマー及び化合物 | |
| PL208917B1 (pl) | Nowe poli(3-alkenotiofeny) oraz sposób ich wytwarzania | |
| PL210576B1 (pl) | Nowy poli[di-1-heptynodimetylosilan]oraz sposób jego wytwarzania |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Decisions on the lapse of the protection rights |
Effective date: 20130714 |